JPS5810833A - パタ−ンの検出方法及び同装置 - Google Patents
パタ−ンの検出方法及び同装置Info
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- JPS5810833A JPS5810833A JP10888581A JP10888581A JPS5810833A JP S5810833 A JPS5810833 A JP S5810833A JP 10888581 A JP10888581 A JP 10888581A JP 10888581 A JP10888581 A JP 10888581A JP S5810833 A JPS5810833 A JP S5810833A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70605—Workpiece metrology
- G03F7/70616—Monitoring the printed patterns
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/70616—Monitoring the printed patterns
- G03F7/7065—Defects, e.g. optical inspection of patterned layer for defects
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はＬＳＩ、ホトマスク等のパ°よ−ンを高速で検
出する方法、および上記のパターンを検出することによ
ってその欠陥の有無を検知する装置に関するものである
。
出する方法、および上記のパターンを検出することによ
ってその欠陥の有無を検知する装置に関するものである
。
従来、パターン検出装置によってパターンを検出する場
合、第１図に示すようにパターン面Ｉｔ”矢印Ａ２．同
Ａ２．同Ａ１・・というように順次に走査して検出信号
を得ていた。検出信号はパターン面上の明暗に応じて電
圧が変化する時系列信号であって、第１図の矢印Ａ、の
走査によって第２図の検出信号２が得られる。第１図に
おけるパターン面１上の長さ！が第２図における時間ｔ
に対応して〜する。
合、第１図に示すようにパターン面Ｉｔ”矢印Ａ２．同
Ａ２．同Ａ１・・というように順次に走査して検出信号
を得ていた。検出信号はパターン面上の明暗に応じて電
圧が変化する時系列信号であって、第１図の矢印Ａ、の
走査によって第２図の検出信号２が得られる。第１図に
おけるパターン面１上の長さ！が第２図における時間ｔ
に対応して〜する。
同様にして、矢印Ａヨの走査によって検出信号２が、矢
印Ａ、の走査によって検出信号２１が、それぞれ時間的
に連続して検出される。
印Ａ、の走査によって検出信号２１が、それぞれ時間的
に連続して検出される。
以上のようにしてパターン検出を行う場合、その検出速
度を向上させるには走査速度を上昇させねばならないが
、走査速度を上昇させると検出信号２．２′の時系列的
変化が高速化し、光のエネルギーを蓄えて電気信号に変
換する時間が短か（なるので検出器の感度が悪くなる。
度を向上させるには走査速度を上昇させねばならないが
、走査速度を上昇させると検出信号２．２′の時系列的
変化が高速化し、光のエネルギーを蓄えて電気信号に変
換する時間が短か（なるので検出器の感度が悪くなる。
また検出信号２゜２′の高速化により、その処理が困難
になる。このため、前述のごとくパターン面１の上！矢
印Ａ１゜Ａ１ ｍ Ａｓ というように順次に走査する
検出方法においては検出速度の向上に限界がある。
になる。このため、前述のごとくパターン面１の上！矢
印Ａ１゜Ａ１ ｍ Ａｓ というように順次に走査する
検出方法においては検出速度の向上に限界がある。
本発明は上記の事情に鑑みて為され、複数個の光検出素
子を用いて第１図における矢印ＡＩＩＡ。
子を用いて第１図における矢印ＡＩＩＡ。
Ａ、・・・ＡＮに相当する走査を同時に並列的に行うこ
とにより、従来の検出速度”ＹＮ倍に上昇せしめ得る検
出方法、および上記の方法を実施してその効果を充分に
発揮せしめ得る装置ン提供しようとするものである。
とにより、従来の検出速度”ＹＮ倍に上昇せしめ得る検
出方法、および上記の方法を実施してその効果を充分に
発揮せしめ得る装置ン提供しようとするものである。
上記の目的を達成するため、本発明に係る方法は、Ｎ個
の光検出素子の受光部ｙｌ直線り上に列設して各光検出
素子による出力信号を同時に併行して出力させ、かつ、
被検出物であるパターンの画＊Ｗ上記の直線りと垂直な
方向に走査するとともに、上記のパターンを直線りと平
行な方向に送り、その送り速度ＶＹＶ＝Ｗ／Ｔならしめ
ることを特徴とする。ただし、上記のＷ′は直＠Ｌ上に
列設されたＮ個の光検出素子受光部の走査幅寸法、Ｔは
走査サイクル時間、Ｎは２若しくはそれ以上の正の整数
である＠ 次に、本発明方法の一実施例を第３図゛乃至第７図を順
次に参照しつつ説明する。
の光検出素子の受光部ｙｌ直線り上に列設して各光検出
素子による出力信号を同時に併行して出力させ、かつ、
被検出物であるパターンの画＊Ｗ上記の直線りと垂直な
方向に走査するとともに、上記のパターンを直線りと平
行な方向に送り、その送り速度ＶＹＶ＝Ｗ／Ｔならしめ
ることを特徴とする。ただし、上記のＷ′は直＠Ｌ上に
列設されたＮ個の光検出素子受光部の走査幅寸法、Ｔは
走査サイクル時間、Ｎは２若しくはそれ以上の正の整数
である＠ 次に、本発明方法の一実施例を第３図゛乃至第７図を順
次に参照しつつ説明する。
第３図は本発明方法を実施するために構成した光検出手
段の一例であって、Ｎ本の光ファイバ３□３−空、・・
・３−Ｎの各一端ＹＮ個の光検出器４−、 、４−鵞・
・・に接続する。このようにして上記Ｎ本の光ファイバ
の各自由端を光検出器の受光部とし、これを直線り上に
一直線に並べて光フアイバ列３を形成する。
段の一例であって、Ｎ本の光ファイバ３□３−空、・・
・３−Ｎの各一端ＹＮ個の光検出器４−、 、４−鵞・
・・に接続する。このようにして上記Ｎ本の光ファイバ
の各自由端を光検出器の受光部とし、これを直線り上に
一直線に並べて光フアイバ列３を形成する。
５１、 Ｌ、・・・はそれぞれ光検出器４−、 Ｉ ４
−、・・・の出力である。
−、・・・の出力である。
第４図は本発明方法を実施するために構成した照光学系
の一例を示す。パターン面１を照射してその反射光もし
くは透過光を対物レンズ６で集光し、回転多面鏡７で反
射し、光フアイバ列３の受光部にパターン画像な結像さ
せる。このようにして回転多面鏡７ン回転させると同図
に示した矢印Ｙ方向の走査が行われる。
の一例を示す。パターン面１を照射してその反射光もし
くは透過光を対物レンズ６で集光し、回転多面鏡７で反
射し、光フアイバ列３の受光部にパターン画像な結像さ
せる。このようにして回転多面鏡７ン回転させると同図
に示した矢印Ｙ方向の走査が行われる。
第５図は上記の光学系による視野の一例を示す。
直線り上に列設された光フアイバ列３によって形成され
る受光部は、直線りと垂直なＹ方向に走査され、Ｎ個の
受光部によって矢印Ａｔ ｍ Ａ、・・・ＡＮのＮ本の
走査が同時に併行して行われる。
る受光部は、直線りと垂直なＹ方向に走査され、Ｎ個の
受光部によって矢印Ａｔ ｍ Ａ、・・・ＡＮのＮ本の
走査が同時に併行して行われる。
Ｗは走査幅、！は走査距離、９は走査範囲である。
上記の如くＹ方向の走査を行いつつ同時に被検出物であ
るパターンをＸ方向に送る。
るパターンをＸ方向に送る。
上記のＸ方向の送り速度Ｖは次のように設定する・ Ｖ
＝＝Ｗ／Ｔ ただし、Ｗは前記の走査幅である。Ｔは走査距離ｊだけ
走査されるに要するサイクル時間であり、この時間Ｔは
正Ｍ角形の回転多面鏡が１７Ｍ回転するに要する時間に
相当する。
＝＝Ｗ／Ｔ ただし、Ｗは前記の走査幅である。Ｔは走査距離ｊだけ
走査されるに要するサイクル時間であり、この時間Ｔは
正Ｍ角形の回転多面鏡が１７Ｍ回転するに要する時間に
相当する。
上述のようにＹ方向の走査とＸ方向の送りとを同時に行
うので、パターン面を基準にした走査の軌跡は第６図の
ように斜になる。第５図における長方形の走査区域９は
第６図においては平行四辺形の走査区域９′となり、こ
れがＸ方向に連続して幅ｊの帯状部分１０ヲ形成する。
うので、パターン面を基準にした走査の軌跡は第６図の
ように斜になる。第５図における長方形の走査区域９は
第６図においては平行四辺形の走査区域９′となり、こ
れがＸ方向に連続して幅ｊの帯状部分１０ヲ形成する。
矢印Ｂはパターンの送り方向を示している。このように
してパターン面上の帯状部１０を走査し終ると、第７図
に矢印Ｃで示すようにＹ方向に距離ｊだけステップ送り
するとともにパターンの送り方向を矢印Ｂ′のごとく反
転させる０以上の作動ン繰返してパターンの全面を走査
し、並列的に出力されるＮ個の時系列的出力信号を電子
計算手段によって比較演算するとパターンを検知するこ
とができる。
してパターン面上の帯状部１０を走査し終ると、第７図
に矢印Ｃで示すようにＹ方向に距離ｊだけステップ送り
するとともにパターンの送り方向を矢印Ｂ′のごとく反
転させる０以上の作動ン繰返してパターンの全面を走査
し、並列的に出力されるＮ個の時系列的出力信号を電子
計算手段によって比較演算するとパターンを検知するこ
とができる。
以上の説明から容易に理解されるように、本発明方法！
従来方法（第１図）に対比すると、従来時間的に順次連
続して行った矢印Ａｓ ＝ Ａｔ・・・の走査を、Ｎ本
の走査線（第５図におけるＡＩ Ｉ Ａｍ・・・ＡＮ）
によって併行的に行うから、同一走査密度・同一走査線
速度で走査する場合、所要時間は１７Ｎに短縮される。
従来方法（第１図）に対比すると、従来時間的に順次連
続して行った矢印Ａｓ ＝ Ａｔ・・・の走査を、Ｎ本
の走査線（第５図におけるＡＩ Ｉ Ａｍ・・・ＡＮ）
によって併行的に行うから、同一走査密度・同一走査線
速度で走査する場合、所要時間は１７Ｎに短縮される。
また、本実施例のように、Ｎ個め光検出素子にそれぞれ
一端を取付けられたＮ本の光ファイバの自由端を受光部
として１直線り上に列設すると、光検出素子本体の形状
寸法に関係なく、その受光部を互いに近接させて設ける
ことができ、走査密度を容易に太き（することができる
。そしてパターン画像の投影光束を本例のように回転多
面鏡で反射させることによって走査すると、正確に高速
の走査をすることが容易で、その上、回転多面鏡の回転
速度という機械的なファクターによって走査のサイクル
時間が決まるので、パターンのＸ方向送りと同期させる
ことが容易である。
一端を取付けられたＮ本の光ファイバの自由端を受光部
として１直線り上に列設すると、光検出素子本体の形状
寸法に関係なく、その受光部を互いに近接させて設ける
ことができ、走査密度を容易に太き（することができる
。そしてパターン画像の投影光束を本例のように回転多
面鏡で反射させることによって走査すると、正確に高速
の走査をすることが容易で、その上、回転多面鏡の回転
速度という機械的なファクターによって走査のサイクル
時間が決まるので、パターンのＸ方向送りと同期させる
ことが容易である。
第８図に示すように同一形状のパターンがピッチｐで配
列されている場合、第９図について次に述べるような装
置を用いて距離ｄだけ離れた２つツバターン１１と同１
１′とを電気的に検出して、その信号出力を比較すると
、２つの出方信号に差異があった場合に、これをもって
パターンに欠陥があるものとしてパターン欠陥を検出す
ることができる。
列されている場合、第９図について次に述べるような装
置を用いて距離ｄだけ離れた２つツバターン１１と同１
１′とを電気的に検出して、その信号出力を比較すると
、２つの出方信号に差異があった場合に、これをもって
パターンに欠陥があるものとしてパターン欠陥を検出す
ることができる。
第９図は、第４図に示した本発明方法を実施するための
基本的構成よりなる２組の検出器を、距離ｄ’ｌ隔てて
平行に設置したバタ二゛ン検出装置である。第４図にお
いて１個づつ設けた光フアイバ列３および対物レンズ６
を、本例においては２個づつ設けている。また、回転多
面鏡７の幅寸法りは第４図におけるよりも距離ｄに相当
する寸法だけ広くしである。１３は被検査物１２７ｋＸ
方向に横送りし、かつＹ方向にステップ送りするだめの
ＸＹステージ、１４は投影光束の光軸ｖ ９００曲げる
ことにより装置全体をコンパクトにするための平面鏡で
ある５゜ 以上のようにして本例は、２個のパターン１１゜１１’
に対応するように、各複数個の光検出素子受光部を列設
した光フアイバ列３，３′を１直線りに沿って配設し、
かつ上記のパターン１１ 、１１’の画像を直線りに垂
直な方向に走査する手段としての回転多面鏡７、および
上記のバタ、−ン１１ 、１１’Ｙ［線りと平行な方向
に送る手段としてのＸＹテーブル１３を設け、前記２組
の光フアイバ列３，３′に接続された光検出素子（図示
せず）の出力を電気的に比較する演算装置（図示せず）
を設けることにより、２個のパターン１１ 、１１”４
同時に並行的に電気信号として検出し、これら双方の信
号出力を電子演算的に比較して差異の有無を検出するこ
とによりパターン欠陥の有無を自動的に検知することが
できる。ただし、次のような技術的困難を伴う。即ち、
前述のごとく回転多面鏡７の幅寸法りは、その反射面に
おける光束の直径よりも寸法ｄ（両パターン１１ 、１
１’の距離）だけ大きくなければならない。
基本的構成よりなる２組の検出器を、距離ｄ’ｌ隔てて
平行に設置したバタ二゛ン検出装置である。第４図にお
いて１個づつ設けた光フアイバ列３および対物レンズ６
を、本例においては２個づつ設けている。また、回転多
面鏡７の幅寸法りは第４図におけるよりも距離ｄに相当
する寸法だけ広くしである。１３は被検査物１２７ｋＸ
方向に横送りし、かつＹ方向にステップ送りするだめの
ＸＹステージ、１４は投影光束の光軸ｖ ９００曲げる
ことにより装置全体をコンパクトにするための平面鏡で
ある５゜ 以上のようにして本例は、２個のパターン１１゜１１’
に対応するように、各複数個の光検出素子受光部を列設
した光フアイバ列３，３′を１直線りに沿って配設し、
かつ上記のパターン１１ 、１１’の画像を直線りに垂
直な方向に走査する手段としての回転多面鏡７、および
上記のバタ、−ン１１ 、１１’Ｙ［線りと平行な方向
に送る手段としてのＸＹテーブル１３を設け、前記２組
の光フアイバ列３，３′に接続された光検出素子（図示
せず）の出力を電気的に比較する演算装置（図示せず）
を設けることにより、２個のパターン１１ 、１１”４
同時に並行的に電気信号として検出し、これら双方の信
号出力を電子演算的に比較して差異の有無を検出するこ
とによりパターン欠陥の有無を自動的に検知することが
できる。ただし、次のような技術的困難を伴う。即ち、
前述のごとく回転多面鏡７の幅寸法りは、その反射面に
おける光束の直径よりも寸法ｄ（両パターン１１ 、１
１’の距離）だけ大きくなければならない。
一方、上記の回転多面鏡７は高速走査を行うため１万ｒ
、ｐ、ｍ以上の高速で回転させねばならないのであるが
、幅寸法りが太き（なるとこのような高速回転を行わせ
ることが著しく難かしくなる。
、ｐ、ｍ以上の高速で回転させねばならないのであるが
、幅寸法りが太き（なるとこのような高速回転を行わせ
ることが著しく難かしくなる。
第１０図は、上述の困難を解消するため、回転多面鏡７
の幅寸法りを小さくすることができるように構成された
本発明装置の一実施例について、その基本的構成を説明
するための概要的な斜視図である。次に、第１０図の装
置の構成を第９図と比較しつつ説明する。２個の同形パ
ターン１１ 、１１’に対応するように、２個の対物レ
ンズ６．６’、及び、２組の光フアイバ列３．ぎを設け
たことは前例と同様である。
の幅寸法りを小さくすることができるように構成された
本発明装置の一実施例について、その基本的構成を説明
するための概要的な斜視図である。次に、第１０図の装
置の構成を第９図と比較しつつ説明する。２個の同形パ
ターン１１ 、１１’に対応するように、２個の対物レ
ンズ６．６’、及び、２組の光フアイバ列３．ぎを設け
たことは前例と同様である。
２個の対物レンズ６．６′によって形成される２つのパ
ターン投影光束をそれぞれ平面鏡１５ 、１５’で反射
し、光路中に設けた結像レンズ１６において両光束を交
差させる。１７ 、１７’は対物レンズ６．６′の焦点
面に設けたフィールドレンズであり、２つの投影光束の
光軸な接近せしめ得るように、それぞれ内側を切り欠い
た形状にしである。
ターン投影光束をそれぞれ平面鏡１５ 、１５’で反射
し、光路中に設けた結像レンズ１６において両光束を交
差させる。１７ 、１７’は対物レンズ６．６′の焦点
面に設けたフィールドレンズであり、２つの投影光束の
光軸な接近せしめ得るように、それぞれ内側を切り欠い
た形状にしである。
以上のようにして２個の同形のパターン１１ 、１１’
に対応するごとく２個の対物レンズ６．６′を設け、そ
れぞれの対物レンズを通過した投影光束を各１個の鏡で
反射させて共通の結像レンズ１６において交差させるよ
うに構成する。これにより、回転多面鏡７の反射面にお
ける両光束の光軸間距離ｄ１を２個のパターン１１ 、
１１の間の距離ｄよりも格段に小さくすることができる
。従って回転多面鏡７の幅寸法りを小さくすることがで
き、同回転多面鏡７の高速回転が容易になる。
に対応するごとく２個の対物レンズ６．６′を設け、そ
れぞれの対物レンズを通過した投影光束を各１個の鏡で
反射させて共通の結像レンズ１６において交差させるよ
うに構成する。これにより、回転多面鏡７の反射面にお
ける両光束の光軸間距離ｄ１を２個のパターン１１ 、
１１の間の距離ｄよりも格段に小さくすることができる
。従って回転多面鏡７の幅寸法りを小さくすることがで
き、同回転多面鏡７の高速回転が容易になる。
上述の第１０図のような構成の検出装置においては被検
出物である２つのパターン１１，１１′間の距離ｄが変
わった場合、この４寸法に応じて光学系を調節するのに
多くの時間と労力とを要する。第１１図は光学系の自動
調整手段を備えた実施例の斜視図である。
出物である２つのパターン１１，１１′間の距離ｄが変
わった場合、この４寸法に応じて光学系を調節するのに
多くの時間と労力とを要する。第１１図は光学系の自動
調整手段を備えた実施例の斜視図である。
本例においては光学系を構成する各部材のうち対物レン
ズ６、鏡１５．フィールドレンズ１７．結像レンズ１６
および光フアイバ列３は本装置の固定部分に対して固設
された静止部材である。
ズ６、鏡１５．フィールドレンズ１７．結像レンズ１６
および光フアイバ列３は本装置の固定部分に対して固設
された静止部材である。
ｘ −ｘ’方向に駆動自在なステージ１８を設けてこの
ステージ１８に対物レンズ６′を固設する。
ステージ１８に対物レンズ６′を固設する。
結縁レンズ１６の光軸と垂直をなすように軸１９を固設
し、この軸１９によって揺動アーム加の一端を回動自在
に枢支するとともに、この揺動アーム頷の自由端にフォ
ーク２１を形成し、ステージ１８に植設したピンｎに保
合する。そして、＠１５’およびフィールドレンズ１７
′を上記のアーム加に取りつける。
し、この軸１９によって揺動アーム加の一端を回動自在
に枢支するとともに、この揺動アーム頷の自由端にフォ
ーク２１を形成し、ステージ１８に植設したピンｎに保
合する。そして、＠１５’およびフィールドレンズ１７
′を上記のアーム加に取りつける。
これにより、２つのパターン１１ 、１１’間の距離ｄ
に合わせてステージ１８を矢印ｘ 、 ｘ’方向に移動
させて２個の対物レンズ６．６′間の距離を調整すると
、これに伴ってアームＩが揺動し、これに取付けられた
鏡１５′およびフィールドレンズ１７′が動かされて、
対物レンズ６′を通ったパターン１１’の投影光束はフ
ィールドレンズ１７′の中心および共通結像レンズ１６
の中心を通る。一方、ｘ、ｘ’方向に駆動し得るステー
ジ器を設けてこのステージ器に光フアイバ列３′を取り
つけ、パターン１１′の結像位置に光フアイバ列３′を
移動せしめ得るようにする。４゜４・・・は光ファイバ
に接続された光検出素子、冴は同検出出力を入力せしめ
る比較演算回路である。
に合わせてステージ１８を矢印ｘ 、 ｘ’方向に移動
させて２個の対物レンズ６．６′間の距離を調整すると
、これに伴ってアームＩが揺動し、これに取付けられた
鏡１５′およびフィールドレンズ１７′が動かされて、
対物レンズ６′を通ったパターン１１’の投影光束はフ
ィールドレンズ１７′の中心および共通結像レンズ１６
の中心を通る。一方、ｘ、ｘ’方向に駆動し得るステー
ジ器を設けてこのステージ器に光フアイバ列３′を取り
つけ、パターン１１′の結像位置に光フアイバ列３′を
移動せしめ得るようにする。４゜４・・・は光ファイバ
に接続された光検出素子、冴は同検出出力を入力せしめ
る比較演算回路である。
本例のように２個の対物レンズを通過した投影光束を各
１個の鏡で反射させて共通の結像レンズ１６において両
光束を交差させると、Ｙ方向走査手段（本例においては
回転多面鏡７）を小形化することができ、高速走査が容
易となる。
１個の鏡で反射させて共通の結像レンズ１６において両
光束を交差させると、Ｙ方向走査手段（本例においては
回転多面鏡７）を小形化することができ、高速走査が容
易となる。
以上説明したように、本発明に係るパターン検出方法は
、Ｎ個の光検出素子の受光部を１直線り上に列設して各
光検出素子の出力信号を同時に出力させ、かつ、被検出
物であるパターンの画像を上記の直線りの画像と垂直な
方向に走査するとともに、上記のパターンを直線りと平
行な方向にＶ：Ｗ／Ｔなる速度Ｖで送ることにより、従
来の装置に比して検出速度をＮ倍にすることができる。
、Ｎ個の光検出素子の受光部を１直線り上に列設して各
光検出素子の出力信号を同時に出力させ、かつ、被検出
物であるパターンの画像を上記の直線りの画像と垂直な
方向に走査するとともに、上記のパターンを直線りと平
行な方向にＶ：Ｗ／Ｔなる速度Ｖで送ることにより、従
来の装置に比して検出速度をＮ倍にすることができる。
また、本発明に係るパターン検出装置は、２個の同形の
パターンに対応するように、各Ｎ個の光検出素子受光部
を一直線り上に列設し、かつ、上記パターンの画像を直
線りと垂直な方向に走査する手段、および、上記パター
ンを直線りと平行な方向に送る手段を設けるとともに、
前記各Ｎ個の光検出素子の出力信号と電気的に比較する
演算装置を設けて上記２個のパターンの不一致部分を欠
陥として検出し得るようにすることにより、パターン欠
陥の有無を従来装置の１７Ｎの時間で自動的に検出する
ことができる。
パターンに対応するように、各Ｎ個の光検出素子受光部
を一直線り上に列設し、かつ、上記パターンの画像を直
線りと垂直な方向に走査する手段、および、上記パター
ンを直線りと平行な方向に送る手段を設けるとともに、
前記各Ｎ個の光検出素子の出力信号と電気的に比較する
演算装置を設けて上記２個のパターンの不一致部分を欠
陥として検出し得るようにすることにより、パターン欠
陥の有無を従来装置の１７Ｎの時間で自動的に検出する
ことができる。
第１図は従来一般に用いられているパターンの検出方法
を説明するためのパターン面の平面図、第２図は同検出
信号の図表、第３図乃至第７図は本発明に係るパターン
検出方法の１例を示し、第３図は本方法の実施に用いる
光検出素子の斜視図、第４図は同じ（光学系の斜視図、
第５図は゛上記の光学系における視野の平面図、第６図
および第７図は走査区域の１例を示した平面図である。 第８図乃至第１１図は本発明に係るパターン検出装置の
実施例を示し、第８図は被検出物の一例の平面図、第９
図は１実施例の斜視図、第１０図は上記と異なる実施例
の構成原理を説明するだめの概要的な斜視図、第１１図
は同実施例の評細な斜視図である。 １・・・パターン面、３．３’・・・光フアイバ列、４
・・・光検出素子、６ 、６’・・・対物レンズ、７・
・・回転多面鏡、１１ 、１１’・・・パターン、１２
・・・被検査物、１４ 、１５・・・平面鏡、１６・・
・結偉レンズ、１８．Ｚ３・・・ステージ、Ｕ・・・比
較演算回路。 代理人弁理士 秋 本 正 実 第１図 第４図 第５図 第６図 １゜ 、 第７図 第８図 第１０図
を説明するためのパターン面の平面図、第２図は同検出
信号の図表、第３図乃至第７図は本発明に係るパターン
検出方法の１例を示し、第３図は本方法の実施に用いる
光検出素子の斜視図、第４図は同じ（光学系の斜視図、
第５図は゛上記の光学系における視野の平面図、第６図
および第７図は走査区域の１例を示した平面図である。 第８図乃至第１１図は本発明に係るパターン検出装置の
実施例を示し、第８図は被検出物の一例の平面図、第９
図は１実施例の斜視図、第１０図は上記と異なる実施例
の構成原理を説明するだめの概要的な斜視図、第１１図
は同実施例の評細な斜視図である。 １・・・パターン面、３．３’・・・光フアイバ列、４
・・・光検出素子、６ 、６’・・・対物レンズ、７・
・・回転多面鏡、１１ 、１１’・・・パターン、１２
・・・被検査物、１４ 、１５・・・平面鏡、１６・・
・結偉レンズ、１８．Ｚ３・・・ステージ、Ｕ・・・比
較演算回路。 代理人弁理士 秋 本 正 実 第１図 第４図 第５図 第６図 １゜ 、 第７図 第８図 第１０図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、複数個の光検出素子の受光部′４ｔ１直線り上に列
設して各光検出素子の出力信号を並列に出力せしめ、か
つ、検出すべきパターンの画像を上記の直線りと垂直な
方向に走査するとともに、上記のパターンを直線りと平
行な方向に送り、その送り速度Ｖを Ｖ ＝Ｗ／ Ｔ ただし、Ｗニー直線り上に列設された複数個の光検出素
子受光部 の走査幅寸法 Ｔニー前記のパターン画像の走 査サイクル時間 ならしめることを特徴とするパターン検出方法。 ２、前記の受光部は、複数個の光検出素子にそれぞれ一
端を取付けられた光ファイバの自由端部とし、かつ、前
記のパターンの投影光束を回転多１，１面鏡で反射させ
ることによってその画像を直線りと垂直な方向に走査す
ることを特徴とする特許時求の範囲第１項に記載のパタ
ーン検出方法。 ３、同形パターンが繰返し形成されているパターンを検
査するために、上記のパターン内の２個のパターンに対
応するように各複数個の光検出素子受光部を１直線り上
に列設し、かつ、上記各パターンの画像を直線りと垂直
な方向に走査する手段、及び、上記パターンを直線りと
平行な方向に送る手段を設けるとともに、前記各複数個
の光検出素子の出力信号ン電気的に比較する演算装置ケ
設けて上記２個のパターンの不一致部分？欠陥として検
出し得べくなしたることン特徴とするパターン検出装置
。 ４、 前記の２個のパターンに対応するように列設した
各複数個の光検出素子受光部は、前記２個のパターンに
対応するように２個の対物レンズを備えたものとし、各
対物レンズを通過した投影光束を各１個の鏡で反射させ
て共通の結像レンズにおいて交差させることにより上記
パターンの画像２・）を直線りと垂直な方向に走査する
手段を小崩化し得べくなしたることを特徴とする特許請
求の範囲第３項に記載のパターン検出装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10888581A JPS5810833A (ja) | 1981-07-14 | 1981-07-14 | パタ−ンの検出方法及び同装置 |
| DE8282106185T DE3274015D1 (en) | 1981-07-14 | 1982-07-12 | Pattern detection system |
| EP82106185A EP0070017B1 (en) | 1981-07-14 | 1982-07-12 | Pattern detection system |
| US06/397,900 US4508453A (en) | 1981-07-14 | 1982-07-13 | Pattern detection system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10888581A JPS5810833A (ja) | 1981-07-14 | 1981-07-14 | パタ−ンの検出方法及び同装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5810833A true JPS5810833A (ja) | 1983-01-21 |
Family
ID=14496056
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10888581A Pending JPS5810833A (ja) | 1981-07-14 | 1981-07-14 | パタ−ンの検出方法及び同装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5810833A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0701145A3 (de) * | 1989-12-23 | 1996-03-20 | DORNIER GmbH | Entfernungsbildkamera |
| US7965380B2 (en) | 2004-10-18 | 2011-06-21 | Asml Netherland B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
-
1981
- 1981-07-14 JP JP10888581A patent/JPS5810833A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0701145A3 (de) * | 1989-12-23 | 1996-03-20 | DORNIER GmbH | Entfernungsbildkamera |
| US7965380B2 (en) | 2004-10-18 | 2011-06-21 | Asml Netherland B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
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