JPH11307483A - 半導体装置の製法および半導体装置 - Google Patents

半導体装置の製法および半導体装置

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JPH11307483A
JPH11307483A JP10109700A JP10970098A JPH11307483A JP H11307483 A JPH11307483 A JP H11307483A JP 10109700 A JP10109700 A JP 10109700A JP 10970098 A JP10970098 A JP 10970098A JP H11307483 A JPH11307483 A JP H11307483A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 チップが配線変更されてもパッケージや配線
基板等を変更しなくて済むような半導体装置を提供す
る。 【解決手段】 半導体ウェハにチップ1を形成する際
に、スクライブ線領域13にボンデイングパッド2と同
じ導電性材料からなる、不連続線状パターンを形成し中
継パッド14とする。パッケージする際に、チップ1の
センタパッド2aと中継パッド14、および中継パッド
14とリード4とをそれぞれワイヤボンディングする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、チップ変更に伴う
パッケージ変更が不要となるようにした半導体装置の製
法およびその製法を用いて得られる半導体装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】図4〜6は従来の半導体装置を示すもの
で、図4はLOC(LEAD ON CHIP)構造のBGA(BALL
GRID ARRAY)タイプ半導体装置の例を示す模式断面
図、図5はCOL(CHIP ON LEAD)構造のBGAタイプ
半導体装置の例を示す模式断面図、図6は半導体ウェハ
の上面を示した概略平面図である。図4および図5の例
の半導体装置において、チップ21,31上面にボンデ
イングパッド22,32が配置されており、ボンデイン
グパッド22,32以外の表面は絶縁材料からなる保護
膜23,33で覆われている。
【0003】図4に示すようなLOC(LEAD ON CHIP)
構造の半導体装置は、チップ21の上面の中央部にボン
デイングパッド2が配置されている。このようにチップ
2の中央部付近に配置されたボンデイングパッド22を
本明細書ではセンタパッドという。またチップ21の上
面には、複数のリード24を備えたパッケージのリード
フレームが接着テープ25によって接着されており、セ
ンタパッド22とリード24とがワイヤ28によってワ
イヤボンデイングされている。またこのようなパッケー
ジ全体は樹脂26で封止されており、リード24と接し
かつ一部が樹脂26から突出するように設けられたボー
ル27によって外部のプリント基板(図示せず)などに
電気的に接続されるように構成されている。
【0004】また図5に示すようなCOL(CHIP ON LE
AD)構造の半導体装置は、チップ31の上面の周縁部に
ボンデイングパッド32が配置されている。またチップ
31の下面には、複数のリード34を備えたパッケージ
のリードフレームが接着テープ35によって接着されて
おり、ボンデイングパッド32とリード34とがワイヤ
38によってワイヤボンデイングされている。またこの
構成においてもパッケージ全体は樹脂36で封止されて
おり、リード34と接しかつ一部が樹脂36から突出す
るように設けられたボール37によって外部のプリント
基板(図示せず)などに電気的に接続されるように構成
されている。
【0005】上記のような半導体装置は、センタパッド
22とリード24、またはボンデイングパッド32とリ
ード34とをそれぞれ電気的に接続するためのワイヤ2
8(38)が短くなるような構成となっている。ワイヤ
ボンデイングのためのワイヤ28(38)が長いと、樹
脂26(36)で封止する際にワイヤ28(38)が曲
がり易く、ワイヤ28(38)間でショートし易くなる
という問題が生じるが、上記のような構成とすることに
よってこれを防止することができる。ところで従来より
個々のチップ21(31)は、図6に示すように、半導
体ウェハ上に多数配列されたチップ領域41に回路素子
を形成した後、隣合うチップ領域41間のスクライブ線
領域42にて、ダイシングにより個々のチップ領域41
を分離することによって作製される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の構
成の半導体装置にあっては、チップの回路配線が変更さ
れ、ボンデイングパッドの位置が変更された場合には、
ワイヤボンデイングのためのワイヤが長くなるのを避け
るためにパッケージを変更することが必要であり、さら
にはパッケージを実装する配線基板まで変更することが
必要となるため、コストが高くなるという問題があっ
た。
【0007】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、チップが配線変更されてもパッケージや配線基板等
を変更しなくて済むような半導体装置を提供することを
目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に本発明の半導体装置の製法は、半導体ウェハにチップ
を形成する際に、スクライブ線領域にボンデイングパッ
ドと同じ導電性材料からなる中継パッドを形成すること
を特徴とする。前記中継パッドは、スクライブ線領域に
沿う不連続な線状パターンとすることが好ましい。また
本発明の半導体装置は、チップ領域の外方のスクライブ
線領域にボンデイングパッドと同じ導電性材料からなる
中継パッドが設けられていることを特徴とする。本発明
の半導体装置は、チップのセンタパッドと前記中継パッ
ド、および該中継パッドとリードとがそれぞれワイヤボ
ンディングすることができる。
【0009】
【発明の実施の形態】図1〜3は本発明の半導体装置の
実施例を示したもので、図1は半導体ウェハの上面を示
した概略平面図、図2はワイヤボンデイングされた状態
のチップを示す概略斜視図、図3はパッケージされた半
導体装置の模式断面図である。半導体ウェハ11上面の
チップ領域12には回路素子が形成されており、必要に
応じた所定の位置にワイヤボンデイングのためのボンデ
イングパッド2が配置されている(図2参照)。また隣
合うチップ領域12の間のスクライブ線領域13には中
継パッド14が形成されている。中継パッド14はボン
デイングパッド2と同じ導電性材料からなり、例えばア
ルミ層で構成される。中継パッド14の形状を、図1に
示すようなスクライブ線領域13に沿った不連続な線状
パターンとすれば、半導体ウェハ11のダイシング時の
スクライブ線としても機能するので好ましい。この中継
パッド14は、半導体ウェハ11上に回路素子を形成す
る際に、ボンデイングパッド2となる配線金属層を形成
するのと同時に形成することができる。
【0010】図2および図3に示す半導体装置は、図1
に示す半導体ウェハ11をダイシングして得られたチッ
プ1を用いたものである。チップ1上面の周縁部はスク
ライブ線領域13であり、ここに中継パッド14が配置
されている。スクライブ線領域13の内方はチップ領域
12であり、ここには回路素子が形成されており、必要
に応じた所定の位置にボンデイングパッド2が設けられ
ている。チップ領域12のボンデイングパッド2以外の
表面は、ポリイミドなどの絶縁材料からなる保護膜3で
覆われている。
【0011】またチップ1の下面には、パッケージのリ
ードフレーム(リード4)が接着テープ5によって接着
されている。リードフレームは複数のリード4を備えた
もので、各リード4は、チップ1上面の中継パッド14
にそれぞれ対向する位置に、リード4の一部4aがチッ
プ1の外方に突出するように配されている。そして、リ
ード4の突出部分4aとチップ1上面のボンデイングパ
ッド2とが、それぞれワイヤ8を用いて電気的に接続さ
れているが、チップ1上面の中央部に配置されたセンタ
パッド2aは、これと適宜の中継パッド14とがワイヤ
ボンデイングされ、その中継パッド14とリード4とが
ワイヤボンデイングされている。すなわち、センタパッ
ド2aは、中継パッド14を介してリード4と電気的に
接続されている。また比較的チップ1上面の周辺部に近
い位置に配置されたボンデイングパッド2bは直接リー
ド4とワイヤボンデイングされている。
【0012】このようなパッケージ全体は樹脂6で封止
されるとともに、リード4の下にはリード4と接しかつ
一部が樹脂6から突出するようにボール7が設けられ、
このボール7を介して外部のプリント基板(図示せず)
などに電気的に接続できるように構成されている。
【0013】このような構成の半導体装置にあっては、
チップ1のセンタパッド2aとリード4との電気的接続
を、中継パッド14を中継とするワイヤボンデイングに
よって行うことができるので、センタパッド2aを有す
るチップ1に対して、LOC構造とせずにCOL構造と
しても電気的接続に使用されるワイヤ8を短くすること
ができる。これにより、樹脂6による封止時にワイヤが
樹脂6から受ける力を小さくすることができ、ワイヤ8
の曲がりを低減することができる。またチップ1の比較
的周縁部に近い位置のボンデイングパッド2bは、中継
パッド14を使用しなくても短いワイヤ8でリード4と
電気的に接続させることができるので、COL構造とす
ることに問題はない。よって、チップ1上面においてボ
ンデイングパッド2がどのように配置されていても、チ
ップ1の周縁に中継パッド14を設けることによって、
中央部に近いもの(センタパッド2a)は中継パッド1
4を介して、また周縁部に近いものは直接リード4とワ
イヤボンデイングできるので、チップ1の回路配線が変
更されても、リード4の配置を変更する必要はなく、パ
ッケージを変更しなくて済む。また中継パッド14は半
導体ウェハ11のスクライブ線領域13に設けられるの
で、ダイシングの際にはスクライブ線として用いること
ができる。さらに中継パッド14はボンデイングパッド
2と同じ導電性材料で構成されるので、ボンデイングパ
ッド2形成時に同時に形成することができるので、半導
体装置の製造工程に特に変更を加えることなく形成する
ことができる。
【0014】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
チップの回路配線が変更され、ボンデイングパッドの位
置が変更されても、ボンデイングパッドとリードとの距
離が長い場合には中継パッドを中継させることによって
短いワイヤでワイヤボンデイングすることができる。し
たがって、チップの配線変更に伴うパッケージの変更お
よび実装される配線基板の変更が不要となるので、従来
のパッケージを使用することができ、また新たな設備投
資も不要となり、製造コストを大幅に低減させることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の半導体装置の実施例を示したもの
で、半導体ウェハの上面を示す概略平面図である。
【図2】 本発明の半導体装置の実施例を示したもの
で、ワイヤボンデイングされた状態のチップを示す概略
斜視図である。
【図3】 本発明の半導体装置の実施例を示したもの
で、パッケージされた半導体装置の模式断面図である。
【図4】 従来のLOC構造BGAタイプ半導体装置の
例を示す模式断面図である。
【図5】 従来のCOL構造BGAタイプ半導体装置の
例を示す模式断面図である。
【図6】 従来の半導体ウェハの上面を示した概略平面
図である。
【符号の説明】 1…チップ、2…ボンデイングパッド、2a…センタパ
ッド、4…リード、8…ワイヤ、11…半導体ウェハ、
12…チップ領域、13…スクライブ線領域、14…中
継パッド

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウェハにチップを形成する際に、
    スクライブ線領域にボンデイングパッドと同じ導電性材
    料からなる中継パッドを形成することを特徴とする半導
    体装置の製法。
  2. 【請求項2】 前記中継パッドをスクライブ線領域に沿
    う不連続な線状パターンとすることを特徴とする請求項
    1記載の半導体装置の製法。
  3. 【請求項3】 チップ領域の周縁部のスクライブ線領域
    にボンデイングパッドと同じ導電性材料からなる中継パ
    ッドが設けられていることを特徴とする半導体装置。
  4. 【請求項4】 チップのセンタパッドと前記中継パッ
    ド、および該中継パッドとリードとがそれぞれワイヤボ
    ンディングされていることを特徴とする請求項3記載の
    半導体装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006245319A (ja) * 2005-03-03 2006-09-14 Fujitsu Ltd 半導体装置及び半導体チップ
JP2010087403A (ja) * 2008-10-02 2010-04-15 Elpida Memory Inc 半導体装置
US8053278B2 (en) * 2000-09-28 2011-11-08 Oki Semiconductor Co., Ltd. Multi-chip package type semiconductor device

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