JP2962912B2
(ja )
1999-10-12
陰極スパッタリング装置で基板を被覆するためのスパッタカソード
JPH01290765A
(ja )
1989-11-22
スパッタリングターゲット
KR20030064398A
(ko )
2003-07-31
내부 냉각 채널을 갖는 스퍼터 타겟의 제조 방법
US6039855A
(en )
2000-03-21
Target for the sputtering cathode of a vacuum coating apparatus and method for its manufacture
WO2002061167A3
(en )
2003-07-24
Target/backing plate assemblies
EP0853331A3
(en )
2000-10-11
Back sputtering shield
JPH10121232A
(ja )
1998-05-12
スパッタリングターゲット
JPH1161396A5
(2 )
2004-11-04
JPS59179783A
(ja )
1984-10-12
スパツタリングタ−ゲツト
JPS62243762A
(ja )
1987-10-24
スパツタリングタ−ゲツト用バツキングプレ−ト
JPS6039158A
(ja )
1985-02-28
マグネトロン型スパツタリング用タ−ゲツト
JPS60131966A
(ja )
1985-07-13
スパツタ装置
JPH11236663A
(ja )
1999-08-31
スパッタリングターゲット、スパッタリング装置およびスパッタリング方法
WO2002039480A3
(en )
2003-02-13
Ion beam deposition targets having a replaceable insert
JP2759983B2
(ja )
1998-05-28
金属薄膜の付着方法
JPH0730681Y2
(ja )
1995-07-12
スパッタリングカソード
JP3523591B2
(ja )
2004-04-26
ターゲットカソードアッセンブリ
JPH07278806A
(ja )
1995-10-24
スパッタ用ターゲット
JPS61578A
(ja )
1986-01-06
マグネトロン・スパツタリング・タ−ゲツト
JPH0219461A
(ja )
1990-01-23
スパッタ装置
JPS59211211A
(ja )
1984-11-30
強磁性体の高速スパツタ用タ−ゲツト
JPH0527047U
(ja )
1993-04-06
対向ターゲツト式スパツタ装置のシールドカバー
JP2588241B2
(ja )
1997-03-05
スパッタリングターゲット
JPH06116725A
(ja )
1994-04-26
マグネトロンスパッタ装置
JPH07126841A
(ja )
1995-05-16
スパッタ装置