JPH1186215A - プレーナ型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
プレーナ型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH1186215A JPH1186215A JP9240935A JP24093597A JPH1186215A JP H1186215 A JPH1186215 A JP H1186215A JP 9240935 A JP9240935 A JP 9240935A JP 24093597 A JP24093597 A JP 24093597A JP H1186215 A JPH1186215 A JP H1186215A
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3176—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps
- G11B5/3179—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes
- G11B5/3183—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes intersecting the gap plane, e.g. "horizontal head structure"
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- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明の課題は、磁気回路のバッククロージ
ャー部の磁気抵抗を低減することにより、比較的大出力
の記録信号磁界を発生することが可能なプレーナ型薄膜
磁気ヘッド及びその製造方法を提供することである。 【解決手段】 プレーナ型薄膜磁気ヘッドであって、第
１端部と第２端部を有する下部磁極と、下部磁極の第１
端部に磁気的に接合された第１端部と、第２端部を有す
る上部磁極とを含んでいる。下部磁極の第２端部と上部
磁極の第２端部の間にはギャップが画成されている。薄
膜磁気ヘッドは更に、中心がギャップ近傍に位置し、上
部磁極と下部磁極の間を通過するようにスパイラル状に
巻回されたコイルを含んでいる。コイルは絶縁層中に埋
め込まれている。
ャー部の磁気抵抗を低減することにより、比較的大出力
の記録信号磁界を発生することが可能なプレーナ型薄膜
磁気ヘッド及びその製造方法を提供することである。 【解決手段】 プレーナ型薄膜磁気ヘッドであって、第
１端部と第２端部を有する下部磁極と、下部磁極の第１
端部に磁気的に接合された第１端部と、第２端部を有す
る上部磁極とを含んでいる。下部磁極の第２端部と上部
磁極の第２端部の間にはギャップが画成されている。薄
膜磁気ヘッドは更に、中心がギャップ近傍に位置し、上
部磁極と下部磁極の間を通過するようにスパイラル状に
巻回されたコイルを含んでいる。コイルは絶縁層中に埋
め込まれている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はプレーナ型薄膜磁気
ヘッド及びその製造方法に関する。近年、コンピュータ
用外部記憶装置の一種である磁気ディスク装置の小型化
及び大容量化が望まれている。これに伴い、情報の記録
再生時の磁気ディスク面に対する磁気ヘッドスライダの
浮上高さはますます小さくされ、低浮上高さにおいても
安定で信頼性が確保できる軽量な磁気ヘッドスライダが
要求されている。
ヘッド及びその製造方法に関する。近年、コンピュータ
用外部記憶装置の一種である磁気ディスク装置の小型化
及び大容量化が望まれている。これに伴い、情報の記録
再生時の磁気ディスク面に対する磁気ヘッドスライダの
浮上高さはますます小さくされ、低浮上高さにおいても
安定で信頼性が確保できる軽量な磁気ヘッドスライダが
要求されている。
【０００２】磁気ディスク装置に用いられている磁気ヘ
ッドスライダは、一般にスライダの浮上面（媒体対向
面）に対して垂直な後端の面（空気流出端面）に垂直構
造型の薄膜磁気ヘッドが配置された構造が採られている
ため、該薄膜磁気ヘッドの配置高さにより、必然的にス
ライダの高さ（厚さ）も大きくなり、小型、軽量な磁気
ヘッドスライダを実現することが極めて困難である。
ッドスライダは、一般にスライダの浮上面（媒体対向
面）に対して垂直な後端の面（空気流出端面）に垂直構
造型の薄膜磁気ヘッドが配置された構造が採られている
ため、該薄膜磁気ヘッドの配置高さにより、必然的にス
ライダの高さ（厚さ）も大きくなり、小型、軽量な磁気
ヘッドスライダを実現することが極めて困難である。
【０００３】このため、薄膜磁気ヘッドを媒体対向面に
水平に配置する構成にして磁気ヘッドスライダの高さを
小さくしたプレーナ型薄膜磁気ヘッドスライダが提案さ
れている。
水平に配置する構成にして磁気ヘッドスライダの高さを
小さくしたプレーナ型薄膜磁気ヘッドスライダが提案さ
れている。
【０００４】
【従来の技術】例えば、特開平３−１２７３０８号及び
特開平６−４８２９号等で提案されている従来のプレー
ナ型薄膜磁気ヘッドの概略構造を図１を参照して説明す
る。
特開平６−４８２９号等で提案されている従来のプレー
ナ型薄膜磁気ヘッドの概略構造を図１を参照して説明す
る。
【０００５】下部磁極２には信号磁界を記録媒体１６に
発生させるためのギャップが画成されており、下部磁極
２は一対のバッククロージャー６，８により上部磁極４
に接続され、磁気的にクローズしている。
発生させるためのギャップが画成されており、下部磁極
２は一対のバッククロージャー６，８により上部磁極４
に接続され、磁気的にクローズしている。
【０００６】更に、信号磁界を発生させる一対のスパイ
ラルコイル１２，１４がバッククロージャー６，８をコ
イル中心として配置されている。図１に示されるよう
に、従来のプレーナ型薄膜磁気ヘッドでは、ギャップ１
０は記録媒体１６に対し法線方向に形成されている。
ラルコイル１２，１４がバッククロージャー６，８をコ
イル中心として配置されている。図１に示されるよう
に、従来のプレーナ型薄膜磁気ヘッドでは、ギャップ１
０は記録媒体１６に対し法線方向に形成されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従来のプレーナ型薄膜
磁気ヘッドでは、バッククロージャー６，８が各スパイ
ラルコイル１２，１４の中心となるように各コイルが配
置されているため、バッククロージャーの断面積がコイ
ル中心部の面積により制限され、バッククロージャー部
の大きな断面積の確保が不可能であった。そのため、バ
ッククロージャー６，８の磁気抵抗が大きくなり、信号
磁界がバッククロージャー６，８で弱められてしまうと
いう問題点があった。
磁気ヘッドでは、バッククロージャー６，８が各スパイ
ラルコイル１２，１４の中心となるように各コイルが配
置されているため、バッククロージャーの断面積がコイ
ル中心部の面積により制限され、バッククロージャー部
の大きな断面積の確保が不可能であった。そのため、バ
ッククロージャー６，８の磁気抵抗が大きくなり、信号
磁界がバッククロージャー６，８で弱められてしまうと
いう問題点があった。
【０００８】また、従来のプレーナ型薄膜磁気ヘッドで
は、記録媒体に対して法線方向にギャップを形成してい
たため、ギャップ幅が狭く（０．３μｍ以下）になるに
つれてギャップを形成するのが困難になるという問題が
あった。
は、記録媒体に対して法線方向にギャップを形成してい
たため、ギャップ幅が狭く（０．３μｍ以下）になるに
つれてギャップを形成するのが困難になるという問題が
あった。
【０００９】よって本発明の目的は、磁気回路の磁気抵
抗を減少して、十分な強さの記録信号磁界を出力するこ
とのできるプレーナ型薄膜磁気ヘッドを提供することで
ある。
抗を減少して、十分な強さの記録信号磁界を出力するこ
とのできるプレーナ型薄膜磁気ヘッドを提供することで
ある。
【００１０】本発明の他の目的は、幅の狭いギャップ形
成を容易に達成することのできるプレーナ型薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法を提供することである。
成を容易に達成することのできるプレーナ型薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明によると、第１端
部と第２端部を有する下部磁極と、前記下部磁極の第１
端部に磁気的に接合された第１端部と、第２端部を有す
る上部磁極と、前記下部磁極の第２端部と前記上部磁極
の第２端部の間に画成されたギャップと、中心が前記ギ
ャップ近傍に位置し、前記上部磁極と前記下部磁極の間
を通過するようにスパイラル状に巻回されたコイルと、
前記コイルが埋め込まれた絶縁層とを具備したことを特
徴とするプレーナ型薄膜磁気ヘッドが提供される。
部と第２端部を有する下部磁極と、前記下部磁極の第１
端部に磁気的に接合された第１端部と、第２端部を有す
る上部磁極と、前記下部磁極の第２端部と前記上部磁極
の第２端部の間に画成されたギャップと、中心が前記ギ
ャップ近傍に位置し、前記上部磁極と前記下部磁極の間
を通過するようにスパイラル状に巻回されたコイルと、
前記コイルが埋め込まれた絶縁層とを具備したことを特
徴とするプレーナ型薄膜磁気ヘッドが提供される。
【００１２】好ましくは、本発明のプレーナ型薄膜磁気
ヘッドは、媒体対向面を画成する保護層を含んでおり、
下部磁極が該保護層上に積層されている。ギャップの幅
は誘電体膜の膜厚で規定される。
ヘッドは、媒体対向面を画成する保護層を含んでおり、
下部磁極が該保護層上に積層されている。ギャップの幅
は誘電体膜の膜厚で規定される。
【００１３】本発明の他の側面によると、プレーナ型薄
膜磁気ヘッドの製造方法であって、犠牲層上に下部磁極
を形成し、前記下部磁極の一部分を除いて前記下部磁極
及び前記犠牲層上に第１絶縁層を形成し、中心が前記下
部磁極の前記一部分上に位置するように前記第１絶縁層
上にスパイラルコイルを形成し、前記スパイラルコイル
上に第２絶縁層を形成し、前記第２絶縁層上に前記下部
磁極パターニング用のマスクレジストを形成し、前記下
部磁極のマスクされていない部分をエッチングして除去
し、全面に所定厚さのギャップ層を形成し、前記ギャッ
プ層上に該ギャップ層エッチング用のマスクレジストを
形成し、前記ギャップ層のマスクされていない部分をエ
ッチングして除去し、前記ギャップ層エッチング用のマ
スクレジストを除去し、全面に上部磁極層を形成し、前
記上部磁極層上に該上部磁極層パターニング用のマスク
レジストを形成し、前記上部磁極層のマスクされていな
い部分をエッチングして上部磁極を形成し、前記上部磁
極層パターニング用のマスクレジストを除去する各ステ
ップを具備したことを特徴とするプレーナ型薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法が提供される。
膜磁気ヘッドの製造方法であって、犠牲層上に下部磁極
を形成し、前記下部磁極の一部分を除いて前記下部磁極
及び前記犠牲層上に第１絶縁層を形成し、中心が前記下
部磁極の前記一部分上に位置するように前記第１絶縁層
上にスパイラルコイルを形成し、前記スパイラルコイル
上に第２絶縁層を形成し、前記第２絶縁層上に前記下部
磁極パターニング用のマスクレジストを形成し、前記下
部磁極のマスクされていない部分をエッチングして除去
し、全面に所定厚さのギャップ層を形成し、前記ギャッ
プ層上に該ギャップ層エッチング用のマスクレジストを
形成し、前記ギャップ層のマスクされていない部分をエ
ッチングして除去し、前記ギャップ層エッチング用のマ
スクレジストを除去し、全面に上部磁極層を形成し、前
記上部磁極層上に該上部磁極層パターニング用のマスク
レジストを形成し、前記上部磁極層のマスクされていな
い部分をエッチングして上部磁極を形成し、前記上部磁
極層パターニング用のマスクレジストを除去する各ステ
ップを具備したことを特徴とするプレーナ型薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法が提供される。
【００１４】
【発明の実施の形態】図２を参照すると、本発明のプレ
ーナ型薄膜磁気ヘッドを搭載した磁気ディスク装置の斜
視図が示されている。符号４０にはベース４４とカバー
４６とから構成されるハウジング（ディスクエンクロー
ジャー）である。
ーナ型薄膜磁気ヘッドを搭載した磁気ディスク装置の斜
視図が示されている。符号４０にはベース４４とカバー
４６とから構成されるハウジング（ディスクエンクロー
ジャー）である。
【００１５】ベース４４上にはインナーハブモータによ
って回転駆動される図示しないスピンドルハブが設けら
れている。スピンドルハブには磁気ディスク５０と図示
しないスペーサが交互に挿入され、ディスククランプ４
８をスピンドルハブにネジ締結することにより、複数枚
の磁気ディスク５０が所定間隔離間してスピンドルハブ
に取り付けられる。
って回転駆動される図示しないスピンドルハブが設けら
れている。スピンドルハブには磁気ディスク５０と図示
しないスペーサが交互に挿入され、ディスククランプ４
８をスピンドルハブにネジ締結することにより、複数枚
の磁気ディスク５０が所定間隔離間してスピンドルハブ
に取り付けられる。
【００１６】符号５５はアクチュエータアームアセンブ
リ５６と磁気回路５８とから構成されるロータリーアク
チュエータを示している。アクチュエータアームアセン
ブリ５６は、ベース４４に固定されたシャフト５４回り
に回転可能に取り付けられている。
リ５６と磁気回路５８とから構成されるロータリーアク
チュエータを示している。アクチュエータアームアセン
ブリ５６は、ベース４４に固定されたシャフト５４回り
に回転可能に取り付けられている。
【００１７】アクチュエータアームアセンブリ５６は、
回転中心から一方向に伸長した複数のアクチュエータア
ーム６０と、アクチュエータアーム６０と反対方向に伸
長したコイル支持部材６６を含んでいる。
回転中心から一方向に伸長した複数のアクチュエータア
ーム６０と、アクチュエータアーム６０と反対方向に伸
長したコイル支持部材６６を含んでいる。
【００１８】各アクチュエータアーム６０の先端部に
は、その先端部にヘッドスライダ６２を搭載したサスペ
ンション６４が固定されている。ヘッドスライダ３２に
は後述する本発明のプレーナ型薄膜磁気ヘッドが一体的
に形成されている。
は、その先端部にヘッドスライダ６２を搭載したサスペ
ンション６４が固定されている。ヘッドスライダ３２に
は後述する本発明のプレーナ型薄膜磁気ヘッドが一体的
に形成されている。
【００１９】コイル支持部材６６によりコイル６８が支
持されている。磁気回路５８と、磁気回路５８のギャッ
プ中に挿入されるコイル６８とでボイスコイルモータ
（ＶＣＭ）７０が構成される。
持されている。磁気回路５８と、磁気回路５８のギャッ
プ中に挿入されるコイル６８とでボイスコイルモータ
（ＶＣＭ）７０が構成される。
【００２０】符号７２はヘッドスライダ６２に搭載され
たプレーナ型薄膜磁気ヘッドからの信号を取り出すフレ
キシブルプリント配線板（ＦＰＣ）を示しており、固定
部材７４でその一端が固定され、更に図示しないコネク
タに電気的に接続されている。
たプレーナ型薄膜磁気ヘッドからの信号を取り出すフレ
キシブルプリント配線板（ＦＰＣ）を示しており、固定
部材７４でその一端が固定され、更に図示しないコネク
タに電気的に接続されている。
【００２１】ベース４２上には環状パッキンアセンブリ
７６が搭載されており、パッキンアセンブリ７６を間に
挟んでカバー４６をベース４４にネジ締結することによ
り、ハウジング４２内が密封される。
７６が搭載されており、パッキンアセンブリ７６を間に
挟んでカバー４６をベース４４にネジ締結することによ
り、ハウジング４２内が密封される。
【００２２】図３（Ａ）を参照すると、本発明のプレー
ナ型薄膜磁気ヘッドが一体的に形成された磁気ヘッドス
ライダ６２の斜視図が示されている。図３（Ｂ）は図３
（Ａ）の底面図である。磁気ヘッドスライダ６２は一対
の浮上レール６３，６５を有しており、一方の浮上レー
ル６３の浮上面（空気ベアリング表面）にプレーナ型薄
膜磁気ヘッド２０が形成されている。実際には、プレー
ナ型薄膜磁気ヘッド２０は浮上レール６３中に埋め込ま
れているため、ギャップ２３のみが露出している。符号
５１は磁気ディスク５０のトラックを示している。
ナ型薄膜磁気ヘッドが一体的に形成された磁気ヘッドス
ライダ６２の斜視図が示されている。図３（Ｂ）は図３
（Ａ）の底面図である。磁気ヘッドスライダ６２は一対
の浮上レール６３，６５を有しており、一方の浮上レー
ル６３の浮上面（空気ベアリング表面）にプレーナ型薄
膜磁気ヘッド２０が形成されている。実際には、プレー
ナ型薄膜磁気ヘッド２０は浮上レール６３中に埋め込ま
れているため、ギャップ２３のみが露出している。符号
５１は磁気ディスク５０のトラックを示している。
【００２３】図４を参照すると、本発明実施形態にかか
るプレーナ型薄膜磁気ヘッド２０の平面図が示されてい
る。図５は図４の５−５線断面図である。符号２２はＳ
ｉＯ2 保護層であり、媒体対向面を画成する。保護層２
２は約２〜３μｍの厚さを有しており、その上に約１μ
ｍ程度の厚さを有する下部磁極２４が積層されている。
下部磁極２４は例えばＦｅＮＺｒ，Ｎｉ−Ｆｅ等から形
成されている。
るプレーナ型薄膜磁気ヘッド２０の平面図が示されてい
る。図５は図４の５−５線断面図である。符号２２はＳ
ｉＯ2 保護層であり、媒体対向面を画成する。保護層２
２は約２〜３μｍの厚さを有しており、その上に約１μ
ｍ程度の厚さを有する下部磁極２４が積層されている。
下部磁極２４は例えばＦｅＮＺｒ，Ｎｉ−Ｆｅ等から形
成されている。
【００２４】符号２６は上部磁極を示しており、約１μ
ｍ程度の厚さを有している。上部磁極２６も下部磁極２
４と同様に、例えばＦｅＮＺｒ，Ｎｉ−Ｆｅ等から形成
されている。
ｍ程度の厚さを有している。上部磁極２６も下部磁極２
４と同様に、例えばＦｅＮＺｒ，Ｎｉ−Ｆｅ等から形成
されている。
【００２５】下部磁極２４の一端部２４ａと上部磁極２
６の一端部２６ａは磁気的に接合さてれおり、バックク
ロージャー２８を形成している。下部磁極２４の他端部
２４ｂと上部磁極２６の他端部２６ｂとの間にはギャッ
プ３０が画成されている。ギャップ３０に対向する位置
の保護膜２２には穴２３が形成されている。
６の一端部２６ａは磁気的に接合さてれおり、バックク
ロージャー２８を形成している。下部磁極２４の他端部
２４ｂと上部磁極２６の他端部２６ｂとの間にはギャッ
プ３０が画成されている。ギャップ３０に対向する位置
の保護膜２２には穴２３が形成されている。
【００２６】符号３２はスパイラルコイルであり、その
中心がギャップ３０近傍に位置し、下部磁極２４と上部
磁極２６の間を通過するように巻回されている。スパイ
ラルコイル３２は約２〜３μｍの膜厚を有している。
中心がギャップ３０近傍に位置し、下部磁極２４と上部
磁極２６の間を通過するように巻回されている。スパイ
ラルコイル３２は約２〜３μｍの膜厚を有している。
【００２７】スパイラルコイル３２はレジスト絶縁層３
４中に埋め込まれている。レジスト絶縁層３４上にはＳ
ｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等の誘電体からなるギャップ層３６
が積層されており、約０．２μｍの膜厚を有している。
上述したギャップ３０の幅は誘電体ギャップ層３６の膜
厚により規定される。
４中に埋め込まれている。レジスト絶縁層３４上にはＳ
ｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等の誘電体からなるギャップ層３６
が積層されており、約０．２μｍの膜厚を有している。
上述したギャップ３０の幅は誘電体ギャップ層３６の膜
厚により規定される。
【００２８】図４を参照すると明らかなように、上下磁
極２６，２４の接合部であるバッククロージャー２８は
大きな横断面積を有している。よって、磁気回路の磁気
抵抗を減少させることができ、これにより記録信号磁界
がバッククロージャー部分で弱められることを防止でき
る。
極２６，２４の接合部であるバッククロージャー２８は
大きな横断面積を有している。よって、磁気回路の磁気
抵抗を減少させることができ、これにより記録信号磁界
がバッククロージャー部分で弱められることを防止でき
る。
【００２９】また、コイル３２の中心がギャップ３０近
傍に位置しているため、最大磁界領域にギャップ３０が
位置することになる。これにより、記録信号磁界の出力
を増加させることができる。
傍に位置しているため、最大磁界領域にギャップ３０が
位置することになる。これにより、記録信号磁界の出力
を増加させることができる。
【００３０】以下、図６乃至図８を参照して、本発明の
製造プロセスについて説明する。まず、図６（Ａ）に示
すように、Ｓｉ等からなる犠牲層２１上にＳｉＯ2 保護
層２２を積層する。保護層２２は約２〜３μｍの厚さを
有している。保護層２２形成時に、後述するギャップ３
０に対向する部分に穴２３を形成する。
製造プロセスについて説明する。まず、図６（Ａ）に示
すように、Ｓｉ等からなる犠牲層２１上にＳｉＯ2 保護
層２２を積層する。保護層２２は約２〜３μｍの厚さを
有している。保護層２２形成時に、後述するギャップ３
０に対向する部分に穴２３を形成する。
【００３１】次に図６（Ｂ）に示すように、保護層２２
上に下部磁極２４を形成し、所定パターンにパターニン
グする。下部磁極２４は例えばＦｅＮＺｒから形成され
ており、約１μｍの厚さを有している。
上に下部磁極２４を形成し、所定パターンにパターニン
グする。下部磁極２４は例えばＦｅＮＺｒから形成され
ており、約１μｍの厚さを有している。
【００３２】次に図６（Ｃ）に示すように、保護層２２
上及び下部磁極２４上に第１レジスト絶縁層２５を形成
し、所定パターンにパターニングする。第１レジスト絶
縁層２５は約２〜３μｍの膜厚を有している。
上及び下部磁極２４上に第１レジスト絶縁層２５を形成
し、所定パターンにパターニングする。第１レジスト絶
縁層２５は約２〜３μｍの膜厚を有している。
【００３３】第１レジスト絶縁層２５上に約２〜３μｍ
の膜厚のスパイラルコイル３２を形成し、その上に第２
レジスト絶縁層２７を形成して、所定パターンにパター
ニングする。第２レジスト絶縁層２７も約２〜３μｍの
膜厚を有している。
の膜厚のスパイラルコイル３２を形成し、その上に第２
レジスト絶縁層２７を形成して、所定パターンにパター
ニングする。第２レジスト絶縁層２７も約２〜３μｍの
膜厚を有している。
【００３４】次いで、図６（Ｄ）に示すように、第２レ
ジスト絶縁層２７上に下部磁極パターニング用のマスク
レジスト２９を形成し、所定パターンにパターニングす
る。次いで、イオンミリングでエッチングして、マスク
レジスト２９でマスクされていない部分の下部磁極２４
を除去する（図６（Ｅ））。
ジスト絶縁層２７上に下部磁極パターニング用のマスク
レジスト２９を形成し、所定パターンにパターニングす
る。次いで、イオンミリングでエッチングして、マスク
レジスト２９でマスクされていない部分の下部磁極２４
を除去する（図６（Ｅ））。
【００３５】次いで、図７（Ｆ）に示すように、全面に
誘電体ギャップ層３６を所望のギャップ幅に相当する膜
厚（約０．２μｍ）に形成する。誘電体ギャップ層３６
は、例えばＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等から形成される。
誘電体ギャップ層３６を所望のギャップ幅に相当する膜
厚（約０．２μｍ）に形成する。誘電体ギャップ層３６
は、例えばＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等から形成される。
【００３６】次に、図７（Ｇ）に示すように、ギャップ
層３６上に該ギャップ層エッチング用のマスクレジスト
３３を形成し、所定パターンにパターニングする。次い
で、イオンミリングでエッチングして、マスクレジスト
３３でマスクされていない部分のギャップ層３６を除去
する（図７（Ｈ））。イオンミリングのエッチングに代
えて、化学的エッチングを行ってもよい。
層３６上に該ギャップ層エッチング用のマスクレジスト
３３を形成し、所定パターンにパターニングする。次い
で、イオンミリングでエッチングして、マスクレジスト
３３でマスクされていない部分のギャップ層３６を除去
する（図７（Ｈ））。イオンミリングのエッチングに代
えて、化学的エッチングを行ってもよい。
【００３７】図７（Ｉ）に示すように、マスクレジスト
３３を除去した後、図７（Ｊ）に示すように、全面に上
部磁極層２６′を約１μｍ程度の厚さに形成する。上部
磁極層２６′は例えばＦｅＮＺｒ等から形成されてい
る。
３３を除去した後、図７（Ｊ）に示すように、全面に上
部磁極層２６′を約１μｍ程度の厚さに形成する。上部
磁極層２６′は例えばＦｅＮＺｒ等から形成されてい
る。
【００３８】次いで、図８（Ｋ）に示すように、上部磁
極層２６′上に該上部磁極層パターニング用のマスクレ
ジスト３５を形成し、所定パターンにパターニングす
る。次いで、イオンミリングでエッチングして図８
（Ｌ）に示すようにマスクレジスト３５でマスクされて
いない部分の上部磁極層２６′を除去し、上部磁極２６
を形成する。
極層２６′上に該上部磁極層パターニング用のマスクレ
ジスト３５を形成し、所定パターンにパターニングす
る。次いで、イオンミリングでエッチングして図８
（Ｌ）に示すようにマスクレジスト３５でマスクされて
いない部分の上部磁極層２６′を除去し、上部磁極２６
を形成する。
【００３９】次いで、図８（Ｍ）に示すようにマスクレ
ジスト３５を除去し、最後に図８（Ｎ）に示すように犠
牲層２１を除去して、プレーナ型薄膜磁気ヘッド２０が
完成する。
ジスト３５を除去し、最後に図８（Ｎ）に示すように犠
牲層２１を除去して、プレーナ型薄膜磁気ヘッド２０が
完成する。
【００４０】プレーナ型薄膜磁気ヘッド２０をスライダ
に搭載するには、特に図示しないが薄膜磁気ヘッド２０
部分を除いてＳｉＯ2 保護層２２上に例えばニッケルメ
ッキ等によりスライダを所定形状に形成すればよい。
に搭載するには、特に図示しないが薄膜磁気ヘッド２０
部分を除いてＳｉＯ2 保護層２２上に例えばニッケルメ
ッキ等によりスライダを所定形状に形成すればよい。
【００４１】
【発明の効果】本発明によると、磁気回路の磁気抵抗を
低減することができ、これにより記録信号磁界の出力が
大きなプレーナ型薄膜磁気ヘッドを提供することができ
る。また、ギャップの幅は誘電体ギャップ層の膜厚で規
定されるため、狭い幅のギャップを容易に形成すること
ができる。
低減することができ、これにより記録信号磁界の出力が
大きなプレーナ型薄膜磁気ヘッドを提供することができ
る。また、ギャップの幅は誘電体ギャップ層の膜厚で規
定されるため、狭い幅のギャップを容易に形成すること
ができる。
【図１】従来のプレーナ型薄膜磁気ヘッドの概略断面図
である。
である。
【図２】磁気ディスク装置の斜視図である。
【図３】図３（Ａ）は磁気ヘッドスライダの斜視図であ
り、図３（Ｂ）はその底面図である。
り、図３（Ｂ）はその底面図である。
【図４】本発明実施形態のプレーナ型薄膜磁気ヘッドの
平面図である。
平面図である。
【図５】図４の５−５線断面図である。
【図６】本発明の製造プロセスを示す図である。
【図７】本発明の製造プロセスを示す図である。
【図８】本発明の製造プロセスを示す図である。
２２ 保護層 ２４ 下部磁極 ２６ 上部磁極 ２８ バッククロージャー ３０ ギャップ ３２ スパイラルコイル ３６ 誘電体ギャップ層
Claims (6)
- 【請求項１】 第１端部と第２端部を有する下部磁極
と；前記下部磁極の第１端部に磁気的に接合された第１
端部と、第２端部を有する上部磁極と；前記下部磁極の
第２端部と前記上部磁極の第２端部の間に画成されたギ
ャップと；中心が前記ギャップ近傍に位置し、前記上部
磁極と前記下部磁極の間を通過するようにスパイラル状
に巻回されたコイルと；前記コイルが埋め込まれた絶縁
層と；を具備したことを特徴とするプレーナ型薄膜磁気
ヘッド。 - 【請求項２】 前記下部磁極がその下面に積層された保
護層を更に具備した請求項１記載のプレーナ型薄膜磁気
ヘッド。 - 【請求項３】 前記ギャップは誘電体膜の膜厚で規定さ
れる請求項１記載のプレーナ型薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項４】 プレーナ型薄膜磁気ヘッドの製造方法で
あって、犠牲層上に下部磁極を形成し；前記下部磁極の
一部分を除いて前記下部磁極及び前記犠牲層上に第１絶
縁層を形成し；中心が前記下部磁極の前記一部分上に位
置するように前記第１絶縁層上にスパイラルコイルを形
成し；前記スパイラルコイル上に第２絶縁層を形成し；
前記第２絶縁層上に前記下部磁極パターニング用のマス
クレジストを形成し；前記下部磁極のマスクされていな
い部分をエッチングして除去し；全面に所定厚さのギャ
ップ層を形成し；前記ギャップ層上に該ギャップ層エッ
チング用のマスクレジストを形成し；前記ギャップ層の
マスクされていない部分をエッチングして除去し；前記
ギャップ層エッチング用のマスクレジストを除去し；全
面に上部磁極層を形成し；前記上部磁極層上に該上部磁
極層パターニング用のマスクレジストを形成し；前記上
部磁極層のマスクされていない部分をエッチングして上
部磁極を形成し；前記上部磁極層パターニング用のマス
クレジストを除去する；各ステップを具備したことを特
徴とするプレーナ型薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項５】 前記下部磁極を形成するのに先立ち、前
記犠牲層上に保護層を形成するステップを更に具備した
請求項４記載のプレーナ型薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項６】 前記上部磁極層パターニング用のマスク
レジストを除去するステップの後、前記犠牲層を除去す
るステップを更に具備した請求項４記載のプレーナ型薄
膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24093597A JP3611953B2 (ja) | 1997-09-05 | 1997-09-05 | プレーナ型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
| US09/017,432 US6104575A (en) | 1997-09-05 | 1998-02-02 | Planar thin-film magnetic head and manufacturing method therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24093597A JP3611953B2 (ja) | 1997-09-05 | 1997-09-05 | プレーナ型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1186215A true JPH1186215A (ja) | 1999-03-30 |
| JP3611953B2 JP3611953B2 (ja) | 2005-01-19 |
Family
ID=17066841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24093597A Expired - Fee Related JP3611953B2 (ja) | 1997-09-05 | 1997-09-05 | プレーナ型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6104575A (ja) |
| JP (1) | JP3611953B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103028627A (zh) * | 2012-12-29 | 2013-04-10 | 中国重型机械研究院股份公司 | 复合穿孔式双动挤压装置及方法 |
| CN111696889A (zh) * | 2019-03-13 | 2020-09-22 | 东京毅力科创株式会社 | 混合装置、混合方法以及基板处理系统 |
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|---|---|---|---|---|
| US6829819B1 (en) | 1999-05-03 | 2004-12-14 | Western Digital (Fremont), Inc. | Method of forming a magnetoresistive device |
| US6944938B1 (en) | 1999-05-03 | 2005-09-20 | Western Digital (Fremont), Inc. | Method of forming a magnetoresistive device |
| US6396660B1 (en) * | 1999-08-23 | 2002-05-28 | Read-Rite Corporation | Magnetic write element having a thermally dissipative structure |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55135324A (en) * | 1979-04-11 | 1980-10-22 | Fujitsu Ltd | Manufacture of thin-film magnetic head |
| FR2604021B1 (fr) * | 1986-09-17 | 1988-10-28 | Commissariat Energie Atomique | Procede de realisation de tetes magnetiques en couches minces et a structure planaire et tete obtenue par ce procede |
| JP2707758B2 (ja) * | 1989-10-12 | 1998-02-04 | 富士通株式会社 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
| JPH04119509A (ja) * | 1990-09-10 | 1992-04-21 | Sony Corp | 水平型垂直磁気ヘッド |
| JPH04119506A (ja) * | 1990-09-11 | 1992-04-21 | Sony Corp | 薄膜磁気ヘッド |
| JPH064829A (ja) * | 1992-06-18 | 1994-01-14 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘッドとその製造方法 |
| JPH06338030A (ja) * | 1993-05-26 | 1994-12-06 | Iwatsu Electric Co Ltd | 水平型薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
| JPH07182620A (ja) * | 1993-12-21 | 1995-07-21 | Iwatsu Electric Co Ltd | 水平型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
-
1997
- 1997-09-05 JP JP24093597A patent/JP3611953B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-02-02 US US09/017,432 patent/US6104575A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103028627A (zh) * | 2012-12-29 | 2013-04-10 | 中国重型机械研究院股份公司 | 复合穿孔式双动挤压装置及方法 |
| CN111696889A (zh) * | 2019-03-13 | 2020-09-22 | 东京毅力科创株式会社 | 混合装置、混合方法以及基板处理系统 |
| CN111696889B (zh) * | 2019-03-13 | 2024-05-17 | 东京毅力科创株式会社 | 混合装置、混合方法以及基板处理系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6104575A (en) | 2000-08-15 |
| JP3611953B2 (ja) | 2005-01-19 |
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