JPH11282012A5 - - Google Patents

Description

【発明の名称】アクティブマトリクス基板および表示装置

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、駆動回路内蔵型のアクティブマトリクス基板、およびそれを用いた表示装置に関するものである。さらに詳しくは、アクティブマトリクス基板の端子構造に関するものである。

【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明では、走査線およびデータ線に接続する画素スイッチング用の薄膜トランジスタと、該薄膜トランジスタに接続してなる画素電極と、前記走査線および前記データ線に信号出力する走査線駆動回路およびデータ線駆動回路と、該駆動回路に信号供給する複数の信号配線とを有し、前記薄膜トランジスタは、ゲート電極と、第１の層間絶縁膜の第１のコンタクトホールを介して前記データ線に電気的に接続するソース領域と、前記第１の層間絶縁膜の第２のコンタクトホールを介してドレイン電極に電気的に接続するドレイン領域とを備え、前記ドレイン電極には、前記第１の層間絶縁膜の上層側に形成された第２の層間絶縁膜の第３のコンタクトホールを介して前記画素電極が電気的に接続するアクティブマトリクス基板の製造方法において、
前記走査線、前記データ線の少なくともいずれかの配線同士を電気的に接続する短絡用配線を形成する工程と、前記第１の層間絶縁膜に前記短絡用配線の切断予定部分を露出させる第１の切断用孔を形成する工程と、ペルヒドロポリシラザンまたはこれを含む組成物の塗布膜を焼成した絶縁膜を用いて前記第２の層間絶縁膜を形成する工程と、前記第２の層間絶縁膜に前記第１の切断用孔と重なる位置に第２の切断用孔を形成して前記短絡用配線の切断予定部分を露出させる工程と、前記第１の切断用孔および前記第２の切断用孔を介して前記短絡用配線を前記切断予定部分で切断する工程とを有することを特徴とする。

【００６７】
なお、本発明は上記実施例に限定されることなく、本発明の要旨の範囲内で種々変形した形態で実施が可能である。たとえば、本発明は上述の各種の液晶表示装置に限らず、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、プラズマ表示装置にも適用できるものである。

Claims (8)

1. 走査線およびデータ線に接続する画素スイッチング用の薄膜トランジスタと、該薄膜トランジスタに接続してなる画素電極と、前記走査線または前記データ線に信号出力する駆動回路と、該駆動回路に信号供給する複数の信号配線と、該信号配線に電気的に接続する端子とを有し、前記薄膜トランジスタは、ゲート電極にゲート絶縁膜を介して対峙するチャネル領域と、第１の層間絶縁膜のコンタクトホールを介して前記データ線に電気的に接続するソース領域と、前記第１の層間絶縁膜および該第１の層間絶縁膜の表面に形成された第２の層間絶縁膜のコンタクトホールを介して前記画素電極が電気的に接続するドレイン領域とを備えるアクティブマトリクス基板において、
   前記第２の層間絶縁膜は、ペルヒドロポリシラザンまたはこれを含む組成物の塗布膜を焼成した絶縁膜を備え、
   前記端子は、前記ゲート絶縁膜と前記第１の層間絶縁膜との層間に金属膜からなる第１のパッド下配線と、前記第１の層間絶縁膜のコンタクトホールを介して前記第１のパッド下配線に接続する金属膜からなる第２のパッド下配線と、前記第２の層間絶縁膜のコンタクトホールを介して前記第２のパッド下配線に電気的に接続するパッドとを備えていることを特徴とするアクティブマトリクス基板。
2. 請求項１において、前記データ線および前記第２のパッド下配線は、アルミニウムを主成分とするアルミニウム膜から構成され、前記走査線、前記ゲート電極および前記第１のパッド下配線は、タンタル膜から構成されていることを特徴とするアクティブマトリクス基板。
3. 請求項１または２において、前記第２の層間絶縁膜は、ペルヒドロポリシラザンまたはこれを含む組成物の塗布膜を焼成した絶縁膜と、該絶縁膜の表面にＣＶＤ法により形成された絶縁膜とを備えていることを特徴とするアクティブマトリクス基板。
4. 前記第１の層間絶縁膜と前記第２の層間絶縁膜との層間に前記データ線と同時形成され、前記第１の層間絶縁膜のコンタクトホールを介して前記第１のパッド下配線に接続する金属膜からなる第２のパッド下配線が形成されてなることを特徴とする請求項１記載のアクティブマトリックス基板。
5. 前記第２の層間絶縁膜の表面に前記画素電極と同時形成され、前記第２の層間絶縁膜のコンタクトホールを介して前記第２のパッド下配線に電気的に接続するパッドとを備えていることを特徴とする請求項１記載のアクティブマトリックス基板。
6. 請求項１乃至５のいずれかに規定するアクティブマトリクス基板を用いたことを特徴とする表示装置。
7. 請求項１において、前記走査線、前記ゲート電極および前記第１のパッド下配線は、アルミニウムを主成分とするアルミニウム膜から構成されていることを特徴とするアクティブマトリクス基板。
8. 走査線およびデータ線に接続する画素スイッチング用の薄膜トランジスタと、該薄膜トランジスタに接続してなる画素電極と、前記走査線または前記データ線に信号出力する駆動回路と、該駆動回路に信号供給する複数の信号配線と、該信号配線に電気的に接続する端子とを有し、前記薄膜トランジスタは、ゲート電極にゲート絶縁膜を介して対峙するチャネル領域と、第１の層間絶縁膜のコンタクトホールを介して前記データ線に電気的に接続するソース領域と、前記第１の層間絶縁膜および該第１の層間絶縁膜の表面に形成された第２の層間絶縁膜のコンタクトホールを介して前記画素電極が電気的に接続するドレイン領域とを備えるアクティブマトリクス基板において、
   前記第２の層間絶縁膜は、無機ポリマーまたはこれを含む組成物の塗布膜を焼成した絶縁膜を備え、
   前記端子は、前記ゲート絶縁膜と前記第１の層間絶縁膜との層間に金属膜からなる第１のパッド下配線と、前記第１の層間絶縁膜のコンタクトホールを介して前記第１のパッド下配線に接続する金属膜からなる第２のパッド下配線と、前記第２の層間絶縁膜のコンタクトホールを介して前記第２のパッド下配線に電気的に接続するパッドとを備えていることを特徴とするアクティブマトリクス基板。