JPH11302220A - クロロメチルフェニル酢酸の製造方法 - Google Patents
クロロメチルフェニル酢酸の製造方法Info
- Publication number
- JPH11302220A JPH11302220A JP10112031A JP11203198A JPH11302220A JP H11302220 A JPH11302220 A JP H11302220A JP 10112031 A JP10112031 A JP 10112031A JP 11203198 A JP11203198 A JP 11203198A JP H11302220 A JPH11302220 A JP H11302220A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- chloromethylphenylacetic
- reaction
- present
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/347—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reactions not involving formation of carboxyl groups
- C07C51/363—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reactions not involving formation of carboxyl groups by introduction of halogen; by substitution of halogen atoms by other halogen atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 塩素化剤として塩化スルフリルを使用せず、
高い収率及び選択性でクロロメチルフェニル酢酸を製造
しうる方法を提供する。 【解決手段】 式（Ｉ） 【化１】 で表わされるメチルフェニル酢酸を、不活性溶媒中で光
照射下又はラジカル開始剤の存在下、塩素ガスと反応さ
せる式（II） 【化２】
高い収率及び選択性でクロロメチルフェニル酢酸を製造
しうる方法を提供する。 【解決手段】 式（Ｉ） 【化１】 で表わされるメチルフェニル酢酸を、不活性溶媒中で光
照射下又はラジカル開始剤の存在下、塩素ガスと反応さ
せる式（II） 【化２】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はクロロメチルフェニ
ル酢酸の製造方法に関し、さらに詳しくは本発明は塩素
化剤として塩化スルフリルを使用せずに、高選択率かつ
高収率でクロロメチルフェニル酢酸を製造しうる方法に
関する。
ル酢酸の製造方法に関し、さらに詳しくは本発明は塩素
化剤として塩化スルフリルを使用せずに、高選択率かつ
高収率でクロロメチルフェニル酢酸を製造しうる方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】クロロメチルフェニル酢酸類は、医薬、
農薬等の原料及び中間体として有用な化合物である。従
来のクロロメチルフェニル酢酸類の製造方法としては、
特開昭５４−１３８５３６号の参考例に記載されている
ように、３−イソクロマノンをハロゲン化水素で開環し
て２−ハロメチルフェニル酢酸を製造する方法が知られ
ている。しかし、この方法では原料の３−イソクロマノ
ンが高価であり、製造コストの面で問題がある。また、
Ｊ．ＣＨＥＭ．ＳＯＣ．，ＣＨＥＭ．ＣＯＭＭＵＮ．，
１９９３の３９９頁には、２−メチルフェニル酢酸を
２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）存
在下、四塩化炭素中、紫外線照射下で臭素と反応させ、
２−ブロモメチルフェニル酢酸とし、次いで塩化リチウ
ムと反応させて２−クロロメチルフェニル酢酸を得る方
法が報告されている。しかし、この方法は工程数が多い
上、全収率も５４％と低く、工業的に実施するには好ま
しくない。
農薬等の原料及び中間体として有用な化合物である。従
来のクロロメチルフェニル酢酸類の製造方法としては、
特開昭５４−１３８５３６号の参考例に記載されている
ように、３−イソクロマノンをハロゲン化水素で開環し
て２−ハロメチルフェニル酢酸を製造する方法が知られ
ている。しかし、この方法では原料の３−イソクロマノ
ンが高価であり、製造コストの面で問題がある。また、
Ｊ．ＣＨＥＭ．ＳＯＣ．，ＣＨＥＭ．ＣＯＭＭＵＮ．，
１９９３の３９９頁には、２−メチルフェニル酢酸を
２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）存
在下、四塩化炭素中、紫外線照射下で臭素と反応させ、
２−ブロモメチルフェニル酢酸とし、次いで塩化リチウ
ムと反応させて２−クロロメチルフェニル酢酸を得る方
法が報告されている。しかし、この方法は工程数が多い
上、全収率も５４％と低く、工業的に実施するには好ま
しくない。
【０００３】さらに、ＷＯ９７／４８６９２号には２−
メチルフェニル酢酸をラジカル開始剤の存在下、塩化ス
ルフリルと反応させて２−クロロメチルフェニル酢酸を
得る方法が報告されている。しかし、この方法で得られ
る２−クロロメチルフェニル酢酸の収率は６２．１５
％、純度が９５．７％と工業的にはまだ満足できるもの
ではない。また、この方法で使用する塩化スルフリルは
有毒であり、さらに反応で生成する亜硫酸ガスも毒性及
び腐食性が高く、排ガス中の亜硫酸ガス濃度が厳しく規
制されている等、工業的実施においては問題がある。
メチルフェニル酢酸をラジカル開始剤の存在下、塩化ス
ルフリルと反応させて２−クロロメチルフェニル酢酸を
得る方法が報告されている。しかし、この方法で得られ
る２−クロロメチルフェニル酢酸の収率は６２．１５
％、純度が９５．７％と工業的にはまだ満足できるもの
ではない。また、この方法で使用する塩化スルフリルは
有毒であり、さらに反応で生成する亜硫酸ガスも毒性及
び腐食性が高く、排ガス中の亜硫酸ガス濃度が厳しく規
制されている等、工業的実施においては問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】したがって本発明は、
塩素化剤として塩化スルフリルを使用せず、高い収率及
び選択性でクロロメチルフェニル酢酸を製造しうる方法
を提供することを目的とする。
塩素化剤として塩化スルフリルを使用せず、高い収率及
び選択性でクロロメチルフェニル酢酸を製造しうる方法
を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決すべく鋭意検討を重ねた結果、不活性溶媒中、光照
射下又はラジカル開始剤の存在下、メチルフェニル酢酸
類と塩素ガスとを反応させることにより、メチル基のみ
が高選択的に塩素化されて、目的のクロロメチルフェニ
ル酢酸が高収率で得られることを見出し、この知見に基
づき本発明をなすに至った。すなわち本発明は、（１）
式（Ｉ）
解決すべく鋭意検討を重ねた結果、不活性溶媒中、光照
射下又はラジカル開始剤の存在下、メチルフェニル酢酸
類と塩素ガスとを反応させることにより、メチル基のみ
が高選択的に塩素化されて、目的のクロロメチルフェニ
ル酢酸が高収率で得られることを見出し、この知見に基
づき本発明をなすに至った。すなわち本発明は、（１）
式（Ｉ）
【０００６】
【化３】
【０００７】で表わされるメチルフェニル酢酸を、不活
性溶媒中で光照射下又はラジカル開始剤の存在下、塩素
ガスと反応させることを特徴とする式（II）
性溶媒中で光照射下又はラジカル開始剤の存在下、塩素
ガスと反応させることを特徴とする式（II）
【０００８】
【化４】
【０００９】で表わされるクロロメチルフェニル酢酸の
製造方法、（２）反応温度が７０℃以下であることを特
徴とする（１）項記載のクロロメチルフェニル酢酸の製
造方法、及び（３）不活性溶媒がモノクロロベンゼン、
ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、フルオロベン
ゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ビストリフルオロ
メチルベンゼン又はクロロトリフルオロメチルベンゼン
から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする
（１）又は（２）項記載のクロロメチルフェニル酢酸の
製造方法を提供するものである。
製造方法、（２）反応温度が７０℃以下であることを特
徴とする（１）項記載のクロロメチルフェニル酢酸の製
造方法、及び（３）不活性溶媒がモノクロロベンゼン、
ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、フルオロベン
ゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ビストリフルオロ
メチルベンゼン又はクロロトリフルオロメチルベンゼン
から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする
（１）又は（２）項記載のクロロメチルフェニル酢酸の
製造方法を提供するものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明において出発原料として用
いるメチルフェニル酢酸は、前記式（Ｉ）で表わされ、
具体的には２−メチルフェニル酢酸、３−メチルフェニ
ル酢酸又は４−メチルフェニル酢酸のいずれか、または
これらのうちの２種以上の混合物である。本発明で得ら
れるクロロメチルフェニル酢酸は、前記式（II）で表わ
され、上記した出発原料に対応して２−クロロメチルフ
ェニル酢酸、３−クロロメチルフェニル酢酸又は４−ク
ロロメチルフェニル酢酸のいずれか、またはこれらのう
ちの２種以上の混合物である。
いるメチルフェニル酢酸は、前記式（Ｉ）で表わされ、
具体的には２−メチルフェニル酢酸、３−メチルフェニ
ル酢酸又は４−メチルフェニル酢酸のいずれか、または
これらのうちの２種以上の混合物である。本発明で得ら
れるクロロメチルフェニル酢酸は、前記式（II）で表わ
され、上記した出発原料に対応して２−クロロメチルフ
ェニル酢酸、３−クロロメチルフェニル酢酸又は４−ク
ロロメチルフェニル酢酸のいずれか、またはこれらのう
ちの２種以上の混合物である。
【００１１】本発明においては塩素化剤として塩素ガス
を用い、使用量は、式（Ｉ）で表わされるメチルフェニ
ル酢酸１モルに対し０．２〜２モルが好ましく、０．８
〜１．２モルがさらに好ましい。本発明方法では、上記
式（Ｉ）の化合物と塩素ガスとを、光照射下又はラジカ
ル開始剤の存在下に反応させる。光照射の方法は特に制
限はないが、紫外域を含む光が好ましく用いられ、例え
ば水銀ランプ等を光源として行うことができる。ラジカ
ル開始剤も通常用いられるものを特に制限なく用いるこ
とができ、具体的には例えば過酸化ベンゾイル、２，
２’−アゾビスイソブチロニトリル等があげられる。ラ
ジカル開始剤の使用量は通常、式（Ｉ）で表わされる化
合物１モルに対し０．００５〜０．１モルである。
を用い、使用量は、式（Ｉ）で表わされるメチルフェニ
ル酢酸１モルに対し０．２〜２モルが好ましく、０．８
〜１．２モルがさらに好ましい。本発明方法では、上記
式（Ｉ）の化合物と塩素ガスとを、光照射下又はラジカ
ル開始剤の存在下に反応させる。光照射の方法は特に制
限はないが、紫外域を含む光が好ましく用いられ、例え
ば水銀ランプ等を光源として行うことができる。ラジカ
ル開始剤も通常用いられるものを特に制限なく用いるこ
とができ、具体的には例えば過酸化ベンゾイル、２，
２’−アゾビスイソブチロニトリル等があげられる。ラ
ジカル開始剤の使用量は通常、式（Ｉ）で表わされる化
合物１モルに対し０．００５〜０．１モルである。
【００１２】本発明で用いることのできる不活性溶媒
は、ハロゲン化炭化水素、好ましくはハロゲン化アリー
ル（例えばハロゲン化ベンゼンなど）であって、通常、
ラジカル塩素化反応に不活性溶媒として用いることがで
きるものであれば特に制限はない。このハロゲン化アリ
ールには、側鎖がハロゲン化されたものも含む。このよ
うな不活性溶媒の具体例としては、モノクロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、フルオロ
ベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ビストリフル
オロメチルベンゼンもしくはクロロトリフルオロメチル
ベンゼンのいずれか、またはこれらのうちの２種以上を
混合溶媒として用いることができる。さらに好ましく
は、モノクロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼンもしく
は４−クロロトリフルオロメチルベンゼンから選ばれる
少なくとも１種である。本発明における溶媒の使用量は
特に制限はないが、工業的実施においては式（Ｉ）で表
わされる化合物１モルに対して０．０５〜１０リットル
が好ましく、０．２〜３リットルがさらに好ましい。
は、ハロゲン化炭化水素、好ましくはハロゲン化アリー
ル（例えばハロゲン化ベンゼンなど）であって、通常、
ラジカル塩素化反応に不活性溶媒として用いることがで
きるものであれば特に制限はない。このハロゲン化アリ
ールには、側鎖がハロゲン化されたものも含む。このよ
うな不活性溶媒の具体例としては、モノクロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、フルオロ
ベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ビストリフル
オロメチルベンゼンもしくはクロロトリフルオロメチル
ベンゼンのいずれか、またはこれらのうちの２種以上を
混合溶媒として用いることができる。さらに好ましく
は、モノクロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼンもしく
は４−クロロトリフルオロメチルベンゼンから選ばれる
少なくとも１種である。本発明における溶媒の使用量は
特に制限はないが、工業的実施においては式（Ｉ）で表
わされる化合物１モルに対して０．０５〜１０リットル
が好ましく、０．２〜３リットルがさらに好ましい。
【００１３】本発明における塩素化反応は、好ましくは
７０℃以下、さらに好ましくは２０〜５０℃の温度で行
われる。
７０℃以下、さらに好ましくは２０〜５０℃の温度で行
われる。
【００１４】反応終了後、反応液を冷却し、析出した目
的の化合物を反応系から濾過、分離することにより、容
易に高収率で高純度のクロロメチルフェニル酢酸が得ら
れる。さらに純度を上げる目的で、得られた化合物を再
結晶法等により精製してもよい。
的の化合物を反応系から濾過、分離することにより、容
易に高収率で高純度のクロロメチルフェニル酢酸が得ら
れる。さらに純度を上げる目的で、得られた化合物を再
結晶法等により精製してもよい。
【００１５】
【実施例】次に、本発明を実施例に基づいてさらに詳細
に説明する。 実施例１ ガス吹き込み管、還流冷却器、撹拌機を備えた１００ｍ
ｌフラスコに、２−メチルフェニル酢酸３０ｇ、モノク
ロロベンゼン６０ｇを仕込み、水銀ランプによる紫外線
照射下、反応温度を４５℃に調整し、塩素ガスを吹き込
んで反応を開始した。塩素ガスは１９ｇを８時間かけて
供給した。反応終了後の反応液をガスクロマトグラフで
分析したところ、表１に示した割合で原料の２−メチル
フェニル酢酸と目的化合物である２−クロロメチルフェ
ニル酢酸、及び副生成物である２−メチル−α−クロロ
フェニル酢酸、２−ジクロロメチルフェニル酢酸、２−
クロロメチル−α−クロロフェニル酢酸が存在してい
た。２−クロロメチルフェニル酢酸の選択率（生成物中
の２−クロロメチルフェニル酢酸の割合）は８８．７％
であった。反応終了後、反応液を２０℃まで冷却し、析
出物を濾過、分離して２−クロロメチルフェニル酢酸２
６．６ｇ（純度９８．５％、収率７２％）を得た。
に説明する。 実施例１ ガス吹き込み管、還流冷却器、撹拌機を備えた１００ｍ
ｌフラスコに、２−メチルフェニル酢酸３０ｇ、モノク
ロロベンゼン６０ｇを仕込み、水銀ランプによる紫外線
照射下、反応温度を４５℃に調整し、塩素ガスを吹き込
んで反応を開始した。塩素ガスは１９ｇを８時間かけて
供給した。反応終了後の反応液をガスクロマトグラフで
分析したところ、表１に示した割合で原料の２−メチル
フェニル酢酸と目的化合物である２−クロロメチルフェ
ニル酢酸、及び副生成物である２−メチル−α−クロロ
フェニル酢酸、２−ジクロロメチルフェニル酢酸、２−
クロロメチル−α−クロロフェニル酢酸が存在してい
た。２−クロロメチルフェニル酢酸の選択率（生成物中
の２−クロロメチルフェニル酢酸の割合）は８８．７％
であった。反応終了後、反応液を２０℃まで冷却し、析
出物を濾過、分離して２−クロロメチルフェニル酢酸２
６．６ｇ（純度９８．５％、収率７２％）を得た。
【００１６】実施例２〜４ モノクロロベンゼンに代えて表１に示した溶媒を使用し
た以外は実施例１と全く同様にして２−クロロメチルフ
ェニル酢酸を製造した。反応終了後の反応液をガスクロ
マトグラフ分析したところ、表１に示した割合で各化合
物が存在していた。２−クロロメチルフェニル酢酸の選
択率も表１に併せて示した。
た以外は実施例１と全く同様にして２−クロロメチルフ
ェニル酢酸を製造した。反応終了後の反応液をガスクロ
マトグラフ分析したところ、表１に示した割合で各化合
物が存在していた。２−クロロメチルフェニル酢酸の選
択率も表１に併せて示した。
【００１７】実施例５〜８ 反応温度及び／又は溶媒量を表１に示したように変えた
以外は実施例１と全く同様にして２−クロロメチルフェ
ニル酢酸を製造した。反応終了後の反応液をガスクロマ
トグラフ分析したところ、表１に示した割合で各化合物
が存在していた。２−クロロメチルフェニル酢酸の選択
率も表１に併せて示した。
以外は実施例１と全く同様にして２−クロロメチルフェ
ニル酢酸を製造した。反応終了後の反応液をガスクロマ
トグラフ分析したところ、表１に示した割合で各化合物
が存在していた。２−クロロメチルフェニル酢酸の選択
率も表１に併せて示した。
【００１８】実施例９ ２−メチルフェニル酢酸に代えて４−メチルフェニル酢
酸３０ｇを用い、モノクロロベンゼンを９０ｇとした以
外は実施例１と全く同様にして４−クロロメチルフェニ
ル酢酸を製造した。反応終了後の反応液をガスクロマト
グラフで分析したところ、原料の４−メチルフェニル酢
酸６．８％と目的化合物である４−クロロメチルフェニ
ル酢酸７４．８％、及び副生成物である４−メチル−α
−クロロフェニル酢酸０．５％、４−ジクロロメチルフ
ェニル酢酸５．８％、４−クロロメチル−α−クロロフ
ェニル酢酸７．７％が存在していた。４−クロロメチル
フェニル酢酸の選択率は８０．２％であった。反応終了
後、反応液を２０℃まで冷却し、析出物を濾過、分離し
て４−クロロメチルフェニル酢酸２６．２ｇ（純度９
６．４％、収率７１％）を得た。
酸３０ｇを用い、モノクロロベンゼンを９０ｇとした以
外は実施例１と全く同様にして４−クロロメチルフェニ
ル酢酸を製造した。反応終了後の反応液をガスクロマト
グラフで分析したところ、原料の４−メチルフェニル酢
酸６．８％と目的化合物である４−クロロメチルフェニ
ル酢酸７４．８％、及び副生成物である４−メチル−α
−クロロフェニル酢酸０．５％、４−ジクロロメチルフ
ェニル酢酸５．８％、４−クロロメチル−α−クロロフ
ェニル酢酸７．７％が存在していた。４−クロロメチル
フェニル酢酸の選択率は８０．２％であった。反応終了
後、反応液を２０℃まで冷却し、析出物を濾過、分離し
て４−クロロメチルフェニル酢酸２６．２ｇ（純度９
６．４％、収率７１％）を得た。
【００１９】比較例１ 還流冷却器、撹拌機及び温度計を備えた２００ｍｌフラ
スコに、２−メチルフェニル酢酸３０ｇ、モノクロロベ
ンゼン６０ｇ、及びラジカル開始剤として２，２’−ア
ゾビスイソブチロニトリルを仕込み、反応温度を７０℃
に調整し、塩化スルフリル２９．７ｇを５時間かけて滴
下した。反応終了後の反応液をガスクロマトグラフで分
析したところ、表１に示した割合で各化合物が存在して
いた。２−クロロメチルフェニル酢酸の選択率は７５．
４％であった。反応終了後、反応液を２０℃まで冷却
し、析出物を濾過、分離して２−クロロメチルフェニル
酢酸２３．０ｇ（純度９６．８％、収率６２％）を得
た。
スコに、２−メチルフェニル酢酸３０ｇ、モノクロロベ
ンゼン６０ｇ、及びラジカル開始剤として２，２’−ア
ゾビスイソブチロニトリルを仕込み、反応温度を７０℃
に調整し、塩化スルフリル２９．７ｇを５時間かけて滴
下した。反応終了後の反応液をガスクロマトグラフで分
析したところ、表１に示した割合で各化合物が存在して
いた。２−クロロメチルフェニル酢酸の選択率は７５．
４％であった。反応終了後、反応液を２０℃まで冷却
し、析出物を濾過、分離して２−クロロメチルフェニル
酢酸２３．０ｇ（純度９６．８％、収率６２％）を得
た。
【００２０】参考例１ 反応温度を８０℃とした以外は実施例１と全く同様にし
て２−クロロメチルフェニル酢酸を製造した。反応終了
後の反応液をガスクロマトグラフ分析したところ、表１
に示した割合で各化合物が存在していた。２−クロロメ
チルフェニル酢酸の選択率は７０．０％であった。
て２−クロロメチルフェニル酢酸を製造した。反応終了
後の反応液をガスクロマトグラフ分析したところ、表１
に示した割合で各化合物が存在していた。２−クロロメ
チルフェニル酢酸の選択率は７０．０％であった。
【００２１】
【表１】
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、有毒の塩化スルフリル
を塩素化剤として用いることなく、高い選択率でメチル
フェニル酢酸のメチル基を塩素化し、ジクロロ体やα−
クロロ体の副生を抑制して、高収率で高純度のクロロメ
チルフェニル酢酸を製造することができる。本発明方法
は反応条件が穏和で工程数も少ないので、製造コストを
低減して工業的に実施しうる。本発明により製造される
２−クロロメチルフェニル酢酸は、公知の方法（Ｚｈ．
Ｏｒｇ．Ｋｈｉｍ［１９７３］９（１０）２１４５）に
より、塩基と処理することにより容易に医薬、農薬の中
間体として用いられる３−イソクロマノンにも変換する
ことができる。
を塩素化剤として用いることなく、高い選択率でメチル
フェニル酢酸のメチル基を塩素化し、ジクロロ体やα−
クロロ体の副生を抑制して、高収率で高純度のクロロメ
チルフェニル酢酸を製造することができる。本発明方法
は反応条件が穏和で工程数も少ないので、製造コストを
低減して工業的に実施しうる。本発明により製造される
２−クロロメチルフェニル酢酸は、公知の方法（Ｚｈ．
Ｏｒｇ．Ｋｈｉｍ［１９７３］９（１０）２１４５）に
より、塩基と処理することにより容易に医薬、農薬の中
間体として用いられる３−イソクロマノンにも変換する
ことができる。
Claims (3)
- 【請求項１】 式（Ｉ） 【化１】 で表わされるメチルフェニル酢酸を、不活性溶媒中で光
照射下又はラジカル開始剤の存在下、塩素ガスと反応さ
せることを特徴とする式（II） 【化２】 で表わされるクロロメチルフェニル酢酸の製造方法。 - 【請求項２】 反応温度が７０℃以下であることを特徴
とする請求項１記載のクロロメチルフェニル酢酸の製造
方法。 - 【請求項３】 不活性溶媒がモノクロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン、トリクロロベンゼン、フルオロベンゼ
ン、トリフルオロメチルベンゼン、ビストリフルオロメ
チルベンゼン又はクロロトリフルオロメチルベンゼンか
ら選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求
項１又は２記載のクロロメチルフェニル酢酸の製造方
法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11203198A JP3874925B2 (ja) | 1998-04-22 | 1998-04-22 | クロロメチルフェニル酢酸の製造方法 |
| EP99917085A EP1072580B1 (en) | 1998-04-22 | 1999-04-21 | Process for producing chloromethylphenylacetic acid |
| PCT/JP1999/002125 WO1999054275A1 (en) | 1998-04-22 | 1999-04-21 | Process for producing chloromethylphenylacetic acid |
| DE69942998T DE69942998D1 (de) | 1998-04-22 | 1999-04-21 | Verfahren zur herstellung von chloromethylphenylessigsäure |
| US09/673,797 US6414186B1 (en) | 1998-04-22 | 1999-04-21 | Process for producing chloromethylphenylacetic acid |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11203198A JP3874925B2 (ja) | 1998-04-22 | 1998-04-22 | クロロメチルフェニル酢酸の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11302220A true JPH11302220A (ja) | 1999-11-02 |
| JP3874925B2 JP3874925B2 (ja) | 2007-01-31 |
Family
ID=14576284
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11203198A Expired - Fee Related JP3874925B2 (ja) | 1998-04-22 | 1998-04-22 | クロロメチルフェニル酢酸の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6414186B1 (ja) |
| EP (1) | EP1072580B1 (ja) |
| JP (1) | JP3874925B2 (ja) |
| DE (1) | DE69942998D1 (ja) |
| WO (1) | WO1999054275A1 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005529148A (ja) * | 2002-05-07 | 2005-09-29 | シンジェンタ リミテッド | 化学工程 |
| JP2009067692A (ja) * | 2007-09-11 | 2009-04-02 | Central Glass Co Ltd | 含フッ素アルキルスルホニルアミノエチルα−置換アクリレート類の製造方法 |
| JP2022037926A (ja) * | 2020-08-25 | 2022-03-09 | 日宝化学株式会社 | 芳香族α，α－ジハロアルキル化合物の製造方法、及びシクロプロパン誘導体の製造方法 |
| CN115925532A (zh) * | 2022-11-22 | 2023-04-07 | 南京海纳医药科技股份有限公司 | 一种氟比洛芬的制备方法 |
| CN116606206A (zh) * | 2023-04-26 | 2023-08-18 | 河北诚信集团有限公司 | 一种啶氧菌酯中间体邻氯甲基苯乙酸甲酯的制备工艺 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102297924B (zh) * | 2011-06-21 | 2013-10-30 | 上海试四赫维化工有限公司 | 3-异苯并二氢吡喃酮中邻-甲基苯乙酸和2-氯甲基苯乙酸杂质含量的高效液相色谱分析方法 |
| CN115594562A (zh) * | 2022-10-19 | 2023-01-13 | 江苏聚由新材料科技有限公司（Cn） | 一种邻氯氯苄的连续化生产工艺 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4499300A (en) * | 1983-12-27 | 1985-02-12 | Uop Inc. | 4-Vinylbenzeneacetic acid |
| JPS62129250A (ja) | 1985-11-29 | 1987-06-11 | Sankyo Yuki Gosei Kk | ２−置換フエニルプロピオン酸またはそのエステルの製造方法 |
| GB9612623D0 (en) * | 1996-06-17 | 1996-08-21 | Zeneca Ltd | Chemical process |
-
1998
- 1998-04-22 JP JP11203198A patent/JP3874925B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-04-21 US US09/673,797 patent/US6414186B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-21 DE DE69942998T patent/DE69942998D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-21 WO PCT/JP1999/002125 patent/WO1999054275A1/ja not_active Ceased
- 1999-04-21 EP EP99917085A patent/EP1072580B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005529148A (ja) * | 2002-05-07 | 2005-09-29 | シンジェンタ リミテッド | 化学工程 |
| JP2009067692A (ja) * | 2007-09-11 | 2009-04-02 | Central Glass Co Ltd | 含フッ素アルキルスルホニルアミノエチルα−置換アクリレート類の製造方法 |
| JP2022037926A (ja) * | 2020-08-25 | 2022-03-09 | 日宝化学株式会社 | 芳香族α，α－ジハロアルキル化合物の製造方法、及びシクロプロパン誘導体の製造方法 |
| CN115925532A (zh) * | 2022-11-22 | 2023-04-07 | 南京海纳医药科技股份有限公司 | 一种氟比洛芬的制备方法 |
| CN116606206A (zh) * | 2023-04-26 | 2023-08-18 | 河北诚信集团有限公司 | 一种啶氧菌酯中间体邻氯甲基苯乙酸甲酯的制备工艺 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69942998D1 (de) | 2011-01-13 |
| EP1072580A4 (en) | 2005-02-16 |
| EP1072580A1 (en) | 2001-01-31 |
| JP3874925B2 (ja) | 2007-01-31 |
| WO1999054275A1 (en) | 1999-10-28 |
| EP1072580B1 (en) | 2010-12-01 |
| US6414186B1 (en) | 2002-07-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2928982B2 (ja) | ４’−ブロモメチル−２−シアノビフェニルの製造法 | |
| JP3874925B2 (ja) | クロロメチルフェニル酢酸の製造方法 | |
| JPH0748341A (ja) | ２−クロル−４−メチルスルホニル安息香酸の製造法 | |
| JP3918883B2 (ja) | ベンゾイルクロライド類の製造方法 | |
| JP3882855B2 (ja) | アルキルベンゾイルクロライドの製造法 | |
| JP3788482B2 (ja) | アルキルベンゾイルクロライドの製造方法 | |
| JPH10298156A (ja) | 置換ハロメチルフェニルカルバミド酸エステル類の製造方法 | |
| JP2779366B2 (ja) | 沃素化９，９−ジアルキルフルオレンの製造方法 | |
| JP3213775B2 (ja) | ２−シアノ−４，６−ジメトキシピリミジンの製造方法 | |
| JP3309202B2 (ja) | ニトロベンゼンスルホニルハライド類の製造方法 | |
| JP2001199943A (ja) | ２，６−ジブロモ−４−トリフルオロメトキシアニリンの製造方法 | |
| JP3887757B2 (ja) | シアノベンゼンスルホニルクロリドの製造方法 | |
| JPH0543554A (ja) | ３，５−ジクロロピラゾール−４−カルボン酸エステル類の製造法 | |
| JP4002314B2 (ja) | ３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン −１，１−ジオキサイドの製造方法 | |
| JP2003064051A (ja) | スルホニル化合物の製造方法 | |
| JPH0543553A (ja) | ３，５−ジクロロピラゾール−４−カルボン酸エステル類の製造方法 | |
| JPH1192435A (ja) | ベンゼン誘導体およびその製造方法 | |
| WO2010126152A1 (ja) | 芳香族環が塩素化されたフタル酸化合物の製造方法 | |
| JPH05271103A (ja) | メチル芳香族化合物の遊離基塩素化または臭素化方法 | |
| JPH08198806A (ja) | アルキルベンゾイルクロライドの製造法 | |
| JPH01313453A (ja) | クロロメチル安息香酸の製造法 | |
| JPH11255680A (ja) | ベンゼン核塩素置換化合物の製造方法 | |
| JPH05279346A (ja) | 農薬の中間体の製造方法 | |
| JPH0748365A (ja) | 塩素化有機化合物の製造方法 | |
| JPS61155351A (ja) | β−クロルプロピオン酸クロライドと芳香族カルボン酸クロライドの製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050412 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060523 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060724 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061003 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20061025 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101102 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111102 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121102 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121102 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131102 Year of fee payment: 7 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |