JPH11273062A - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
磁気ディスクの製造方法Info
- Publication number
- JPH11273062A JPH11273062A JP6998198A JP6998198A JPH11273062A JP H11273062 A JPH11273062 A JP H11273062A JP 6998198 A JP6998198 A JP 6998198A JP 6998198 A JP6998198 A JP 6998198A JP H11273062 A JPH11273062 A JP H11273062A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic disk
- cleaning
- tape
- manufacturing
- magnetic
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高精度にかつ安定して保護層表面をテープク
リーニングすることによって高密度記録の可能な品質の
優れた磁気ディスクを製造する方法を提供する。 【解決手段】 ディスク基板上に、下地層、磁性層およ
び保護層を順次形成した後テープクリーニングを行なう
磁気ディスクの製造方法において、磁気ディスクのクリ
ーニング部位が４．９〜９．１ｍ／秒の速度で走行する
ように、クリーニング部位の半径方向位置に応じて磁気
ディスクの回転数を変化させながらテープクリーニング
を行なうことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
リーニングすることによって高密度記録の可能な品質の
優れた磁気ディスクを製造する方法を提供する。 【解決手段】 ディスク基板上に、下地層、磁性層およ
び保護層を順次形成した後テープクリーニングを行なう
磁気ディスクの製造方法において、磁気ディスクのクリ
ーニング部位が４．９〜９．１ｍ／秒の速度で走行する
ように、クリーニング部位の半径方向位置に応じて磁気
ディスクの回転数を変化させながらテープクリーニング
を行なうことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は情報記録用の磁気デ
ィスクの製造方法に関し、更に詳しくは、精度の高いテ
ープクリーニングによって磁気ディスクの極微小突起を
除去し、高品質の磁気ディスクを生産性よく製造する方
法に関する。
ィスクの製造方法に関し、更に詳しくは、精度の高いテ
ープクリーニングによって磁気ディスクの極微小突起を
除去し、高品質の磁気ディスクを生産性よく製造する方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】情報記録用のハード磁気ディスクシステ
ムは、その稼働時には磁気ディスクの回転に伴って磁気
ヘッドが浮上し、モーター停止時には磁気ディスクに接
触するＣＳＳ（コンタクトスタートストップ）方式が採
用されている。この方法により、磁気ヘッド／磁気ディ
スク間での高速摺動による摩耗を抑制することが可能と
なる。また、近年、磁気ディスクの高記録密度化に伴
い、記録再生時の磁気ヘッドと磁気ディスクとの間隔、
即ち磁気ヘッドの浮上量は益々小さくなってきており、
最近では０．１μｍ程度以下になっている。
ムは、その稼働時には磁気ディスクの回転に伴って磁気
ヘッドが浮上し、モーター停止時には磁気ディスクに接
触するＣＳＳ（コンタクトスタートストップ）方式が採
用されている。この方法により、磁気ヘッド／磁気ディ
スク間での高速摺動による摩耗を抑制することが可能と
なる。また、近年、磁気ディスクの高記録密度化に伴
い、記録再生時の磁気ヘッドと磁気ディスクとの間隔、
即ち磁気ヘッドの浮上量は益々小さくなってきており、
最近では０．１μｍ程度以下になっている。
【０００３】このため、磁気ディスク表面は高度の平坦
性が要求され、極く微小の突起であってもヘッドクラッ
シュの発生、記録・再生のエラーの原因となる。一般
に、磁気ディスクは保護層を形成した後、テープクリー
ニングによって表面の微小突起を除去する作業が行なわ
れるが、テープクリーニングによっても精度の高い研削
は難しく、研磨材の選択に細心の注意をはらい、また、
クリーニング時間を長くしても磁気ディスク表面に摩耗
傷が発生したり、研削不足が生じる問題があった。
性が要求され、極く微小の突起であってもヘッドクラッ
シュの発生、記録・再生のエラーの原因となる。一般
に、磁気ディスクは保護層を形成した後、テープクリー
ニングによって表面の微小突起を除去する作業が行なわ
れるが、テープクリーニングによっても精度の高い研削
は難しく、研磨材の選択に細心の注意をはらい、また、
クリーニング時間を長くしても磁気ディスク表面に摩耗
傷が発生したり、研削不足が生じる問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高精度にか
つ安定して保護層表面をテープクリーニングすることが
可能で、高密度記録の可能な品質の優れた磁気ディスク
を製造する方法を提供するものである。
つ安定して保護層表面をテープクリーニングすることが
可能で、高密度記録の可能な品質の優れた磁気ディスク
を製造する方法を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明はかかる問題に着
目し、鋭意検討を行なった結果、テープクリーニングの
効果は、クリーニング時の磁気ディスクの走行速度に依
存することを見出し本発明を達成した。すなわち、本発
明は、ディスク基板上に、下地層、磁性層および保護層
を順次形成した後、テープクリーニングを行なう磁気デ
ィスクの製造方法において、磁気ディスクのクリーニン
グ部位が４．９〜９．１ｍ／秒の速度で走行するよう
に、クリーニング部位の半径方向位置に応じて磁気ディ
スクの回転数を変化させながらテープクリーニングを行
なうことを特徴とする磁気ディスクの製造方法、を提供
するものである。
目し、鋭意検討を行なった結果、テープクリーニングの
効果は、クリーニング時の磁気ディスクの走行速度に依
存することを見出し本発明を達成した。すなわち、本発
明は、ディスク基板上に、下地層、磁性層および保護層
を順次形成した後、テープクリーニングを行なう磁気デ
ィスクの製造方法において、磁気ディスクのクリーニン
グ部位が４．９〜９．１ｍ／秒の速度で走行するよう
に、クリーニング部位の半径方向位置に応じて磁気ディ
スクの回転数を変化させながらテープクリーニングを行
なうことを特徴とする磁気ディスクの製造方法、を提供
するものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の磁気ディスクは、図１に
示すようにテキスチャ加工した非磁性基板上に、下地
層、磁性層をスパッタリングし、次いで保護層及び潤滑
剤層を設けた磁気ディスクであることが好ましい。非磁
性基板としては、アルミニウム合金基板、ガラス基板又
はケイ素基板が好適に使用されるが、銅、チタン等のそ
の他の金属基板、セラミック基板又は樹脂基板を使用す
ることもできる。基板は、通常、円盤状に形成される
が、その他の形状、例えば、カード状であってもよい。
示すようにテキスチャ加工した非磁性基板上に、下地
層、磁性層をスパッタリングし、次いで保護層及び潤滑
剤層を設けた磁気ディスクであることが好ましい。非磁
性基板としては、アルミニウム合金基板、ガラス基板又
はケイ素基板が好適に使用されるが、銅、チタン等のそ
の他の金属基板、セラミック基板又は樹脂基板を使用す
ることもできる。基板は、通常、円盤状に形成される
が、その他の形状、例えば、カード状であってもよい。
【０００７】基板の表面に直接下地層を形成することも
できるが、通常は基板の表面に表面層を形成し、該表面
層を介して下地層を形成する。表面層としては、ＮｉＰ
合金から成る非磁性表面層が好適であり、通常、無電解
メッキ法又はスパッタリング法により形成される。表面
層の厚さは、通常、約５０〜２０００オングストローム
の範囲である。また、基板または表面層の表面には鏡面
加工（ポリッシュ加工）が施される。下地層としては、
クロム、銅等の金属層が好適であり、通常、スパッタリ
ング法により形成される。下地層の厚さは、通常、約５
０〜２０００オングストロームである。
できるが、通常は基板の表面に表面層を形成し、該表面
層を介して下地層を形成する。表面層としては、ＮｉＰ
合金から成る非磁性表面層が好適であり、通常、無電解
メッキ法又はスパッタリング法により形成される。表面
層の厚さは、通常、約５０〜２０００オングストローム
の範囲である。また、基板または表面層の表面には鏡面
加工（ポリッシュ加工）が施される。下地層としては、
クロム、銅等の金属層が好適であり、通常、スパッタリ
ング法により形成される。下地層の厚さは、通常、約５
０〜２０００オングストロームである。
【０００８】磁性層は、通常、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｘ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｘ、Ｃｏ−Ｗ−Ｘ等
で表されるコバルト系強磁性合金薄膜によって構成され
る。ここでＸとしては、Ｌｉ、Ｓｉ、Ｐ、Ｃａ、Ｔｉ、
Ｖ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、
Ａｇ、Ｓｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐ
ｔ、Ａｕ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ
及びＢよりなる群より選ばれた１種又は２種以上の元素
が用いられる。磁性層は、通常、無電解メッキ法、電気
メッキ法、蒸着法又はスパッタリング法によって形成さ
れる。磁性層の厚さは、通常、約１００〜１０００オン
グストロームの範囲である。
ｉ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｘ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｘ、Ｃｏ−Ｗ−Ｘ等
で表されるコバルト系強磁性合金薄膜によって構成され
る。ここでＸとしては、Ｌｉ、Ｓｉ、Ｐ、Ｃａ、Ｔｉ、
Ｖ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、
Ａｇ、Ｓｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐ
ｔ、Ａｕ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ
及びＢよりなる群より選ばれた１種又は２種以上の元素
が用いられる。磁性層は、通常、無電解メッキ法、電気
メッキ法、蒸着法又はスパッタリング法によって形成さ
れる。磁性層の厚さは、通常、約１００〜１０００オン
グストロームの範囲である。
【０００９】本発明において、保護層としては、炭素
膜、水素化カーボン膜、窒素化カーボン膜、ＴｉＣ、Ｓ
ｉＣ等の炭化膜、ＳｉＮ、ＴｉＮ等の窒化膜、ＳｉＯ、
Ａｌ2Ｏ3 、ＺｒＯ等の酸化物膜等によって構成され、
通常、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティン
グ法、湿式法等により形成される。保護層としては、炭
素膜、水素化カーボン膜及び窒素化カーボン膜が特に好
ましい。保護層の厚さは、通常、約３０〜７００オング
ストローム、好ましくは約５０〜５００オングストロー
ムの範囲である。保護層が形成された磁気ディスクは研
磨テープを用いてテープクリーニングが行なわれる。研
磨テープとしては、通常、ポリエチレンテレフタレート
製、ポリアミド製等のフィルム上に粒径０．３〜３μｍ
のアルミナ粒子、ＳｉＣ粒子等の研磨砥粒を担持した研
磨テープが用いられる。例えば、日本ミクロコーティン
グ株式会社製の“ＡＷＡ８０００ ＦＮＹ”、“ＡＷＡ
８０００ ＮＡ１−Ｃ”等を用いることができる。
膜、水素化カーボン膜、窒素化カーボン膜、ＴｉＣ、Ｓ
ｉＣ等の炭化膜、ＳｉＮ、ＴｉＮ等の窒化膜、ＳｉＯ、
Ａｌ2Ｏ3 、ＺｒＯ等の酸化物膜等によって構成され、
通常、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティン
グ法、湿式法等により形成される。保護層としては、炭
素膜、水素化カーボン膜及び窒素化カーボン膜が特に好
ましい。保護層の厚さは、通常、約３０〜７００オング
ストローム、好ましくは約５０〜５００オングストロー
ムの範囲である。保護層が形成された磁気ディスクは研
磨テープを用いてテープクリーニングが行なわれる。研
磨テープとしては、通常、ポリエチレンテレフタレート
製、ポリアミド製等のフィルム上に粒径０．３〜３μｍ
のアルミナ粒子、ＳｉＣ粒子等の研磨砥粒を担持した研
磨テープが用いられる。例えば、日本ミクロコーティン
グ株式会社製の“ＡＷＡ８０００ ＦＮＹ”、“ＡＷＡ
８０００ ＮＡ１−Ｃ”等を用いることができる。
【００１０】本発明においては、磁気ディスクを一定範
囲の回転走行速度に保持してテープクリーニングが行な
われる。テープクリーニング時の磁気ディスクの回転
は、研磨テープによる研磨位置が４．９〜９．１ｍ／秒
の速度で回転走行する速さとされる。好ましくは、５．
６〜８．４ｍ／秒、特に好ましくは６．３〜７．７ｍ／
秒である。回転走行速度が４．９ｍ／秒未満のときは、
研削不足となり易く、また、摩耗傷が生じ易く、また、
９．１ｍ／秒を越えるときは研削不足が生じ易い。その
原因は明らかではないが、磁気ディスクと研磨テープの
接触状態に起因するものと考えられる。
囲の回転走行速度に保持してテープクリーニングが行な
われる。テープクリーニング時の磁気ディスクの回転
は、研磨テープによる研磨位置が４．９〜９．１ｍ／秒
の速度で回転走行する速さとされる。好ましくは、５．
６〜８．４ｍ／秒、特に好ましくは６．３〜７．７ｍ／
秒である。回転走行速度が４．９ｍ／秒未満のときは、
研削不足となり易く、また、摩耗傷が生じ易く、また、
９．１ｍ／秒を越えるときは研削不足が生じ易い。その
原因は明らかではないが、磁気ディスクと研磨テープの
接触状態に起因するものと考えられる。
【００１１】本発明においては、テープクリーニング部
分の回転走行速度を一定範囲とした状態でテープクリー
ニングを行なうことを特徴とする。従ってクリーニング
の半径位置によって磁気ディスクの回転速度を変化さ
せ、磁気ディスクの内周部を研削するときは単位時間当
りの回転数を大きくし、外周部に近づくに従って回転数
を小さくする。例えば、内周半径が１５ｍｍ、外周半径
が４７ｍｍの磁気ディスクのテープクリーニングにおい
ては、内周部をクリーニングする際には、２２３０〜５
８００ｒｐｍ、好ましくは、３５７０〜５３５０ｒｐｍ
の回転数とし、外周部をクリーニングするときは、７１
０〜１８５０ｒｐｍ、好ましくは１１４０〜１７１０ｒ
ｐｍとされる。
分の回転走行速度を一定範囲とした状態でテープクリー
ニングを行なうことを特徴とする。従ってクリーニング
の半径位置によって磁気ディスクの回転速度を変化さ
せ、磁気ディスクの内周部を研削するときは単位時間当
りの回転数を大きくし、外周部に近づくに従って回転数
を小さくする。例えば、内周半径が１５ｍｍ、外周半径
が４７ｍｍの磁気ディスクのテープクリーニングにおい
ては、内周部をクリーニングする際には、２２３０〜５
８００ｒｐｍ、好ましくは、３５７０〜５３５０ｒｐｍ
の回転数とし、外周部をクリーニングするときは、７１
０〜１８５０ｒｐｍ、好ましくは１１４０〜１７１０ｒ
ｐｍとされる。
【００１２】本発明のテープクリーニングにおいては、
クリーニングテープに空気を吹き付け、研削粉が磁気デ
ィスク上に滞留しないようにすることも有力な手法であ
る。保護層形成後のテープクリーニング工程の終了後、
通常、保護層の表面に潤滑剤層が設けられる。潤滑剤と
しては、例えば、フッ素系液体潤滑剤が使用され、通
常、ディップコート法、スピンコート法、スプレーコー
ト法等により、保護層の表面に形成される。潤滑剤層の
厚さは、通常、約５〜５０オングストロームの範囲であ
る。
クリーニングテープに空気を吹き付け、研削粉が磁気デ
ィスク上に滞留しないようにすることも有力な手法であ
る。保護層形成後のテープクリーニング工程の終了後、
通常、保護層の表面に潤滑剤層が設けられる。潤滑剤と
しては、例えば、フッ素系液体潤滑剤が使用され、通
常、ディップコート法、スピンコート法、スプレーコー
ト法等により、保護層の表面に形成される。潤滑剤層の
厚さは、通常、約５〜５０オングストロームの範囲であ
る。
【００１３】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施
例により限定されるものではない。 実施例及び比較例 無電解メッキ法によりＮｉ−Ｐメッキを１０μｍの厚み
で施したアルミニウム合金ディスク基板の表面にポリッ
シュ加工を施し、該基板の表面層上に一般的なＣｒ下地
膜、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金からなる磁性層及び炭素質膜
からなる保護膜を順次スパッタリング法により形成し
た。次いで、表−１に示した条件でテープクリーニング
工程を行なった。その後、フッ素系液体潤滑剤を塗布し
て磁気ディスクを製造した。その結果は表−１に示す通
りであった。
明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施
例により限定されるものではない。 実施例及び比較例 無電解メッキ法によりＮｉ−Ｐメッキを１０μｍの厚み
で施したアルミニウム合金ディスク基板の表面にポリッ
シュ加工を施し、該基板の表面層上に一般的なＣｒ下地
膜、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金からなる磁性層及び炭素質膜
からなる保護膜を順次スパッタリング法により形成し
た。次いで、表−１に示した条件でテープクリーニング
工程を行なった。その後、フッ素系液体潤滑剤を塗布し
て磁気ディスクを製造した。その結果は表−１に示す通
りであった。
【００１４】
【表１】
【図面の簡単な説明】
【図１】磁気ディスクの製造工程を示すフローチャート
図
図
Claims (3)
- 【請求項１】 ディスク基板上に、下地層、磁性層およ
び保護層を順次形成した後テープクリーニングを行なう
磁気ディスクの製造方法において、磁気ディスクのクリ
ーニング部位が４．９〜９．１ｍ／秒の速度で走行する
ように、クリーニング部位の半径方向位置に応じて磁気
ディスクの回転数を変化させながらテープクリーニング
を行なうことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。 - 【請求項２】 磁気ディスクのクリーニング部位の走行
速度が５．６〜８．４ｍ／秒である請求項１記載の磁気
ディスクの製造方法。 - 【請求項３】 クリーニングテープに空気を吹き付けな
がらテープクリーニングを行なう請求項１または２記載
の磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6998198A JPH11273062A (ja) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | 磁気ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6998198A JPH11273062A (ja) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | 磁気ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11273062A true JPH11273062A (ja) | 1999-10-08 |
Family
ID=13418362
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6998198A Pending JPH11273062A (ja) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | 磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11273062A (ja) |
-
1998
- 1998-03-19 JP JP6998198A patent/JPH11273062A/ja active Pending
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