JPH11506100A - ミソプロストールの安定化された分散系 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 ミソプロストールの安定な固体状態の無定形分散系を開示している。この分散系はエタノール溶媒法、凍結乾燥技術および噴霧乾燥技術を用いることにより製造され、種々な経路を経てミソプロストールを供給する多種多様な製剤に利用性を有する。

Description

【発明の詳細な説明】 ミソプロストールの安定化された分散系発明の技術分野 本発明は、ミソプロストールの無定形固体状態分散系、この分散系の製造法お よびこのような分散系を医薬品製剤に使用する方法に関する。発明の背景 ミソプロストールは式： を有する化合物である。ミソプロストールは一般にプロスタグランジンとして知 られる一群の化合物に分類される。プロスタグランジンは各種の有益な生物学的 応答を示し、従って、医薬品として有用である。とりわけミソプロストールは胃 酸分泌の公知の抑制剤であり、粘膜保護性を有することも公知である。従って、 ミソプロストールは医薬品として胃潰瘍の防止に有用である。 一般に、プロスタグランジンはその相対的な不安定さの故に安定な医薬品剤形 に処方することが困難である。プロスタグランジンは室温より上では、また少量 の酸、塩基または水の存在下では分解する傾向がある。例えば、５５℃において 、プロスタグランジン、ミソプロストールの７５％が４週間で分解してしまう。 プロスタグランジン製剤の開発の際に処理すべき問題は、薬理学的活性を失なう ことなくプロスタグランジンを如何に安定化するかということであった。医薬品 剤形に使用するため、プロスタグランジンの安定化に種々な試みがなされて来た 。 米国特許第４，３０１，１４６号明細書は、プロスタグランジン誘導体である ミソプロストールの、他の錠剤およびカプセル付形剤とのコンビネーションとし たヒドロキシプロピルメチルセルロース（ＨＰＭＣ）およびポリビニルピロリド ン（ＰＶＰ）中の固体状態での分散系を開示している。 各種のプロスタグランジンを安定化するために種々なシクロデキストリンとの 複合体形成が用いられた〔例えば、Inaka 等，J．Inclusion phenomena，２：４ ６７〜４７４（１９８４）参照〕。米国特許第４，１１３，８８２号明細書は、 ＰＧＥ型化合物の安定化を目的として、デキストラン、デキストリン、チオール 化合物、低級アルキルセルロースまたはデオキシコール酸塩を含有する凍結乾燥 組成物の使用法を記載している。ＪＰ５３０５０１４１は、ＰＧＥ₂に適した比 較的安定な媒質として、トリカプリリン溶液を記載している。ＤＥ２５１５００ １はＰＧＥ₂に適した安定な媒質として、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）を含 む凍結乾燥粉末を記載している。ＪＰ５３１４８５１８は、ＰＧＥ₂に適した安 定な媒質として、凍結乾燥したベントナイトを記載している。ＪＰ５３１３０４ １７は、ＰＧＥ₂に適した安定な媒質として、凍結乾燥したデンプンを記載して いる。ＪＰ６０１６９４３０は、ＰＧＥ₁誘導体に適した安定な媒質として、や し油中の種々な防腐剤および酸化防止剤を記載している。ＥＰ２６０７１９はＰ ＧＥ₂の安定化におけるポリ酢酸ビニルの使用法を記載している。Yalkowski 等 〔J．Pharm．Sci.，６８：１１４〜１１５（１９７９）〕は、ＰＧＥ₂誘導体の 安定化におけるトリアセチンの使用法を記載している。 薬理学的薬剤としてのプロスタグランジンの有用性のため、また医薬品剤形に おけるその不安定性の故に、ミソプロストールを含めてプロスタグランジン類を 医薬品への使用に向けて安定化するために絶えざる要望がある。本発明は、ミソ プロストールの安定化された無定形固体状態分散系を提供するものであり、本製 剤は医薬品剤形の調製に使用できる。発明の要約 本発明は、プロスタグランジン、ミソプロストールの固体状態における安定な 分散系を提供するものである。この安定な分散系は無定形分散系であり、種々な 温度で長時間にわたり比較的安定性を留めている。従って、本発明分散系は、活 性薬剤ミソプロストールを含有する医薬品組成物の製造に有用である。更に詳し く言えば、本発明は安定化されたミソプロストールの無定形分散系を提供するも ので、本分散系は下記の無定形または半結晶性付形剤、ヒドロキシプロピルセル ロース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセ ルロースナトリウム、セルロースアセテートフタレートセルロースアセテートブ チレート、ヒドロキシエチルセルロース、エチルセルロース、ポリビニルアルコ ール、ポリプロピレン、デキストラン、デキストリン、ヒドロキシプロピル−β −シクロデキストリン、キトサン、混合（乳酸／グリコール酸）共重合体、ポリ （オルトエステル）、ポリ（アンヒドレート）、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニ ル、エチレンビニルアセテート、レクチン、カルボポール、ケイ素エラストマー 、ポリアクリル重合体、およびマルトデキストリンあるいは無定形または半結晶 性状態に変換することのできる下記の結晶性または半結晶性付形剤、ラクトース 、フルクトース、イノシトール、トレハロース、マルトース、およびラフィノー スならびにα−、β−およびγ−シクロデキストリンを使用して製造できる。 本分散系は一般に三つの方法によりつくられる。一つの方法においては、ミソ プロストールをエタノール中に可溶化し、その溶液に付形剤を分散し、続いて溶 媒を蒸発させる。第二の方法においては、ミソプロストールと付形剤の水溶液を 凍結乾燥する。第三の方法は、イソプロストールと付形剤の水溶液の噴霧乾燥を 使用する。発明の詳細な説明 本発明分散系は種々な技術により製造できる。溶媒法においては、薬剤を有機 溶媒、例えばエタノールに溶かし、付形剤を加え、薬剤溶液と混合する。次に溶 媒を蒸発させる。凍結乾燥法においては、薬剤と付形剤とを水に溶かし、次に溶 液を冷凍し、氷を取り除く。噴霧乾燥技術においては、薬物および付形剤の水溶 液を噴霧乾燥して粉末分散系とする。 本発明は、ミソプロストールを固体分散系として安定化する方法を提供するも ので、本法には無定形付形剤あるいは無定形状態に変換された付形剤、例えばヒ ドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース 、カルボキシメチルセルロースナトリウム、セルロースアセテートフタレート、 セルロースアセテートブチレート、ヒドロキシエチルセルロース、エチルセルロ ース、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、デンプン、ポリプロピ レン、デキストラン、デキストリン、ヒドロキシプロピル β−シクロデキスト リン、キトサン、混合（乳酸／グリコール酸）共重合体、ポリ（オルトエステル ）、 ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、エチレンビニルアセテート、レクチン、カル ボポール、ケイ素エラストマー、シクロデキストリン、ポリアクリル重合体、マ ルトデキストリン、ラクトース、フルクトース、イノシトール、トレハロース、 マルトース、およびラフィノース、（および他の単糖類、二糖類および三糖類） ならびにα−、β−およびγ−シクロデキストリンが使用される。更に好ましく は、使用する付形剤はデキストラン、マルトデキストリン、ヒドロキシプロピル β−シクロデキストリンおよびマルトースである。本発明分散系の製造に使用 される付形剤のすべては、市販されているか、あるいは公知の方法論により製造 できる。ラクトース、マルトース、およびマンニトールは結晶性粉末として供給 される。マルトースは凍結乾燥または噴霧乾燥の後、安定な無定形固体に変換さ れた。 ミソプロストールの分散系は、エタノール溶媒法、凍結乾燥技術および噴霧乾 燥技術を用いて製造される。一般に、エタノール溶媒法は、1)付形剤をエタノー ルあるいは他の適当な溶媒に溶かし、2)ミソプロストールをエタノールあるいは 他の適当な溶媒に溶かし、3)ミソプロストール溶液を付形剤溶液へ加え、〔ある いは、2)と3)に代る方法として、付形剤を含む溶媒へ、ミソプロストール油を直 接加えることができる〕、4)得られた溶液をかきまぜ、5)フラッシュエバポレー ターを使用して溶媒を蒸発乾固し、そして6)得られた固体分散系を乾燥し、ふる いにかけるか、または摩砕する工程を含む。 凍結乾燥技術は、ミソプロストールと付形剤を室温で水に溶かす工程を含む。 次に市販の凍結乾燥機を常法通りに使用して凍結乾燥し、乾かす。 噴霧乾燥技術は、ミソプロストールと付形剤を室温で水に溶かすものである。 溶液を１１５〜１５０℃の入口温度と７０〜９０℃の出口温度を用い、１０ml／ 分から３０ml／分の供給速度および１２ｌ／分の噴霧速度で噴霧乾燥する。直径 １〜２０マイクロメートルの粒子を生ずる。 分散系の安定性を３０、４０および５５℃で評価した。分散系中の水分レベル をKarl Fisher 法により測定した。それは、水分レベルとミソプロストールの安 定性との間に直接の相関があるからである。分散系の示差走査熱量分析（ＤＳＣ ）および顕微鏡分析を行なって付形剤および分散系の結晶性と無定形性を確か めた。 適当な補助剤あるいは付形剤を用いて、分散系を活性剤ミソプロストールの投 与のための経口、鼻内、静脈内、筋肉内、皮下、膣内、口腔内、眼、経皮、エー ロゾルおよび局所医薬品剤形に適した種々な製剤に処理加工できる。本分散系は 、標準的方法論を用いることにより、経口投与用の錠剤、カプセル、およびビー ズ製剤の製造に使用できる。本分散系は、ミソプロストールの肺投与のために、 乾燥粉末供給装置により、直接、あるいはラクトース型分散剤とのコンビネーシ ョンとして使用できる。エーロゾル製剤に使用される噴射剤中これら分散系の懸 濁物を使用することにより計量投与吸入剤を調製することができる。本分散系は 、ミソプロストールの経粘膜（口腔内）あるいは膣内投与形に使用できる。これ ら製剤は、ミソプロストールに適した媒質を提供する１種か２種の重合体とのコ ンビネーションとして調製できる。本分散系は、乾燥粉末供給装置を使用するこ とにより、粉末状のミソプロストールの鼻内投与に使用できる。このようなミソ プロストール製剤は、アレルギー性鼻炎の治療に使用できる。鼻内投与はまたミ ソプロストールを全身的に供給するためにも有効である。 ミソプロストール対付形剤の比は、広範囲にわたり変えることができ、そして これは究極的に投与される医薬品剤形に要求されるミソプロストールの濃度に依 存する。しかし、付形剤に対するミソプロストールの特に適当な範囲は０．１〜 ２０％であり、更に好ましくは１％である。上の記述中、百分率は重量で表わす 。 下記の例は、本発明の特定の具体例を更に説明するものであり、本発明の記述 を例示するものと解釈すべきであって、制限ではない。溶媒法により調製される分散系の例 例１ 丸底フラスコ中で５０ｇのポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）〔Kollidon，（Ｐ Ｆ１２）〕を、エタノール１７０mlに溶かした。ミソプロストール０．５ｇを１ 〜２mlのエタノールに溶かし、次にエタノール／ＰＶＰ溶液中に加えた。ミソプ ロストール／エタノール／ＰＶＰ溶液中のエタノール分を回転蒸発器で蒸発させ 、生じたケーキを高真空下で乾燥させた。先ず、乳鉢と乳棒を用いてこの分散系 をすり砕き、次にエアージェットミルで粉砕した。分散系を高真空オーブン中２ ５ 〜３５℃で更に一晩乾燥させることにより水分および溶媒含量を最小にした。こ の分散系の安定性を３０、４０および５５℃で評価した。その結果を含水量と共 に表１Ａ，１Ｂおよび１Ｃに要約する。この分散系のＤＳＣおよび顕微鏡検査は 何等結晶性を示さなかった。例２ 丸底フラスコ中でエタノールをかきまぜながら、５０ｇのマルトデキストリン （Maltrin Ｍ０４０）をエタノール２５０mlに加えた。０．５ｇのミソプロスト ールを１〜２mlのエタノールに溶かし、次にエタノール／マルトデキストリン懸 濁液中に加えた。このミソプロストール／エタノール／マルトデキストリン懸濁 液のエタノール分を、回転蒸発器を用いて蒸発させ、生じた粉末を高真空下で一 晩乾かした。粉末状分散系を、エアージェットミルで粉砕し、高真空オーブン中 ２５〜３５℃で更に一晩乾燥して水分と溶媒含量を最小にした。この分散系の３ ０、４０および５５℃における安定性を、その含水量と共に表２Ａ，２Ｂおよび ２Ｃに括めて示す。分散系のＤＳＣおよび顕微鏡検査は何等結晶性を示さなかっ た。例３ 丸底フラスコ中でエタノールをかきまぜながら、５０ｇのデキストラン（分子 量１０，０００）をエタノール２５０ml中に加えた。０．５ｇのミソプロストー ルを１〜２mlのエタノールに溶かし、次にエタノール／デキストラン懸濁液へ加 えた。回転蒸発器を用いてミソプロストール／エタノール／デキストラン懸濁液 のエタノール分を蒸発させた。得られた粉末を高真空下で一晩乾燥させた。この 粉末状分散系をエアージェットミルで粉砕し、高真空オーブン中２５〜３５℃で 更に一晩乾燥させ、水分および溶媒含量を最小にした。この分散系の安定性を３ ０、４０および５５℃で測定した。それらの結果を含水量と共に表３Ａ，３Ｂお よび３Ｃに括めて示す。分散系のＤＳＣおよび顕微鏡検査は何等結晶性を示さな かった。例４ エタノールを丸底フラスコ中でかきまぜながら、５０ｇのラクトース−水和物 （ＮＦ，噴霧乾燥）を２５０mlのエタノールに加えた。ミソプロストール０．５ ｇを１〜２mlのエタノールに溶かし、次にエタノール／ラクトース懸濁液中に加 えた。ミソプロストール／エタノール／ラクトース懸濁液のエタノール分を、回 転蒸発器を用いて蒸発させた。生じた粉末生成物を高真空下で一晩乾燥した。粉 末状分散系をエアージェットミルで粉砕し、高真空オーブン中２５〜３５℃で一 晩更に乾燥し、水分およびエタノール含量を最小にした。この分散系の安定性を ３０、４０および５５℃で測定した。結果を含水量と共に表４Ａに表示する。こ の分散系のＤＳＣおよび顕微鏡検査は主として結晶性の構造を示した。例５ 丸底フラスコ中でエタノールをかきまぜながら、５０ｇのマルトースをエタノ ール２５０ml中に加えた。次にこのエタノール／マルトース懸濁液へ０．５ｇの ミソプロストールを加えた。回転蒸発器を使用してミソプロストール／エタノー ル／マルトース懸濁液のエタノール分を蒸発させた。生じた粉末状生成物を高真 空下で一晩乾燥させた。この粉末状分散系を高真空オーブン中４０℃で一晩更に 乾燥し、その水分およびエタノール含量を最小にした。分散系の安定性を５５℃ で測定した。結果を表５に表示する。この分散系のＤＳＣおよび顕微鏡検査は主 として結晶性構造を示した。凍結乾燥分散系の例 例６ ３ｌ丸底フラスコ中で、０．３８ｇのミソプロストール油を水１．２ｌに溶か した。この溶液３７５mlに１０ｇのデキストランを溶かした。フラスコをドライ アイス／アセトン中で回転させることにより、フラスコ表面の周りに上で得た溶 液を急速に凍結させた。Virtis Freeze Mobile １２凍結乾燥機を使用して、凍 結ケーキを室温で凍結乾燥した。この分散系を高真空オーブン中室温で一晩乾燥 した。分散系の安定性を５５℃で測定した。その結果を含水量と共に表６に括め て示す。分散系のＤＳＣおよび顕微鏡検査は何等結晶性を示さなかった。例７ 例６から得られたミソプロストール／水溶液３７５mlに１０ｇのマルトデキス トリン（Maltrin，Ｍ０４０）を溶かした。フラスコをドライアイス／アセトン 中で回転させることにより、フラスコ表面の周りに上で得られた溶液を急速に凍 結させた。Virtis Freeze Mobile ６凍結乾燥機を使用して、フラスコ内容物を 室温で凍結乾燥した。この分散系を高真空オーブン中室温で一晩乾燥した。分散 系の安定性を５５℃で測定した。結果を含水量と共に表７に括めて示す。この分 散系のＤＳＣおよび顕微鏡検査は何等結晶性を示さなかった。例８ 例６から得たミソプロストール／水溶液３７５ml中に、ＰＶＰ（Kollidon １ ２ＰＦ）１０ｇを溶かした。フラスコをドライアイス／アセトン中で回転させる ことによりフラスコ表面の周りに上で得た溶液を急速に凍結させた。凍結したケ ーキを、Virtis Freeze Mobile １２凍結乾燥機を使用して室温で凍結乾燥した 。この分散系を高真空オーブン中室温で一晩乾燥した。分散系の安定性を５５℃ で測定した。結果を含水量と共に表８に要約する。この分散系のＤＳＣおよび顕 微鏡検査は何等結晶性を示さなかった。例９ ５ｌ丸底フラスコ中で、ミソプロストール油０．２５ｇおよびマルトース２５ ｇを水８００mlに溶かした。生じた溶液を２個の５ｌフラスコに移し、ドライア イス／アセトン中で渦巻くようにまわすことによりフラスコ表面の周りにケーキ として急速に凍結させた。Virtis Freeze Mobile １２凍結乾燥機を用いて、こ の凍結ケーキを室温で乾固するまで凍結乾燥した。分散系を高真空オーブン中室 温で一晩乾燥した。分散系の安定性を５５℃で測定した。その結果を含水量デー タと共に表９に要約する。この分散系のＤＳＣおよび顕微鏡検査は何等結晶性を 示さなかった。例１０ ５ｌ丸底フラスコ中で、ミソプロストール油０．２５ｇとマンニトール２５ｇ を水８００mlに溶かした。フラスコをドライアイス／アセトン中でまわすことに より、上で得た溶液をフラスコ表面の周りにケーキとして急速に凍結させた。Vi rtis Freeze Mobile １２凍結乾燥機を使用して、ケーキを室温で乾固するまで 凍結乾燥した。この分散系を高真空オーブン中室温で一晩乾燥した。分散系の安 定性を５５℃で測定した。結果を含水量データと共に表１０に要約する。分散系 のＤＳＣおよび顕微鏡検査は主として結晶性の構造を示した。例１１ ５ｌ丸底フラスコ中で、ミソプロストール油０．２８ｇとラクトース（一水和 物 ＮＦ，噴霧乾燥）２５ｇを７７５mlの水に溶かした。得られた溶液を２個の ５ｌフラスコ中に移し、フラスコをドライアイス／アセトン中でまわすことによ りフラスコ表面の周りにケーキとして急速に凍らせた。Virtis Freeze Mobile １２凍結乾燥機を使用して、ケーキを室温で凍結乾燥した。この分散系を高真空 オーブン中室温で一晩乾燥した。処理直後の分散系の分析は、僅か５８％のミソ プロストールが残存していることを示した。この分散系のＤＳＣおよび顕微鏡検 査は主として結晶性の性質を示した。例１２ フラスコ中で、ミソプロストール油０．２１５ｇ、マルトデキストリン（Malt rin，Ｍ０４０）１０．６５ｇおよびマルトース１０．６５ｇを水６９２mlに溶 かした。フラスコをドライアイス／アセトン中でまわすことにより、５ｌ丸底フ ラスコの表面の周りに上で得た溶液をケーキとして急速に凍らせた。Virtis ２ ５ ＳＬ凍結乾燥機を用いてケーキを室温で凍結乾燥した。分散系を高真空オー ブン中室温で一晩乾燥した。この分散系の安定性を５５℃で測定した。結果を含 水量データと共に表１１に要約する。分散系のＤＳＣ検査は何等結晶性を示さな かった。例１３ フラスコ中でミソプロストール油０．２０ｇ、マルトデキストリン（Maltrin ，Ｍ０４０）５．０ｇおよびマルトース１５．０ｇを水７００mlに溶かした。フ ラスコをドライアイス／アセトン中でまわすことにより、５ｌ丸底フラスコの表 面の周りに上で得た溶液をケーキとして急速に凍結させた。Virtis ２５ ＳＬ 凍結乾燥機を用いて、ケーキを室温で凍結乾燥した。この分散系を高真空オーブ ン中４０℃で一晩乾燥した。分散系の安定性を３０および５５℃で測定した。結 果を含水量データと共に表１２に要約する。この分散系のＤＳＣ検査は何等結晶 性を示さなかった。例１４ フラスコ中でミソプロストール油０．１６ｇとヒドロキシプロピル−β−シク ロデキストリン１５ｇを水４８０mlに溶かした。得られた溶液を、ドライアイス ／アセトン中でフラスコを回すことにより５ｌ丸底フラスコの表面の周りにケー キとして急速に凍らせた。Virtis ２５ ＳＬ凍結乾燥機を用いてケーキを室温 で凍結乾燥した。この分散系を高真空オーブン中４０℃で一晩乾燥した。分散系 の安定性を５５℃で測定した。結果を含水量のデータと共に表１３に要約する。 分散系のＤＳＣ検査は何等結晶性を示さなかった。噴霧乾燥した分散系の例 例１５ フラスコ中で、ミソプロストール０．２３ｇとＰＶＰ２３ｇを蒸留水９３７ml に溶かした。この溶液を、Niro Atomizer Mobile Minor噴霧乾燥機を用いて噴霧 乾燥した。噴霧器圧力は２．８〜３．９バールであり、供給速度は１５〜３０ml ／分であった。人口および出口の温度はそれぞれ１１９〜１４０℃および７４〜 ８５℃であった。分散系を高真空オーブン中４０℃で一晩乾燥した。分散系の安 定性を５５℃で測定した。結果を含水量のデータと共に表１４に要約する。分散 系の示差走査熱量（ＤＳＣ）分析および顕微鏡検査は何等結晶性を示さなかった 。例１６ ２ｌフラスコ中で、ミソプロストール０．２５ｇとマルトース２５ｇとを蒸留 水１０００mlに溶かした。この溶液をNiro Atomizer Mobile Minor噴霧乾燥機を 用いて噴霧乾燥した。噴霧器圧力は２．８〜３．９バールであり、供給速度は１ ５〜２０ml／分であった。人口および出口温度はそれぞれ１４０℃および８５℃ であった。分散系を高真空オーブン中４０℃で一晩乾燥した。分散系の安定性を ５５℃で測定した。結果を含水量データと共に表１４に要約する。この分散系の ＤＳＣおよび顕微鏡検査は何等結晶性を示さなかった。例１７ ２ｌフラスコ中で、ミソプロストール０．３０ｇとマルトデキストリン（Malt rin，Ｍ０４０）３０ｇを蒸留水１２００mlに溶かした。この溶液を、Niro Atom izer Mobile Minor噴霧乾燥機を使用して噴霧乾燥した。噴霧器圧および供給速 度はそれぞれ４．４バールおよび１０〜２０ml／分であった。入口および出口温 度はそれぞれ１１９〜１４２℃および７５〜８９℃とした。この分散系 を高真空オーブン中４０℃で一晩乾燥した。分散系の安定性を５５℃で測定した 。結果を含水量データと共に表１４に要約する。分散系の示差走査熱量（ＤＳＣ ）検査および顕微鏡検査は何等結晶性を示さなかった。例１８ フラスコ中で、ミソプロストール０．２８ｇとデキストラン２８ｇを蒸留水１ １４０mlに溶かした。溶液を、Niro Atomizer Mobile Minor噴霧乾燥機を用いて 噴霧乾燥した。噴霧器圧は２．８〜３．９バールであり、供給速度は１５〜２０ ml／分であった。入口および出口温度はそれぞれ１４０℃および８５℃とした。 この分散系を高真空オーブン中４０℃で一晩乾燥した。分散系の安定性を５５℃ で測定した。結果を含水量データと共に表１４に要約する。分散系のＤＳＣおよ び顕微鏡検査は何等結晶性を示さなかった。 凍結乾燥分散系 噴霧乾燥分散系 これらの表に提出されたデータは、無定形分散系がミソプロストールに安定性 を与えるのに対して、結晶性の分散系はミソプロストールに安定性を与えないこ とを示している。例えば、エノマー（enomer）であるラクトースとマルトースの 両方を、ミソプロストール含有分散系の調製に使用した。しかし、マルトースの みが実験条件下で凍結乾燥または噴霧乾燥により無定形固体として調製された。 無定形マルトース中でミソプロストールは安定であった（例９および例１６）。 エタノール溶媒法を用いてつくられたマルトース分散系（これは無定形ではなく 、結晶性であった）中でミソプロストールは比較的迅速に質低下を起こした（例 ５）。ミソプロストールはラクトースとの分散系（これは無定形状態になかった ）中で非常に迅速に質低下した（例４および例１１）。これも結晶性であるマン ニトール分散系は、ミソプロストールに対し不安定な媒質であった（例１０）。 これらの結果は、付形剤の無定形の性質が安定なミソプロストール分散系の製造 にとって必要条件であることを示唆している。従って、もし付形剤が無定形かま たは無定形にすることができるならば、ミソプロストールと付形剤との間に化学 的な不調和が存在しない限り、その付形剤は分散系中でミソプロストールに対し 安定性を与えるであろう。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，Ｓ Ｚ，ＵＧ)，ＵＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＺ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＨＵ，Ｉ Ｓ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，ＬＲ ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ， ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，Ｓ Ｄ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ (72)発明者 オットー，デビッド アメリカ合衆国 60061 イリノイ州 バ ーノン ヒルズ，キングストン コート 1043 (72)発明者 ペンゾッティ，スタンレイ シー．，ジュ ニア アメリカ合衆国 60048 イリノイ州 グ リーン オークス，サラトガ コート 1549 (72)発明者 トゥルーラブ，ジェームズ イー. アメリカ合衆国 60048 イリノイ州 リ バティービル，リージェンシー レーン 1006

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．ミソプロストールの安定な固体状態の無定形分散系において、ミソプロス トールと(a)ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、カルボキシメ チルセルロース、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートブチ レート、ヒドロキシエチルセルロース、エチルセルロース、ポリビニルアルコー ル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレン、デキストラン、デンプン、デキ ストリン、ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン、キトサン、混合（乳 酸／グリコール酸）共重合体(co−（lactic／glycolic）copolymer)、ポリ（オ ルトエステル）、ポリ（アンヒドレート）、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、 エチレンビニルアセテート、レクチン、カルボポール、ケイ素エラストマー、ポ リアクリル重合体およびマルトデキストリンからなる群から選ばれる無定形状態 の付形剤、あるいは(b)単糖類、二糖類および三糖類からなる群から選ばれる無 定形または半結晶性付形剤から選ばれる付形剤とからなる上記分散系。 ２．無定形付形剤は、デキストラン、ヒドロキシプロピル β−シクロデキス トリンおよびマルトデキストリンからなる群から選ばれる、請求項１記載の安定 な固体状態の無定形分散系。 ３．無定形あるいは半結晶性形の付形剤は、単糖類、二糖類および三糖類から なる群から選ばれる、請求項１記載のミソプロストールの安定な固体状態の無定 形分散系。 ４．ミソプロストールと、フルクトース、乳糖、イノシトール、マルトース、 トレハロースおよびラフィノースからなる群から選ばれる無定形あるいは半結晶 形の付形剤とからなる、請求項３記載のミソプロストールの安定な固体状態の無 定形分散系。 ５．付形剤はマルトースである、請求項４記載の分散系。 ６．ミソプロストールが治療上有効な量で存在する請求項１記載の安定な固体 状態の無定形分散系および製薬上容認しうる担体からなる医薬組成物。 ７．付形剤はデキストラン、ヒドロキシプロピル β−シクロデキストリン、 およびマルトデキストリンからなる群から選ばれる、請求項６記載の医薬組成物 。 ８．ミソプロストールが治療上有効な量で存在する請求項３記載の安定な固体 状態の無定形分散系と製薬上容認しうる担体とからなる医薬組成物。 ９．付形剤はマルトースである、請求項８記載の医薬組成物。 10．ミソプロストールと、(a)ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロ ース、カルボキシメチルセルロース、セルロースアセテートフタレート、セルロ ースアセテートブチレート、ヒドロキシエチルセルロース、エチルセルロース、 ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレン、デキストラ ン、デンプン、デキストリン、ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン、 キトサン、混合（乳酸／グリコール酸）共重合体、ポリ（オルトエステル）、ポ リ（アンヒドレート）、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、エチレンビニルアセ テート、レクチン、カルボポール、ケイ素エラストマー、ポリアクリル重合体、 およびマルトデキストリンからなる群から選ばれる無定形状態の付形剤、あるい は(b)単糖類、二糖類および三糖類からなる群から選ばれる無定形または半結晶 性付形剤から選ばれる付形剤との安定な固体状態の無定形分散系の製造法におい て、ミソプロストールを可溶化し、付形剤をエタノール中に可溶化または分散し 、エタノールを蒸発させることからなる上記分散系の製造法。 11．請求項１０記載の安定な無定形固体状態の分散系の製造法において、無定 形の付形剤は単糖類、二糖類および三糖類からなる群から選ばれる上記製造法。 12．ミソプロストールと、(a)ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロ ース、カルボキシメチルセルロース、セルロースアセテートフタレート、セルロ ースアセテートブチレート、ヒドロキシエチルセルロース、エチルセルロース、 ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレン、デキストラ ン、デンプン、デキストリン、ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン、 キトサン、混合（乳酸／グリコール酸）共重合体、ポリ（オルトエステル）、ポ リ（アンヒドレート）、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、エチレンビニルアセ テート、レクチン、カルボポール、ケイ素エラストマー、ポリアクリル重合体、 およびマルトデキストリンからなる群から選ばれる無定形状態の付形剤、あるい は(b)単糖類、二糖類および三糖類からなる群から選ばれる無定形または半結晶 性付形剤から選ばれる付形剤との安定な固体状態の無定形分散系の製造法におい て、凍結乾燥することからなる上記方法。 13．請求項１２記載の安定な固体状態の無定形分散系の製造法において、付形 剤は単糖類、二糖類および三糖類からなる群から選ばれる上記方法。 14．ミソプロストールと、(a)ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロ ース、カルボキシメチルセルロース、セルロースアセテートフタレート、セルロ ースアセテートブチレート、ヒドロキシエチルセルロース、エチルセルロース、 ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレン、デキストラ ン、デンプン、デキストリン、ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン、 キトサン、混合（乳酸／グリコール酸）共重合体、ポリ（オルトエステル）、ポ リ（アンヒドレート）、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、エチレンビニルアセ テート、レクチン、カルボポール、ケイ素エラストマー、ポリアクリル重合体お よびマルトデキストリンからなる群から選ばれる無定形状態の付形剤、あるいは (b)単糖類、二糖類および三糖類からなる群から選ばれる無定形または半結晶性 付形剤から選ばれる付形剤との安定な固体状態の無定形分散系の製造法において 、噴霧乾燥することからなる上記方法。 15．請求項１４記載の安定な固体状態の無定形分散系の製造法において、付形 剤は単糖類、二糖類および三糖類からなる群から選ばれる上記方法。