JPH115831A - フェノールアラルキル樹脂の製造方法 - Google Patents
フェノールアラルキル樹脂の製造方法Info
- Publication number
- JPH115831A JPH115831A JP15939597A JP15939597A JPH115831A JP H115831 A JPH115831 A JP H115831A JP 15939597 A JP15939597 A JP 15939597A JP 15939597 A JP15939597 A JP 15939597A JP H115831 A JPH115831 A JP H115831A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phenol
- acid
- organic base
- aralkyl resin
- added
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 40
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 40
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 claims abstract description 23
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 21
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 17
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 11
- -1 phenol compound Chemical class 0.000 claims description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical group C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 20
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 abstract description 12
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 abstract description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 abstract description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 abstract 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 26
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 22
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- DENRZWYUOJLTMF-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfate Chemical compound CCOS(=O)(=O)OCC DENRZWYUOJLTMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 5
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 5
- ZZHIDJWUJRKHGX-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(chloromethyl)benzene Chemical compound ClCC1=CC=C(CCl)C=C1 ZZHIDJWUJRKHGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 229940008406 diethyl sulfate Drugs 0.000 description 4
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- FMGGHNGKHRCJLL-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(chloromethyl)benzene Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1CCl FMGGHNGKHRCJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INZDTEICWPZYJM-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-[4-(chloromethyl)phenyl]benzene Chemical group C1=CC(CCl)=CC=C1C1=CC=C(CCl)C=C1 INZDTEICWPZYJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LLPKQRMDOFYSGZ-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=CN=C(C)N1 LLPKQRMDOFYSGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 2-butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 4-methylimidazole Chemical compound CC1=CNC=N1 XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N o-Hydroxyethylbenzene Natural products CCC1=CC=CC=C1O IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N trimethylphosphine Chemical compound CP(C)C YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- KGKAYWMGPDWLQZ-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(bromomethyl)benzene Chemical compound BrCC1=CC=CC=C1CBr KGKAYWMGPDWLQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEHNWRLQWXMLQC-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(chloromethyl)-2,4-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(CCl)C(C)=C1CCl JEHNWRLQWXMLQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSWGHVOWBGYQII-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(fluoromethyl)benzene Chemical compound FCC1=CC=CC(CF)=C1 CSWGHVOWBGYQII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBZMSGOBSOCYHR-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(bromomethyl)benzene Chemical compound BrCC1=CC=C(CBr)C=C1 RBZMSGOBSOCYHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYRPOMMBPQHVMN-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(chloromethyl)-2,5-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(CCl)=C(C)C=C1CCl UYRPOMMBPQHVMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLLANGFZGUQFAO-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(fluoromethyl)benzene Chemical compound FCC1=CC=C(CF)C=C1 MLLANGFZGUQFAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JALHTPIEJQBDEN-UHFFFAOYSA-N 1,5-bis(chloromethyl)-2,4-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=C(CCl)C=C1CCl JALHTPIEJQBDEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMUGRILXVBKBID-UHFFFAOYSA-N 1-(bromomethyl)-4-[4-(bromomethyl)phenyl]benzene Chemical group C1=CC(CBr)=CC=C1C1=CC=C(CBr)C=C1 HMUGRILXVBKBID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGHIQYNKFXEQPU-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloro-1,4-dimethylbenzene Chemical group CC1=CC=C(C)C(Cl)=C1Cl UGHIQYNKFXEQPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLBVJHVRECUXKP-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethoxy-1,4-dimethylbenzene Chemical group COC1=C(C)C=CC(C)=C1OC BLBVJHVRECUXKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1h-imidazole Chemical compound CCC1=NC=CN1 PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005727 Friedel-Crafts reaction Methods 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- ZCILODAAHLISPY-UHFFFAOYSA-N biphenyl ether Natural products C1=C(CC=C)C(O)=CC(OC=2C(=CC(CC=C)=CC=2)O)=C1 ZCILODAAHLISPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N triethylphosphine Chemical compound CCP(CC)CC RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 150000003739 xylenols Chemical class 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
Abstract
用いる場合に硬化性の経時低下の少ない高純度のフェノ
ールアラルキル樹脂の製造方法の提供。 【解決手段】 1,4 −(ジクロロメチル)ベンゼンのご
とき、芳香族ビスハロゲノメチル化合物とフェノール類
を触媒物質を添加せずに反応させた後、酸、酸と有機塩
基からなる塩、または有機塩基を20〜200ppm添
加することからなるフェノールアラルキル樹脂の製造方
法。反応に際し、水を反応原料合計量に対し、0.00
5〜1重量%添加して反応させてもよい。
Description
存安定性に優れたフェノールアラルキル樹脂の製造方法
に関する。更に詳しくは、半導体封止材用のエポキシ樹
脂硬化剤として用いる場合に硬化性の経時低下の少ない
高純度のフェノールアラルキル樹脂の製造方法に関す
る。
止材用エポキシ樹脂の硬化剤や、接着剤、成形材料とし
て有用な化合物であり、その製法は原料化合物として、 ジクロロ−p−キシレンのような芳香族ビスハロゲノ
メチル化合物 または ジメトキシ−p−キシレンのような芳香族ビスアルコ
キシメチル化合物を用い、これらとフェノール類とから
縮合反応により製造するのが一般的である。
半導体封止材用エポキシ樹脂の硬化剤であるが、この用
途に用いる場合、重合金属成分や酸性物質等のイオン性
不純物混入をできるだけ少なくする必要があり、そのよ
うな高純度フェノールアラルキル樹脂の製造方法とし
て、例えば上記の芳香族ビスハロゲノメチル化合物と
フェノール化合物を無触媒で反応させる方法が提案され
ている(特開平6−10667号公報)。
れるフェノールアラルキル樹脂は、高純度品ではある
が、保管中に酸化され、エポキシ樹脂硬化剤として用い
た場合に経時的に硬化性が低下する問題がある。特にこ
の経時劣化は、半導体封止材用途で最も一般的な硬化促
進剤であるトリフェニルホスフィン(TPP)を用いた
場合に、起こりやすい。
有しない上記の芳香族ビスアルコキシメチル化合物を
用いて、酸性化合物を触媒として合成すればこのような
経時変化の問題は起こらない。この方法においては触媒
として、硫酸、硫酸ジエチル、パラトルエンスルホン酸
およびフリーデルクラフツ型触媒である塩化第二錫、塩
化亜鉛、塩化第二鉄等が用いられる。しかしながらこの
方法は原料として高価なキシリレン化合物を使用するこ
とになるので、コスト的に不利である。また酸触媒から
由来するイオン性不純物を多く含む点も問題となる可能
性がある。
を解決するために鋭意検討した結果、TPP硬化促進剤
を用いた場合の硬化性の経時的低下は、樹脂の一部が保
管中に酸化されて、パーオキサイドを生成し、これによ
り硬化促進剤であるTPPが酸化されて失活することに
より起こることを知り、さらに検討を進めた結果、TP
Pの酸化による失活は樹脂中に微量の酸、酸と有機塩基
からなる塩、あるいは有機塩基を存在させることにより
防止できることを見いだし本発明を完成するに至った。
解決し、安価な芳香族ビスハロゲノメチル化合物を原料
とし、低コストでかつ保存安定性に優れた高純度のフェ
ノールアラルキル樹脂の製造方法を提供することにあ
る。
ビフェニル基、二価のジフェニルエーテル残基、または
ナフチル基を示し、Xはハロゲン原子を示す)で表され
る芳香族ビスハロゲノメチル化合物とフェノール化合物
を触媒物質を添加せずに反応させた後、酸、酸と有機塩
基からなる塩、または有機塩基を20〜200ppm添
加することを特徴とする保存安定性に優れたフェノール
アラルキル樹脂の製造方法である。
る。本発明のフェノールアラルキル樹脂は、上記一般式
(1)で表される芳香族ビスハロゲノメチル化合物とフ
ェノール化合物とを、触媒物質を添加せずに反応させた
後、酸、有機塩基、あるいは両者からなる塩を添加する
ことにより製造することができる。
ノメチル化合物としては下記一般式(1)で表されるも
のである。 R−(CH2 X)2 (1) ここでRは前記説明と同じ芳香族炭化水素基であり、X
は塩素、臭素、弗素等のハロゲン原子であるが、特に塩
素が好ましい。
ある場合の例として、1,2−ジ(クロロメチル)ベン
ゼン、1,2−ジ(ブロモメチル)ベンゼン、1,3−
ジ(クロロメチル)ベンゼン、1,3−ジ(フルオロメ
チル)ベンゼン、1,4−ジ(クロロメチル)ベンゼ
ン、1,4−ジ(ブロモメチル)ベンゼン、1,4−ジ
(フルオロメチル)ベンゼン等、Rがアルキル置換フェ
ニル基である場合の例として、1,4−ジ(クロロメチ
ル)2,5−ジメチルベンゼン、1,3−ジ(クロロメ
チル)−4,6−ジメチルベンゼン、1,3−ジ(クロ
ロメチル)−2,4−ジメチルベンゼン、Rがビフェニ
ル基である場合の例として、4,4′−ビス(クロロメ
チル)ビフェニル、4,4′−ビス(ブロモメチル)ビ
フェニル、Rがビフェニルエーテル残基である場合の例
として4,4′−ビス(クロロメチル)ジフェニルエー
テル、Rがナフチル基である場合の例として2,7−ジ
(クロロメチル)ナフタレン等を挙げることができる。
のうち1,4−ジ(クロロメチル)ベンゼンが原料とし
て最も入手しやすく一般的である。
用いられるフェノール化合物としては、フェノール、
(o−,m−,p−)クレゾール、キシレノール、(o
−,p−)エチルフェノール、ブチルフェノール、ハロ
ゲン化フェノール、カテコール、レゾルシンなどの単環
型フェノール化合物、あるいはビフェノール、ビスフェ
ノールA、ビスフェノールS、ビスフェノールF、α−
ナフトール、β−ナフトールなどの多環型フェノール化
合物が挙げられ、これらを1種もしくは2種以上使用す
ることができるが特にフェノールが好ましい。
脂の製造は触媒物質を添加せずに行われ、縮合反応で得
られた反応生成物から、未反応モノマーを除去したもの
に、酸、酸と有機塩基からなる塩、または有機塩基を後
添加する。
うな触媒物質は添加しない。これは原料中に含まれる水
分が芳香族ビスハロゲノメチル化合物と加水分解を起こ
すことによって、ハロゲン化水素を発生し、このハロゲ
ン化水素の一部が酸触媒として作用し、反応を引き起こ
すからである。それゆえ、反応を促進するために、外部
から水を添加してもよい。水を添加する場合、その添加
量は原料の合計量に対して0.005〜1、好ましくは
0.005〜0.5重量%の範囲内で添加すればよい。
水の添加量をこれ以上多くしても添加効果の向上が認め
られない。
後に添加する酸類としては、シュウ酸、ベンゼンスルホ
ン酸、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフ
ルオロメタンスルホン酸、ジエチル硫酸等の有機酸、硫
酸、リン酸、硝酸等の無機酸などが挙げられる。
ゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−エチル−
4−メチルイミダゾールなどのイミダゾール化合物、ト
リエチルアミン、トリエチレンジアミン、1,8−ジア
ザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7などの3級ア
ミン、トリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィ
ン、トリエチルホスフィンなどの有機ホスフィン化合物
等が挙げられる。
こともできる。塩を形成させるための酸と有機塩基は、
添加剤として挙げた上記の酸と有機塩基を用いることが
できる。本発明においては特にトリフルオロメタンスル
ホン酸と1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデ
セン−7からなる塩を添加するのが好ましい。
または有機塩基の添加量は、20〜200ppm、より
好ましくは30〜150ppmである。添加量が20p
pm以下になると保存安定性に劣り、200ppm以上
になるとイオン性不純物が多くなりすぎて、抽出水の電
気伝導度が高くなり、本発明のフェノールアラルキル樹
脂の特徴である高純度の点が失われてしまう。
酸、有機塩基あるいは両者からなる塩のいずれでも、保
存安定性向上の効果は得られるが、樹脂抽出水の電気伝
導度の上昇を抑えるという観点から、酸および有機塩基
からなる塩を存在させるのが最も好ましい。
化合物とフェノール化合物との反応は公知の方法により
実施することができる。原料の反応割合は、フェノール
化合物1モルに対して、ビスハロゲノメチル化合物0.
1〜0.8モル、特に0.2〜0.6モルの範囲内が好
ましい。ビスハロゲノメチル化合物が0.1モル未満で
は未反応フェノールが多くなり収率が下がるので好まし
くない。また分子量が小さくなり、軟化点が下がりコー
ルドフローを引き起こしやすくなる。一方、ビスハロゲ
ノメチル化合物が0.8モルを越えると分子量が増大
し、溶融粘度が上昇するため成形時の流動性の低下を招
きやすくなる。
〜10時間程度行われる。反応は全原料を一括装入して
昇温しながら行ってもよく、フェノール化合物を予め一
定の温度に保った状態で芳香族ビスハロゲノメチル化合
物を逐次添加して行ってもよい。また、反応は無溶媒で
も実施できるが、反応に直接関与しない有機化合物
(例、トルエン、キシレン、モノクロルベンゼン、ジク
ロルベンゼンなど)を溶媒として共存させてもよい。溶
媒の共存により、原料成分を溶解させて均質化すること
ができ、反応生成物の分離・回収も容易になる。
ロゲン化水素ガスが発生し、一部は反応のための酸触媒
として作用するが、このハロゲン化水素ガスは窒素ガス
等の不活性ガスを通気させて系外へ除去するか、減圧状
態にして除去する方法が取られる。反応後、未反応のフ
ェノール化合物や溶媒等を減圧下の留去する等の方法で
除去し、酸、酸と有機塩基からなる塩、または有機塩基
を添加することにより、本発明のフェノールアラルキル
樹脂を得る。
不活性ガスを吹き込むことにより大部分が除去でき、さ
らにまた未反応フェノール化合物を留去する際に減圧下
で行うことにより実用上問題のないレベルまで除去でき
る。
る。実施例中、部および%は特に指定しない限り重量部
および重量%である。また実施例及び比較例で得られた
フェノールアラルキル樹脂の物性評価方法は下記のとお
りである。
ミルを用いて粉砕したもの、及びこれの約10gをアル
ミパックに密封し、25℃の恒温槽中に14日間放置し
たものについて、それぞれ、樹脂にビフェニル型エポキ
シ樹脂を当量比1:1で混合し、さらに硬化促進剤とし
てトリフェニルホスフィンを1phr混合して、初期及
び25℃、14日間放置後のゲルタイムを測定した。ゲ
ルタイムの測定は160℃の熱板上でストロークキュア
法で行った。
い、得られた抽出水を、HORIBA製、電気伝導度測
定計”DS−12”を用いて行った。
ー、および窒素ガス導入管を備えた四つ口フラスコに、
原料として1,4−ジ(クロロメチル)ベンゼン175
部(1モル)、0.02重量%の水分を含むフェノール
188部(2モル)を装入し、窒素気流下で撹拌しなが
ら昇温して内温を120℃に上げ2時間保持した。その
後温度を150℃に上げさらに2時間保持した。この時
発生する塩化水素は水酸化ナトリウム水溶液でトラップ
除去した。
より留去して、縮合反応物を得た。次いでこの縮合反応
物に、トリフルオロメタンスルホン酸(TFMS)と
1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7
(DBU)をモル比で1/1になるように調製した10
%混合水溶液を、縮合反応物に対して900ppmにな
るように添加(TFMS/DBUの添加量90ppm)
して、150℃で30分撹拌して均一に混合した。
脂は、軟化点が82℃、150℃での溶融粘度が310
cps、水酸基当量は170g/eqであった。得られ
た樹脂についてゲルタイム及び電気伝導度を測定した。
結果を表1に示す。
よび未反応フェノールの留去を行い、縮合反応物を得
た。この縮合反応物に硫酸ジエチル10%メタノール溶
液を、縮合反応物に対して500ppmになるように添
加(硫酸ジエチル添加量50ppm)して、150℃で
30分撹拌して均一に混ぜた。
は、軟化点が83℃、150℃での溶融粘度が320c
ps、水酸基当量は172g/eqであった。得られた
樹脂についてゲルタイム及び電気伝導度を測定した。結
果を表1に示す。
よび未反応フェノールの留去を行い、縮合反応物を得
た。この縮合反応物に1,8−ジアザビシクロ(5,
4,0)ウンデセン−7(DBU)の10%水溶液を、
縮合反応物に対して900ppmになるように添加(D
BU添加量90ppm)して、150℃で30分撹拌し
て均一に混合した。
は、軟化点が80℃、150℃での溶融粘度が300c
ps、水酸基当量は175g/eqであった。得られた
樹脂についてゲルタイム及び電気伝導度を測定した。結
果を表1に示す。
0.1部を添加した以外は実施例1と同様に縮合反応お
よび未反応フェノールの留去を行い、縮合反応物を得
た。次いでこの縮合反応物に、実施例1と同様にTFM
S/DBU混合水溶液を、縮合反応物に対して900p
pmになるように添加して、均一に混合した。
脂は、軟化点が80℃、150℃での溶融粘度が290
cps、水酸基当量は170g/eqであった。得られ
た樹脂についてゲルタイム及び電気伝導度を測定した。
結果を表1に示す。
よび未反応フェノールの留去を行い、フェノールの留去
後、酸、有機塩基あるいはこれらの塩を添加せず、縮合
反応物を得た。
脂は、軟化点が83℃、150℃での溶融粘度が320
cps、水酸基当量は173g/eqであった。得られ
た樹脂についてゲルタイム及び電気伝導度を測定した。
結果を表1に示す。
て原料として1,4−ジ(クロロメチル)ベンゼン17
5部(1モル)、フェノール188部(2モル)を装入
し、さらに触媒として硫酸ジエチル0.13重量部を添
加し、窒素気流下で撹拌しながら昇温して内温を120
℃に上げ2時間保持した。その後温度を150℃に上げ
さらに2時間保持した。この時発生する塩化水素は水酸
化ナトリウム水溶液でトラップ除去した。次に系内の未
反応フェノールを減圧蒸留により留去して、縮合反応物
を得た。
脂は、軟化点が80℃で、150℃での溶融粘度が30
0cps、水酸基当量は172g/eqであった。得ら
れた樹脂についてゲルタイム及び電気伝導度を測定し
た。結果を表1に示す。
を添加せず、反応後に有機酸、有機塩基あるいはこれら
の塩を添加した本発明方法(実施例1〜4)に従えば、
保存安定性がよく、かつ比較的高純度のフェノールアラ
ルキル樹脂が得られる。一方、比較例1の従来方法で
は、触媒物質を添加せずに反応させることにより高純度
のフェノールアラルキル樹脂が得られるものの、保存安
定性が劣っていた。また比較例2の従来方法で得られた
樹脂は、保存安定性は良いものの電気伝導度が高いもの
であった。
が少なく、保存安定性に優れかつ、電気伝導度が低く、
比較的高純度のフェノールアラルキル樹脂を製造するこ
とができる。このような樹脂は半導体封止材用途を始め
電子材料分野や接着剤分野に幅広く適用できる。
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式(1) R−(CH2 X)2 (1) (式中、Rは、フェニル基、アルキル置換フェニル基、
ビフェニル基、二価のジフェニルエーテル残基、または
ナフチル基を示し、Xはハロゲン原子を示す)で表され
る芳香族ビスハロゲノメチル化合物とフェノール化合物
を触媒物質を添加せずに反応させた後、酸、酸と有機塩
基からなる塩、または有機塩基を20〜200ppm添
加することを特徴とする保存安定性に優れたフェノール
アラルキル樹脂の製造方法。 - 【請求項2】 水を反応原料合計量に対し、0.005
〜1重量%添加して反応させることを特徴とする請求項
1記載のフェノールアラルキル樹脂の製造方法。 - 【請求項3】 酸と有機塩基からなる塩が、トリフルオ
ロメタンスルホン酸と1,8−ジアザビシクロ(5,
4,0)ウンデセン−7からなる塩であることを特徴と
する請求項1記載のフェノールアラルキル樹脂の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09159395A JP3126686B2 (ja) | 1997-06-17 | 1997-06-17 | フェノールアラルキル樹脂の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09159395A JP3126686B2 (ja) | 1997-06-17 | 1997-06-17 | フェノールアラルキル樹脂の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH115831A true JPH115831A (ja) | 1999-01-12 |
| JP3126686B2 JP3126686B2 (ja) | 2001-01-22 |
Family
ID=15692853
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09159395A Expired - Fee Related JP3126686B2 (ja) | 1997-06-17 | 1997-06-17 | フェノールアラルキル樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3126686B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003048952A (ja) * | 2001-08-09 | 2003-02-21 | Nippon Kayaku Co Ltd | 変性エポキシ樹脂の製造方法 |
| JP2007291219A (ja) * | 2006-04-25 | 2007-11-08 | Ube Ind Ltd | 芳香族ジメチレン−フェノール樹脂及びその製造方法 |
| JP2009001812A (ja) * | 2008-08-04 | 2009-01-08 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 多価ヒドロキシ樹脂、エポキシ樹脂、それらの製造法、それらを用いたエポキシ樹脂組成物及び硬化物 |
| JP2016190891A (ja) * | 2015-03-30 | 2016-11-10 | 新日鉄住金化学株式会社 | 多価ヒドロキシ樹脂、エポキシ樹脂、それらの製造方法、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 |
-
1997
- 1997-06-17 JP JP09159395A patent/JP3126686B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003048952A (ja) * | 2001-08-09 | 2003-02-21 | Nippon Kayaku Co Ltd | 変性エポキシ樹脂の製造方法 |
| JP2007291219A (ja) * | 2006-04-25 | 2007-11-08 | Ube Ind Ltd | 芳香族ジメチレン−フェノール樹脂及びその製造方法 |
| JP2009001812A (ja) * | 2008-08-04 | 2009-01-08 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 多価ヒドロキシ樹脂、エポキシ樹脂、それらの製造法、それらを用いたエポキシ樹脂組成物及び硬化物 |
| JP2016190891A (ja) * | 2015-03-30 | 2016-11-10 | 新日鉄住金化学株式会社 | 多価ヒドロキシ樹脂、エポキシ樹脂、それらの製造方法、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3126686B2 (ja) | 2001-01-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5104308B2 (ja) | ビフェニレン架橋フェノールノボラック樹脂ならびにその用途 | |
| US5089587A (en) | Novel epoxy resins and manufacturing method thereof based on phenoldicyclopentadiene adducts | |
| EP1978045B1 (en) | Phenol resin and resin compositions | |
| US4968759A (en) | Phenolic polymer and production thereof | |
| US10941241B2 (en) | Epoxy resin molding material, molded product, molded cured product, and method for producing molded cured product | |
| US5102962A (en) | Phenolic polymer and production thereof | |
| WO2007043684A1 (ja) | フェノール系重合体、その製法及びその用途 | |
| JP3155228B2 (ja) | 硬化性エポキシ樹脂組成物 | |
| JP2866747B2 (ja) | フェノール重合体の製造方法 | |
| JP3126686B2 (ja) | フェノールアラルキル樹脂の製造方法 | |
| JP2001055425A (ja) | レゾルシンノボラック樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 | |
| JPH0873570A (ja) | フェノールアラルキル型樹脂の製造方法および硬化性エポキシ樹脂組成物 | |
| EP1130041B1 (en) | Epoxy resin composition and semiconductor device | |
| JP2008156553A (ja) | 低溶融粘度フェノールノボラック樹脂、その製造方法ならびにその用途 | |
| JP2001213946A (ja) | フェノールアラルキル樹脂およびその製造方法 | |
| JP3054065B2 (ja) | フェノール系樹脂の製造方法 | |
| JPH11255868A (ja) | フェノールアラルキル樹脂の製造方法 | |
| JP2764454B2 (ja) | 置換フェノール類ノボラック型エポキシ樹脂、その製造法及びエポキシ樹脂組成物 | |
| JP2004359672A (ja) | アニリン系化合物、およびその製造方法 | |
| JP2000319361A (ja) | 熱硬化性樹脂組成物 | |
| JP3704081B2 (ja) | エポキシ樹脂、その製法及びその用途 | |
| JP2845410B2 (ja) | 新規エポキシ樹脂、樹脂組成物及びその硬化物 | |
| JP2823056B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 | |
| JP3325694B2 (ja) | エポキシ樹脂及びエポキシ樹脂組成物 | |
| JP4784374B2 (ja) | エポキシ樹脂、その製造方法、エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071102 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081102 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091102 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091102 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101102 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111102 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121102 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121102 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131102 Year of fee payment: 13 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |