JPH11271993A - 電子写真用感光体の製造装置および製造方法 - Google Patents
電子写真用感光体の製造装置および製造方法Info
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- JPH11271993A JPH11271993A JP7920498A JP7920498A JPH11271993A JP H11271993 A JPH11271993 A JP H11271993A JP 7920498 A JP7920498 A JP 7920498A JP 7920498 A JP7920498 A JP 7920498A JP H11271993 A JPH11271993 A JP H11271993A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基体下端部に形成される感光液塗膜の厚さを
薄くし、液タレによる感光層塗膜上部の薄膜化を抑制す
る。 【解決手段】 浸漬塗布法によって、顔料分散系感光液
を基体に塗布して電子写真用感光体を製造する方法にお
いて、感光液から基体を引きあげ塗布する際に、基体に
電圧を印加し、基体上に形成する塗膜の厚さを制御す
る。
薄くし、液タレによる感光層塗膜上部の薄膜化を抑制す
る。 【解決手段】 浸漬塗布法によって、顔料分散系感光液
を基体に塗布して電子写真用感光体を製造する方法にお
いて、感光液から基体を引きあげ塗布する際に、基体に
電圧を印加し、基体上に形成する塗膜の厚さを制御す
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、浸漬塗布法による
電子写真用感光体の製造方法およびその方法に使用する
ための製造装置に関する。
電子写真用感光体の製造方法およびその方法に使用する
ための製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】電子写真用感光体は、一般に浸漬塗布法
により製造されている。
により製造されている。
【0003】この方法は、任意の形状のものに適用でき
るため、たとえば円筒形の形をした電子写真用感光体の
基体表面にも一定膜厚の塗膜を形成できる点で優れた製
造方法であるが、基体を感光液に浸漬したのちに感光液
から引きあげて塗布を行なうために、浸漬した部分には
全て塗膜が形成される。しかし、基体の両端部は現像機
などの周辺部分との接触部分になるために、円筒形の電
子写真用感光体を、プリンターや複写機などのOA機器
に装着して使用するばあい、感光液が付着せずに基体が
露出していることが好ましい。
るため、たとえば円筒形の形をした電子写真用感光体の
基体表面にも一定膜厚の塗膜を形成できる点で優れた製
造方法であるが、基体を感光液に浸漬したのちに感光液
から引きあげて塗布を行なうために、浸漬した部分には
全て塗膜が形成される。しかし、基体の両端部は現像機
などの周辺部分との接触部分になるために、円筒形の電
子写真用感光体を、プリンターや複写機などのOA機器
に装着して使用するばあい、感光液が付着せずに基体が
露出していることが好ましい。
【0004】また、浸漬塗布法においては、基体内側に
感光液が侵入することを避けるため、基体内側を閉じた
状態で浸漬するが、基体を感光液に深く浸漬したばあい
に感光液の及ぼす液圧の影響で基体の内側にも、ある程
度の深さまで感光液が侵入し、基体下端部内面にも感光
層が形成されてしまう。しかし、基体の内面は、機器と
の導通処理を施し、機器とのかみ合わせをよくするため
に、感光層が塗布されていないことが必要である。
感光液が侵入することを避けるため、基体内側を閉じた
状態で浸漬するが、基体を感光液に深く浸漬したばあい
に感光液の及ぼす液圧の影響で基体の内側にも、ある程
度の深さまで感光液が侵入し、基体下端部内面にも感光
層が形成されてしまう。しかし、基体の内面は、機器と
の導通処理を施し、機器とのかみ合わせをよくするため
に、感光層が塗布されていないことが必要である。
【0005】したがって、従来、基体に感光液を浸漬塗
布したのち、不要な基体下端部と下端部内面に塗布され
た感光層を除去して、電子写真用感光体が製造されてい
る。前記塗膜の除去方法としては、基体内面に形成され
た塗膜を有機溶媒で洗浄する方法(特公平4−7377
8号公報)、塗膜を乾燥させたのち有機溶媒で除去する
方法(特開平4−214566号公報)、基体下端部と
下端部内面に形成された塗膜を有機溶媒で除去する装置
(特開平5−2276号公報)などのように、有機溶媒
を用いて感光層塗膜を除去する方法が知られている。
布したのち、不要な基体下端部と下端部内面に塗布され
た感光層を除去して、電子写真用感光体が製造されてい
る。前記塗膜の除去方法としては、基体内面に形成され
た塗膜を有機溶媒で洗浄する方法(特公平4−7377
8号公報)、塗膜を乾燥させたのち有機溶媒で除去する
方法(特開平4−214566号公報)、基体下端部と
下端部内面に形成された塗膜を有機溶媒で除去する装置
(特開平5−2276号公報)などのように、有機溶媒
を用いて感光層塗膜を除去する方法が知られている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の方法では、不要な感光層塗膜を除去する装置が別途必
要になり、生産コストの増加や生産能力の低下を招くこ
とになる。さらに浸漬塗布法では、基体を感光液から引
きあげる際に液タレが発生し、塗膜上部の塗布膜厚が薄
くなって塗膜全体を通じて均一の膜厚に塗布できないと
いう固有の問題がある。そのため、感光液を構成する溶
媒の種類や粘度、さらには基体の引きあげ速度などの多
くの製造条件を最適化して対応しなければならなかっ
た。
の方法では、不要な感光層塗膜を除去する装置が別途必
要になり、生産コストの増加や生産能力の低下を招くこ
とになる。さらに浸漬塗布法では、基体を感光液から引
きあげる際に液タレが発生し、塗膜上部の塗布膜厚が薄
くなって塗膜全体を通じて均一の膜厚に塗布できないと
いう固有の問題がある。そのため、感光液を構成する溶
媒の種類や粘度、さらには基体の引きあげ速度などの多
くの製造条件を最適化して対応しなければならなかっ
た。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述の問題を
解決するためになされたものであり、浸漬塗布法により
電子写真用感光体を製造する方法において、容易にかつ
有効な方法により周辺部分との接触部分にあたる基体下
端部と下端部内面へ付着する塗膜の厚さを薄くするこ
と、さらには塗膜が実質的に形成されないようにすると
ともに、塗膜上部が液タレによって薄膜化することを防
止するための製造装置と製造方法を提供することにあ
る。
解決するためになされたものであり、浸漬塗布法により
電子写真用感光体を製造する方法において、容易にかつ
有効な方法により周辺部分との接触部分にあたる基体下
端部と下端部内面へ付着する塗膜の厚さを薄くするこ
と、さらには塗膜が実質的に形成されないようにすると
ともに、塗膜上部が液タレによって薄膜化することを防
止するための製造装置と製造方法を提供することにあ
る。
【0008】請求項1にかかる発明は、基体上に顔料分
散系感光液を浸漬塗布する手段、および基体に電圧を印
加し、制御するための手段を有する電子写真用感光体の
製造装置である。
散系感光液を浸漬塗布する手段、および基体に電圧を印
加し、制御するための手段を有する電子写真用感光体の
製造装置である。
【0009】請求項2にかかる発明は、浸漬塗布法によ
って、顔料分散系感光液を基体に塗布して電子写真用感
光体を製造する方法において、感光液から基体を引きあ
げる際に、基体に電圧を印加し、基体上に形成する顔料
分散系感光液の塗膜の厚さを制御することを特徴とする
電子写真用感光体の製造方法である。
って、顔料分散系感光液を基体に塗布して電子写真用感
光体を製造する方法において、感光液から基体を引きあ
げる際に、基体に電圧を印加し、基体上に形成する顔料
分散系感光液の塗膜の厚さを制御することを特徴とする
電子写真用感光体の製造方法である。
【0010】請求項3にかかる発明は、電圧を印加し、
基体上に形成する顔料分散系感光液の塗膜の厚さの制御
が、基体下端部を顔料分散系感光液から引きあげる際
に、塗膜の帯電と同符号の電圧を印加して、塗膜の厚さ
を薄くすることである請求項2記載の製造方法である。
基体上に形成する顔料分散系感光液の塗膜の厚さの制御
が、基体下端部を顔料分散系感光液から引きあげる際
に、塗膜の帯電と同符号の電圧を印加して、塗膜の厚さ
を薄くすることである請求項2記載の製造方法である。
【0011】請求項4にかかる発明は、基体下端部に印
加する電圧によって生じる電界強度の絶対値が、5〜1
000V/cmである請求項3記載の製造方法である。
加する電圧によって生じる電界強度の絶対値が、5〜1
000V/cmである請求項3記載の製造方法である。
【0012】請求項5にかかる発明は、電圧を印加し、
基体上に形成する顔料分散系感光液の塗膜の厚さの制御
が、塗膜が形成される基体部分を顔料分散系感光液から
引きあげる際に、塗膜の帯電と逆符号の電圧を印加し
て、塗膜上部の薄膜化を抑制することである請求項2記
載の製造方法。
基体上に形成する顔料分散系感光液の塗膜の厚さの制御
が、塗膜が形成される基体部分を顔料分散系感光液から
引きあげる際に、塗膜の帯電と逆符号の電圧を印加し
て、塗膜上部の薄膜化を抑制することである請求項2記
載の製造方法。
【0013】請求項6にかかる発明は、基体上端部に印
加する電圧によって生じる電界強度の絶対値が、5〜1
000V/cmである請求項5記載の製造方法である。
加する電圧によって生じる電界強度の絶対値が、5〜1
000V/cmである請求項5記載の製造方法である。
【0014】請求項7にかかる発明は、顔料がフタロシ
アニン系顔料である請求項3、4、5または6記載の製
造方法である。
アニン系顔料である請求項3、4、5または6記載の製
造方法である。
【0015】請求項8にかかる発明は、フタロシアニン
系顔料が無金属フタロシアニン系顔料である請求項7記
載の製造方法である。
系顔料が無金属フタロシアニン系顔料である請求項7記
載の製造方法である。
【0016】
【発明の実施の形態】本発明は、浸漬塗布法によって、
顔料分散系感光液を基体に塗布して電子写真用感光体を
製造する方法において、感光液から基体を引きあげ塗布
する際に、基体に電圧を印加し、基体上に形成される顔
料分散系感光液の塗膜の厚さを制御することを特徴とす
る電子写真用感光体の製造方法である。その結果、浸漬
塗布法によって、基体下端部および下端部内面にまで形
成される塗膜の厚さを薄くする、さらには実質的に塗膜
が形成されないようにするとともに、液タレが原因で生
じる塗膜上部の薄膜化を抑制できる。ここで、基体上端
部および下端部とは、プリンターや複写機のようなOA
機器に装着したときに周辺部品と接触する部分をいい、
一般に基体端部から3cm以内の部分である。一方、塗
膜上部または下部とは、浸漬塗布法によって基体を引き
あげた際に形成された感光層塗膜の上部または下部をい
う。
顔料分散系感光液を基体に塗布して電子写真用感光体を
製造する方法において、感光液から基体を引きあげ塗布
する際に、基体に電圧を印加し、基体上に形成される顔
料分散系感光液の塗膜の厚さを制御することを特徴とす
る電子写真用感光体の製造方法である。その結果、浸漬
塗布法によって、基体下端部および下端部内面にまで形
成される塗膜の厚さを薄くする、さらには実質的に塗膜
が形成されないようにするとともに、液タレが原因で生
じる塗膜上部の薄膜化を抑制できる。ここで、基体上端
部および下端部とは、プリンターや複写機のようなOA
機器に装着したときに周辺部品と接触する部分をいい、
一般に基体端部から3cm以内の部分である。一方、塗
膜上部または下部とは、浸漬塗布法によって基体を引き
あげた際に形成された感光層塗膜の上部または下部をい
う。
【0017】本発明の製造方法は、たとえば図1に示す
ような感光液を浸漬塗布する手段と基体に電圧を印加
し、制御する手段とを有する製造装置を用いて行なうこ
とができる。
ような感光液を浸漬塗布する手段と基体に電圧を印加
し、制御する手段とを有する製造装置を用いて行なうこ
とができる。
【0018】図1に示す製造装置は、基体1に感光層2
を形成する感光液3が入った塗工槽4、および電圧印加
制御装置5から構成されている。電圧印加制御装置5か
らの電圧の印加は、基体を支持している治具などを介し
て行なわれる。また、必要に応じて対向電極6、基体を
保持する装置、基体を塗工槽へ浸漬または引きあげるた
めの基体昇降機、基体の位置を監視するためのセンサお
よびセンサからえられた位置情報をもとに電圧を制御す
る装置などを設置することもできる。なお、基体と対向
電極または塗工槽との水平距離は、基体の部位によって
電界強度が異なることを避けるため、均一となるように
保持するような機能を有していることが好ましい。ま
た、電圧を印加するタイミングについては、上述したセ
ンサからの信号で制御することもできるが、基体の駆動
用モータの入力信号からえられるモータ駆動時間と引き
あげ速度から基体の位置を算出し、電圧を印加する位置
を制御する方法が簡便であり、このような手段を備えて
いることが好ましい。
を形成する感光液3が入った塗工槽4、および電圧印加
制御装置5から構成されている。電圧印加制御装置5か
らの電圧の印加は、基体を支持している治具などを介し
て行なわれる。また、必要に応じて対向電極6、基体を
保持する装置、基体を塗工槽へ浸漬または引きあげるた
めの基体昇降機、基体の位置を監視するためのセンサお
よびセンサからえられた位置情報をもとに電圧を制御す
る装置などを設置することもできる。なお、基体と対向
電極または塗工槽との水平距離は、基体の部位によって
電界強度が異なることを避けるため、均一となるように
保持するような機能を有していることが好ましい。ま
た、電圧を印加するタイミングについては、上述したセ
ンサからの信号で制御することもできるが、基体の駆動
用モータの入力信号からえられるモータ駆動時間と引き
あげ速度から基体の位置を算出し、電圧を印加する位置
を制御する方法が簡便であり、このような手段を備えて
いることが好ましい。
【0019】塗工槽4は、顔料を含有する感光液を保持
する槽であり、基体を浸漬することによって基体に感光
液を浸漬塗布する。塗工槽の形状、大きさはとくに限定
されないが、塗工槽で1個の基体を処理するときは円筒
形が、複数の基体を処理するときは正四角柱であること
が、塗工槽の製造が容易になる点で好ましい。塗工槽の
大きさは、とくに限定されないが、処理する基体の大き
さによって異なる。塗工槽の材質は、とくに限定されな
いが、感光液を保持できるものであればよい。なお、塗
工槽との間で電圧を印加するばあいには、塗工槽は接地
することが好ましく、塗工槽の材料は導電性の材料であ
ることが必要である。また、対向電極との間に電圧を印
加するばあいには、塗工槽は必ずしも接地する必要はな
く、塗工槽の材料は導電性材料に限定されない。
する槽であり、基体を浸漬することによって基体に感光
液を浸漬塗布する。塗工槽の形状、大きさはとくに限定
されないが、塗工槽で1個の基体を処理するときは円筒
形が、複数の基体を処理するときは正四角柱であること
が、塗工槽の製造が容易になる点で好ましい。塗工槽の
大きさは、とくに限定されないが、処理する基体の大き
さによって異なる。塗工槽の材質は、とくに限定されな
いが、感光液を保持できるものであればよい。なお、塗
工槽との間で電圧を印加するばあいには、塗工槽は接地
することが好ましく、塗工槽の材料は導電性の材料であ
ることが必要である。また、対向電極との間に電圧を印
加するばあいには、塗工槽は必ずしも接地する必要はな
く、塗工槽の材料は導電性材料に限定されない。
【0020】電圧印加制御装置5とは、基体1に電圧を
印加するための装置である。この装置から基体を支持し
ている治具を介して電圧を印加することもできる。かか
るばあいには、支持治具は導電性である必要がある。基
体に印加した電圧により生じた電界強度の絶対値は、5
〜1000V/cmであることが好ましいため、基体と
対向電極との距離が0.1〜5.0cmであると、電圧
の絶対値で0.5〜5000Vを印加することができる
ものが好ましい。
印加するための装置である。この装置から基体を支持し
ている治具を介して電圧を印加することもできる。かか
るばあいには、支持治具は導電性である必要がある。基
体に印加した電圧により生じた電界強度の絶対値は、5
〜1000V/cmであることが好ましいため、基体と
対向電極との距離が0.1〜5.0cmであると、電圧
の絶対値で0.5〜5000Vを印加することができる
ものが好ましい。
【0021】塗工槽内に対向電極6を設置して、対向電
極との間で基体に電圧を印加することもできる。対向電
極を設けないばあい、塗工槽が対向電極の役割を果た
す。対向電極を設けたばあい、基体との距離を狭くする
ことが容易となり、基体自体に印加する電圧の絶対値を
低く抑えることが可能となる。この基体と対向電極の距
離は、印加される電圧との関係で異なり、とくに限定さ
れないが、基体との距離を均一に保持しやすいという点
で、2〜8mmであることが好ましい。
極との間で基体に電圧を印加することもできる。対向電
極を設けないばあい、塗工槽が対向電極の役割を果た
す。対向電極を設けたばあい、基体との距離を狭くする
ことが容易となり、基体自体に印加する電圧の絶対値を
低く抑えることが可能となる。この基体と対向電極の距
離は、印加される電圧との関係で異なり、とくに限定さ
れないが、基体との距離を均一に保持しやすいという点
で、2〜8mmであることが好ましい。
【0022】対向電極6の形状は、とくに限定されない
が、基体との距離を均一に保つために基体と相似形の形
状であることが好ましい。なお、基体は通常、円筒形で
あるために対向電極も円筒形であることが好ましい。対
向電極の大きさは、とくに制限はなく、処理する基体の
大きさによって異なるが、直径は基体の直径よりも4〜
16mm程度大きいことが、基体と対向電極との距離を
均一に保持しやすくなるという点で好ましい。対向電極
の長さについては、必ずしも基体の長さ以上である必要
はないが、少なくとも基体の浸漬時、および引きあげ時
にともに感光液液面が対向電極の部分に存在するような
長さであることが好ましい。材質としては導電性を有す
ることが必要であるが、錆を発生しない点でSUSを使
用することが好ましい。また、対向電極は接地されてい
ることが好ましい。
が、基体との距離を均一に保つために基体と相似形の形
状であることが好ましい。なお、基体は通常、円筒形で
あるために対向電極も円筒形であることが好ましい。対
向電極の大きさは、とくに制限はなく、処理する基体の
大きさによって異なるが、直径は基体の直径よりも4〜
16mm程度大きいことが、基体と対向電極との距離を
均一に保持しやすくなるという点で好ましい。対向電極
の長さについては、必ずしも基体の長さ以上である必要
はないが、少なくとも基体の浸漬時、および引きあげ時
にともに感光液液面が対向電極の部分に存在するような
長さであることが好ましい。材質としては導電性を有す
ることが必要であるが、錆を発生しない点でSUSを使
用することが好ましい。また、対向電極は接地されてい
ることが好ましい。
【0023】対向電極6の設置位置は、とくに限定され
ないが、少くとも基体の浸漬時、および引きあげ時にと
もに感光液液面が対向電極の部分に存在するような高さ
に設けることが好ましい。なお、対向電極と基体との水
平距離は、印加する電圧によって生じる電界強度が基体
の部位によって異ならないように、均一となるよう制御
することが好ましい。
ないが、少くとも基体の浸漬時、および引きあげ時にと
もに感光液液面が対向電極の部分に存在するような高さ
に設けることが好ましい。なお、対向電極と基体との水
平距離は、印加する電圧によって生じる電界強度が基体
の部位によって異ならないように、均一となるよう制御
することが好ましい。
【0024】なお、複数の対向電極を塗工槽内に設置す
ることによって、同時に複数本の基体を処理することが
可能となる。また、異なる大きさの対向電極を複数個設
置することにより、大きさの異なる複数の基体を同時に
処理することも可能となる。
ることによって、同時に複数本の基体を処理することが
可能となる。また、異なる大きさの対向電極を複数個設
置することにより、大きさの異なる複数の基体を同時に
処理することも可能となる。
【0025】前記製造装置の好ましい具体例としては、
以下のごとき例があげられる。
以下のごとき例があげられる。
【0026】円筒形状、直径3〜30cm、長さ20〜
130cmで、SUS製の塗工槽4、0.5V以上の電
圧を印加できる電圧印加制御装置5、基体を支持する導
電性材料からなる治具、円筒形状、直径20〜160m
m、長さ10〜100cmで、導電性材料からなる対向
電極6からなり、対向電極6を基体と対向電極の水平距
離が均一となるように塗工槽4中に設置したものであ
る。また、塗工槽4、対向電極6は、少くとも一方が接
地されていることが好ましい。
130cmで、SUS製の塗工槽4、0.5V以上の電
圧を印加できる電圧印加制御装置5、基体を支持する導
電性材料からなる治具、円筒形状、直径20〜160m
m、長さ10〜100cmで、導電性材料からなる対向
電極6からなり、対向電極6を基体と対向電極の水平距
離が均一となるように塗工槽4中に設置したものであ
る。また、塗工槽4、対向電極6は、少くとも一方が接
地されていることが好ましい。
【0027】基体1は、通常、アルミニウム合金製の円
筒形状であり、直径20〜160mm、長さ10〜10
0cm程度の大きさを有するものである。電子写真用感
光体は、基体のうえに電荷発生層、電荷輸送層を順次積
層したもの、基体上に感光層だけを積層したものがあ
る。
筒形状であり、直径20〜160mm、長さ10〜10
0cm程度の大きさを有するものである。電子写真用感
光体は、基体のうえに電荷発生層、電荷輸送層を順次積
層したもの、基体上に感光層だけを積層したものがあ
る。
【0028】感光液3は、顔料分散系感光液が使用さ
れ、顔料、バインダー樹脂、溶媒から構成されている。
れ、顔料、バインダー樹脂、溶媒から構成されている。
【0029】顔料は、光導電性を有する各種電荷発生材
料が使用でき、とくに限定されないが、たとえば無金属
フタロシアニン系顔料、銅フタロシアニン、チタニルフ
タロシアニン、ガリウムフタロシアニン、バナジウムフ
タロシアニンなどの金属フタロシアニン系顔料、ペリレ
ン系顔料、多環キノン系顔料などがあげられる。これら
は1種のみを用いても、または2種以上を併用すること
もできる。とくに、露光波長に対して光感度が優れた顔
料の使用が好ましい。これらのなかでは、半導体レーザ
ー光に対して光感度を有する点でフタロシアニン系顔料
が好ましい。また、フタロシアニン系顔料のなかでも、
光感度が優れているという点で、無金属フタロシアニン
系顔料がとくに好ましい。ここで無金属フタロシアニン
系顔料とはフタロシアニン骨格に金属原子を含まない化
学構造を有するものである。
料が使用でき、とくに限定されないが、たとえば無金属
フタロシアニン系顔料、銅フタロシアニン、チタニルフ
タロシアニン、ガリウムフタロシアニン、バナジウムフ
タロシアニンなどの金属フタロシアニン系顔料、ペリレ
ン系顔料、多環キノン系顔料などがあげられる。これら
は1種のみを用いても、または2種以上を併用すること
もできる。とくに、露光波長に対して光感度が優れた顔
料の使用が好ましい。これらのなかでは、半導体レーザ
ー光に対して光感度を有する点でフタロシアニン系顔料
が好ましい。また、フタロシアニン系顔料のなかでも、
光感度が優れているという点で、無金属フタロシアニン
系顔料がとくに好ましい。ここで無金属フタロシアニン
系顔料とはフタロシアニン骨格に金属原子を含まない化
学構造を有するものである。
【0030】バインダー樹脂とは、上述した電荷発生材
料を保持する働きをするものであり、とくに限定されな
いが、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ
ビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹
脂などがあげられる。これらは1種のみを用いても、2
種以上を併用することもできる。
料を保持する働きをするものであり、とくに限定されな
いが、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ
ビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹
脂などがあげられる。これらは1種のみを用いても、2
種以上を併用することもできる。
【0031】溶媒は、とくに限定されないが、たとえば
塩化メチレン、クロロホルム、THF、トルエン、メチ
ルエチルケトンなどが好ましい。これらは1種のみを用
いても、2種以上を併用することもできる。
塩化メチレン、クロロホルム、THF、トルエン、メチ
ルエチルケトンなどが好ましい。これらは1種のみを用
いても、2種以上を併用することもできる。
【0032】これらの顔料、バインダー樹脂、溶媒は混
合したのち、激しく撹拌することによって、顔料をバイ
ンダー樹脂に分散させることにより感光液が製造され
る。
合したのち、激しく撹拌することによって、顔料をバイ
ンダー樹脂に分散させることにより感光液が製造され
る。
【0033】用いる感光液における顔料の含有量は、と
くに限定されないが、充分な光感度を実現するという点
で、5〜30%(重量%、以下同様)であることが好ま
しい。また、バインダー樹脂の含有量は顔料を充分に保
持するという点で、70〜95%であることが好まし
い。
くに限定されないが、充分な光感度を実現するという点
で、5〜30%(重量%、以下同様)であることが好ま
しい。また、バインダー樹脂の含有量は顔料を充分に保
持するという点で、70〜95%であることが好まし
い。
【0034】このような基体と感光液を用いて、上述し
たような感光液を浸漬塗布する手段および基体に電圧を
印加し、制御するための手段を有する製造装置で電子写
真用感光体が製造される。
たような感光液を浸漬塗布する手段および基体に電圧を
印加し、制御するための手段を有する製造装置で電子写
真用感光体が製造される。
【0035】感光液中の顔料は、感光液を構成する溶媒
の種類や樹脂の種類によって、帯電極性や帯電圧が異な
るものの一般に帯電している。顔料の帯電を利用して、
基体に電圧を印加することにより塗膜の厚さを制御する
ことができる。
の種類や樹脂の種類によって、帯電極性や帯電圧が異な
るものの一般に帯電している。顔料の帯電を利用して、
基体に電圧を印加することにより塗膜の厚さを制御する
ことができる。
【0036】ここで塗膜の厚さの制御とは、たとえば塗
膜成分がプラスに帯電しているばあいには、基体にマイ
ナスの電圧を印加して基体上に顔料を含む塗膜成分を引
き寄せ、塗膜の厚さを厚くすること、または基体にプラ
スの電圧を印加して基体上から顔料を含む塗膜成分を排
除して塗膜の厚さを薄くする、または塗膜が実質的に形
成されていない部分を形成することをいう。逆に、顔料
がマイナスに帯電しているばあいには、基体にプラスの
電圧を印加して基体上に顔料を含む塗膜成分を引き寄
せ、塗膜の厚さを厚くすること、または基体にマイナス
の電圧を印加して基体上から顔料を含む塗膜成分を排除
して塗膜の厚さを薄くする、または塗膜が実質的に形成
されていない部分を形成することをいう。
膜成分がプラスに帯電しているばあいには、基体にマイ
ナスの電圧を印加して基体上に顔料を含む塗膜成分を引
き寄せ、塗膜の厚さを厚くすること、または基体にプラ
スの電圧を印加して基体上から顔料を含む塗膜成分を排
除して塗膜の厚さを薄くする、または塗膜が実質的に形
成されていない部分を形成することをいう。逆に、顔料
がマイナスに帯電しているばあいには、基体にプラスの
電圧を印加して基体上に顔料を含む塗膜成分を引き寄
せ、塗膜の厚さを厚くすること、または基体にマイナス
の電圧を印加して基体上から顔料を含む塗膜成分を排除
して塗膜の厚さを薄くする、または塗膜が実質的に形成
されていない部分を形成することをいう。
【0037】この塗膜の厚さの制御には、上述した電圧
の極性をもって制御する方法のみならず、印加された電
圧によって生じる電界強度を、塗膜の上部と下部によっ
て変動させて制御する方法も含まれる。たとえば顔料が
プラスに帯電しているばあいに、基体を感光液から引き
あげる際に、塗膜上部が感光液液面に達しているときに
は塗膜下部よりも大きなマイナスの電界強度になるよう
にして、塗膜上部の膜厚を厚くすることにより液タレが
原因で生じる塗膜上部の薄膜化を抑制することがあげら
れる。
の極性をもって制御する方法のみならず、印加された電
圧によって生じる電界強度を、塗膜の上部と下部によっ
て変動させて制御する方法も含まれる。たとえば顔料が
プラスに帯電しているばあいに、基体を感光液から引き
あげる際に、塗膜上部が感光液液面に達しているときに
は塗膜下部よりも大きなマイナスの電界強度になるよう
にして、塗膜上部の膜厚を厚くすることにより液タレが
原因で生じる塗膜上部の薄膜化を抑制することがあげら
れる。
【0038】なお、印加された電圧による膜厚の制御
は、一般的に感光液液面と基体の接点のわずかな界面領
域で決定されるため、感光液中に浸漬されている基体と
その基体に接している感光液との界面部分が及ぼす膜厚
への影響は小さい。また、感光液から引きあげられたの
ちは、溶媒が蒸発し、塗膜が基体に固定されるので、基
体に電圧を印加しても膜厚の変動はほとんど起こらな
い。
は、一般的に感光液液面と基体の接点のわずかな界面領
域で決定されるため、感光液中に浸漬されている基体と
その基体に接している感光液との界面部分が及ぼす膜厚
への影響は小さい。また、感光液から引きあげられたの
ちは、溶媒が蒸発し、塗膜が基体に固定されるので、基
体に電圧を印加しても膜厚の変動はほとんど起こらな
い。
【0039】電子写真用感光体は、その基体の両端には
塗布膜が形成されないようにしなければならない。塗膜
が形成されないように電圧を印加する位置は、感光液、
電界強度などの条件に依存するために一概には決定でき
ないが、たとえば基体の下端から3〜30mmの塗膜を
形成しない部分の上部が感光液の液面に達したときから
基体を引きあげ終わるまで電圧を印加すれば、基体下端
部の塗膜厚さを薄くする、または塗膜が実質的に形成さ
れないようにすることができる。
塗布膜が形成されないようにしなければならない。塗膜
が形成されないように電圧を印加する位置は、感光液、
電界強度などの条件に依存するために一概には決定でき
ないが、たとえば基体の下端から3〜30mmの塗膜を
形成しない部分の上部が感光液の液面に達したときから
基体を引きあげ終わるまで電圧を印加すれば、基体下端
部の塗膜厚さを薄くする、または塗膜が実質的に形成さ
れないようにすることができる。
【0040】また、基体を縦方向に浸漬する浸漬塗布法
では、基体を感光液から引きあげる際に液タレが発生
し、塗膜上部が薄膜化する傾向にあるが、基体に電圧を
印加することによりこのような塗膜上部の薄膜化も解消
することができる。このばあいにも、電圧を印加する位
置は、感光液、電界強度に依存するために一概には決定
できないが、基体を引きあげはじめたときから、3〜5
0mmの塗膜形成が終了するまで、電圧を印加すれば塗
膜上部の薄膜化を抑制することができる。
では、基体を感光液から引きあげる際に液タレが発生
し、塗膜上部が薄膜化する傾向にあるが、基体に電圧を
印加することによりこのような塗膜上部の薄膜化も解消
することができる。このばあいにも、電圧を印加する位
置は、感光液、電界強度に依存するために一概には決定
できないが、基体を引きあげはじめたときから、3〜5
0mmの塗膜形成が終了するまで、電圧を印加すれば塗
膜上部の薄膜化を抑制することができる。
【0041】印加する電圧によって生じる電界強度の絶
対値は、とくに限定されないが、処理の影響が現れるた
めには5〜1000V/cmであることが好ましく、1
0〜100V/cmであることがより好ましい。5V/
cm未満であると電圧印加による効果が小さくなり、1
000V/cmより大きいと電圧印加による効果が飽和
する傾向が生じるからである。なお、この電界強度は、
一定である必要はなく、種々の条件を考慮して変化させ
ることもできる。
対値は、とくに限定されないが、処理の影響が現れるた
めには5〜1000V/cmであることが好ましく、1
0〜100V/cmであることがより好ましい。5V/
cm未満であると電圧印加による効果が小さくなり、1
000V/cmより大きいと電圧印加による効果が飽和
する傾向が生じるからである。なお、この電界強度は、
一定である必要はなく、種々の条件を考慮して変化させ
ることもできる。
【0042】引きあげ速度は、とくに限定されず、塗布
膜厚と顔料の濃度にも依存するが、生産性向上の点で1
0〜130cm/分であることが好ましい。10cm/
分未満であると生産性が著しく低下し、130cm/分
より大きいと感光層の膜厚ムラが大きくなる傾向が生じ
るためである。なお、この引きあげ速度も、一定である
必要はなく、種々の条件を考慮して変化させることもで
きる。
膜厚と顔料の濃度にも依存するが、生産性向上の点で1
0〜130cm/分であることが好ましい。10cm/
分未満であると生産性が著しく低下し、130cm/分
より大きいと感光層の膜厚ムラが大きくなる傾向が生じ
るためである。なお、この引きあげ速度も、一定である
必要はなく、種々の条件を考慮して変化させることもで
きる。
【0043】感光液の温度は、とくに限定されないが、
温調されたクリーンルーム内で生産されることから20
〜28℃の範囲内で管理されることが好ましい。
温調されたクリーンルーム内で生産されることから20
〜28℃の範囲内で管理されることが好ましい。
【0044】前記製造方法の好ましい具体例としては、
以下のごとき例があげられる。顔料として無金属フタ
ロシアニン、バインダー樹脂、溶媒を用い、顔料の含有
量5〜30%、バインダー樹脂の含有量70〜95%と
した顔料分散系感光液を使用し、引きあげ速度を10〜
130cm/分として、基体下端から3〜30mmの部
分が感光液の液面に達したときから基体を引きあげ終わ
るまで、電界強度5〜1000V/cmとなるように電
圧を印加して、塗膜の厚さを薄くする製造方法である。
以下のごとき例があげられる。顔料として無金属フタ
ロシアニン、バインダー樹脂、溶媒を用い、顔料の含有
量5〜30%、バインダー樹脂の含有量70〜95%と
した顔料分散系感光液を使用し、引きあげ速度を10〜
130cm/分として、基体下端から3〜30mmの部
分が感光液の液面に達したときから基体を引きあげ終わ
るまで、電界強度5〜1000V/cmとなるように電
圧を印加して、塗膜の厚さを薄くする製造方法である。
【0045】顔料として無金属フタロシアニン、バイ
ンダー樹脂、溶媒を用い、顔料の含有量5〜30%、バ
インダー樹脂の含有量70〜95%とした顔料分散系感
光液を使用し、引きあげ速度を10〜130cm/分と
して、基体を引きあげはじめたときから3〜50mmの
塗膜形成が終了するまで、電界強度5〜1000V/c
mとなるように電圧を印加して、塗膜上部の塗膜薄膜化
を抑制する製造方法である。
ンダー樹脂、溶媒を用い、顔料の含有量5〜30%、バ
インダー樹脂の含有量70〜95%とした顔料分散系感
光液を使用し、引きあげ速度を10〜130cm/分と
して、基体を引きあげはじめたときから3〜50mmの
塗膜形成が終了するまで、電界強度5〜1000V/c
mとなるように電圧を印加して、塗膜上部の塗膜薄膜化
を抑制する製造方法である。
【0046】このように塗膜形成された基体は、つぎに
塗膜が熱可塑性樹脂のばあいには乾燥させ、熱硬化性樹
脂のばあいには硬化させて、電子写真用感光体としてプ
リンター、複写機などに使用される。乾燥させるばあい
の時間と温度は、用いる感光液などによって異なるため
に一該には決定できないが、通常70〜120℃、10
分〜2時間である。一方、硬化させるばあいの時間と温
度も、用いる感光液などによって異なるが、通常70〜
220℃、5分〜10時間である。硬化後の感光層膜厚
は、10〜30μmであることが良好な電子写真特性を
えるうえで好ましい。
塗膜が熱可塑性樹脂のばあいには乾燥させ、熱硬化性樹
脂のばあいには硬化させて、電子写真用感光体としてプ
リンター、複写機などに使用される。乾燥させるばあい
の時間と温度は、用いる感光液などによって異なるため
に一該には決定できないが、通常70〜120℃、10
分〜2時間である。一方、硬化させるばあいの時間と温
度も、用いる感光液などによって異なるが、通常70〜
220℃、5分〜10時間である。硬化後の感光層膜厚
は、10〜30μmであることが良好な電子写真特性を
えるうえで好ましい。
【0047】本発明の製造装置および製造方法を用いて
えられた電子写真用感光体の基体下端部には、塗膜が実
質的に形成されず、さらに塗膜上部から下部にわたって
均一な膜厚に制御されている。従来の浸漬塗布法では、
溶媒や粘度などの感光液の条件だけでなく、基体の引き
あげ速度などの種々の製造条件を最適化する必要があっ
たが、本発明では基本的には印加する電圧を制御するだ
けで、より簡便に膜厚の均一な電子写真用感光体を得る
ことができる。
えられた電子写真用感光体の基体下端部には、塗膜が実
質的に形成されず、さらに塗膜上部から下部にわたって
均一な膜厚に制御されている。従来の浸漬塗布法では、
溶媒や粘度などの感光液の条件だけでなく、基体の引き
あげ速度などの種々の製造条件を最適化する必要があっ
たが、本発明では基本的には印加する電圧を制御するだ
けで、より簡便に膜厚の均一な電子写真用感光体を得る
ことができる。
【0048】
【実施例】つぎに本発明を実施例に基づいて説明する
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
【0049】製造例1 顔料として無金属フタロシアニン(Fastogen
Blue 8120−BS、大日本インキ化学工業
(株)製)80g、バインダー樹脂としてポリエステル
樹脂(バイロン20SS、東洋紡績(株)製、固形分濃
度30wt%トルエン/メチルエチルケトン溶液)55
0g、ブチル化メラミン樹脂(ユーバン20HS、三井
東圧化学(株)製)80g、溶媒としてトルエン120
0g、メチルエチルケトン300gを混合し、回転数1
500rpmで1時間撹拌しながら分散処理を行なっ
て、顔料分散系感光液を調整した。
Blue 8120−BS、大日本インキ化学工業
(株)製)80g、バインダー樹脂としてポリエステル
樹脂(バイロン20SS、東洋紡績(株)製、固形分濃
度30wt%トルエン/メチルエチルケトン溶液)55
0g、ブチル化メラミン樹脂(ユーバン20HS、三井
東圧化学(株)製)80g、溶媒としてトルエン120
0g、メチルエチルケトン300gを混合し、回転数1
500rpmで1時間撹拌しながら分散処理を行なっ
て、顔料分散系感光液を調整した。
【0050】実施例1 直径10cm、深さ45cmの円筒形状の塗工槽4に、
直径4.0cm、長さ3.0cmの円筒形状の対向電極
6を、対向電極と塗工槽の上端とが同じ高さになるよう
に設置した。製造例1で調製した感光液3を塗工槽4に
注いだところ、塗工槽上面から1.0cmのところに液
面が達した。なお、感光液の温度は25℃であった。な
お、塗工槽と対向電極は、ともに接地した。
直径4.0cm、長さ3.0cmの円筒形状の対向電極
6を、対向電極と塗工槽の上端とが同じ高さになるよう
に設置した。製造例1で調製した感光液3を塗工槽4に
注いだところ、塗工槽上面から1.0cmのところに液
面が達した。なお、感光液の温度は25℃であった。な
お、塗工槽と対向電極は、ともに接地した。
【0051】ここに、直径3.0cm、長さ32cmの
円筒形状のアルミニウム合金製基体を、60cm/分の
一定速度で基体の上端から1.0cmのところが感光液
で覆われないように基体を感光液に降ろし、2秒間浸漬
した。40cm/分の一定速度で基体を引きあげ、基体
の下端部が感光液の液面から1.0cmに達したとき
に、電界強度+50V/cmになるように250Vの電
圧を基体に印加した。つぎに、150℃で、2時間加熱
硬化して基体上に感光層を形成した。塗膜中央部の塗膜
膜厚は20μmであったが、電圧印加した基体下端部に
はほとんど感光層は形成されなかった。したがって、こ
のばあい、基体下端部の拭き取りを実施する必要がな
く、電子写真用感光体製造することができた。
円筒形状のアルミニウム合金製基体を、60cm/分の
一定速度で基体の上端から1.0cmのところが感光液
で覆われないように基体を感光液に降ろし、2秒間浸漬
した。40cm/分の一定速度で基体を引きあげ、基体
の下端部が感光液の液面から1.0cmに達したとき
に、電界強度+50V/cmになるように250Vの電
圧を基体に印加した。つぎに、150℃で、2時間加熱
硬化して基体上に感光層を形成した。塗膜中央部の塗膜
膜厚は20μmであったが、電圧印加した基体下端部に
はほとんど感光層は形成されなかった。したがって、こ
のばあい、基体下端部の拭き取りを実施する必要がな
く、電子写真用感光体製造することができた。
【0052】また、基体下端部内面にも、感光層はほと
んど形成されなかった。
んど形成されなかった。
【0053】実施例2 実施例1と同じ装置、基体、感光液を用い、基体の上端
1.0cmのところが感光液で覆われないように2秒間
浸漬した。40cm/分の一定速度で基体を引きあげ、
基体の下端部が分散液の液面から1.0cmに達したと
きに、電界強度+5V/cmになるように25Vの電圧
を基体に印加した。
1.0cmのところが感光液で覆われないように2秒間
浸漬した。40cm/分の一定速度で基体を引きあげ、
基体の下端部が分散液の液面から1.0cmに達したと
きに、電界強度+5V/cmになるように25Vの電圧
を基体に印加した。
【0054】基体下端部に感光液がほんの少し目視でわ
かる程度塗布された。感光体ドラムの意匠性を考慮し、
基体下端部の感光層は、従来と同様に、トルエンが染み
込んだ繊維を感光層にあてて、繊維を1m/分の速度
で、基体を逆方向に1回転/秒で回転させながら感光層
を拭き取った。硬化後の膜厚が20μm程度では、約1
分間拭き取り操作が必要であるが、このばあい2秒と約
1/30という非常に短時間で基体下端部の感光層を完
全に除去することができた。
かる程度塗布された。感光体ドラムの意匠性を考慮し、
基体下端部の感光層は、従来と同様に、トルエンが染み
込んだ繊維を感光層にあてて、繊維を1m/分の速度
で、基体を逆方向に1回転/秒で回転させながら感光層
を拭き取った。硬化後の膜厚が20μm程度では、約1
分間拭き取り操作が必要であるが、このばあい2秒と約
1/30という非常に短時間で基体下端部の感光層を完
全に除去することができた。
【0055】比較例1 実施例1と同じ装置、基体、感光液を用い、基体の上端
から1.0cmのところが感光液で覆われないように2
秒間浸漬した。電圧を印加せずに、40cm/分の一定
速度で基体を引きあげた。
から1.0cmのところが感光液で覆われないように2
秒間浸漬した。電圧を印加せずに、40cm/分の一定
速度で基体を引きあげた。
【0056】基体下端部に感光液が塗布されていたた
め、基体下端部の拭き取り操作を、実施例2と同様の条
件で行なった。約1分間拭き取り操作に時間がかかっ
た。
め、基体下端部の拭き取り操作を、実施例2と同様の条
件で行なった。約1分間拭き取り操作に時間がかかっ
た。
【0057】実施例3 実施例1と同じ装置、基体、感光液を用い、基体の上端
から1.5cmのところが感光液で覆われないように1
秒間浸漬した。40cm/分の一定速度で基体を引きあ
げる際に、引きあげ直後から液面が基体の上端より2.
3cmの部分に達するまで、−50V/cmの電圧を印
加し、そののち電圧をゼロにした。
から1.5cmのところが感光液で覆われないように1
秒間浸漬した。40cm/分の一定速度で基体を引きあ
げる際に、引きあげ直後から液面が基体の上端より2.
3cmの部分に達するまで、−50V/cmの電圧を印
加し、そののち電圧をゼロにした。
【0058】つぎに、150℃で、2時間加熱して感光
層を硬化させた。基体の上端から2.1cmの部分、中
央部、および基体下端から2.1cmの部分の膜厚を測
定したところ、感光層膜厚はそれぞれ19.7μm、2
0.0μm、20.0μmと均一な厚さの塗膜が形成さ
れた。
層を硬化させた。基体の上端から2.1cmの部分、中
央部、および基体下端から2.1cmの部分の膜厚を測
定したところ、感光層膜厚はそれぞれ19.7μm、2
0.0μm、20.0μmと均一な厚さの塗膜が形成さ
れた。
【0059】比較例2 実施例1と同じ装置、基体、感光液を用い、基体の上端
から1.5cmのところが感光液で覆われないように1
秒間浸漬した。電圧を印加せずに、40cm/分の一定
速度で基体を引きあげた。
から1.5cmのところが感光液で覆われないように1
秒間浸漬した。電圧を印加せずに、40cm/分の一定
速度で基体を引きあげた。
【0060】つぎに、150℃で、2時間加熱して感光
層を硬化させた。基体の上端から2.1cmの部分、中
央部、および基体下端から2.1cmの部分の膜厚を測
定したところ、それぞれ18.0μm、20.0μm、
20.0μmとなり、塗膜上部は薄くなった。
層を硬化させた。基体の上端から2.1cmの部分、中
央部、および基体下端から2.1cmの部分の膜厚を測
定したところ、それぞれ18.0μm、20.0μm、
20.0μmとなり、塗膜上部は薄くなった。
【0061】これらの実施例より、浸漬塗布法におい
て、基体を引きあげる際に電圧を印加すると基体下端部
の塗膜の厚さを薄くしたり、または塗膜が実質的に形成
されていない部分を形成したり、さらには液タレが原因
で生じる塗膜上部の薄膜化を抑制できることがわかる。
て、基体を引きあげる際に電圧を印加すると基体下端部
の塗膜の厚さを薄くしたり、または塗膜が実質的に形成
されていない部分を形成したり、さらには液タレが原因
で生じる塗膜上部の薄膜化を抑制できることがわかる。
【0062】
【発明の効果】本発明の請求項1記載の製造装置では、
基体上に顔料分散系感光液を浸漬塗布する手段、基体に
電圧を印加し、制御するための手段を有するため、感光
液から基体を引きあげる際に、基体に電圧を印加し、基
体上に形成される塗膜の厚さを制御することができ、電
子写真用感光体の生産性を著しく向上させることができ
る。
基体上に顔料分散系感光液を浸漬塗布する手段、基体に
電圧を印加し、制御するための手段を有するため、感光
液から基体を引きあげる際に、基体に電圧を印加し、基
体上に形成される塗膜の厚さを制御することができ、電
子写真用感光体の生産性を著しく向上させることができ
る。
【0063】本発明の請求項2記載の製造方法では、浸
漬塗布法によって、顔料分散系感光液を基体に塗布して
電子写真用感光体を製造する方法において、感光液から
基体を引きあげ塗布する際に、基体に電圧を印加し、基
体上に形成する顔料分散系感光液の塗膜の厚さを制御で
き、電子写真用感光体の生産性を著しく向上させること
ができる。
漬塗布法によって、顔料分散系感光液を基体に塗布して
電子写真用感光体を製造する方法において、感光液から
基体を引きあげ塗布する際に、基体に電圧を印加し、基
体上に形成する顔料分散系感光液の塗膜の厚さを制御で
き、電子写真用感光体の生産性を著しく向上させること
ができる。
【0064】本発明の請求項3記載の製造方法では、浸
漬塗布法によって、顔料分散系感光液を基体に塗布して
電子写真用感光体を製造する方法において、感光液から
基体を引きあげ塗布する際に、塗膜の帯電と同符号の電
圧を印加して、基体下端部の塗膜の厚さを薄くすること
ができる。
漬塗布法によって、顔料分散系感光液を基体に塗布して
電子写真用感光体を製造する方法において、感光液から
基体を引きあげ塗布する際に、塗膜の帯電と同符号の電
圧を印加して、基体下端部の塗膜の厚さを薄くすること
ができる。
【0065】本発明の請求項4記載の製造方法では、浸
漬塗布法によって、顔料分散系感光液を基体に塗布して
電子写真用感光体を製造する方法において、感光液から
基体を引きあげ塗布する際に、印加した電圧によって生
じる電界強度の絶対値を5〜1000V/cm以上とす
ることによって、基体下端部の塗膜の厚さを薄くするこ
とができる。
漬塗布法によって、顔料分散系感光液を基体に塗布して
電子写真用感光体を製造する方法において、感光液から
基体を引きあげ塗布する際に、印加した電圧によって生
じる電界強度の絶対値を5〜1000V/cm以上とす
ることによって、基体下端部の塗膜の厚さを薄くするこ
とができる。
【0066】本発明の請求項5記載の製造方法では、浸
漬塗布法によって、顔料分散系感光液を基体に塗布して
電子写真用感光体を製造する方法において、感光液から
基体を引きあげ塗布する際に、塗膜の帯電と逆符号の電
圧を印加して、塗膜上部の薄膜化を抑制することができ
る。
漬塗布法によって、顔料分散系感光液を基体に塗布して
電子写真用感光体を製造する方法において、感光液から
基体を引きあげ塗布する際に、塗膜の帯電と逆符号の電
圧を印加して、塗膜上部の薄膜化を抑制することができ
る。
【0067】本発明の請求項6記載の製造方法では、浸
漬塗布法によって、顔料分散系感光液を基体に塗布して
電子写真用感光体を製造する方法において、感光液から
基体を引きあげ塗布する際に、印加した電圧によって生
じる電界強度の絶対値を5〜1000V/cm以上とす
ることによって、塗膜上部の液タレによる薄膜化を抑制
することができる。
漬塗布法によって、顔料分散系感光液を基体に塗布して
電子写真用感光体を製造する方法において、感光液から
基体を引きあげ塗布する際に、印加した電圧によって生
じる電界強度の絶対値を5〜1000V/cm以上とす
ることによって、塗膜上部の液タレによる薄膜化を抑制
することができる。
【0068】本発明の請求項7記載の製造方法では、顔
料としてフタロシアニン系顔料を用い、感光液から基体
を引きあげ塗布する際に、基体に電圧を印加し、基体上
に形成する顔料分散系感光液の塗膜の厚さを制御でき、
電子写真用感光体の生産性を著しく向上させることがで
きる。
料としてフタロシアニン系顔料を用い、感光液から基体
を引きあげ塗布する際に、基体に電圧を印加し、基体上
に形成する顔料分散系感光液の塗膜の厚さを制御でき、
電子写真用感光体の生産性を著しく向上させることがで
きる。
【0069】本発明の請求項8記載の製造方法では、フ
タロシアニン系顔料として無金属フタロシアニンを用
い、感光液から基体を引きあげ塗布する際に、基体に電
圧を印加し、基体上に形成する顔料分散系感光液の塗膜
の厚さを制御でき、電子写真用感光体の生産性を著しく
向上させることができる。
タロシアニン系顔料として無金属フタロシアニンを用
い、感光液から基体を引きあげ塗布する際に、基体に電
圧を印加し、基体上に形成する顔料分散系感光液の塗膜
の厚さを制御でき、電子写真用感光体の生産性を著しく
向上させることができる。
【図1】 本発明の一実施例にかかる電子写真用感光体
の製造装置の説明図である。
の製造装置の説明図である。
1 基体、2 感光層、3 感光液、4 塗工槽、5
電圧印加制御装置、6 対向電極、7 基体上端部、8
基体下端部。
電圧印加制御装置、6 対向電極、7 基体上端部、8
基体下端部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長江 偉 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 藤本 隆光 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内
Claims (8)
- 【請求項1】 基体上に顔料分散系感光液を浸漬塗布す
る手段、および基体に電圧を印加し、制御するための手
段を有する電子写真用感光体の製造装置。 - 【請求項2】 浸漬塗布法によって、顔料分散系感光液
を基体に塗布して電子写真用感光体を製造する方法にお
いて、感光液から基体を引きあげる際に、基体に電圧を
印加し、基体上に形成する顔料分散系感光液の塗膜の厚
さを制御することを特徴とする電子写真用感光体の製造
方法。 - 【請求項3】 電圧を印加し、基体上に形成する顔料分
散系感光液の塗膜の厚さの制御が、基体下端部を顔料分
散系感光液から引きあげる際に、塗膜の帯電と同符号の
電圧を印加して、塗膜の厚さを薄くすることである請求
項2記載の製造方法。 - 【請求項4】 基体下端部に印加する電圧によって生じ
る電界強度の絶対値が、5〜1000V/cmである請
求項3記載の製造方法。 - 【請求項5】 電圧を印加し、基体上に形成する顔料分
散系感光液の塗膜の厚さの制御が、塗膜が形成される基
体部分を顔料分散系感光液から引きあげる際に、塗膜の
帯電と逆符号の電圧を印加して、塗膜上部の薄膜化を抑
制することである請求項2記載の製造方法。 - 【請求項6】 塗膜上部に印加する電圧によって生じる
電界強度の絶対値が、5〜1000V/cmである請求
項5記載の製造方法。 - 【請求項7】 顔料がフタロシアニン系顔料である請求
項3、4、5または6記載の製造方法。 - 【請求項8】 フタロシアニン系顔料が無金属フタロシ
アニン系顔料である請求項7記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7920498A JPH11271993A (ja) | 1998-03-26 | 1998-03-26 | 電子写真用感光体の製造装置および製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7920498A JPH11271993A (ja) | 1998-03-26 | 1998-03-26 | 電子写真用感光体の製造装置および製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11271993A true JPH11271993A (ja) | 1999-10-08 |
Family
ID=13683431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7920498A Pending JPH11271993A (ja) | 1998-03-26 | 1998-03-26 | 電子写真用感光体の製造装置および製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11271993A (ja) |
-
1998
- 1998-03-26 JP JP7920498A patent/JPH11271993A/ja active Pending
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