JPH11284318A - 電子部品実装基板 - Google Patents
電子部品実装基板Info
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- JPH11284318A JPH11284318A JP10196598A JP10196598A JPH11284318A JP H11284318 A JPH11284318 A JP H11284318A JP 10196598 A JP10196598 A JP 10196598A JP 10196598 A JP10196598 A JP 10196598A JP H11284318 A JPH11284318 A JP H11284318A
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Links
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Landscapes
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】電子部品のリードピンの間隔が狭くなってもリ
ードピンと半田付け配線パターン領域とのコンタクト不
良が発生し難い半田付けが可能な電子部品実装基板を提
供することにある。 【解決手段】表面に電子部品を搭載する基板上の電子部
品のリードピンと接触する領域に矩形の凹部が形成さ
れ、凹部の底面と少なくとも対向する側面が導体により
被覆されかつ導体が配線パターンに接続されているもの
である。あるいは、凹部の底面が導体により被覆されか
つ導体が配線パターンに接続され、底面には基板の裏面
側まで貫通する孔が設けられているものである。
ードピンと半田付け配線パターン領域とのコンタクト不
良が発生し難い半田付けが可能な電子部品実装基板を提
供することにある。 【解決手段】表面に電子部品を搭載する基板上の電子部
品のリードピンと接触する領域に矩形の凹部が形成さ
れ、凹部の底面と少なくとも対向する側面が導体により
被覆されかつ導体が配線パターンに接続されているもの
である。あるいは、凹部の底面が導体により被覆されか
つ導体が配線パターンに接続され、底面には基板の裏面
側まで貫通する孔が設けられているものである。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、電子部品実装基
板に関し、詳しくは、フラットパッケージICの端子ピ
ン(リードピン)の間隔が狭くなってもリードピンと半
田付け配線パターン領域とのコンタクト不良が発生し難
い半田付けが可能なフラットパッケージIC実装基板に
関する。
板に関し、詳しくは、フラットパッケージICの端子ピ
ン(リードピン)の間隔が狭くなってもリードピンと半
田付け配線パターン領域とのコンタクト不良が発生し難
い半田付けが可能なフラットパッケージIC実装基板に
関する。
【0002】
【従来の技術】ICデバイスは、パッケージとリードピ
ンの形状などにより各種の型式に分類されている。DI
P型(Dual Inline Package)は、両側面より引出され
たリードピンが下方に屈曲し、その先端を配線基板のス
ルーホールに挿入してハンダ付けするか、コネクタ等に
挿入する挿入型である。超LSIに使用されるSOP
(Small Outline Package )型は、両側面のリードピン
が下方に屈曲し、さらに先端を外方に直角に屈曲して、
この部分を基板の配線パターンに対するハンダ付け面と
する面付け型(表面実装型)である。また、QFP(Qu
ad Flat Package )型は、リードピンを4側面に設けた
もので、やはり面付け型である。なお、後者のような面
付け型は、通常、フラットパッケージと呼ばれる。
ンの形状などにより各種の型式に分類されている。DI
P型(Dual Inline Package)は、両側面より引出され
たリードピンが下方に屈曲し、その先端を配線基板のス
ルーホールに挿入してハンダ付けするか、コネクタ等に
挿入する挿入型である。超LSIに使用されるSOP
(Small Outline Package )型は、両側面のリードピン
が下方に屈曲し、さらに先端を外方に直角に屈曲して、
この部分を基板の配線パターンに対するハンダ付け面と
する面付け型(表面実装型)である。また、QFP(Qu
ad Flat Package )型は、リードピンを4側面に設けた
もので、やはり面付け型である。なお、後者のような面
付け型は、通常、フラットパッケージと呼ばれる。
【0003】各ICデバイスは、リードピンが正規と異
なる形状に屈曲していると、挿入型では先端がスルーホ
ールに挿入されず、また面付け型ではハンダ付け面が配
線パターンに接触しない場合があって、いずれもハンダ
付けが不完全または不能となって製品不良の原因とな
る。特に、フラットパッケージICは、そのピン数が増
加の傾向にあって、そのため、ピン間隔が狭くなってき
ているので、次で説明するような問題がある。図4は、
基板側に設けられるリードピンを半田付けする半田付け
配線パターン領域(ランド)とリードピンとの関係の断
面説明図である。(a)は、ピン数が多くなくかつピン
間隔がある程度採られている場合であって、かつ、リー
ドピンの高さが揃っている場合である。これは、フラッ
トパッケージの1辺の長さにもよるが、例えば、QFP
でピン数が比較的少ない場合である。しかし、ピン数
が、40ピン以上にもなると、その間隔は0.05mm程
度か、それ以下となって、そのピン幅とピン間隔とが狭
くなる。その分、ピン相互の高さのばらつきが大きく影
響し、(b)に示すように、ランド3に対してリードピ
ン2が浮く接触不良が発生し、あるいは(c)に示すよ
うに、隣接するリードピン2における半田が相互に結合
するブリッジが発生し、あるいはまた(d)のようにピ
ン間結合容量Cの増加などの問題が生じる。なお、図
中、1は、基板であり、2はリードピン、3はランド、
4は半田である。
なる形状に屈曲していると、挿入型では先端がスルーホ
ールに挿入されず、また面付け型ではハンダ付け面が配
線パターンに接触しない場合があって、いずれもハンダ
付けが不完全または不能となって製品不良の原因とな
る。特に、フラットパッケージICは、そのピン数が増
加の傾向にあって、そのため、ピン間隔が狭くなってき
ているので、次で説明するような問題がある。図4は、
基板側に設けられるリードピンを半田付けする半田付け
配線パターン領域(ランド)とリードピンとの関係の断
面説明図である。(a)は、ピン数が多くなくかつピン
間隔がある程度採られている場合であって、かつ、リー
ドピンの高さが揃っている場合である。これは、フラッ
トパッケージの1辺の長さにもよるが、例えば、QFP
でピン数が比較的少ない場合である。しかし、ピン数
が、40ピン以上にもなると、その間隔は0.05mm程
度か、それ以下となって、そのピン幅とピン間隔とが狭
くなる。その分、ピン相互の高さのばらつきが大きく影
響し、(b)に示すように、ランド3に対してリードピ
ン2が浮く接触不良が発生し、あるいは(c)に示すよ
うに、隣接するリードピン2における半田が相互に結合
するブリッジが発生し、あるいはまた(d)のようにピ
ン間結合容量Cの増加などの問題が生じる。なお、図
中、1は、基板であり、2はリードピン、3はランド、
4は半田である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】図5は、この発明の先
行技術の1つとしての特開平5−191027号「プリ
ント基板におけるランドパターン」に記述されている技
術であり、面付け(表面実装)型の半導体デバイス6に
おいて、そのリードピン7における半田ブリッジを防止
し、良好な接触を採る発明の例である。その概要として
基板1にランドパターンに対応してバスタブ型の凹部5
を形成してリードピン7を凹部5に配置して半田付けを
することにより、特に、前記した図4(c)のブリッジ
を防止する。ただし、この場合の半田付け接続は、半田
をバスタブ型の凹部5に塗布してからリードピン7をバ
スタブ型の凹部5に挿入して半田接続するものであっ
て、半田の上にリードピン7が挿入される関係で、半田
の量によって半田付けの際に半田が溢れる危険性が高
い。
行技術の1つとしての特開平5−191027号「プリ
ント基板におけるランドパターン」に記述されている技
術であり、面付け(表面実装)型の半導体デバイス6に
おいて、そのリードピン7における半田ブリッジを防止
し、良好な接触を採る発明の例である。その概要として
基板1にランドパターンに対応してバスタブ型の凹部5
を形成してリードピン7を凹部5に配置して半田付けを
することにより、特に、前記した図4(c)のブリッジ
を防止する。ただし、この場合の半田付け接続は、半田
をバスタブ型の凹部5に塗布してからリードピン7をバ
スタブ型の凹部5に挿入して半田接続するものであっ
て、半田の上にリードピン7が挿入される関係で、半田
の量によって半田付けの際に半田が溢れる危険性が高
い。
【0005】図5に示すものは、図4(a)に示すよう
な、リードピン間隔がある程度採られている場合には有
効であるが、前もって半田をバスタブ凹部5に設けてお
かなければならず、図5と異なり、半田を上部から供給
する場合においては、実際にリードピン間隔が狭くなっ
て、その間隔が0.05mm程度か、それ以下となってく
ると、バスタブ型の凹部5のエリアが狭くかつ小さくな
ってくるので、リードピンの高さのばらつきにより、前
記の図4(b)〜(d)で説明した問題が発生する。そ
の理由の1つには、リードピンとバスタブとの間の間隙
の狭さと半田の表面張力との関係で、上から供給される
半田が盛り上がったり、底まで回らないこと、さらに、
半田の量が多くなるとすぐに凹部から溢れることなどに
よる。この発明の目的は、このような従来技術の問題点
を解決するものであって、電子部品のリードピンの間隔
が狭くなってもリードピンと半田付け配線パターン領域
とのコンタクト不良が発生し難い半田付けが可能な電子
部品実装基板を提供することにある。
な、リードピン間隔がある程度採られている場合には有
効であるが、前もって半田をバスタブ凹部5に設けてお
かなければならず、図5と異なり、半田を上部から供給
する場合においては、実際にリードピン間隔が狭くなっ
て、その間隔が0.05mm程度か、それ以下となってく
ると、バスタブ型の凹部5のエリアが狭くかつ小さくな
ってくるので、リードピンの高さのばらつきにより、前
記の図4(b)〜(d)で説明した問題が発生する。そ
の理由の1つには、リードピンとバスタブとの間の間隙
の狭さと半田の表面張力との関係で、上から供給される
半田が盛り上がったり、底まで回らないこと、さらに、
半田の量が多くなるとすぐに凹部から溢れることなどに
よる。この発明の目的は、このような従来技術の問題点
を解決するものであって、電子部品のリードピンの間隔
が狭くなってもリードピンと半田付け配線パターン領域
とのコンタクト不良が発生し難い半田付けが可能な電子
部品実装基板を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るこの発明の電子部品実装基板の特徴は、表面に電子部
品を搭載する基板上の電子部品のリードピンと接触する
領域に矩形の凹部が形成され、凹部の底面と少なくとも
対向する側面が導体により被覆されかつ導体が配線パタ
ーンに接続されているものである。また、他の発明とし
ては、凹部の底面が導体により被覆されかつ導体が配線
パターンに接続され、底面には基板の裏面側まで貫通す
る孔が設けられているものである。
るこの発明の電子部品実装基板の特徴は、表面に電子部
品を搭載する基板上の電子部品のリードピンと接触する
領域に矩形の凹部が形成され、凹部の底面と少なくとも
対向する側面が導体により被覆されかつ導体が配線パタ
ーンに接続されているものである。また、他の発明とし
ては、凹部の底面が導体により被覆されかつ導体が配線
パターンに接続され、底面には基板の裏面側まで貫通す
る孔が設けられているものである。
【0007】
【発明の実施の形態】このように、基板上のリードピン
と接触する領域に矩形の凹部を設けて、その底面および
対向する両側面を導体で被覆することにより、対向する
両側面の導体から底面に向かって上部からの半田を回り
込ませることができる。側面に導体が設けられない場合
でも、底面に基板裏面まで貫通する孔(スルーホール)
を設けることにより、半田の上部からの供給において、
リードピンに高さのばらつきに応じて形成される空間を
通して基板の裏面側へと空気抜き(ガス抜き)ができる
ので、このガス抜きに応じて上部から供給された半田を
凹部底面とリードピンとの間の空間を経てスルーホール
まで浸透させることができる。これによりリードピンに
高さのばらつきあっても、上部から供給された半田を凹
部底面とリードピンとの間の空間に浸透させることがで
きるので、リードピンと配線パターンとの接続不良は発
生し難い。また、この底面までの浸透により凹部の外側
へと流れる半田が抑制されることから半田ブリッジによ
る隣接リードピン同士の結合も抑えられ、かつ、ピン間
結合容量の増加もなくなる。
と接触する領域に矩形の凹部を設けて、その底面および
対向する両側面を導体で被覆することにより、対向する
両側面の導体から底面に向かって上部からの半田を回り
込ませることができる。側面に導体が設けられない場合
でも、底面に基板裏面まで貫通する孔(スルーホール)
を設けることにより、半田の上部からの供給において、
リードピンに高さのばらつきに応じて形成される空間を
通して基板の裏面側へと空気抜き(ガス抜き)ができる
ので、このガス抜きに応じて上部から供給された半田を
凹部底面とリードピンとの間の空間を経てスルーホール
まで浸透させることができる。これによりリードピンに
高さのばらつきあっても、上部から供給された半田を凹
部底面とリードピンとの間の空間に浸透させることがで
きるので、リードピンと配線パターンとの接続不良は発
生し難い。また、この底面までの浸透により凹部の外側
へと流れる半田が抑制されることから半田ブリッジによ
る隣接リードピン同士の結合も抑えられ、かつ、ピン間
結合容量の増加もなくなる。
【0008】
【実施例】図1は、この発明の電子部品実装基板をフラ
ットパッケージIC実装基板に適用した一実施例の断面
図であり、図2(a)は、そのリードピンとの接続部分
の拡大図、(b)は、その半田付け状態の説明図、図3
は、QFPとフラットパッケージIC実装基板との関係
を示す概要図である。図3において、10は、フラット
パッケージICの実装基板であり、11は、QFPであ
る。QFP11の各リードピン12の先端部12aに対
応してランドとして形成されたバスタブ凹部13がQF
P11の各辺に沿って基板10に形成されている。各リ
ードピン12とバスタブ凹部13との関係は、図1に示
すように、先端部12aがバスタブ凹部13に浸かる深
さにあって、バスタブ凹部13の上面を除いて底面13
aと4側面13bに導体が配線パターン14が延長とし
て被覆されている。この導体としては、例えば、配線パ
ターン14と同様な銅あるいはアルミニューム等の金属
導体であり、これによりバスタブコーティング部15が
形成されている。さらに、底面13aの中央部には、ス
ルーホール16が形成され、基板10の裏面まで貫通し
ている。
ットパッケージIC実装基板に適用した一実施例の断面
図であり、図2(a)は、そのリードピンとの接続部分
の拡大図、(b)は、その半田付け状態の説明図、図3
は、QFPとフラットパッケージIC実装基板との関係
を示す概要図である。図3において、10は、フラット
パッケージICの実装基板であり、11は、QFPであ
る。QFP11の各リードピン12の先端部12aに対
応してランドとして形成されたバスタブ凹部13がQF
P11の各辺に沿って基板10に形成されている。各リ
ードピン12とバスタブ凹部13との関係は、図1に示
すように、先端部12aがバスタブ凹部13に浸かる深
さにあって、バスタブ凹部13の上面を除いて底面13
aと4側面13bに導体が配線パターン14が延長とし
て被覆されている。この導体としては、例えば、配線パ
ターン14と同様な銅あるいはアルミニューム等の金属
導体であり、これによりバスタブコーティング部15が
形成されている。さらに、底面13aの中央部には、ス
ルーホール16が形成され、基板10の裏面まで貫通し
ている。
【0009】また、QFP11の本体の下側にもQFP
11の形状より少し大きい凹部17が形成されていて、
凹部17の深さは、バスタブ凹部13の深さに対応して
いて、しかも、その深さがQFP11の底面および側面
との間に間隙18ができるものとなっている。このよう
に、バスタブ凹部13の底面13aに加えて4側面13
bまで導体によりコーティングされていることでリード
ピン12との間隙が小さくなってもバスタブ凹部13の
上部から供給される半田4は、側面導体に案内されて底
面13aまで浸透する。さらに、スルーホール16が底
面に設けられているので、半田4の上部からの供給に応
じてバスタブ凹部13の空気が基板10の裏面へと逃
げ、いわゆるガス抜きが行われる。しかも、このスルー
ホール16は、必要以上に多い半田4を上面に溢れさせ
ることなく、基板10の裏面側へと逃がす作用を持つ。
このようなスルーホール16の寸法とバスタブ凹部13
の大きさとの関係を示すと図2(a)のようになる。す
なわち、基板10の厚さを2mm〜3mm程度とすれば、バ
スタブ凹部13の深さは、0.35mm±10%程度であ
り、バスタブ凹部13のリードピンの延長方向の長さ
は、1.5mm±20%程度である。また、スルーホール
16の径は、0.2mm〜0.5mm程度である。
11の形状より少し大きい凹部17が形成されていて、
凹部17の深さは、バスタブ凹部13の深さに対応して
いて、しかも、その深さがQFP11の底面および側面
との間に間隙18ができるものとなっている。このよう
に、バスタブ凹部13の底面13aに加えて4側面13
bまで導体によりコーティングされていることでリード
ピン12との間隙が小さくなってもバスタブ凹部13の
上部から供給される半田4は、側面導体に案内されて底
面13aまで浸透する。さらに、スルーホール16が底
面に設けられているので、半田4の上部からの供給に応
じてバスタブ凹部13の空気が基板10の裏面へと逃
げ、いわゆるガス抜きが行われる。しかも、このスルー
ホール16は、必要以上に多い半田4を上面に溢れさせ
ることなく、基板10の裏面側へと逃がす作用を持つ。
このようなスルーホール16の寸法とバスタブ凹部13
の大きさとの関係を示すと図2(a)のようになる。す
なわち、基板10の厚さを2mm〜3mm程度とすれば、バ
スタブ凹部13の深さは、0.35mm±10%程度であ
り、バスタブ凹部13のリードピンの延長方向の長さ
は、1.5mm±20%程度である。また、スルーホール
16の径は、0.2mm〜0.5mm程度である。
【0010】このようなバスタブ凹部13を持つ基板1
0に上部から半田4を供給して半田付けをした場合に
は、半田4がバスタブ凹部13bの側面壁に沿って底面
13aへと進入し、図2(b)に示すように、リードピ
ン12の先端部12aの裏面とバスタブ凹部13の底部
13aの間に半田4の接続層4aができる。さらに、こ
の接続層4aの一部は、スルーホール16へと逃げる。
これにより、半田4の上部への盛り上がりが少なくな
り、かつ、リードピン12の高さばらつきに応じて、リ
ードピン12の先端部12aの裏面(底部)とバスタブ
凹部13の底部13aの間に必要な厚さで接続層4aが
形成されるので、リードピン12の高さのばらつきに関
係なく、リードピン12と配線パターン14との十分な
接触が取れる。さらに、底面と周面を含めての接触にな
るので、接触抵抗も低くなる。これによりコンタクト不
良が発生し難い半田接続ができる。
0に上部から半田4を供給して半田付けをした場合に
は、半田4がバスタブ凹部13bの側面壁に沿って底面
13aへと進入し、図2(b)に示すように、リードピ
ン12の先端部12aの裏面とバスタブ凹部13の底部
13aの間に半田4の接続層4aができる。さらに、こ
の接続層4aの一部は、スルーホール16へと逃げる。
これにより、半田4の上部への盛り上がりが少なくな
り、かつ、リードピン12の高さばらつきに応じて、リ
ードピン12の先端部12aの裏面(底部)とバスタブ
凹部13の底部13aの間に必要な厚さで接続層4aが
形成されるので、リードピン12の高さのばらつきに関
係なく、リードピン12と配線パターン14との十分な
接触が取れる。さらに、底面と周面を含めての接触にな
るので、接触抵抗も低くなる。これによりコンタクト不
良が発生し難い半田接続ができる。
【0011】次に、底面13aと4側面13bに導体の
コーディング15を持つバスタブ凹部13の形成方法に
ついて簡単に説明する。多層基板を表面の積層をバスタ
ブ凹部13の形成位置に対応して矩形の孔あきのある層
とし、これを積層する。次に、バスタブ凹部13を含め
てパターン形成部分を形成する孔あきマスクを使用して
スパッタリングか、あるいは電気メッキを行い、バスタ
ブ凹部13を配線パターンとともに形成する。その後
に、バスタブ凹部13の矩形より一回り小さい孔を有す
るマスクによりバスタブ凹部13のエッジングすること
により、底面13aと4側面13bの部分を残したバス
タブ凹部13を形成する。
コーディング15を持つバスタブ凹部13の形成方法に
ついて簡単に説明する。多層基板を表面の積層をバスタ
ブ凹部13の形成位置に対応して矩形の孔あきのある層
とし、これを積層する。次に、バスタブ凹部13を含め
てパターン形成部分を形成する孔あきマスクを使用して
スパッタリングか、あるいは電気メッキを行い、バスタ
ブ凹部13を配線パターンとともに形成する。その後
に、バスタブ凹部13の矩形より一回り小さい孔を有す
るマスクによりバスタブ凹部13のエッジングすること
により、底面13aと4側面13bの部分を残したバス
タブ凹部13を形成する。
【0012】このようにして形成されたバスタブ凹部1
3に対して、次にドリルにより、それぞれの底面13a
の中央部に孔をあけることでスルーホール16を形成す
る。なお、スルーホール16は、通常の多層基板で各層
を接続するスルーホール16として配線パターンと同時
に形成されてもよく、このような場合には、スルーホー
ル16の内側には金属層が形成できる。このスルーホー
ル16は、多層配線の場合には、配線パターン14を除
いてどの配線パターンとも接続されないものであるが、
バスタブ凹部13に接続される配線パターン14と接続
される配線パターンは例外である。
3に対して、次にドリルにより、それぞれの底面13a
の中央部に孔をあけることでスルーホール16を形成す
る。なお、スルーホール16は、通常の多層基板で各層
を接続するスルーホール16として配線パターンと同時
に形成されてもよく、このような場合には、スルーホー
ル16の内側には金属層が形成できる。このスルーホー
ル16は、多層配線の場合には、配線パターン14を除
いてどの配線パターンとも接続されないものであるが、
バスタブ凹部13に接続される配線パターン14と接続
される配線パターンは例外である。
【0013】ところで、QFP11の本体の下側に設け
た凹部17とQFP11の底部との間には、底面および
側面とに空間があることが望ましい。これらの空間の形
成により、煙突効果でQFP11により発生する熱を上
へと逃がすことができるからである。これにより基板1
0の温度上昇を防止できる。
た凹部17とQFP11の底部との間には、底面および
側面とに空間があることが望ましい。これらの空間の形
成により、煙突効果でQFP11により発生する熱を上
へと逃がすことができるからである。これにより基板1
0の温度上昇を防止できる。
【0014】以上説明してきたが、実施例では、QFP
の例を中心に説明しているが、この発明は、QFPに限
らず、各種の表面実装型の電子部品について適用できる
ことはもちろんである。また、バスタブ凹部の底面およ
び側面にコーティングされる導体は、金属の導体に限定
されるものではなく、側面としては、底面まで半田が進
入するように案内できればよいので、少なくともバスタ
ブ凹部の対向する2側面と底面とに導体がコーティング
されていればよい。さらに、実施例のバスタブ凹部に接
続される配線パターン14は、表面層に設けられている
が、これは、多層基板の途中の層に設けられ、バスタブ
凹部と接続されるようなパターンであってもよいことは
もちろんである。
の例を中心に説明しているが、この発明は、QFPに限
らず、各種の表面実装型の電子部品について適用できる
ことはもちろんである。また、バスタブ凹部の底面およ
び側面にコーティングされる導体は、金属の導体に限定
されるものではなく、側面としては、底面まで半田が進
入するように案内できればよいので、少なくともバスタ
ブ凹部の対向する2側面と底面とに導体がコーティング
されていればよい。さらに、実施例のバスタブ凹部に接
続される配線パターン14は、表面層に設けられている
が、これは、多層基板の途中の層に設けられ、バスタブ
凹部と接続されるようなパターンであってもよいことは
もちろんである。
【0015】
【発明の効果】以上説明してきたように、この発明にあ
っては、リードピンに高さのばらつきあっても、上部か
ら供給された半田を凹部底面とリードピンとの間の空間
に浸透させることができるので、リードピンと配線パタ
ーンとの接続不良は発生し難い。また、この底面までの
浸透により凹部の外側へと流れる半田が抑制されること
から半田ブリッジによる隣接リードピン同士の結合も抑
えられ、かつ、ピン間結合容量の増加もなくなる。
っては、リードピンに高さのばらつきあっても、上部か
ら供給された半田を凹部底面とリードピンとの間の空間
に浸透させることができるので、リードピンと配線パタ
ーンとの接続不良は発生し難い。また、この底面までの
浸透により凹部の外側へと流れる半田が抑制されること
から半田ブリッジによる隣接リードピン同士の結合も抑
えられ、かつ、ピン間結合容量の増加もなくなる。
【図1】図1は、この発明の電子部品実装基板をフラッ
トパッケージIC実装基板に適用した一実施例の断面図
である。
トパッケージIC実装基板に適用した一実施例の断面図
である。
【図2】図2(a)は、そのリードピンとの接続部分の
拡大図、(b)は、その半田付け状態の説明図である。
拡大図、(b)は、その半田付け状態の説明図である。
【図3】図3は、QFPとフラットパッケージIC実装
基板との関係を示す概要図である。
基板との関係を示す概要図である。
【図4】図4は、基板側に設けられるリードピンを半田
付けする配線パターンの領域との関係の断面説明図であ
って、(a)は、正常な接続状態の説明図、(b)は、
コンタクト不良の説明図、(c)は、ブリッジ状態の説
明図、(d)は、ピン間容量の増加の説明図である。
付けする配線パターンの領域との関係の断面説明図であ
って、(a)は、正常な接続状態の説明図、(b)は、
コンタクト不良の説明図、(c)は、ブリッジ状態の説
明図、(d)は、ピン間容量の増加の説明図である。
【図5】図5は、この発明の先行技術の半田結合による
ブリッジを防止し、良好な接触を採る発明の説明図であ
る。
ブリッジを防止し、良好な接触を採る発明の説明図であ
る。
1,10…基板、2,12…リードピン、3…ランド、
4…半田、4a…半田層、11…QFP、12a…リー
ドピンの先端部、13…バスタブ凹部、13a…底面、
13b…側面 14…配線パターン、15…バスタブコーティング部、
16…スルーホール、17…凹部、18…間隙。
4…半田、4a…半田層、11…QFP、12a…リー
ドピンの先端部、13…バスタブ凹部、13a…底面、
13b…側面 14…配線パターン、15…バスタブコーティング部、
16…スルーホール、17…凹部、18…間隙。
Claims (3)
- 【請求項1】表面に電子部品を搭載する基板上の前記電
子部品の端子ピンと接触する領域に矩形の凹部が形成さ
れ、前記凹部の底面と少なくとも対向する側面が導体に
より被覆されかつ前記導体が配線パターンに接続されて
いる電子部品実装基板。 - 【請求項2】表面に電子部品を搭載する基板上の前記電
子部品の端子ピンと接触する領域に矩形の凹部が形成さ
れ、前記凹部の底面が導体により被覆されかつ前記導体
が配線パターンに接続され、前記底面には前記基板の裏
面側まで貫通する孔が設けられている電子部品実装基
板。 - 【請求項3】表面にフラットパッケージICを搭載する
基板上の前記フラットパッケージICの端子ピンと接触
する領域に矩形の凹部が形成され、前記凹部の底面と各
側面が導体により被覆されかつ前記導体が配線パターン
に接続され、前記底面には前記基板の裏面側まで貫通す
る孔が設けられている電子部品実装基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10196598A JPH11284318A (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | 電子部品実装基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10196598A JPH11284318A (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | 電子部品実装基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11284318A true JPH11284318A (ja) | 1999-10-15 |
Family
ID=14314594
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10196598A Pending JPH11284318A (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | 電子部品実装基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11284318A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004040950A1 (en) * | 2002-10-30 | 2004-05-13 | Advanpack Solutions Pte Ltd | Method for constraining the spread of solder during reflow for preplated high wettability lead frame flip chip assembly |
| US9824961B2 (en) | 2013-11-26 | 2017-11-21 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Semiconductor device |
| CN108417540A (zh) * | 2018-03-26 | 2018-08-17 | 李春林 | 一种指纹识别芯片装置 |
-
1998
- 1998-03-30 JP JP10196598A patent/JPH11284318A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004040950A1 (en) * | 2002-10-30 | 2004-05-13 | Advanpack Solutions Pte Ltd | Method for constraining the spread of solder during reflow for preplated high wettability lead frame flip chip assembly |
| US9824961B2 (en) | 2013-11-26 | 2017-11-21 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Semiconductor device |
| US9953905B2 (en) | 2013-11-26 | 2018-04-24 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Semiconductor device |
| CN108417540A (zh) * | 2018-03-26 | 2018-08-17 | 李春林 | 一种指纹识别芯片装置 |
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