JPH11277421A - ワークの装填方法及びワークの位置ずれ修正機構付き平面研磨装置 - Google Patents
ワークの装填方法及びワークの位置ずれ修正機構付き平面研磨装置Info
- Publication number
- JPH11277421A JPH11277421A JP10355098A JP10355098A JPH11277421A JP H11277421 A JPH11277421 A JP H11277421A JP 10355098 A JP10355098 A JP 10355098A JP 10355098 A JP10355098 A JP 10355098A JP H11277421 A JPH11277421 A JP H11277421A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- work
- carrier
- holding hole
- vibrating
- work holding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000011068 loading method Methods 0.000 title claims description 8
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002783 friction material Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
- B24B37/07—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool
- B24B37/08—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool for double side lapping
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/34—Accessories
- B24B37/345—Feeding, loading or unloading work specially adapted to lapping
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ワークがキャリヤのワーク保持穴から外れた
状態で供給されても、その位置ずれを簡単に修正してワ
ーク保持穴内に確実に嵌合させることができるようにす
る。 【解決手段】 ワークWを嵌合、保持させるためのワー
ク保持穴9を有するキャリヤ7と、該キャリヤ7に保持
されたワークWを研磨するための定盤2と、上記キャリ
ヤ7に振動を与えるための加振手段10とを設け、該加
振手段10でキャリヤ7を振動させることにより、ワー
ク保持穴9から外れているワークWの位置ずれを修正し
てワーク保持穴内9に正しく嵌合させる。
状態で供給されても、その位置ずれを簡単に修正してワ
ーク保持穴内に確実に嵌合させることができるようにす
る。 【解決手段】 ワークWを嵌合、保持させるためのワー
ク保持穴9を有するキャリヤ7と、該キャリヤ7に保持
されたワークWを研磨するための定盤2と、上記キャリ
ヤ7に振動を与えるための加振手段10とを設け、該加
振手段10でキャリヤ7を振動させることにより、ワー
ク保持穴9から外れているワークWの位置ずれを修正し
てワーク保持穴内9に正しく嵌合させる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや磁
気ディスク基板のようなディスク形をしたワークを、キ
ャリヤのワーク保持孔内に確実に装填することができる
平面研磨装置と、上記ワーク保持孔内へのワークの装填
方法とに関するものである。
気ディスク基板のようなディスク形をしたワークを、キ
ャリヤのワーク保持孔内に確実に装填することができる
平面研磨装置と、上記ワーク保持孔内へのワークの装填
方法とに関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えばラッピングマシンやポリッシング
マシン等の平面研磨装置は、同心状に位置する太陽歯車
と内歯歯車及び上下の定盤を備え、両歯車に噛合して遊
星運動するキャリヤのワーク保持穴内に保持させたワー
クの両面を、上下の定盤で研磨加工するように構成され
ている。
マシン等の平面研磨装置は、同心状に位置する太陽歯車
と内歯歯車及び上下の定盤を備え、両歯車に噛合して遊
星運動するキャリヤのワーク保持穴内に保持させたワー
クの両面を、上下の定盤で研磨加工するように構成され
ている。
【0003】このような平面研磨装置においては、一般
に、キャリヤと太陽歯車及び内歯歯車との間に遊び(バ
ックラッシュ)がある関係から、自動機によるワークの
装填を確実にするため、ワーク保持穴の穴径をワークの
直径より1 〜1.5mm程度大きく形成しているが、ワ
ーク保持穴とワークとの間のクリアランスが余り大きす
ぎると、研磨加工時にワークがワーク保持穴でがたつく
だけでなく、ワークの外周部がキャリヤで研磨されたり
チッピングを起こしたりし易い。
に、キャリヤと太陽歯車及び内歯歯車との間に遊び(バ
ックラッシュ)がある関係から、自動機によるワークの
装填を確実にするため、ワーク保持穴の穴径をワークの
直径より1 〜1.5mm程度大きく形成しているが、ワ
ーク保持穴とワークとの間のクリアランスが余り大きす
ぎると、研磨加工時にワークがワーク保持穴でがたつく
だけでなく、ワークの外周部がキャリヤで研磨されたり
チッピングを起こしたりし易い。
【0004】そこで、ワークの種類によっては、通常よ
りも小さいワーク保持穴を有するキャリヤ、例えばワー
ク保持穴がワークの直径より0.4〜0.5mm程度大
きいだけのキャリヤを使用することがあるが、ワーク保
持穴の穴径とワーク直径との差が小さい分、自動機によ
るワークの装填が難しくなり、ワーク保持穴から外れた
状態になるなどの装填ミスを生じ易い。
りも小さいワーク保持穴を有するキャリヤ、例えばワー
ク保持穴がワークの直径より0.4〜0.5mm程度大
きいだけのキャリヤを使用することがあるが、ワーク保
持穴の穴径とワーク直径との差が小さい分、自動機によ
るワークの装填が難しくなり、ワーク保持穴から外れた
状態になるなどの装填ミスを生じ易い。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の技術的課題
は、ワークがキャリヤのワーク保持穴に位置ずれした状
態で供給されても、その位置ずれを簡単に修正してワー
ク保持穴内に確実に嵌合させることができるようにする
ことにある。
は、ワークがキャリヤのワーク保持穴に位置ずれした状
態で供給されても、その位置ずれを簡単に修正してワー
ク保持穴内に確実に嵌合させることができるようにする
ことにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明によれば、定盤上に位置するキャリヤのワー
ク保持穴内にワークを供給したあと、該キャリヤを振動
させることにより、ワーク保持穴から外れた位置にある
ワークの位置ずれを修正してワーク保持穴内に正しく嵌
合させることを特徴とするワークの装填方法が提供され
る。
め、本発明によれば、定盤上に位置するキャリヤのワー
ク保持穴内にワークを供給したあと、該キャリヤを振動
させることにより、ワーク保持穴から外れた位置にある
ワークの位置ずれを修正してワーク保持穴内に正しく嵌
合させることを特徴とするワークの装填方法が提供され
る。
【0007】この方法によれば、キャリヤを振動させる
という簡単な方法で、ワーク保持穴から外れた位置にあ
るワークを変移させて確実にワーク保持穴に嵌合させる
ことができ、この結果、ワークとの間のクリアランスが
小さいワーク保持穴を備えたキャリヤを使用することが
できる。
という簡単な方法で、ワーク保持穴から外れた位置にあ
るワークを変移させて確実にワーク保持穴に嵌合させる
ことができ、この結果、ワークとの間のクリアランスが
小さいワーク保持穴を備えたキャリヤを使用することが
できる。
【0008】また、上記方法を実施するため、本発明に
よれば、ワークを保持するためのワーク保持穴を有する
キャリヤと、該キャリヤに保持されたワークを研磨する
ための定盤と、上記キャリヤに振動を与えてワーク保持
穴から外れた位置にあるワークの位置ずれを修正するた
めの加振手段とを有することを特徴とする平面研磨装置
が提供される。
よれば、ワークを保持するためのワーク保持穴を有する
キャリヤと、該キャリヤに保持されたワークを研磨する
ための定盤と、上記キャリヤに振動を与えてワーク保持
穴から外れた位置にあるワークの位置ずれを修正するた
めの加振手段とを有することを特徴とする平面研磨装置
が提供される。
【0009】本発明の具体的な構成態様によれば、上記
キャリヤが太陽歯車と内歯歯車とに遊びを有するように
噛合していて、その遊びの範囲内で振動可能なるように
構成されている。
キャリヤが太陽歯車と内歯歯車とに遊びを有するように
噛合していて、その遊びの範囲内で振動可能なるように
構成されている。
【0010】本発明の他の具体的な構成態様によれば、
上記加振手段が、作動位置と待機位置との間を変移自在
の支持アームの先端に、キャリヤに当接して振動する振
動ヘッドを有し、該振動ヘッドが、キャリヤとの接触面
に柔軟で摩擦の大きい接面部材を有している。上記加振
手段における振動ヘッドの振動方向は、上下方向又は横
方向の少なくとも1方向であることが望ましい。
上記加振手段が、作動位置と待機位置との間を変移自在
の支持アームの先端に、キャリヤに当接して振動する振
動ヘッドを有し、該振動ヘッドが、キャリヤとの接触面
に柔軟で摩擦の大きい接面部材を有している。上記加振
手段における振動ヘッドの振動方向は、上下方向又は横
方向の少なくとも1方向であることが望ましい。
【0011】
【発明の実施の形態】図1は本発明の平面研磨装置の一
例を概略的に示すもので、1は機体、2は該機体1上に
回転自在に配設された下定盤、3は該下定盤2の上方に
図示しないエアシリンダにより昇降自在に支持された回
転自在の上定盤、4は上記下定盤2の中央部に回転自在
に配設された太陽歯車、5は下定盤2を取り囲む位置に
回転自在に配設された内歯歯車であって、これらの両定
盤2,3及び両歯車4,5は、図示しないモータに伝動
機構を介して連結され、所要の方向に所要の速度で駆動
回転されるようになっている。
例を概略的に示すもので、1は機体、2は該機体1上に
回転自在に配設された下定盤、3は該下定盤2の上方に
図示しないエアシリンダにより昇降自在に支持された回
転自在の上定盤、4は上記下定盤2の中央部に回転自在
に配設された太陽歯車、5は下定盤2を取り囲む位置に
回転自在に配設された内歯歯車であって、これらの両定
盤2,3及び両歯車4,5は、図示しないモータに伝動
機構を介して連結され、所要の方向に所要の速度で駆動
回転されるようになっている。
【0012】上記下定盤2上には、研磨すべきワークW
を保持する複数のキャリヤ7が等間隔で配設されてい
る。このキャリヤ7は、図2及び図3からも分かるよう
に、外周のギヤ部8が上記両歯車4,5に噛合し、これ
ら両歯車4,5の回転により自転しながら太陽歯車4の
回りを公転するいわゆる遊星運動を行うもので、ディス
ク形のワークWを保持する1つ又は複数の円形のワーク
保持穴9を有し、該ワーク保持穴9内に保持したワーク
Wを上下の定盤2,3により研磨加工するものである。
上下の定盤2,3の表面には研磨パッド6が貼り付けら
れている。
を保持する複数のキャリヤ7が等間隔で配設されてい
る。このキャリヤ7は、図2及び図3からも分かるよう
に、外周のギヤ部8が上記両歯車4,5に噛合し、これ
ら両歯車4,5の回転により自転しながら太陽歯車4の
回りを公転するいわゆる遊星運動を行うもので、ディス
ク形のワークWを保持する1つ又は複数の円形のワーク
保持穴9を有し、該ワーク保持穴9内に保持したワーク
Wを上下の定盤2,3により研磨加工するものである。
上下の定盤2,3の表面には研磨パッド6が貼り付けら
れている。
【0013】上記機体1の下定盤2に隣接する位置に
は、各キャリヤ7に対応するように複数の加振手段10
が設けられている。この加振手段10は、図示しないロ
ーディング手段でワークWが各キャリヤ7のワーク保持
穴9内に供給されたあと、該キャリヤ7を振動させるこ
とにより、ワーク保持穴9から外れた位置にあるワーク
Wの位置ずれを修正して該ワークWをワーク保持穴9内
に正しく嵌合させるためのもので、次のように構成され
ている。
は、各キャリヤ7に対応するように複数の加振手段10
が設けられている。この加振手段10は、図示しないロ
ーディング手段でワークWが各キャリヤ7のワーク保持
穴9内に供給されたあと、該キャリヤ7を振動させるこ
とにより、ワーク保持穴9から外れた位置にあるワーク
Wの位置ずれを修正して該ワークWをワーク保持穴9内
に正しく嵌合させるためのもので、次のように構成され
ている。
【0014】即ち、上記加振手段10は、エアシリンダ
やモータ等の駆動手段を有する支持部12と、この支持
部12に上下動自在且つ回動自在に支持されて作動位置
と待機位置との間を変移する支持アーム13と、該支持
アーム13の先端に取り付けられた振動ヘッド14とを
有していて、該振動ヘッド14がキャリヤ7の上面に当
接して該キャリヤ7を振動させるもので、該振動ヘッド
14の下面には、シリコンゴムや合成樹脂等の柔軟で摩
擦の大きい素材からなる接面部材14aが取り付けら
れ、この接面部材14aを介してキャリヤ7に接触する
ように構成されている。
やモータ等の駆動手段を有する支持部12と、この支持
部12に上下動自在且つ回動自在に支持されて作動位置
と待機位置との間を変移する支持アーム13と、該支持
アーム13の先端に取り付けられた振動ヘッド14とを
有していて、該振動ヘッド14がキャリヤ7の上面に当
接して該キャリヤ7を振動させるもので、該振動ヘッド
14の下面には、シリコンゴムや合成樹脂等の柔軟で摩
擦の大きい素材からなる接面部材14aが取り付けら
れ、この接面部材14aを介してキャリヤ7に接触する
ように構成されている。
【0015】上記振動ヘッド14は、内部に電気的又は
磁気的あるいは機械的に振動を発生する振動発生機構を
内蔵し、この振動発生機構により該振動ヘッド14全体
又は上記接面部材14aが上下方向又は横方向の少なく
とも1方向に微振動するもので、横方向に振動する場合
の振動幅は、太陽歯車4及び内歯歯車5に対するキャリ
ヤ7の遊びの範囲内である。
磁気的あるいは機械的に振動を発生する振動発生機構を
内蔵し、この振動発生機構により該振動ヘッド14全体
又は上記接面部材14aが上下方向又は横方向の少なく
とも1方向に微振動するもので、横方向に振動する場合
の振動幅は、太陽歯車4及び内歯歯車5に対するキャリ
ヤ7の遊びの範囲内である。
【0016】上記加振手段10は、各キャリヤ7のワー
ク保持穴9内にローディング手段でワークWが供給され
ると、支持アーム13が図3の鎖線に示す待機位置から
実線の作動位置に旋回し、振動ヘッド14がキャリヤ7
の上面に当接して該キャリヤ7を振動させる。キャリヤ
7の振動により、図2からも分かるように、ワーク保持
穴9の穴縁に乗り上げることによって傾斜状態に位置し
ているワークWは、ワーク保持穴9の方に徐々に滑り移
動してその位置ずれが修正され、ついにはワーク保持穴
9内に正しく嵌合することになる。
ク保持穴9内にローディング手段でワークWが供給され
ると、支持アーム13が図3の鎖線に示す待機位置から
実線の作動位置に旋回し、振動ヘッド14がキャリヤ7
の上面に当接して該キャリヤ7を振動させる。キャリヤ
7の振動により、図2からも分かるように、ワーク保持
穴9の穴縁に乗り上げることによって傾斜状態に位置し
ているワークWは、ワーク保持穴9の方に徐々に滑り移
動してその位置ずれが修正され、ついにはワーク保持穴
9内に正しく嵌合することになる。
【0017】かくしてワークWの位置ずれが修正された
あと、上定盤3が下降し、太陽歯車4及び内歯歯車5の
回転により太陽歯車4の回りを遊星運動するキャリヤ7
に保持されたワークWが、回転する上下の定盤2,3に
より研磨加工される。
あと、上定盤3が下降し、太陽歯車4及び内歯歯車5の
回転により太陽歯車4の回りを遊星運動するキャリヤ7
に保持されたワークWが、回転する上下の定盤2,3に
より研磨加工される。
【0018】
【発明の効果】このように本発明によれば、キャリヤ7
のワーク保持穴に位置ずれした状態で供給されたワーク
を、該キャリヤを振動させるという簡単な方法により、
その位置ずれを修正してワーク保持穴内に確実に嵌合さ
せることができる。
のワーク保持穴に位置ずれした状態で供給されたワーク
を、該キャリヤを振動させるという簡単な方法により、
その位置ずれを修正してワーク保持穴内に確実に嵌合さ
せることができる。
【図1】本発明に係る平面研磨装置の一実施例を示す断
面図である。
面図である。
【図2】図1の要部拡大図である。
【図3】図1の要部拡大平面図である。
2 下定盤 3 上定盤 4 太陽歯車 5 内歯歯車 7 キャリヤ 9 ワーク保持穴 10 加振手段 13 支持アーム 14 振動ヘッド 14a 接面部材
Claims (5)
- 【請求項1】定盤上に位置するキャリヤのワーク保持穴
内にワークを供給したあと、該キャリヤを振動させるこ
とにより、ワーク保持穴から外れた位置にあるワークの
位置ずれを修正してワーク保持穴内に正しく嵌合させる
ことを特徴とするワークの装填方法。 - 【請求項2】ワークを嵌合、保持させるためのワーク保
持穴を有するキャリヤと、該キャリヤに保持されたワー
クを研磨するための定盤と、上記キャリヤに振動を与え
てワーク保持穴から外れた位置にあるワークの位置ずれ
を修正するための加振手段とを有することを特徴とする
ワーク位置ずれ修正機構付平面研磨装置。 - 【請求項3】請求項2に記載の平面研磨装置において、
上記キャリヤが太陽歯車と内歯歯車とに遊びを有するよ
うに噛合していて、その遊びの範囲内で振動可能である
ことを特徴とするもの。 - 【請求項4】請求項2又は3に記載の平面研磨装置にお
いて、上記加振手段が、作動位置と待機位置との間を変
移自在の支持アームの先端に、キャリヤに当接して振動
する振動ヘッドを有し、該振動ヘッドが、キャリヤとの
接触面に柔軟で摩擦の大きい接面部材を有していること
を特徴とするもの。 - 【請求項5】請求項3に記載の平面研磨装置において、
上記加振手段の振動ヘッドが、上下方向又は横方向の少
なくとも1方向に振動可能であることを特徴とするも
の。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10355098A JPH11277421A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | ワークの装填方法及びワークの位置ずれ修正機構付き平面研磨装置 |
| US09/271,944 US6155908A (en) | 1998-03-31 | 1999-03-18 | Work-loading method and surface-grinding apparatus with work position deviation-adjusting mechanism |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10355098A JPH11277421A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | ワークの装填方法及びワークの位置ずれ修正機構付き平面研磨装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11277421A true JPH11277421A (ja) | 1999-10-12 |
Family
ID=14356943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10355098A Pending JPH11277421A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | ワークの装填方法及びワークの位置ずれ修正機構付き平面研磨装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6155908A (ja) |
| JP (1) | JPH11277421A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20210128983A (ko) * | 2019-12-19 | 2021-10-27 | 주식회사 세정로봇 | 멀티 웨이퍼 트랜스퍼 및 이를 이용한 웨이퍼 이송방법 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10344602A1 (de) * | 2003-09-25 | 2005-05-19 | Siltronic Ag | Verfahren zur Herstellung von Halbleiterscheiben |
| JP5493633B2 (ja) * | 2009-09-18 | 2014-05-14 | 株式会社Sumco | 研磨方法及びその装置 |
| DE112010004635B4 (de) * | 2009-12-01 | 2019-03-21 | Sumco Corporation | Wafer-Polierverfahren |
| CN102049730B (zh) * | 2010-12-29 | 2012-02-15 | 清华大学 | 一种用于化学机械抛光设备的晶圆交换装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1143867A (ja) * | 1966-01-22 | |||
| US4148161A (en) * | 1977-05-02 | 1979-04-10 | Dentsply Research & Development Corp. | Loading unit for an automatic bur grinding machine |
| US4434583A (en) * | 1981-07-06 | 1984-03-06 | Burgess Jr Warren C | Automatically adjustable workpiece guide and feed mechanism |
-
1998
- 1998-03-31 JP JP10355098A patent/JPH11277421A/ja active Pending
-
1999
- 1999-03-18 US US09/271,944 patent/US6155908A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20210128983A (ko) * | 2019-12-19 | 2021-10-27 | 주식회사 세정로봇 | 멀티 웨이퍼 트랜스퍼 및 이를 이용한 웨이퍼 이송방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6155908A (en) | 2000-12-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2597449B2 (ja) | 研磨ヘッド及びリテイナの使用方法 | |
| US7470169B2 (en) | Method of polishing semiconductor wafers by using double-sided polisher | |
| KR100288553B1 (ko) | 평면연마장치 및 그것에 이용하는 캐리어 | |
| KR102604530B1 (ko) | 시분할 제어를 사용한 화학적 기계적 연마 | |
| US6143127A (en) | Carrier head with a retaining ring for a chemical mechanical polishing system | |
| CN101136352A (zh) | 旋转头及使用该旋转头的基底处理方法 | |
| KR100536175B1 (ko) | 반도체 웨이퍼의 화학기계적 연마장치용 로딩디바이스 | |
| JP6581964B2 (ja) | Cmp研磨ヘッド用の基板歳差運動機構 | |
| CN102103986A (zh) | 晶片的加工方法 | |
| JPH11277421A (ja) | ワークの装填方法及びワークの位置ずれ修正機構付き平面研磨装置 | |
| JPH11262857A (ja) | 半導体ウェハの研磨装置 | |
| JP3808236B2 (ja) | 平坦化加工装置 | |
| KR102500554B1 (ko) | 멀티 웨이퍼 트랜스퍼 및 이를 이용한 웨이퍼 이송방법 | |
| US6148463A (en) | Cleaning apparatus | |
| JPH11320388A (ja) | 平面研磨装置及びワークの取出方法 | |
| US6350188B1 (en) | Drive system for a carrier head support structure | |
| TWI700148B (zh) | 夾盤台、磨削裝置及磨削品的製造方法 | |
| JPH10156711A (ja) | 研磨装置及び研磨方法 | |
| JP2002001637A (ja) | ウエハ外周の直線部用研磨装置 | |
| JP2652090B2 (ja) | ウエーハのノッチ部面取り装置 | |
| JP2004140057A (ja) | ウエハ位置決め装置 | |
| JP2004148457A (ja) | ウェーハの研磨方法および研磨装置 | |
| JPH07320995A (ja) | 研磨装置および研磨方法と張り合わせ方法 | |
| JPH10113863A (ja) | 研磨用ガイド装置の位置決め方法及びその装置並びに薄板状基板の研磨方法 | |
| KR102809952B1 (ko) | 테이프 박리 장치 및 연삭 장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050224 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061013 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061024 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070306 |