JPS58110563A - ４−シアノ−２−アゼチジノン誘導体およびその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、新規な式 〔式中　Ｒ１はアシル化されまたは保護されていてもよ
いアミノ基を、Ｘは水素またはメトキシ基を。 ＷＦｉ水素またはスルホ基を示す〕で表わされる４−シ
アノ−２−アゼチジノン誘導体およびその製造法に関す
る。 本発明者等は、Ｓ々研究した結果１式 〔式中、Ｒ２はアシル化されまたは保護され九アミノ基
を、Ｙはハロゲンまたは式→■Ｒ”、　−８ＣＯＩ３記
と同意義を示す〕で表わされる化合物とシアノ化合物を
反応させ、必要に応じて保護基を除去すると、４−シア
ノ−２−７ゼチジノン誘導体〔菖〕が得られること、得
られ良化合物（１）が４−置換−２−アゼチジノン誘導
体の合成特に光学活性体の合成に有利な中間体であシ、
たとえば化合物（１）を水利反応に付し、必要に応じて
保護基を除去すると１式 〔式中、Ｒ＃ｉアシル化されまたは保護されていてもよ
いアミノ基を、ＸおよびＷは前記と同意義を示す〕で表
わされる４−カルバモイル−２〜アゼチジノン誘導体が
得られることを見出し、これらに基づいて本発明を完成
した〇 即ち１本発明は。 （１）４−シアノ−２−アセチジノン誘導体（１）、（
２）　　化合物〔厘〕とシアン化合物を反応させ。 必要に応じて保護基を除去することを特徴とする。 ４−シアノ−２−アゼチジノン誘導体〔１〕の製造法。 （３）４−シアノ−２−アゼチジノン誘導体［１）を水
利反応に付七、必要に応じて保護基を除去することを特
徴とする。４−カルバモイル−２−アセチジノン１！導
体〔厘〕の製造法に関するものである。 前記式中　Ｈｌ、Ｒ２およびＲ４で表わされるアシル化
されたアミ７基におけるアシル基としては、たとえば従
来知られているペニシリン誘導体ＯＳ位′ｆミノ基に置
換しているアシル基、セファロスポリン誘導体の７位ア
ミン基に置換しているアシル基等が用いられる。このよ
うなアシル基の９４トしては、たとえば（１）式 ％式％（） 〔式中　１５は低級アルキル、置換基を有していてもよ
いフェニルまたは置換基を有してｉてもよい複素環基を
示す〕で表わされる基、Ｃ２）式１式中　１６は水素、
置換基を有していてもよいアミノ酸残基、アミノ基の保
護基１式Ｒ８−（ＣＨ２）、−ＣＯ−（式中　１８はア
ミノ基、置換基を有して−てもよい複素環基、置換基を
有していてもよいフェニル、置換基を有していてもよい
低級アルキル基を１ｍは０ないし３の整数を、それぞれ
示す〕で表わされる基を　１７は水素、置換基を有して
いてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよいフ
ェニル、置換基を有していてもよい複素環基または置換
基を有していてもよいシクロアルケニル基をそれぞれ示
す）で表わされる基、０）式Ｒ９−Ｒ１０−ＣＯ−（Ｃ
） 置換基を有していてもよい複素環基または置換基を有し
ていてもよいフェニル基を、Ｒ１２は水素。 置換基を有していてもよいフェニル、低級アシル。 低級アルキルまたは式−Ｒ１３−Ｒ１４（式中、Ｒ１３
は低級アルキレンまた社低級アルケニレンを、Ｒ１′ｕ
カルボキシル基またはそのエステルを、それぞれ示す）
で表わされる基を、それぞれ示す）で表わされる基を、
Ｒ１０は単なる結合手または式置換基を有していてもよ
いフェニルまたは置換基を有し、ていてもよい複素環基
を示す）で表わされる基を、それぞれ示す〕で表わされ
る基、（４）式（式中、Ｒ”１１１ヒドロキシル、カル
ボキシル、スルホ、ホルミルオキシ、）＼ロゲンま六は
アジド基を、Ｒ１７は水素、低級フルキル、低級アルコ
キシ。 ハロゲンまたは一ヒドロキシル基を、それぞれ示す〕で
表わされる基、（５）式 ％式％（） 〔式中、Ｒ１８はシアノ、置換基を有していてもよいフ
ェニル、置換基を有していてもよいフェノキシ、置換基
を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していて
もよいアルケニルまたは置換基を有していてもよい複素
環基を、Ｒ１９Ｂ単なる結合手または−Ｓ−を、それぞ
れ示す〕で表わされＬ基などが用いられる。 上記式（Ａ）〜（Ｅ）中のＲ５−Ｒ１９において、低級
アルキルとしては、たとえばメチル、エチル、詭−プロ
ピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、・５Ｃ
Ｃ−ブチル＊　ｔｅｒｔ−ブチル、ペメチル、イソペン
チル、ヘキシル、イソヘキシルなどの炭素数１〜６のア
ルキルが用いられる。低級アルコキシとしてＦｉ、たと
えｄメトキシ、エトキシ、ｎ−クロボ１シ、イングロボ
キモ ンブトキシ＋　５ｅｃ−ブトキシ、　ｔｅｒｔ−ブトキ
シ、ペントキシ、イソペントキシ、ヘキシルオキシ、イ
ソヘキシルオキシなどの炭素数１〜６のアルコキシが用
いられる。アルケニルとしては、たとえばビニル、アリ
ル、イソプロペニル、２−メタリル。 ３−メタリル、３−ブテニルなどが用いられる。 シクロアルケニルとしては５〜６員環のものが好ましく
、たとえばシクロへキセニル、シクロヘキサジェニルな
どが用いられる。低級アルキレンとしては、炭素数１〜
３のものが好ましく、その例としてｔよたとえばメチレ
ン、ジメチルメチレン。 てチレン、メチルエチレン、トリメチレンなどが用いら
れる。低級アルケニレンとしては炭素数１〜３のものが
好ましく、その例としてはたとえばビニレン、グロペニ
レンなどが用いられる。ハロゲンの具体例としては、塩
素、臭素、ヨウ素、フッ素が用いられる。複素環基とし
ては、たとえば窒素原子（オキシド化されていてもよい
）、酸素原子、硫黄原子などのへテロ原子を１〜数個含
む５〜８員環またはその縮合環などで炭素原子に結合手
を有するものが用いられ、たとえば２−またＦｉ３−ビ
ａリル、２−またＦｉ３−７リル、２−または３−チェ
ニル、２−または３−ピロリジニル。 ２−１３−または４−ピリジル、Ｎ−オキシド−２−，
３−１たは４−ピリジル、２−．３−１たは４−ピペリ
ジニル、２−．３−または４−ピラニル、２−．３−ま
た１ｊ４−チオピラニル、ピラジニル、２−．４−また
は５−チアゾリル、２−０４−または５−オキサシリル
、３−．４−または５−イソチアゾリル、３−．４−ま
たは５−イソキサゾリル、２−．４−また＃′ｉ５−イ
ミダゾリル。 イミダゾリジニル、３〜．４−または５−ピラゾリル、
ピラゾリジニル、３−または４−ピリダジニル、Ｎ−オ
キシド−３−１たは４−ピリダジニル、２−．４−を九
Ｆｉ５−ピリミジニル、Ｎ−オキシド−２−，４−１た
は５−ピリミジニル、ピペラジニル、４−を九Ｆｉ５−
（１，２，３−チアジアゾリル）、３−１たは５−（１
，２，４−チアジアゾリル）、１．３．４−チアジアゾ
リル。 １．２．５−チアジアゾリル、４−また１ｊ５−（１゜
２．３−オキサジアゾリル）、３−または５−、（］。 ２．４−オキサジアゾリル）、１ｒ３−４−オキリジア
ゾリル、１．２．５−オキサジアゾリル。 １．２．３−または１．２．４−トリアゾリル。 ＩＨまたは２Ｈ−テトラゾリル、ピリド（２，３−ｄ）
ピリミジル、ベンゾピラニル、１．８−．１．５−。 １．６−．１，７−．２．７−または２．６−す７チリ
ジル、キノリル、チェノ（２，ａ−ｂ）ピリジルなどが
繁用される。アミノ酸残基としては、たトエハクリシル
、アラニル、バリル、ロイシル。 インロイシル、セリル、スレオニル、システイニル、シ
スチル、メチオニル、α−ｆたｔｆβ−アスパルチル、
α−また１ｌｔｒ−グルタミル、リジル。 アルギニル、フェニルアラニル、フェニルクリシル、チ
ロフル、ヒスチジル、トリプトフィル、プロリルなどが
用いられる。アミノ基の保護基とし−Ｃは、後述の７ミ
ノ基の保護基と同様のものが用いられる。低級アシル基
としては、炭素数２〜４のものが好ましく、たとえばア
セチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリルなどが
用いられる。 また、置換基を有していてもよい低級アルキル。 置換基を有していてもよいアルケニルの置換基としては
、たとえばフェニル、カルバモイル、メチルカルバモイ
ル、カルボキシル、シアン、ハロゲン、ヒドロキシルな
どが用いられる。置換基を有していてもよｉフェニル、
置換基を有していてもよいフェノ中シ、置換基を有して
いてもよいシＩロアルケニルの置換基としては、たとえ
ば炭素数１〜３の低級アルキル、炭素数１〜３の低級ア
ルコキシ、ハロゲン、アミノ、ベンジルオキシ、ヒドロ
キシル、炭素数２〜１Ｇのアシルオキシ、アミノメチル
、カルバモイルアミノメチル、３−アミノ−３−カルボ
キシプロポキシなどが用いられる。置換基を有していて
もよい複素環基の置換基としては、九とえば置換基を有
していてもよい炭素数ｌ〜８のアルキル、炭素数１〜３
の低級アルコキシ、ヒドロキシル、カルボキシル、オキ
ソ。 モノクロロアセトアミド、アルデヒド、トリフルオクメ
チル、アミノ、ハロゲン、上記のごとき置換基を有して
いてもよいフェニルｌＩ、ｔｔｆ２．６−ジクロロフェ
ニルなト）、クマリン−３−カルボニル、４−ホルミル
−１−ピペラジニル、ピロールアルドイミノ。フランア
ルドイミノ、チオフェンアルドイミノ、メシル、メシル
アミノ、アミノ基の保霞基、ハロゲンで置換されていて
もよい炭素数２〜４のアシルアミノなどが用いられる。 該アミノ基の保護基としては、後述のアミノ基の保護基
と同様のものが用いられる。置換基を有していてもよい
アミノ酸残基の置換基としては、たとえｔ、ｘ　；ｒ　
ミノ、アミノ基の保護基、カルバモイル、メチルカルバ
モイル、ペグプルなどが用いられる。 該アミン基の保護基としては、後述のアミノ基の保撞基
と同様のものが用いられる。Ｒで表わさねるカルボキシ
のエステルとしては、たとえばメチルエステル、エチル
エステル、クロビルエステル、ｔ−ブチルエステル、バ
ラニトロベンジルエステル、２−）’Ｊメチルシリルエ
チルエステルなどが用いられる。 前記Ｒ５〜Ｒ１９で示される置換基中に７ミノ基。 カルボキシル基、ヒドロキシル基がある場合には保護さ
れていてもよい。アミノ基の保護基としては、たとえば
後記Ｒ１における「アミノ基の保護基」などが用いられ
る。カルボキシル基の保護基としては。 β−ラクタムおよび有機化学の分野で通常カルボキシル
基の保護基として使用し得るものはすべて利用でき、た
とえばメチル、エチル、ｍ−グロビル、イングロビル、
　ｔｅｒｔ−ブチル、　ｔｅｒｔ−アミル。 ベンシル、Ｐ−二トロペンジル、？−メ）キシベンジル
、ベンツヒトリール、フェナシル、７エ二ル、Ｐ−二ト
ロフエ二ル、メトキシメチル、エトキシメチル、ベンジ
ルオキシメチル、アセトキシメチル、ピパロイルオキシ
メチル、β−メチルスルホニルエチル、β−トリメチル
シリルエチル。 メチルチオメチル、トリチル、β、β、β−トリクｏｏ
エチル、β−ヨードエチル、２−トリメチルシリルエチ
ル、トリメチルシリル、ジメチルシリル、アセチルメチ
ル、Ｐ−二トロペンゾイルメチル、Ｐ−メシルベンゾイ
ルメチル、７タルイミドメチル、プロピオニルオキシメ
チル、メシルメＰル、ベンゼンスルホニルメチル、フェ
ニルチオメチル、ジメチルアミンエチル等のエステル残
基。 シリル基などが用いられる。なかでも、β、β、β−）
！Ｊクロロエチル、Ｐ−ニトロベンジル、第三級ブチル
、２−トリメチルシリルエチル、Ｐ−メトキシベンジル
が好ましい。ヒドロキシル基の保護基としては、β−ラ
クタムおよび有機化学の分野で通常ヒドロキシル基の保
護基として使用し得るものはすべて利用でき、たとえば
アセチル、クロロアセチルなどのエステル残基、β、β
、β−トリクロロエトキシカルボニル、β−トリメチル
シリルエトキシカルボニルなどの王ステル化されたカル
ボキシル基＊　ｔｅｒｔ−グチル、ベンジル、Ｐ−二ト
ロペンジル、トリチル、メチルチオメチル。 β−メトキシエトキシメチルなどのエーテル残基。 トリメチルシリル＋　ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
ナトノシリルエーテル残基、２−テトラヒドロピラニル
、４−メトキシ−４−テトラヒドロピラニルなどのアセ
タール残基などが用いられる。前記保護基の選択は１本
発明においてはアミノ基、カルボキシル基の保護基と同
様５％に限定されるものではなｉｏ 上記のアシル基において１式Ｒ５−Ｃｏ　−（Ａ）で表
わされるアシル基の具体例としては、たとえば３−（２
，６−ジクロロフェニル）−５−／チルイソキサゾール
ー４−イルーカルボ、ニルなどが用いられる。式Ｒ’−
ＮＨ−ＣＨ−ＣＯ−ＣＢ）で表わされるＲ’？ アシル基の臭体例としては、たとえばＤ−アラニル、Ｄ
−フェニルアラニル、α−ベンジル−Ｎ−カルボベンゾ
キシ−ｒ−Ｄ−グルタミル−Ｄ−アラニル、Ｄ−フェニ
ルグリシル−Ｄ−アシエル。 Ｎ−カルボベンゾキシ−Ｄ−フェニルグリシル。 Ｄ−アラニル−Ｄ−フェニルグリシル、ｒ−Ｄ−グルタ
建ルーＤ−アラニル、Ｎ−カルボベンゾキシ−Ｄ−アシ
エル−〇−フェニルグリシル、Ｄ−カルバモイルトリプ
トフィル−〇−フェニルグリシル、Ｎ−（２−アミノ−
３−（Ｎ−メチルカルバモイル）グロビオニル）−Ｄ−
フェニルクリシル、Ｎ−カルボベンゾキシ−Ｄ−フェニ
ルクリシル−１）−フェニルグリシル、Ｄ−アラニル−
Ｄ−アラニル、２−（２−アミノ−３−（Ｎ−メチルカ
ルバモイル）グロピオンアミド〕アセチル、Ｄ−２−（
４−エチル−２，３−ジオキソ−１−ピペラジノカルボ
キサミド）−２−（４−メトキシフェニル）アセチル、
Ｄ−２−（２−（４−エチル−２，３−ジオキソ−１−
ピペラジノカルボキサミド）アセトアミド〕−２−フェ
ニルアセチル。 ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（４−
エチル−２，３−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサ
ミド）アセチル、Ｄ−２−（４−エチル−２，３−ジオ
キン−１−ピペラジノカルボキサミド）−２−チェニル
アセチル、Ｄ−２−（４−ｎ−ドデシル−２，３−ジオ
キソ−１−ピペラジノカルボキサミド）−２−７エニル
アセチル。 Ｄ−２−（４，６−ジェニル−２，カルボオキソー１−
ピベラジノ力ルポキサミド）−２−フェニルアセチル、
Ｄ−２−（４−シクロヘキシル−２，３−ジオキン−１
−ビ、ベラジノカルボキサミド）−２−チェニルアセチ
ル、Ｄ−２−（４−ｎ−アミル−６（Ｓ）−メチル−２
，Ｄ−３−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサミド）
−２−チェニルアセチル、Ｄ−２−（４−エチル−５−
メチル−２，３−ジオ−中ソ−１−ビベラジノカルポキ
サミ下）−２−チェニルアセチル、Ｄ−２−（８−ヒド
ロキシ−１，５−す７チリジンー７−カルボキサミド）
−２−フェニルアセチル、Ｄ−２−（４−ｎ−オクチル
−２，３−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサミド）
−２−フェニルアセチル。 ２−（４−エチル−２，３−ジオキソ−１−ピペラジノ
カルボキサミド）−２−（４−クロロフェニル）アセチ
ル、α−（Ｎ−（４−エチル−２，３−ジオキソ−１−
ピペラジノカルボニル）〕グルタミニル、Ｄ−Ｎ−（４
−エチル−２，３−ジオキン−１−ピペラジ７カルボニ
ル）フェニルアラニル、Ｄ−２−（４−エチル−２，３
−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサきド）−２−（
４−ヒドロキシフェニル）アセチル、２−（４−エチル
−２，３−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサミド）
−２−（１−シクロヘキセン−１−イル）アセチｋ　、
　Ｄ　−２−（４−ｎ−オクチル−２，３−ジオキソ−
１−ピペラジノカルボキサミド）−２−チェニルアセチ
ル、２−（４−エチル−２，３−ジオキソ−１−ピペラ
ジノカルボキサミド）−２−（２−メチルチアゾール−
４−イル）アセチル、２−（４−ｎ−オクチル−２，３
−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサミド）−２−（
２−アミノチアゾール−４−イル）アセチル、　２−（
４−エチル−２，３−ジオキソ−１−ピペラジノカルボ
キサミド）−２−フリルアセチル、Ｄ−２−（４−エチ
ル−２，３−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサミド
）−２−（２−ピロリル）アセブール、Ｄ−２−（４−
エチル−２，３−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサ
ミド）−３−クロロプロピオニル、Ｄ−２−（４−（２
−ヒドロキシエチル）−２，３−ジオキン−１−ピベラ
ジノカルポキサミド］−２−フェニルアセチル、Ｄ−２
−（４−（２−クロロエチル）−２，３−ジオキノ−１
−ピペラジノカルボキサミド〕−２−フエ＝　Ａ、　７
セチル、Ｄ−２−（（３−ツル７ＩＪ　ＩＪ　テンアミ
ノ−２−オキソイミダゾリジン−１−イル）カルボキサ
ミド〕−２−フェニルアセチル、Ｄ−２−（（３−フル
７リリデンアミノー２−オキソイミダゾリジン−１−イ
ル）カルボキサミド〕−２−（４−ヒドロキシフェニル
）アセチル、Ｄ−２−（（’２−オキソー３−（チオフ
ェン−２−アルドイミノ）イミダゾリジン−１−イル〕
カルボキサミド〕−２−フェニルアセチル、Ｄ−２−（
（３−フル７リリデンアミノー２−オキソイミダゾリジ
ン−１−イル）カルボキサミド〕−２−チェニルアセチ
ル、Ｄ−２−（（３−メ？ルスルホニルー２−オキソイ
ミダゾリジン−１−イル）カルボキサミド〕−２−フェ
ニルアセチル、２−（（３−フル７リリデンアミ、ノー
２−オキソイミダゾリジン−１−イル）カルボキサミド
）−２−（２−アミツチアゾールー４−イル）アセチル
、Ｄ−２−（（２−オキソ−３−（チオ７エンー２−ア
ルドイミノ）イミダゾリジン−１−イル〕カルボキサミ
ド〕−２−チェニルアセチル、Ｄ−２−＜４−ヒトａキ
シ−６−メチルニコチンアミド）−２−（４−ヒドロキ
シフェニル）アセチル、Ｄ−２−（５，８−ジヒドｏ−
２−（４−ホルミル−１−ピペラジニル）−５−オキン
ビリド［２、３−ｄ）ピリミジン−６−カルポキサミド
］−２−７エニルアセチル、Ｄ−２−（３，５−ジオキ
ソ−１゜２．４−）リアジン−６−カルボキサミド）−
２−（４−ヒドロキシフェニル）アセチル、Ｄ−２−（
クマリン−３−カルボキサミド）−２−７エニルアセチ
ル、２−（４−エチル−２，３−ジオキソ−１−ピペラ
ジノカルボキサミド）　−２−（２−りロロ〜１−シク
ロヘキセンー１−イル）アセチル、２−（４−ヒドロキ
シ−７−ドリフルオロメチルキノリンー３−カルボキサ
ミド）−２−フェニルアセチル、Ｎ−（２−（２−アミ
ノチアゾール−４−４ル）アセチル）−Ｄ−７エニルク
リシル、Ｄ−２−（（３−（２，６−シクロロフエ二ｋ
＞−５−）チルインキサシ−ルー４−イル〕カルボキサ
ミド〕−２−チェニルアセチル、Ｄ−２−（カルバモイ
ル）アミノ−２−チェニルアセチル、Ｎ−カルバモイル
−Ｄ−フェニルクリシル　　１０ などが用いられる。式Ｒ−Ｒ−ＣＯ−（Ｃ）で表わされ
るアシル基の具体例としては、たとえばＮ−（２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシイミノ
アセチル）−Ｄ−アラニル、２−（２−クロａアセトア
ミドチアゾール−４−イル）−２−メトキシイミノアセ
チル、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
イングロポキシイミノアセチル、２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシイミノアセチル。 ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−オキシ
イミノアセチル、２−チェニル−２−メトキシイミノア
セチル、２−フリル−２−メトキシイミノアセチル、２
−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノア
セチル、２−フェニル−２−メトキシイミノアセチル、
２−チェニル−２−オキシイミノアセチル、２−チェニ
ル−２−ジクロロアセチルオキシイミノアセチル、２−
（４−（３−アミノ−３−カルボキシプロポキシ）フェ
ニルクー２−オキシイミノアセチル、２−（５−クロｃ
１−２−アミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシ
イミノアセチル、２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（１−カルボキシメトキシイミノ）アセチル
、２−（２−アミノチ。 アゾール−４−イル）−２−（１−カルボキシエトキシ
イミノ）アセチル、２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）−２−（１−カルボキシ−１−メチルエトキシイ
ミノ）アセチル、２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（１−メトキシカルボニル−１−メチルエト
キシイミノ）アセチル、２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−カルボキシ−１−シクロプロビ
ルメトキシイミノ）アむル、２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−２−（１−カルボキシ−１−シクログ
チルメトキシイ、ミノ）アセチル、２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−（１−カルバモイル−１−
メチルエトキシイミノ）アセチルなどが用いられる。式 るアシル基の具体例としては、たとえば、ａ−スルホフ
ェニルアセチル、ａ−ヒドロキシフェニルアセチル、α
−ホルミルオキシフェニルアセチル。 α−カルボキシフェニルアセチル、２−プａモー２−フ
ェニルアセチル、２−アジＹ−２−フェニルアセチルな
どが用いられる。式Ｒ−Ｒ−ＣＨ２−Ｃ０−（Ｅ）で表
わされるアシル基の具体例としては、たとえば、シアノ
アセチル、フェニルアセチル、フェノキシアセチル、ト
リフルオロメチルチオアセチル、シア゛ツメ′チルチオ
アセチル、ＩＨ−テトラゾイル−１−アセチル、２−チ
ェニルアセチル、２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）アセデル、２−（２−クロロアセトアミドチアゾー
ル−４−イル）アセチル、４−ピリジルチオアセチル、
３．５−ジクａロー１．４−ジヒドロ−４−オキソピリ
ジン−１−アセチル、β−カルボキシビニルチオアセチ
ル、２−（２−Ｎ−カルゼベンゾキシアミノメチル２エ
ニル）アセチル、２−（鼾−ウレイドメチルフェニル）
アセチルなどが用−られる。 　　　２ Ｒ，ＲおよびＲで表わされる保護されたアミン基の保護
基としては、β−ラクタムおよびべ、ブチド合成の分野
でこの目的に用いられるものが便宜に採用される。たと
えばフタロイル、Ｐ−ニトロル等の芳香族アシル基、た
とえばホルミル、アセニル、トリフルオロアセチル、マ
ロイル、スクシニル等の脂肪族アシル基、たとえばベン
ジルオキシカルボニル、Ｐ−ニトロペンレルオキシカル
ボニル、Ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル。 ２−トリメチルシリルエトキシカルボニル、メトキシカ
ルボニル基、さらに１例えばトリチル、２−ニドロフエ
ニルチオ、ベンジリチン、４−ニトロベンジリデン、ジ
もしくはトリアルキルシリル。 ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリ
ル、ベンジル、Ｐ−ニトロベンシル等のアシル基以外の
７ミノ基の保護基が用いられる。該保護基の選択は本発
明においては、カルボキシの保護基と同様、特に限定す
るものではないが、４１にモノクａａアセチル、ベンジ
ルオキシカルボニル、Ｐ−メトキシベンジルオキシカル
ボニル、２−トリメチルシリルエトキシカルボニル、Ｐ
−二トａベンジルオキシカルボニルが好ましい。 Ｙは、ハＣｆゲンまたは式−〇ＣＯＲ、−５ＣＯＲま２
を示す）で表わされる基を示す。ここＫおｉてハロゲン
として祉塩素、フッ素、：Ｉつ素、臭素が用いられる。 炭化水素基としては、たとえばＲ５−Ｒ１９で述べたご
とき置換基を有していてもよい低級アルキル、アルケニ
ル、シクロアルキル々すとのほか、たとえばシクロプロ
ピル、シクロブチル。 シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘゲチル、ア
ダマンチルなどの炭素数３〜ｌＯのシクロアルキル基、
たとえばフェニル、トリル、キシリル、ビフェニル、す
７チル、アントリル、フエナントリルなどの７リール基
、たとえばベンジル。 フェネチル、フェニルプロビル、ナフチルメチルなどの
アラルキル基などが用いられる。これらのシクロアルキ
ル、アリール、アラルキル基は置換基を有していてもよ
く、このような置換基としてはたとえばＲ５−Ｒ１９（
ｔｃ関して述べたフェニルまたはフェノキシの置換基と
同じものが用いられる。 特に、Ｙがたとえば低級アシルオキシ（例えばアセトキ
シ、ブーピオニルオキシなど）、低級アルキルスルホニ
ル（例、ｔｔｆメチルスルホニル、エチルスルホニルな
ど）などを示す時、好結果が得られる。Ｘ＃ｉ水素また
はメトキシ基を示す。Ｗは水素またけスルホ基を示す。 本発明においては、化合物ＣＩ）とシアン化合物を反応
させ、必要に応じて保饅基を除去することにより化合物
（１）が得られる。 化合物〔厘〕は遊離のままであるいは株々の酸または塩
基との塩、エステル、シリル誘導体（Ｗ＝Ｈの場合）等
の形で本反応の原料として使用できる。また、化合物Ｃ
Ｉ）は、３位と４位に置換基を有するので、シス−トラ
ンス異性体が存在し。 さらに３位と４位の炭素が不斉炭素である九めｉＩ！′
論上少くとも合計４種類の立体異性体が存在するが、こ
れら立体異性体を単独であるいは混合物のいずれの状−
態でも使用することかで°きる。Ｒ２で示される基に不
斉炭素を有する場合本同様であり。 その結果生ずる立体異性体は単独で□あるいは混合物の
いずれの状態でも使用することができる。 化合物〔鳳〕の塩としては、１位にスルホ基。 Ｒ２にカルボキシル基が存在する場合には、たとえばナ
トリウム、カリウム等の無毒性カチオン、アルギニン、
オルニチン、リジン、ヒスチジン等の塩基性アミノ酸、
Ｎ−メチルグルカミン、ジェタノールアミン、トリエタ
ノールアミン、トリスヒドロキシメチルアミノメタンな
どのポリヒトミキシアルキルアミン等との塩が用ｉられ
る。ま＆、Ｒ２に塩基性基が含まれている場合には、た
とえば酢酸、酒石酸、メタンスルホン酸などの有機酸と
の塩、九とえば塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸など無
機酸との塩、九とえばアルギニン、アスパラギン酸、グ
ルタミン酸などの酸性アミノ酸との塩などが用いられる
。さらＶζ、Ｒがカルボキシル基を含む場合には、エス
テル誘導体に変換して用いることもでき、その場合のエ
ステル基としては。 たとえばメトキシメチル、エトキシメチル、イソプロポ
キシメチル、α−メトキシエチル、α−エトキシエチル
等のアルコキシメチル、α−アルコキシエチル等のα−
フルコキシーα−置換メチル基、メチルチオメチル、エ
チルチオメチル、インプロビルチオメチル等のアルキル
チオメチル基、またピパロイルオキシメチル、α−アセ
トキシグチル等のアシルミキシメチル基またはα−アシ
ルオキシ−α−置換メチル基、エトキシカルボニルオキ
シメチル、α−エトキシカルボニルオキシエチル等のα
−アルコキシ炭酸−α−置換メチル基等が用いられる。 そして、化合物（１１〕はシリル化剤でシリル化さ“れ
たものも原料として用いられるウシリル化剤としては、
たとえば式ＰＩ　Ｒ２Ｐ３Ｓｉ＊Ｈ磯１〔式中　ｐｌ　
、　ｐ２　、　ｐ３はそれぞれたとえば炭素数１ないし
４の低級アルキル（たとえばメチル、エチル、ｎ−７’
ロピル、１−７’ロピル、ｎ−ブチルなど）、アリール
（たとえばフェニル。 トリルなど）などの炭化水素基を、Ｈａｌはノ・ロゲン
好ましくはクロル、ブロムを示し、そしてｐｌ。 ｐ２　、　ｐ３のうち１つまたは２つはノ・ロゲン好ま
しくはクロル、ブロムを　ｐｌ、　ｐ２　、　ｐ３の５
　チ１　ツＩＩ！水素原子であってもよい〕で表わされ
る化合物などが用いられる。さらに、たとえばヘキサア
ルキル（Ｃよ−４）シクロトリシラザン、オクタアルキ
ル（Ｃよ−４）シクロテトラシラザン、トリアルキル（
Ｃ１−４）シリルアセタミド、ビス−トリプルキル（Ｃ
ニー４）シリルアセタミドなどもシリル化剤として用い
られる。シリル化剤の好ましいものとして２ 〔式中　ｙｌおよびｙ”Ｆｉそれぞれ低級アルキル、フ
ェニル、ベンジルまたは低級アルコキシ基１、Ｙ３はｔ
−ブチルまたはインプロビル基を　７４　Ｆｉシリル化
剤から脱離する反応性の基をそれぞれ意味する〕゛で示
されるシリル化合物がある。上記の一般式で示されるシ
リル化剤においてｙｌ、ｙ２で示される低級アルキル基
としては、たとえばメチル、クロロメチル、エチル、ｎ
−プロピル、イソプロピル。 ｎ−グチル、　ｔｅｒｔ−グチル等が、低級アルコキシ
基としてはたとえばメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキ
シ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ。１−ブトキシ等が
用いられる。またシリル化剤から脱離する反応性の基Ｙ
′としては、ハロゲン（たとえばクロル、クロル等）の
他たとえばＮ−（トリアルキルシリル）トリフルオロア
セトイミドイルオギシ基：Ｎ−（）リアルキルシリル）
アセトイミドイルオキシ基；ホルミルアミノ、アセチル
アミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、トリフ
ルオロアセチルアミノ等のアシルアミノ基：（）ソーｔ
−ブチルジメチルシリル）アミノ、イソプロビルジメチ
ルシリルアミノ、（クロロメチルジメチルシリル）アミ
ノ等の（トリアルキルシリル）アミノ基：アミイエメチ
ルアミノ。エチルアミノ。 ノロピルアミノ等のフルキルアミノ基：Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアミノ、Ｎ−クロロメチル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ、
Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ、Ｎ−ジグロピルアミノ、Ｎ−
メチル−Ｎ−二チルアミノ。 Ｎ−メチル−Ｎ−７’ロピルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−
プロピルアミノ等のＮ、Ｎ−ジアルキルアミノ基；イミ
ダゾイル等の複素環式基が用いられる。 これらＹ７で表わされる反応性の基におけるアルキル基
としては、炭素数１ないし４のものがよく。 メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル。 ロープチル、ｔ−グチルな・どが用いられる。 このようなシリル化合物の具体的な例としては。 Ｎ、Ｏ−ビス（１−ブチルジメチルシリル）トリフルオ
ロアセトアミド、Ｎ、０−ビス（イソプロビルジメチル
シリル）アセトアミド、ビス（ジメチルイソプロピルシ
リル）アセトアミド、イソプロピルジメチルシリルアセ
トアミド、ビス（ジメチル第３級ブチルシリル）アセト
アミド、Ｎ−メチル−Ｎ−ｔ−ブチルジメチルシリルア
セトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−イソプａビルジメチルシ
リルトリアルオロアセトアきド、Ｎ−１−ブチルジメチ
ルシリルジエチルアミン、１．３−ビス（クロロメチル
）−１，１，３，３−テトラ−ｔ−ブチルジメチルジシ
ラザン、Ｎ−イソプロビルジメチルシリルイミダゾール
、

【−ブチルジフェニルクロロシラン、イソプロピルジ
エチルクロロシラ／、イソプロビルメチルジクｏＨシラ
ン＊　ｔｅｒｔ−グチルジメチルクａロシラン、イソプ
ロピルジメチルクロロシラ７、ｔ−ブチルジエチルクロ
ロシラ７等が用いられ、このうちｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルクロロシラｙ、インプロピルジメチルクロロシラン
等を用いた場合にはシリル誘導体を安定に単離しうる。 シリル化反応の温度は０〜５０℃の温度、好ましくは３
８℃までの温度、通常室温（約２０℃）で行われ１反応
時間は数分（約１０分）ないし２４時間である。反応は
例えば、酢酸エチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン
、Ｎ　、Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、ジクロロメタン、クロロホルム、ベンゼ
ン、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン。 アヒトニトリル勢、またはこれらの混合溶媒、その他こ
の反応Ｋ１１ｌ与しない溶媒中で行なうのが便宜である
。またこの反応は１例えば水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム等の無機塩基或いはたとえばトリエチルアミン、
トリブチルアミン等のトリアルキルアミン、九とえばト
リベンジルアミン等のトリアラルキルアミン、Ｎ−メチ
ルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ、Ｎ−ジアル
キルアニリン、Ｎ、Ｎ−’）アルキルベンジルアミン、
ピリジン、ピコリン、ルチジン等の有機三級アミン、或
いは１．５−ジアザビシクロ（４，３゜０〕ノン−５−
エン、１．４−ジアザビシクロ〔２゜２．２〕オクタン
、１．８−ジアザビシクロ〔５゜４．４〕ウンデセン−
７等の有機塩基の存在下、に行なうことができ、塩基が
液体のものは溶媒を兼ねて使用することができる。かく
して得られる化合物（１）のシリル誘・導体は１反応混
合物のままであるいは下記のごとき公知の手段による単
離。 精製後に、シアノ化合物との反応の原料として用いられ
る。 このようにして得られる化合物〔鳳〕の１−シリル誘導
体において、上記Ｒが保護されているアミン基の場合、
保護基を脱離してから、さらにアシル化反応に付し、所
望の化合物〔皿〕の１−シリル誘導体を製造することも
できる。この３位のアシル変換反応は収率良く進行し操
作も簡便なため容易に行うことができ、所望のアシル基
で置換された程々の２−オキソアゼチジン訪導体の合成
にとって極めて有用であり、さらにシアン化合物との反
応を連続して行なうこともできる。 また、シアノ化合物としては、たとえば式１式中、２＃
ｉアルカリ金属、アルカリ土類金属を示す〕で表わされ
る化合物を用いることができる。 具体的にはたとえばシアン化カリウム、シアン化ナトリ
ウム、シアン化カルシウムなどを用いることができる。 本反応では、化合物（ＩＩ）１モルに対してシアン化合
物約１〜３モル好ましくは１〜１．１モル反応させる。 通常、溶媒中で行なわれる。使用される溶媒としては、
水またはジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテルなどのエーテル類。 酢酸エチル、ギ酸エチルなどのエステル類、クロロホル
ム、ジクロルメタンなどのノ・ａゲン化脚化水素類、ベ
ンゼン、トルエン、ｎ−ヘキサンナトの炭化水素類、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミ
ド類、メタノール、エタノール、イソプロパツール、ｔ
−ブタノールなどのアルコール類、ジメチルスルホキシ
ドスルホ２ン、ヘキサメチルホスホルアミドなど通常の
有機溶媒が、単独または混合して用いられる。なかでも
、良とえば水、ジオキサン、テトラヒドロ７ラン。 ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド。 メタノール、イソプロパツール、ジメチルスルホキシド
などの溶媒が好ましい。反応温度は１通常０〜２０℃の
範囲で行なわれるが、とくにこの条件に限定されるもの
ではなく必要に応じ、適宜加温、冷却を行なってもよい
。また１反応時間は用いられる溶媒、温度などにより適
宜決定されるが、通常短時間で終了する。 反応終了後、生成した化合物（１）Ｖ！たとえば溶媒抽
出、再結晶、クロマトグラフィー等、それ自体公知の分
離精製手段により任意純度のものとして得ることができ
るが１反応混合物のまま次の反応の原料として用いても
よい。 かくして得られる化合物（１）において、保護基を有す
る場合には、必要に応じて保護基を除去することもでき
る。保護基を脱離する方法としては、その保護基の種類
に応じて、酸による方法。 塩基による方法、還元による方法、チオ尿素またけＮ−
メチルジチオカルバミン酸ナトリウムによる方法等の常
用の方法を適宜選択して行うことができる。ここで酸に
よる方法の場合には、保護基の種類その他の条件によっ
て異なるが、酸として例えば塩酸、硫酸、リン酸等の無
機酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、
ベンゼンスルホン酸、Ｐ−）ルエンスルホン酸等の有機
酸の他、酸性イオン交換樹脂等が使用される。塩基によ
る方法の場合には、保護基の種類その他の条件によって
異なるが、塩基として例えばナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属もしくはカルシウム、マグネシウム等のア
ルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩等の無機塩基、金属
アルコΦサイド類。 有機アミン類、第四級アンモニウム塩等の有機塩基の他
、塩基性イオン交換樹脂等が使用される。 上記酸または塩基による方法の場合において溶媒を使用
する場合には親水性有機溶媒、水または混合溶媒が使用
されることが多い。還元による方法による場合には、保
護基の種類その他の条件により異なるが１例えばすす、
亜鉛等の金属あるいは２塩化クロム、酢酸クロム等の金
属化合物と、酢酸、プロピオン酸、塩酸等の有機および
無機酸等の酸を使用する方法、接触還元用金属触媒の存
在下に還元する方法等が用いられ、ここで接触還元によ
る方法て使用される触媒としは１例えば白金線、白金海
綿、白金黒、酸化白金、コロイド白金等の白金触媒、パ
ラジウム海綿、ノ（ラジウム愚。 酸化パラジウム、パラジウム硫酸）（リウム、）（ラジ
ウム炭酸バリウム、パラジウム炭素、／くラジウムシリ
カゲル、コロイドパラジウム等の）（ラジウム触媒、還
元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケル、漆原ニッ
ケル等が用いられる。また金属と酸による還元方法の場
合においては鉄、クロム等の金属化合物と塩酸等の無機
酸およびギ酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸が使用さ
れる。還元による方法は通常溶媒中で行われ１例えば接
触還元による方法においてはメタノール、エタノール。 プロビルアルコール、イングロビルアルコール等のアー
ルコール類、酢酸エチル等が繁用される。また金属と酸
による方法においては水、アセトン等が繁用されるが酸
が液体のときは酸自身を溶媒として使用することもでき
る。反応温度は通常冷却下ないし加温程度で行われる。 得られる化合物（１）ｉｊ、上記のごとき公知の手段に
より坐離精製することもできるが５反応混合物のまま次
の反応の原料とじ−ご用いることもできる。 また、得られた化合物（１）において　Ｒ２がアミノ基
である場合には式 ％式％（） 〔式中、Ｒ，ＣＯ１ｉＲ１，Ｒ２およびＲＫ関して述べ
良ごときアシル基を示す〕で表わされるカルボン酸また
はその反応性誘導体と反応させて、適宜アシル化するこ
ともできる。 Ｒ２が７ミノ基である化合物〔夏〕は、遊離のままであ
るいは化合物〔璽〕で述べたごとき塩、エステル、シリ
ル誘導体の形で用いられてもよい。 カルボン酸（Ｆｉｌ）の反応性誘導体としては１例えば
酸無水物、活性アミド、活性エステル勢が用いられ、こ
のような有機酸の反応性誘導体を具体的に述べると次の
とおりである。 ｌ）酸無水物： ここで酸無水物としては１例えばＩ・ロゲン化水素酸（
例えば塩酸、臭化水素酸等）混合酸無水物。 モノアル−′キル炭酸混合酸無水物、脂肪族カルボン酸
（例えば酢酸、ビパル酸、吉草酸、イソペンタン酸、ト
リクロル酢酸等）混合酸無水物、芳香族カルボン酸（例
えば安息香酸等）混合酸無水物。 対称屋酸無水物等が用いられる。 ２）活性アミド： ここで活性アミドとしては例えば、上２ゾール。 イミタゾール、４−置換イミダゾール、ジメチルピンゾ
ール、ベンゾトリアゾール等とのアミドが用いられる。 ３）活性エステル： ここで活性エステルとしては１例えばメチルエステル、
エチルエステル、メトキシメチルエステル、プロバルギ
ルエステル、４−ニトロフェニルエステル、２．４−ジ
ニトロフェニルエステル。 トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフェニルエ
ステル、メシルフェニルエステル等のエステルの他、１
−ヒドロキシ−ＩＨ−２−ピリドン。 Ｎ−ヒドロ午シスクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシ−５−
ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミ１゛、Ｎ−ヒ
ドロキシフタルイミド等と前記カルボン酸等の酸とのエ
ステル等が用いられる。 このような有機酸の反応性誘導体は使用する酸の種類に
よって適宜選択され、さらにアシル化剤として遊離の酸
を使用する場合ＫＦｉ縮合剤の存在下に反応を行なうの
が好ましく、そのような縮合剤としては例えば、Ｎ、Ｎ
’−ジシクロへキシルヵルホシイ４　Ｆ、Ｎ−シクロヘ
キシル−Ｎ′−モルホリノエチルカルボジイミ・ド、Ｎ
−シクａヘキシル−Ｎ′−（４−ジエチル７きノシクａ
ヘキシル）カルボジイミド、Ｎ−エテル−Ｎ’−（３−
ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド等が用いられ
る。 誼アシル化反応は１通常溶媒中で行なわれる。 溶媒としては水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、塩化メチレン、りＱＱホルム、ジクロロエタン、テ
トラヒドロフラン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド
、ピリジンまたはその他の反応に関与しない一般有機溶
媒が用いられ、Ｃれらのうち親水性の溶媒は水と混合し
て使用するＣともできる。 またアシル化反応はたとえば、水酸化ナトリウム、炭酸
ナトリウム、＃１．酸カリウム、Ｒ酸水素ナトリウムな
どの無機塩基、トリメチルアミン、トリエチルアミン、
トリ１チルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチル
ピペリジン等のトリアルキルアミン、Ｎ、Ｎ−ジアルキ
ルアニリン、Ｎ。 Ｎ−ジアルキルベンジルアンン、ピリジン、ピコリ／、
ルチジン、有機三級アミン、１．５−ジアザビシクロ（
４，３，０３ノン−５−エン、１゜４−ジアザビシフＣ
１（２，２，２）オクタン、１゜８−ジアザビシクロ（
５，４，４）ウンデセン−７等の有機塩基の存在下に行
なうことができ、塩基もしくは前述の縮合剤のうち液体
のもは溶媒を兼ねて使用することができる。反応温度は
特に限定されないが１通常冷却下ないしは室温で行なわ
れることが多い。 また、アシル化反応において、化合物（１）およびアシ
ル化剤ＣＦ／）においてそれらの化合物中に不斉炭素を
有する場合ＫＦｉ、立体異性体を単独であるいは混合物
のいずれの状態でも使用することができる。また、この
反応でこれらの異性体が混在して生成する場合には必要
に応じて夫々をカラムクロマトグラフィ、再結晶等の常
法により単離することができる。かくして得られる化合
物［１）（Ｒ２←ＮＨ２）に保護基がある場合は必要に
応じて前記と同様にして除去することも可能である。 さらに、上記方法で得られる化合物１）において、Ｗが
水素を示す場合には、スルホン化を行なうことも可能で
ある。 本反応のスルホン化とは、化合物（１）（Ｗ＝Ｈ）の１
位にスルホ基を導入することをいい、化合物（１）　（
Ｗ＝Ｈ）と九とえば無水硫酸、あるいは無水硫酸の反応
性誘導体などとを反応させることにより行なう。化合物
（１）（Ｗ＝Ｈ）は、遊離のままであるいは化合物（１
）Ｋ関して述べたごとき塩。 エステル、シリル誘導体の形で用いられ、さらに理論上
存在し得る立体異性体単独あるいは混合物の形で反応に
供することもできる。無水硫酸の反応性誘導体としては
、たとえば無水硫酸−塩基コンプレックス（たとえば無
水硫酸−ビリジン、無水硫酸−トリメチルアミン、無水
硫酸−ピコリン。 無水硫酸−ルチジン、無水硫酸−Ｎ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミドなど）、無水硫酸−ジオ中サン。 無水硫酸−クロロスルホン酸などの付加体などが用いら
れる。 上、イースルホン化反応は、化合物（１〕（Ｗ＝Ｈ）１
モルに対し、無水硫酸またはその反応性誘導体を約１〜
１０モル、好ましくは約１〜５モル使用する。反応温度
は、約−７８〜約８０℃、好ましくけ杓−２０〜約６０
℃である。上記反応にあたっては、溶媒を使用し゛ても
よく、該溶媒としては無水、またはジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテルＮ、酢
酸エチル、ギ酸エチルなどのエステル類、クロロホルム
、ジクロルメタンなどのハロゲン化炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、Ｎ、Ｎ
−ツメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミ
ドなどのアミド類など通常の有機溶媒が単独または混合
して用いられる。用いらｈる原料（１３（Ｗ＝Ｉ（）、
スルホン化剤、反応温度、溶媒の種類により異なるが、
通常数十分から数十時間で反応は終了するが、ときに数
十日間を要することもある。反応終了後、反応混合物を
溶姪抽出、再結晶、クロマトグラフィー等それ自体公知
の粘製分離手段に付すことにより、化合物（１〕（Ｗ　
＝　５ｏ３Ｈ）を任意純度の本のとして得ることができ
る。また、保護基が存在する場合ＫＦｉ、前記のごとき
方法により除去することも可能である。 かくして得られる化合物（１）が、ａｍ形である場合に
け、常法により化合物（１）で述べたごとき箇またはエ
ステルに導いてもよく、逆に堆、エステルの形で得られ
る場合には、常法により遊離形に導いてもよい。 このようＫして得られた４−シアノ−２−アゼチジノン
誘導体（１）は新規な化合物であり、種々の４−置換−
２−アゼチジノン誘導体の有利な合成中間体どして広範
囲な用途があるはか、Ｗ−８０３Ｈのものは抗菌作用及
びＩ−ラクタマーゼ阻害作用を有している。 たとえば、化合物（１）を水和反応に付し、必要に応じ
て保護基を除去することにより化合物〔厘〕が製造され
る。本反応においては、化合物〔夏〕のりアノ基がカル
バモイル基に変換される。原料として用いられる化合物
（１）ｔｊ、遊離形でもよく、また化合物（１）で述べ
たごとき堆、エステル、５／ＩＪル銹導体に導いたもの
でもよい、また、化合物〔菖〕は、３位と４位に置換基
を有するので、シス−トランス異性体が存在し、さらに
３位と４位の胛素が不斉炭素であるため理論上少くとも
合計４種類の立体異性体が存在するが、これら立体異性
体を単独であるいは混合物のいずれの状態でも使用する
ことができる。Ｒで示される基に不斉炭素を有する場合
も同様であシ、その結果中ずる立体異性体は単独である
いけ混合物のｂずれの状喧ζでも使用することができる
。 木水利反応は、化合物（１）の４位シアノ基をカル！（
モイル基に変換しうるものであれば、いかなる方法であ
ってもよく、たとえば化合物ＣＩ）に酸またｉｊ塩基を
作用させる方法、化合物（１）と過酸化水素を塩基の存
在下に反応させる方法などが用いられる。このような塩
基としては、例えば、リチウム、カリウム、ナトリウム
等のアルカリ金属または例えばカルシウム、マグネシウ
ム等のアルカリ土類金属の水酸化蝋例えば水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化力Ｖシ
ウム、水酸化マグネシウム等）又＃ｉ炭酸堆（例えば炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、羨酸力４ｔｙ７ウム等）
等の無椰樵基、金属アルコキ量イド類（例えばナトリウ
ムメチラート、ナトリウムエチラート等）、有機アミン
類（例えばトリエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリ
ン、ジイソプロピルアミン等）、第４級アンモニウム堆
（例えばテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヒドロキシド
等）等の有機塩基、塩基性イオン交換樹脂等が用いられ
る。なかでも、好ましい塩基としては、たとえばアルカ
リ金属の水酸化物（例えば水酸化ナトリウムなど）など
が繁用される。また、酸としては、たとえば塩酸、硫酸
、リン酸、ボ９１１ン酸、塩化第２鉄、塩化亜鉛、二酸
化マンガン、玉フッ化ホウ素、塩化パラジウム、Ｐｑ堆
化チタン等の無機酸もしくはその塩、ギ酸、酢酸、ｐ−
トルエンスＶホン酸、トリフルオロ酢酸等の有ＳＩ！、
シダカゲル、酸性イオン交換樹脂醇が用いられる。特に
、たとえば、塩酸、硫酸、二酸化マンガン、塩化パラジ
ウム、四塩化チタンなどの酸が好ましい。 このような塩基または酸の使用量は、通常化合物（１）
１モルに対して０．１〜４．０モル好まシくケ０．１〜
１，０モルである。また、過酸化水素を用いる場合には
化合物〔１３１モルに対して塩基を０．０５〜４０モル
好ましくけｏ、ｏｓ〜１．０モル使用する。過酸化水素
の使用量は、通常化合物（１）１モルに対し１．０−１
０モル好ましくは１．０〜４モルである。本反応は、通
常溶媒中で行なわれ、このような溶媒としては、たとえ
ば水、エーテル（ｆｒとえげテＦラヒドロフラン、ジオ
キサンなト【酸アミド（たとえばＮ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミドな、！：”）
、脚化水素右（たとえばベンゼンなど）、ケトン（たと
えばアセトンなど）、アルコール（たとえばメタノール
、エタノール、プロパツール、ブタノールなど）、へロ
ゲン化炭化水素（たとえげクロロホルム、ジクロロメタ
ンなど）、脂肪酸（たとえばギ酸、酢酸など）、エステ
Ａ／（たとえば酢酸エチルなど）、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン。 ヘキサメチルホスホルアミドあるいはこれらの混合物な
どが用いられ、なかでも、水、イソプロパツール、テト
ラヒドロフラン、ジクロロメタン。 ジメチルスルホキシドなどが繁用される。反応温度は、
通常０〜８０℃の範囲で行なわれるが、とくにこの条件
に限定されるものではなく、必要に応じ、適宜加温、冷
却を行なってもよい。反応時間は通常短時間で終了する
。 反応終了後、反応混合物をたとえば溶媒抽出。 再結晶、クロマトグラフィー等それ自体公知の精製分離
手１ｊ！に付すことＫより、化合物〔厘〕を任意純度の
ものとして得ることができるが、反応混合物のまま次の
反応の原料として用いることもできる。また、この反応
で異性体が混在して生、成する場合には必要に応じて公
知の手段により単一してもよく、化合物〔璽〕の置換基
に保護基が存在する場合にけ必要に応じて前記と同様に
して除去すること４できる。 このようにして得られる化合物〔厘〕のＷが水素の場合
１１ｃＩｄ、化合物（１）（Ｗ＝Ｈ）のＸＡ／ホン化と
同様忙してスルホン９化することくより、Ｗがスルホ基
である化合物〔慕〕に導くことができるのは自明である
。 かくして得られる化合物〔１〕が遊離形の場合は、常法
によ抄前記のごとき塩、エステルに変えてもよく、化合
物（１）が塩またはエステルとして得られる場合には常
法により遊離形に導いてもよい。 ？シシられる化合物（１）の中でｗ　＝　５ｏ３）１の
ものけ新規化合物であって優れた抗菌力およびβ−ラク
タマーゼ阻害作用を有している（ドイツ出願筒Ｐ３１４
８Ｕ２１．７号）。 また、化合物［１）と硫化水素を反応させると、化合物
ＣＩ）の４位にシアノ基の代わりに−Ｃ８ＮＨ２を有す
る化合物が製造される。この反応は化合物（１）または
その塩、エステＡ／またはシリＡ／銹導体１モルに対し
て硫化水素を１．０〜３モル程度反応させるのがよい。 反応は室温またはそれ以下で進行させるのが有利である
。反応はたとえば、り電】ロホ〃ム、ジクロルメタン、
ベンゼン、酢酸工壬ル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン　Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチＶ
アセジアミド、ジメチルスルホキシド、酢拳、水などの
溶媒中で行なうのが好ましｂ０反応は通常短時間で完了
する。 また、化合物（１）とたとえばメタノール、エタノ−Ａ
／ｆｚどのアルコール類を反応させると、化合物〔Ｉ〕
の４位にシアノ基の代わりにアＭコキシカルボニｖ基を
有する化合物が製造される。化合物［１）と当モル以上
のアルコ−Ｖ類を反応させて行なうが、アルコール類そ
れ自体を溶媒として用いる場合が多い。溶媒を使用する
場合は、たト、ｔｔｆ、クロロホＶム、ジクロロメタン
、ベンゼン、テトラヒドロ７ラン、ジオキサン、Ｎ、Ｎ
−ジメチルホ〜ムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセＦアミ
ド、ジメチルスルホキシド等の溶媒中で行なうのが好ま
しい。反応温度は、通常０〜８０℃の範囲で行なわれる
が、とくにこの条件Ｋｆｆｉ定されるもので＃′ｉ表く
、必要に応じ適宜加温、冷却を行なってもよい。反応時
間、その他の条件は、用いられる溶媒、温度などにより
適宜決定されるが、たとえば、硫酸、堆酸、リン酸など
の無機酸、酢酸、Ｐ−）ルエンスルホン酸などの有機酸
、たとえば、ｊｇＩ化アルアルミニウム化亜鉛、三フッ
化ホウＹなどのルイス酸を共存させることにより反応時
間を短縮することができる。 （以下余白） なお、本発明の原料化合物（１）Ｆｉ、九とえは以下に
示す方法によって製造することができる。 本発明の原料化合物（１）　（Ｗ＝Ｈ＞Ｆｉ、Ｙが７Ｖ
ルオキシ基の場合、たとえば、テトラヘドロン−Ｖｌ−
ズ６　Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ　）、
４０　Ｓ　９（１９７ｇ　　、あるい＃ｉ特開昭５４−
７６５７０に記載されている方法、またはそれに準する
方決により、あるいはたとえばアナーレン・デア・へ！
　−（Ａｎｎｍｌｅａ　ｄｅｒ　（ｈｅｆｎｉｅ　）１
９７４　＊　５３９記載の方法に従って次の１）　、　
２）の経路により合成゛しうる。 〔マ〕 上記各工程忙おいて、Ｒ，Ｙ、ＸＦｉ前記と同意義を、
ＲＦｉ保護されたアミノ基を、ＲＦｉｙシル化されたア
ミノ基をそれぞれ示す。 また、Ｗ　＝　５Ｏ３Ｈである原料化合物［１）は、Ｆ
記のごとくして得られたＷ＝Ｈの化合物［１）をスルホ
ン化することにより合成できる。このスルホン化は、化
合物（１）（Ｗ＝Ｈ）のスルホン化と同様にして行なう
ことができる。 次に実施例および参考例をあげて本発明を具体的に説明
する。なお、ＮＭＲスペクトルはパリアンＨＡ　１００
型（ＺＯＯＭ）ｋ）で測定し、テトラメチルシランを基
準とし、δ値をｐｐｍで表わす。また協はシングレット
、ｂｒ、ｓＦ１幅広いシングレット。 ｄはダブレツ）、ｄｄＦｉダブルダブレット、ｔはトリ
プレット、ｑはカルチット、ｍはマルチプレツ）　、　
ＡＢｑ　ＦｉＡＢ型の力に’ｆ’ｌト、：Ｊｔｊ結合定
数。 Ｔ’　ＨＦ　Ｆｉテトラヒトｏ７フン、　ＤＭＦｔ′ｉ
ジｉチｙｖホｖムアミド、　ＤＭＳＯはジメチルスルホ
キシド、　ｂｒ。 あるいはｂｒｏａｄはブロード、　ｇｒｏｍｉｊ芳香族
を意味する。 以下の参考例、実施例において、特記しない場合はＶリ
カゲ〜カフェクロマトグラフイーは＾ｒｔ９３８５．２
３０〜４００メツシユ、キーイル・ゲｐｙ　（［１ｅｓ
ｃｌ　Ｇ−ｅｌ　）　６０　（メルク社製）を用い、ク
ロマト精製される前の粗生成物のＴＬＣ分析で。 ＴＬＣデレーＦに新らしく８聯したメインスｌットのＲ
ｆ−ＩＩと同一の値を示すフックジョンを集める。 ＴＬＣは、特記しない場合はＡｒ　ｔ、　５６４２　、
ＨＦｒＬＣキーゼｖ−ｒ７＆／（ＫｌｅｓｅｌＧｅｌ　
）　６０Ｆ２５４（ｆｉｇ？社製）のプレート及びクロ
マジグラフイーで使用した溶媒と同一の展開溶媒を用い
、ＵＶ検出器で検出する。また、ＸＡＤ　−１（１００
〜２００メツシユ）カラムクロマトグラフィーは、展開
溶媒として水〜２０％エタノール水を用いて、２５４５
ｍの吸収（ＬＫＢＵＶＩ　Ｃ０ＲＤ２　、　（スｔｘ−
テｙａｌ　）使用）のあるフラクシ■ンをそれぞれ集め
る。集め九フフクｙｍンは凍結乾燥して精製品とする。 参考例１ （３Ｓ、４Ｓ）−４−シアノ−３−ＣＤ−２−（４−エ
チＡ’−２．３−ジオキソー１−ピペラジンカルボキサ
ミド）−２−（チオフェン−２−イル）〕〕アセトアミ
ドー２−アゼチジノン０４８８９をジメチルホルムアミ
ド２コｌに溶解し、これに無水硫酸−ジメチルホルムア
ミドコンプレックス０、５３６９を含む°ジメチルホル
ムアミド３．５　ｍｌを一７０℃で加え−ｏ’ｃで２日
間反応させた。反応液にピリジン０．５１を加えたのち
、減圧下に濃縮した。残留物に水を加え、不溶物を炉去
し、ろ液を１）ｏｗｅｘ　ｓｏｗ樹脂（ダウケミカル社
製）ナトリウム型カラムを通したのち、アンバーライト
ＸＡＤ　−１樹脂（ローム・アンド・ハース社Ｉりカラ
ムで精製すると（３５，４Ｓ）−４−シアノ−３−〔Ｄ
−２−（４−エチル−２，３−ジオキソ−１−ピペフジ
ン力ルポキサミド）−２−（チオフェン−２−イル）〕
−〕アセトアミドー２−アゼチジノン１−スルホン酸ナ
トリウム〇、３５０１Ｆを得た。 ＩＲｙＫＢ’ｍ−”：　１７８０　、１７１０　、１６
７５　。 ａｘ １５１０．１２８０．１２６０．１０５ＯＮＭＲ（Ｌ）
Ｍ１０５ＯＮ、ｐｐｍ）　：　１．１０　（ｔ　、　Ｊ
−５Ｈｚ　、　Ｃ１３）。 ３、４１　（Ｑ　、　Ｊ＝５Ｈｚ　、　−ＣＨ２−）　
−３，６０（ｍ　−−ＣＩ（−）　、３．９３（ｆｆ１
．−ＣＨ，、−）　、４．９０（４゜Ｊ＝４Ｈ冨、　Ｃ
，−Ｈ）　、　５．３０　（ｄｄ　、　Ｊ＝４　、８）
１ｍ　。 Ｃ５−Ｈ）　−５，８３（ｄ　−Ｊ＝４１１ｇ　、　−
（ｉ’Ｈ−）　−６，９０〜７．６０　（ｍ　、　ａｒ
ｏｍＨ）　　、　９．７６　（ｄ　、　Ｊ−４Ｈｇ。 ＮＨ’）　、　５Ｌ　８３　（ｄ　、　Ｊ−８Ｈ１、Ｎ
ＦＩ　）参考例２ １）（３８，４Ｓ）−３−（２−（２−クロロアセトア
ミドチアゾ−１ｖ−４−イル）−２−メトキシイミノ〕
アセトアミド−４−シアノ−２−アゼチジノン０．２２
　ＯｆをＤＭＦ２ｓＺに溶解し、これに無水硫酸−ＤＭ
Ｆコンプレックス０．２７５　ｆを含むＤＭＦ　１．８
　ｄ溶液を一７０℃で加え、０℃で３８聞反応させた。 反応液にピリジン０．５−を加え、参考例１と同様和処
理すると、（３Ｓ、４Ｓ）−３−（２−（２−クロロア
セトアミドチアゾール−４−イＡ／）−２−メトキＶイ
ミノ〕アセＦアミド−４−シアノ−２−アゼチジノン−
１−スルホン酸ナトリウム０．１７　Ｏｆが得られた。 ＩＩｙＴ４Ｂ：ｅｘ−”　　：１７８Ｇ　、１６７０．
１５４０　。 １２６０．１０５５ ＮＭＲ（Ｄ２（１，外部基準、　ｐｐｍ　）　：　４．
０４　（ｍ　、０ＣＨ３）。 ４．４４　（Ｓ　、　−ＣＨ２−’）　、　＆　２６　
（ｄ　、　Ｊ＝５）Ｉ！　。 （゛・Ｙ） ２）上記１）で得たクロロアセトアミド誘導体０．１５
０−を水６ｗ１Ｋ溶解し、ナトリウム七ツメチルジチオ
カーバメートｏ、ｏｓｏｔを氷冷下に加え、室温（約２
５　”Ｃ）で３時間かきまぜた。反応液をＸＡＤ　−ｌ
カラムで精製すると、（３Ｓ　、　４　Ｓ　）　−３−
（２−（２−アミノチアゾール−４−イル〕−２−メト
キシイミノ〕アセトアミド−４−シアノ−２−アゼチジ
ノン−１−スルホン酸ナトリウム０．０６７９が得られ
た。 １ＲｙＫＢ’ｃＩｇ”　　：　１７８０　、１６６５　
、１６１０　。 ａｘ １５２０．１２６０．１０１０ ５ＯＮ　（Ｄ２ｔ）　、外部基準、　ｐｐｍ）　：　４
．００　（＊　、　０ＣＩ（３）。 ５．２４　（ｄ　、　Ｊ−５１（ｇ　、　Ｃ４−Ｈ）、
　１４５　（ｄ　。 ８考例３ １）（３Ｓ、４Ｒ）−３−（２−（２−クロロアセトア
ミドチアゾール−４−イル）−２−メトキシイミノ〕ア
セトアミド−４−＠！／アノー２−アゼチジノｙｏ、４
８２　ｆ＊ＤＭＦ２ｙｄＫ溶解し、これに無水硫酸−Ｄ
ＭＦコンプレックス０．５９７ｆを含むＤＭＦ　＆　９
　ｍ／溶液を一７０℃で加え、０℃で２８間反応させた
。反応液にピリジン０．５　ｓ／を加え、参考例１と同
様に処理すると、（３Ｓ、４Ｒ）−３−（２−（２−ク
ロロアセトアミドチアゾール−４−イル）−２−メトキ
シイミノ〕アセＦアミド−４−シアノ−２−アゼチジノ
ン−１−スルホン酸ナトリウム０．３９０−が得られた
。 ＩＲｋ”、’ｇ：ｅ１Ｍ−’　：　１７８５　、１６７
０　、１５５０１１２６０．１０１０ ５５Ｎ　（Ｄ、０　、外部基準＊　ｆ’ｊ””　）　：
　４−０６　（”　ｅＯＣＨ３）−４，４４（＠　　、
　　−ＣＨ２−）　　、　　５．１　４　　（ｄ　　、
　　Ｊ請２Ｈ冨　。 ｔを６−の水に溶解し、ナトリウム七ツメチルジチオカ
ーバメートの０．０５２−を用い参考例２の２）と同様
に処理すると、（３５，４Ｒ）−３−（２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−２−メトキシイミノ〕アセ
トアミド−２−アゼチジノン−１−スルホン酸ナトリウ
ム０．０７４ｆが得られた。・− Ｋｆ３ｒ　　−ｘ　　。 ＩＲν　　”　　、１７８０．１６６０．１６１５゜川
ａｘ １５２０．１２８０．１２５０．１０１０５ＯＮ　（１
）２０　、外部基準、ｐｐ”　）　：　４−０２　（ａ
　、０ＣＲ３）　。 ５、１２　（ｄ　、　Ｊ＝３Ｈ！　、　Ｃ４−Ｈ）　、
　５．３７　（ｄ　。 ｒ）−２−（４−４チ１ｖ−２，３−ジオキソ−１−ピ
ペラジンカルボキサミド）−２−（チオフェン−２−イ
ル）酢酸−１，１９６ｙ、塩化メチレン２０　ｍｌ、ト
リｘ　４−　Ａ／　７ミｙ０．５３Ｏｆの混合、物を水
冷下、かきまぜながら粉末化し九五塩化リン０．７７５
ｆを加えた。水冷下に１時間かきまぜたのち、絨圧下に
濃縮し、残留物Ｋ１１−ヘキサンを加え、数回デカンテ
ーションして洗浄した。残留物に乾燥テトラヒドロンラ
ンを加え不溶物を枦去した。 一方、（３Ｓ、４Ｓ）−３−アミノ−４−シアノ−２−
アゼチジノンのｐ−）ルエンスルホン酸樵０．ｑ９２ｆ
’に乾ｔｌｋテトヲヒドロフラン１５ｄＫ溶解し、これ
に氷冷下１．０６Ｏｆの）Ｕエチルアミンを加えたのち
、上記で′Ｉ４整した酸クロリドのテトラヒドロフラン
溶液を加えた。′４に温（約２５℃）で４０分間かきま
ぜたのち減圧ｔＫ濃縮し、残留物ヲシリカゲルカラムク
ロマトグラフィイ酢酸エチＡ／：クロロホルム：メタノ
ール（３：３：１）で展開〕に付すと（３Ｓ、４Ｓ）−
４−８／アノ−３−（Ｔ）−２−（４−エチル−２，３
−ジオキソ−１−ピペラジンカルボキサミド）−２−（
チオフェン−２−イＡ／）〕〕アセトアミドー２−アゼ
チジノの９．５６０１が得られた。 ＫＢｒ　　−ｘ　　・ ＩＲｊ’−、、ａｌｌ、　１　？　８５　＠　１７１０
　、１６７０１５０Ｏ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．ｐｐｍ）　　：　　１．０　
９　　（ｔ　　、　　Ｊ＝５Ｈ冨、ＣＨ３）＊３、４　
Ｇ　（Ｑ　＝　Ｊ−５Ｒｇ　、（Ｈｐ−）　−３，５６
（ｍ　。 −ＣＨ，−）　、　３．９０　（ｍ　、　−ＣＨ２−）
　、　４．７６　（ｄ　。 Ｊ　４１１！　、　Ｃ＋−Ｈ）　、５．３０　（ｄｄ−
Ｊ−８−４ＨＸ　　。 Ｃ３−１１）　、　５．８３　（ｄ　、　Ｊ＝４Ｈ！　
、　−（ｉＨ−）、　６．９０−７．６０（ｍ、ａｒｏ
ｍａ）、９．Ｃ３（ｂｒ、ｓ＊ＮＨ）。 ９、７０　　（ｄ　　、　　Ｊ＝４Ｈ！　　、　　ＮＨ
）　　、　　９．８０　　（ｄ　　、　　Ｊ＝８１１ｘ
　　、　　Ｎｉｌ　　） 参考例５ （３Ｓ、４Ｓ）−３−アミノ−４−シアノ−２−アゼチ
ジノンのｐ−）ルエンスルホン酸塩の０．９６Ｏｆを乾
燥テトラヒドロンラン１５ｇ／に％％濁」２、氷冷下Ｖ
ｃ）リーＥ：チ／ｌ／７ミン１．４ＧＯｆ、ついで２−
（２−クロロアセトアミドチアゾール−４−イル）−＃
−２−メトキシイミノ酢酸クロリド塩酸ｍ１．０４０１
Ｆを乾燥テトラヒドロンラン１０＊／に溶解した溶液を
加えた。室温（約２５℃）で３０分間かきまぜたのち、
減圧下に濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー〔酢酸エチル：クロロホルム：メタノール（３
：３：１）で鏝１．：ｉｌ　）　ｊｃ付すと（３Ｓ、４
Ｓ）−３−（２−（２−クロロアセトアミドチアゾール
−４−イル）−２−メトキシイミノ〕−アセトアミド−
４−シアノ−２−アゼチジノン、０．９１０＃が得られ
た。 １１；、Ｂｒ　−１。 ＩＲシー、ｘｆｆｉ　　、１７９０．１６７５．１５４
０゜０５Ｏ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ＋Ｄ２０．Ｊ）ｐｆｆｉ）　：　３．
９３　（１、０ＣＨ３）　。 ４、３３　（１、−ＣＨ２−）　、　４．８３　（ｄ　
、　Ｊ＝４８冨。 （以下余白） 伝馬例６ （３５，４Ｒ）−３−アミノ−４−シアノ−２−アゼチ
ジノンのｐ−）ｙエンスルホン酸塩０．５４０ｙｖｉ燥
テトラヒドロフラン１０１１Ｉｔに懸濁し、これに水冷
「トリエチルアミン０．７８７　Ｆ　、ついで２−（２
−クロロアｔドアミドチアゾ−Ａ／−４−イル）−２−
メトキシイミノ酢酸クロリド・塩酸［０，６０Ｏｆを乾
燥テトラヒドロフラン５ｄに溶解した溶液を加えた。室
温（約２５℃］で３０分ｍ１かきまぜたのち、反応液を
濾過し、炉液は減圧ＦＩＣ＃＠Ｌ、た。残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ｆｌＰｍエチ／Ｌ／：
クロロホルム：メタ／−／Ｉ／（３：３：１）で展開〕
に付すと（３Ｓ。 ４Ｒ）−３−（２−（２−クロロアセトアミドチアゾ−
ルー４−イル）−２−メトキシイミノ」アｌ−ドアミド
ー２−アゼチジノン、０．５２５ｆが得らｊた。 ＩＲ，ＫＢｒ、−ＬＨ１７８０，１６７０，１５４０。 ａｘ ｘ６４゜ ＮＭＩ？　　ｌ　　ＤＭ　Ｓ（）−ｄ６．ｐｐｍＪ：　
　３．　９　２　　（ｓ　　　、　　ＱＣ）１３）、　
　４．３６（ｓ　、　−ＣＨ２−）　、　４．５　、’
ｉ　（ｄ　　、　Ｊ＝２１（ｔ、Ｃ４−Ｈ）Ｃ５，２３
（ｄｄ、　Ｊ＝２　　、５Ｈｚ　、　Ｃ３−Ｈ）　、７
．５０　（ｓ　。 蒙”）Ｃ９，１０（ｓ、ＮＨ）−９，５６（ｄ。 Ｊ＝５Ｈｚ　　、ＮＨ） 参考例７ （３Ｓ、４Ｒ５）−３−アミノ−４−シアノ−２−アゼ
チジノンのｐ−）Ａ／ゴ、ンλルホン酸塩５　Ｆ。 ピリジン４．２ｆ、塩化メチレン１００ｓＺＯ氷冷かく
はん溶液に７エール酢酸クロリド３ｔを加えた。 室温（約２５℃）で１０分間かきまぜたのち、水と振り
混ぜ、有機層を分離し無水硫酸マグネＶウムで乾燥した
。減圧下に濃縮し、残留物をシ゛呼カゲルカラムで精製
（酢酸−ｃ＋ｕ：　ｎ−へ＊−ｅ）（！：　１　）”ｌ
ｌると、（３Ｓ、４Ｓ）−４−８’７ノー３−フェニル
アセトアミド−２−アゼチジノン（２）１、１６　Ｆ　
、ついで対応する（３Ｓ−４１）−誘導体０８１０．８
４　ｆ　カＦｖ　６　ｔＬ　九。 艶Ｊ ＩＲｙＫＢｒａＩ−１：２２５０．１７７０．１６＠５
゜ｆｉｌＸ １５３０．１３５０ ＮＭＲ（＋）ＭＳＯ−ｄ６．ＤｐＩ’ｎ）　：　３６０
　（Ｓ　、　−ＣＨ１２−）　−４，２０ｔ　ｄ　、　
Ｊ＝４Ｈｚ　、　Ｃ４−）１　）　、　４．８６　（ｄ
ｄ。 Ｊ−４，８Ｈπ、　ｃ３−ｕ、　）　、　６．５６　（
ｄ　、　Ｊ＝８Ｈ１゜ＮＨ）　　、　　７．２６　（ｓ
　　、　ａｒｏｍａ’）旧） ＩＲｖＫＢ’ｒｗ−１：２２５０．１７８０．１６６０
゜１ｘ １５２０．１３５Ｏ ＮＭＲ（ｒ）ＭＳＯ−ｒ１６．ｐｐｍ）：　３．６０　
（ｓ　、　−ＣＲ２−）、　４．１０（ｄ　　、　Ｊ−
＝２Ｈｚ　、　Ｃ４−Ｈ）　、４．８０　（ｄｄ　、　
Ｊ？＝２　。 ８瞥１＊　　　、　　Ｃ３−Ｒ）　　−６−６０（ｄ　
　、　　１＝８Ｈｚ　　、　　Ｎ［（）　　　−７２６
（Ｆｌ　　、ａｒｏｍ）ｌ　　）殻衿例８ （３８，４Ｒ）−３−アミノ−４−シアノ−２−アゼチ
ジノンのｐ−）ルエンスμホン％ｊＪ［１，６６り、ピ
リジン０．５？、塩化メチレンＳ＊ｖａ合物を′＠肩（
約２５°Ｃ）で１５分間かきまぜた。これを、氷冷Ｆｖ
ｒ、かきまぜながら、プロピレンオキシド１０ｇ１ｅ１
ついで２−トリメチ＃Ｓ／ＩＩ／１／−工）キシカルボ
ニルクロリド１．１ｔを加えた。室温で３０分間か負ま
ぜたのち、減圧Ｆに濃縮シ、残留物をシリカゲルカラム
クロマトクラフイー〔酢醗エチＡ／：　ｎ−ヘキ４）ノ
（１：　１　）で展開ＩＲ付すと、（３Ｓ、４Ｒ）−４
−シアノ−３−（２−トリメチア１／　Ｖ　１）　ＩＶ
　）工計キシカＶポ９ｆＪＩＦミド−２−アゼチジノン
、１．Ｏｆが得られた。 ＩＲ，ｆｉｌｍ、、−１：２９５０．１ｇ８５．１７１
０゜ａｘ １５１０．１２５０．８６０．８４Ｏ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３−　ｐｐｍ　）　：　０．０３　（
ｓ　、　ＣＨ３）、　１．００（ｔ　　、　　Ｊ＝８Ｈ
π　＊　　−ＣＨ２−）　　−４，２０（ｔ　　＊　　
Ｊ冨絹富。 −ＣＨ２−）　−４，６０（ｄ　−Ｊ＝２Ｈｚ　、　Ｃ
４−Ｈ）　、５．３３（ｄｄ　、　１−２　、８Ｈｚ　
、　Ｃ３−Ｈ）　、　５．７０　（ｄ　。 Ｊｘ８Ｈｚ　、　ＮＨ）　、　６．８０　（ｂｒ、ｓ　
＠　ＮＨ）参考例９ （３５，４Ｒ５）−３−アミノ−４−シアノ−２−アゼ
チジノンのｌ’−）ルエンスμホノ酸塩ＩＬ２ｆをｓＯ
ｄのテトラヒドロ７フンに懸濁し、水冷下ｖｃｓｔのト
リエチルアミンを加え３０分間かきまぜたのち、減圧下
に濃縮した。残留物に塩化メ４−　しｙ　２０　ｄ　＠
プロピレンオキシド８０ｄＹｔｔ１３ｊして溶解し、こ
の＠ｊ［ｃ６１ｆのカ〜ボペンゾキＶり【１リドを水冷
ＦＫ加えた。２５℃で３０分間かｆ！まぜ次のち、減圧
下に濃縮した。残留物に酢酸エチルと水を加えて振りま
ぜ、有機層をと９水洗。 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。＊
＊物を１５０２のシリカゲルを用いたカラムでｍｉｃ酢
酸エチル：ｎ−ヘキ号ン（１：１　）で展開〕すると（
３Ｓ、４Ｒ）−３−ベノジｙオキ７カルボキ号ミド−４
−シアノ−２−アゼチジ／　７　、１１　ｆを油状物と
シテ、さらＫ（３Ｓ、４Ｓ）−４−シアノ−３−ベンジ
ルオキＶカルポキ号ミド−２−アゼチジノンの３．２１
ｆ′ｔ−結晶として得た。 （３Ｓ、４Ｓ）一体 ｍｐ　　１　６７〜１　７０℃（ｄｅｃ、）ＩＲνＫＢ
ｒａ−１：３３８０．３２６０．２２４５　。 ａｘ １８Ｇ５．１７１５．１６７５．ＩＳ２５ＮＭＲ（ＤＭ
ＳＯ−ｄ６　　、ｐｐｍ）：　４．５０　　（ｄ　　、
Ｊ＝５Ｈｚ　　。 Ｃ，−Ｈン　　、５．１０（ｓ、（：Ｈ２−）、５．１
６（ｄｄ。 Ｊ＝５　．８Ｈｚ　　、Ｃ５−Ｈ）＊　　７．２６　（
＠　、ｇｒｏｗｎ）。 ８、１６　（ｄ　、　Ｊ＝８Ｈｚ　、　ＮＦＬ　）　、
　８．　Ｓ　６　（ｂｒｏａｄ　ｓ。 ＮＨ） 参考例１０ １）（３Ｒ，４Ｒ）−３−ベンジルオキＶｔ１ｋｌボキ
サミド−４−メチルスルホニル−２−アゼチジノ、ｙｏ
、２９８ｔをＴＨＦＩＳｗｔＫ溶かし、これにパラジウ
ム黒０．２５ｆを加え、水素電流中２時間かきまぜた。 触媒ｔｐ去し、ｖ液を約３ｄになるまで減圧下に濃縮し
た。 一方、２−＜２−プロロアセトアミドチアゾ−Ｊ％／−
４−イＮ）−２−メトキシイミノ酢酸（Ｖン異性体）０
．５！５５Ｆを１０ＴＩＩＩの塩化メチレンに加え、こ
れに水冷下、トリエチルアミン０．２５　Ｆついで、五
塩化リン０．４２ｆｔ加え５分間かきまぜた。′室温で
３０分間かきまぜた後、減圧下にｓｉｓし、残留物ｔｎ
−ヘキキノン洗い、これＫ　ＴｆｌＦ　Ｓｄを加えて不
溶物ｔｐ去した。この炉液を、水冷下、先に調製した溶
液とプロピレンオキシド１−の混合溶液に加えた。減圧
下に溶媒を留去後、残渣の酢酸エチル溶液を水洗し、減
圧下＃Ｃ濃−した。 残留物をＶリカゲルカラムで精製（ａ−へ年号ン−酢酸
エチ１％’（１：１）Ｊすると、（３Ｒ，４Ｒ）−３−
Ｃ２−（２−クロロアセトアミドチアゾール−４−イル
）−２−メトキシイミノアセトγ′ミド〕−４−メチル
スＶホニＡ／−２−アゼチジノン０、１３　ｆが得られ
友。 １１ＫＢ’ａ−１：３３７０．３２７０．１７９０゜１
１ １６８０．１５４Ｏ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６　、　ｐｐｒｎ　）　：　３．
００　（ｓ　、　ＣＩ’１３）　。 ３．９３　（＠　、　ＣＦＩ３）　、　４．３３　（ｓ
　、　−ＣＨ２−）　。 ４．９３　（ｄ　、　Ｊ”５Ｈｚ　、　Ｃ４−ＩＩ　）
　、　５．５７　（ｄｄ。 Ｊ＝５　、９）１ｘ　、　Ｃ３−Ｈ）　、　７．５３　
（ｓべとＨ）。 ８．３０（ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、ＮＨ）、９．４０（ｓ。 Ｎ）Ｉ　）　、　１λ７３（ｓｏ冊） ２）上記１）で得られた（３Ｒ，４Ｒ）−３−（２−（
２−クロロアセトアミドチアゾ−４／−４−イ〜）−２
−メトキｙイミノアセＦアミド）−４−メチ〜ス、Ｖホ
ニルー２−アゼチジノン０．４６ｆをＤＭＦ　３　ｍｇ
に溶かし、これに無水硫酸−ビリジンコンプレックス０
．３６Ｆを加え１２日間反応させた。 エーテＰｖｔ加えて分離する油状物をエーテルで洗つた
。油状物を水に溶かし、Ｄｏｗｅｘ　５０ＷＩｌｌＩ（
メウケミカル社１１）ナト啼つふｊＪｌ　０ｓｇを加え
、３０分間かきまぜた。樹脂ｔ−枦去し、炉液ｔＸＡＤ
−鳳樹脂（ｃｌ−ム・アンド・ハース社製）を充てんし
たカラ五で精製すると（３Ｒ，４Ｒ）−３−（雪−（２
−クロロアセトアミドチアゾール−４−イｋ）−２−メ
トキシイミノアセトアミド」−４−メチルスルホニル−
２−アゼチジノノ−１−スＶホン酸ナトリウム０．０２
３ｔが得られた。 ＩＲｖＫＢｒａｌ−１：３４５０〜３４００．１７８！
。 １１ａＸ １６８５．１６７！　、１２８）、１２６０゜１０５２ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６　、　ｐｐｍ　）　：　３．８
４　（１、ＣＲ３）　。 ４．３　３　　（ｓ　　、　　−ＣＨ２−）　　、５．
１　５　　（ｄ　　、Ｊ冒ＳＢ雪　。 Ｃ４（１）　、　５．７１　（ｄｄ　、　Ｊ＝５　、９
Ｈπ、　Ｃ３−ＩＩ）　。 ７５３（ｓ、）→ＩＩ）、１４５（１，Ｊ−９Ｈ冨　。 ＮＨ）、ＩＬ８８（ｓ、洲］ 参考例１１ メ３Ｒ，４Ｒ）−３−アミノ−４−ＦＴ／−２−アゼチ
ジノン・ｐ−トｗ工ンス〜ホン酸塩０ＳＳｔをテトラヒ
ドロ７うｙ１２ｓｒＫ溶カシ、コれに）ｋｌ’Ｆ０．１
２ｆのトリエチルアミン、ついで２−（２−クロロアセ
トアミドチアゾール−４−イル）−２−（１−＄）−二
トロペ７ジルオキシ力ルボニル−１−メチルエトキシイ
ミノ）酢酸クロリド・塩酸塩（１６０ｆ　ｔ−加えた。 室温ヤ４０分間かきまぜ、減圧上濃縮し、残留物をＶリ
カゲルカラムで精製〔酢拳エチルークロロホＶムーメタ
ノール（３：３：１））すると、（３Ｓ、４Ｓ）−３−
（２−（２−クロロアセトアミドチアゾール−４−イル
）−２−（１−ｐ−二トロペンジルオキＶカ〜ボニル−
ＩＬ−４−メチルエトキシイミノ）アセトアミド〕−４
−シアノー２−７ゼチジノ７０．２７ｆが得られた。 ＩＲνＫＢｒａ−１：１７８５．１７４０．１６７５　
。 １ｘ ５３０ 実施例１ １）（３Ｒ，４Ｒ）−４−メチｐｖ　ｘ　ｐｙ　ホニｐ
ｖ−３−トリチＶアミノ−２−アゼチジノン１１３ｔを
ｒ）ＭＦｌ　５０　ｓＪＫ溶解した溶液に１シアン化カ
リウム１．６　ｆ　を水２４ｓｇｔＣｉｌｌかした溶液
を水冷ＦＫ加えたのち、室温（約２５”Ｃ）で３０分開
かきまぜ友０反応液に氷水、酢酸メチＡ／を加え、酢酸
エチル層をとり、水洗後無水硫酸マグネＶウムで乾燥し
た。溶媒を減圧下に留去し、残留物をｖｎカゲルカフェ
で精製〔酢酸エチル：ｎ−へキサン（１：１）で展開〕
すると、（３Ｓ、４Ｒ５）−４−８’アノ−３−トリ千
Ｖアミノー２−７ゼチジノン（４Ｒ：４８−１°：１）
、６．７ｆが得られた。 ＩＲｙＫＢ’ｓ−１：　２２３０　、１７７０ａＸ ２）上記ｌ）で得た（３５．４Ｒ５）−４−Ｖアノ−３
−トリチルアミノ−２−アゼチジノン、１０１ｔをアセ
トン２０４に溶解した溶液Ｉｃ、ｐ−）ルエノスルホン
酸モノへイドレー）６．３ｆｌ加えて均一溶液としたの
ち、析出する結晶を枦取、少量のアセトンついでエーテ
ルで洗浄した。ろ液は減圧下に濃縮し、残留物にアセト
ンを加え析出する結晶ｔｐ取した。炉液を濃縮し、上記
と同様な操作を行ない結晶として合計３．４ｔの（３Ｓ
、４Ｒ）−３−アミノ−４−Ｖアノ−２−アゼチジノン
・ｐ−）ルエンスＶホン酸塩（２）を得た。炉液は減圧
ＦＫｄｌｌ縮後残留物にエーテルを加え、得られる不溶
物を炉取しエーテルで洗浄すると（３５，４Ｓ）−３−
アミノ−４−シアノ−２−アゼチジノン・ｐ−）ルエン
スルホン酸塩＠Ｉ　４．１　Ｆが得うれた。 このものは（３Ｓ、４Ｒ）一体を約１０％含有していた
。 ＾ ＩＲｙＫＢ’ｍ−１：　１７７０　、１２００ｆｉｌＸ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６−　ｐｐｍ　）　　：１３０　
（ｓ　　、　ＣＨ３）　　。 ４、５５　　（ｄ　　＝　Ｊ＝２Ｈｚ　　、　Ｃ４−Ｈ
）　　−４，９５（ｄ　　。 Ｊ＝２Ｈｚ　　、　Ｃ３−Ｒ）　　＠　７．０３　（ｄ
　　、　Ｊｘ８Ｈｚ、ａｒｏｍ　Ｈ）７、４６　（ｄ　
、　Ｊ’ｅ８Ｈｚ　、　ａｒｏｍ　Ｈ）　ｅ　８．３０
〜９．０Ｏ（ｂｒｏａｄ　、　ＮＨ２）　＠　９．４６
　（ｂｒｏａｄ　ｓ　、　ＮＨ）（２） Ｈ，ＫＢｒ１！、−１：　１８００．１１８０ｌｘ 実施例２ １）（３５，４Ｒ５）−４−シアノ−３７トリｆｊ４／
アミノ−２−アゼチジノン１．１Ｏｆ、）リエチル１ミ
ンｏ、ｓｏｔ、塩化メチレン２０５ｇの混合物に、水冷
下、かきまぜなからｔｅｒｔ、−ブチルジメチルシリル
タロ呼ド０．５４ｉｌｌ加えた。室温（約２Ｓ℃）で３
０分間かきまぜたのち、反応液を減圧下に濃縮し残留物
をＶリカゲｖカラムクロマトダラフイー〔酢酸エチＡ／
　：　Ｈ−ヘキ号ン（１：３）で展開〕に付すと（３５
、４Ｒ８）　−１−１ｅｒｔ−グチ〜ジメチｐｖｙｖＪ
ｗ−４−ｓｙアノ−３−１チルアミノ−２−アゼチジノ
ン、　０．６４　Ｆが得られた。 １ＲｙＫＢ’ｓ−１：　２９５０．２２４０．１７６Ｇ
　。 ａｘ １２６・ ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，ｐ％Ｓ）：０．１３（ｓ、ｃＩＩ
３）、０．８６（ｓ　ｅ　ｔ−Ｂｔｔ　）　、　１０３
　（ｄ　、　Ｊ＝２Ｒｇ　、　Ｃ４−ＩＩ）。 ３、１０　（ｄ　、　Ｊ＝８Ｈｚ１冊）、３．４３（ｄ
。 Ｊ　−５１π、　Ｃ，−Ｈ）　、　４．４６　（ｄｄ　
　、　Ｊ窩２．８Ｈ冨　。 Ｃ３−Ｈ）　＊　４−　Ｓ　Ｏ（ｄｄ　−Ｊ＝５−８Ｈ
ｚ　−Ｃ３−Ｈ）　−７，０（１〜７．５６　（ｍ　、
　ｇｒｏｗｌ　）２）　上記１）で得られた４−ｖアノ
化合物０．４６會ｆ、メタノ−ｗｓｔ、ｓｏ優適過酸化
水素水０３３−およびＩＮ−水酸化ナトηつふ溶液１ｓ
ｌｅｌｌ舎物を室温（約２５℃）で４時開かきまぜた６
反応液を減＋Ｆ、　Ｆに濃縮後、残留物に酢酸エチルお
よび飽和食塩水を加え、有機層を分離し無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、残留物をシリカゲ
ルカラふクロマトグラフィー（酢酸エチルで展開）に付
すと（３５，４Ｒ５）−４−カルバモイに−３−）リチ
Ｖアミノー２−アゼチジノン（４Ｒ：４３−１：１の混
合物）０．５５７ｆが得られた。 ＩＲｙＫＢ’ａ−１：　１７５０　、１６７０ａｘ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６　＋　Ｃ２０、Ｐｐｍ）：　　
３．４６　（ｄ　　。 Ｊ−４Ｈｚ　　、Ｃ４−Ｈ）、３．５６　（ｄ　　、Ｊ
＝２Ｈｚ　　、Ｃ４−Ｈ）４．０３（ｄ　　、Ｊ−２Ｈ
ｚ、Ｃ３−Ｈ）、４．２６（ｄ　　。 Ｊ＝４Ｈｚ　　、Ｃ３−Ｈ）ｓ　　７．２〜７．７　（
ｍ　、ａｒｏｍＨ）実施例３ １）（３Ｓ、４Ｓ）−４−丁七トキＶ−３−ベンジルオ
キシカルボキサミド−２−アゼチジノン６ｔをジメチ〜
ホル五アミド３ＧｗＩｔＫ溶解した溶液に、シアン化カ
リウム１５ｔを水５ｄＫｌ解した溶液を水冷下加え、室
ａ（約２５℃）で３０分間かきまぜた。氷水にあけ酢酸
エチルで抽出し、酢酸エチル層を水洗し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥したのち減圧下に濃縮した。残留物を塩
化メナＶン３０ｄＫｍ解し、トリエチルアミン１２ｔを
加え、水冷下Ｋ　ｔｅｒｔ−プチルシｖＪ／＆／クロ呼
ド３．鵞ｔを加えた。室温で３０分間かきまぜたのち、
減圧下ａａｔ、、、ｓ１物をシηカゲＮカラムクロマｔ
グラフィー〔酢酸エチＡ／：ｒＩ−ヘキサン（１：　１
）で展開〕に付すと、（３８，４Ｒ）−３−ペノジルオ
キｓｔｉＩｗボキ量ミド−１−ｔｅｒｔ−１ナルジメチ
Ｊ％／Ｖリルー４−５／アノ−２−アゼチジノン。 ０．３０Ｏｆが得られた。 ＩＲ＆””ｓ−１：　２９５０．２９””！０．２１４
０　。 ａｘ １７４５．１７２０．１２５Ｏ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３−　ｐｐｍ　）　：　０．０６　（
ｓ　、　ＣＨ３）、　０．１１６（１＊　ｔ−Ｂｔｔ）
　、　４．３６　（ｄ　、　Ｊ＝２Ｈｚ　、　Ｃ，−４
ＩＬ４、７０　（ｄｄ　、　Ｊ−２、８ＨＩＥ　、　Ｃ
３−ＩＩ　）　、　！、　０２（ｓ　、　（Ｒ２−）　
、　Ｌ４　＠　（ｄ　、　Ｊ冨８Ｈ冨、Ｎ１１）。 ７．２３　（１６ａｒｏｍＨ） ２）上記ｌ）で得られ九４　＋　Ｆアノ化合物０．３０
　Ｏｆをエタノ−Ａ／Ｓｗｔに溶解し、水冷下に３０優
遇酸化水素水０．３ｓｒ、ＩＮ−水酸化ナトリウム水溶
液０１５ｓ／を加え室／ｌ（約２５℃）で１時間かきま
ぜ友。減圧下に濃縮後、残留物に酢酸エチル、水を加え
てｗｋり混ぜ、酢酸エチＰｖｌＩｌを分離し無水硫階マ
グネシウムで乾燥した。減圧下に濃縮しシリカケ／Ｌ／
７７ラムクロマトグフフイー（ＩＩ酸−’４Ｖ−１”展
開）に付すと（３Ｓ、４Ｒ）−３−ペンジルオキクカル
ボキサミド−４−カルバモイル−２−アゼチジノン０．
０４Ｆが得られた。 ｍｐ　　１５３〜１５　Ｓ”Ｃ（ｄｅｃ、）Ｉ　Ｒ，Ｋ
Ｂｒ、、−１二　１７７０　．１７０５　．１６９０　
　。 ｍ麿Ｘ １６６５．１５２０．１２５Ｏ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６−　ｐｐｍ　）　：　３．９１
　（ｄ　、　Ｊ＝２Ｈｚ　。 Ｃ４−Ｈ）　−４，４２（ｄｄ　、　Ｊ＝２−８Ｈｚ　
、　Ｃ３−８）　−５，０６（＠　、−ＣＨ２−Ｊ　、
　７．１８　、７６０（ｅａｃｈｈｒＩＩｌ、ＣＯＮＨ
２）　、　７．３６　（ｓ　、ａｒｏｍＨ）　。 ８．０４（ｄ　、Ｊ−８Ｈｚ、ＮＨ）、８．３０（ｂｒ
ｓ。 Ｎ）ｌ　） 実施例４ （３Ｓ、４Ｓ）−３−ベンジルオキシカルボキサミド−
４−シアノ−２−７ゼチジノン１！２４をジメチ〃スＶ
ホキシトＩｓ／に溶かし、２０℃でかきまぜながら３０
％過酸化水素水０．１９　、ついでＩＮ−水酸化ナトリ
ウム溶液０１ｓｆを加えた。１０分後析出した結晶ｔ−
ｐ取し、食潰の９９％エタノールで洗浄、乾燥して（３
８，４Ｓ　）−３−ベンジルオキシ力〜ポキすミド−４
−カルバモイル−２−アゼチジノン４２１１Ｆを得た。 ろ液はＨＡＤ−１カラムクロマトグフフイーに付しく３
０％エタノ−Ｖ水で展開）さらに、（３５，４５）−３
−ベンジＶオキｙ力Ｖボキサミド−４−力Ｖバモイルー
２−アゼチジノン３７４を得た。 ｍｐ　　２３６〜２４　Ｇ’Ｃ（ｄｅｃ、Ｊ　　２０ 〔α〕。＋１０．４３　（ＤＭＳＯ、ｅ−１３ＩＲ＃Ｉ
ＫＢｒａｌ”−１：３４０Ｇ　、３３１０．１７７５　
。 ａｘ １７４０．１６７５．１５４５ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ，ｐｐｍ　）　：　４．１４　（ｄ　
、　Ｊ−５Ｈｚ　、　Ｃ４−Ｈ）。 ！Ｌ０８　（ｓ　、　−ＣＲ２−）　、　５．０８　（
ｄｄ　、　Ｊ−５。 ８Ｈｚ　、　Ｃ３−ＩＩ）　、　７．３０　（ｂｒｏａ
ｄ　ｓ　、　Ｎｌ１２）、　７．３６（ｓ、ａｒｏｍＨ
）、７．５２（ｄ、Ｊ−８Ｒｇ、ＮＨＨＯ２３３（ｂｒ
ｏａｄ　　ｓ　　、ＮＨ）実施例５ １）＜ｓＲ，ａＲ）−３−Ｃｚ−＜２−クロロアセトア
ミドチアゾール−４−イＩｖ）−２−メトキシイミノア
セトアミド〕−４−メチルスルホニル−２−アゼチジノ
ン−１−スルホン酸ナトリウム０、５３９をＤＩｉｉＦ
１５ｍｇＫ溶かし、これにシアノ化カリウム０．Ｏフｔ
を水１ｓＴＩＩｔＫ溶かした溶液を氷冷丁加え友。呈温
で３０分間かきまぜ、減圧下濃縮し、残留物′ｔ″ＸＡ
Ｄ−璽カラムで精製すると、（３Ｒ。 ４Ｒ）−ｓ−Ｃ２−ｔｘ−クロロアセトアミドチアゾ−
＃−４−イ１ｖ）−４−メト、°ｅシイミ／アセトアミ
ド〕−４゛−シアノ−２−アゼチジノン−１−スルホン
酸ナトリウム０．０３Ｆが得られた。 氷晶のＩ　Ｒ、ＮＭＲは参考例２で得られた化合物に一
致し友。 ２）上記１フで得られた４−！／アノ化合物０．２３６
２をジメチルスルホキＶド２ｄに溶かし、これに３０ｇ
６過酸化水素０．１−とＮ−水酸化ナトリウム水溶液０
．１　ｓＺ　を加え、約２５℃で３０分間かきまぜた。 約２−の水を加え、この溶液をＸＡＤ−１カラムで精製
すると（３８，４Ｓ）−４−力〃バモイＡ／−５−（ｚ
−（ｚ−クロロアセ［アミトナアゾ−ｐｖ−４−イル）
−言−メトキシイミノアセトアミド〕−２−アゼナジノ
ン−１−スジホン酸ナトダウ五０．０４　Ｆが得られた
。 ＩＲｙ””ａｌ−１：３４００．１７７０．１６８・。 ａｘ １５５０．１２７０，１０１０ ５ＯＮ　（ＤＭＳＯ−ｄ６　、　ｐｐｍ　）　：　３．
９０　（ｓ　　、　０ＣＩｉ３　）＋４．３２（ｓ、−
ＣＨ２−）、４．４０（ｄ、Ｊ■６Ｒ冨　。 Ｃ，−１１）　、　５．３３（ａｄ　、　Ｊ譲６．９Ｈ
冨、　Ｃ３−Ｒ’）　。 ７、４０　（ｂｒｏａｄ　ｓ　、　Ｃ０ＮＨ２）　、　
７．５１　（ｍ　。 ”；）−Ｈ）　、　９．２０　（ｄ　、　Ｊ＝９Ｈｚ　
、　ＮＨン実施例６ （３Ｓ−４１，５）−４−シアノ−３−ト穆フエニＶメ
チμアミノー２−アゼチジノノ１．０４ｆをジクロロメ
タン１２７に溶かし、硫酸水−素プトラーｎ−ブチルア
ンモニウム１．０２ｆｔ加え水冷かきまぜながら３０優
過酸化水素水０６８ｄと１規定水酸化ナトリウム水溶液
４．５ｓｆｔ加え、ＳＯ分間歇しくか傘まぜた。１規定
塩酸１．３　ｓｇを含む氷水中に反応液を注入し、分液
後水層をクロロホルムで２回抽出する。有機層を合わせ
てチオ硫酸す）　Ｑラムと食塩を溶かした水溶液で洗い
、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下濃縮後、残留物
をシリカゲルカラムクロマトグツフィーで精製する（ク
ロロホルム：酢酸エチル：メタノール（５０：５０：５
）で溶出〕と、（３５，４５）−４−ｆｊＡ／パモイＪ
％／−３−）リフェニルメチルアミノー２−アゼチジノ
ン０．２２３ｔが得られた。 ＩＲｙＫ”ｍ−１：３３７０，１７５０．１６７５゜ａ
ｘ ０−０ 一５Ｎ　（ＤＭＳＯ−ｄ６　、　ｐｐｍ　）　：　３．
４４　（ｄ　、　Ｊ＝５Ｈｚ　。 Ｃ４−Ｈ）　、　３．５５　（ｄ　、　Ｊ＝１０Ｈｚ　
、　ＮＨ）　、　４．１０（ｄｄ　、　Ｊ＝５　、１０
Ｈｚ　、　Ｃ３−Ｈ）　＃　６．９　Ｇ　（ｂｒｏａｄ
ｓ　　　、　　ＮＨ２）　　　＠　　　フ、０　−　７
．６　　　（ｍ　　、　　　ａｒｏｍＨＬ７．８９（Ｓ
、ＮＨ） 実施例７ （３５，４５）−３−（２−（２−クロロアセトアミド
チアゾ−算−４−イ＃）−２−（１−ｐ−ニトロベンジ
ルオキＶカルポニｖ−１−メチルエトキリイミノ）アセ
トアミド）−４−シアノ−とＮ−水酸化す）ｌつふ水溶
液０．１ｓｆを加え、約２５℃で３０分間かきまぜる。 反応、液をＸＡＤ一層カラムに付加し、精製（３Ｇ１１
エタノールで溶出〕すると（３８，４Ｓ）−４−カルバ
モイル−３−（２−（２−クロロアセトアミドチアゾ−
ｓ／−４−イｌｖ　）　−２−（１−ｐ−ニトロベンジ
ＶオキＶカルボニｗ−１−メチルエトキリイミノ）アセ
ｔアミド〕−２−アゼ≠ジノン０．１！ｆ＄ｉられる。 ｉ１ｊνＫ”ａ＋−１：　１７１＄０　、１７５０　、
１６１１０　。 ａｘ １５２０．１３５Ｏ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６　、　ｐｐｍ　）　：　１．５
２　（ｓ　、　ＣＨ３）　。 ４、２７　（ｄ　−Ｊ＝８Ｈｚ　、　Ｃ４−ＩＩ）　−
４，３４（ｓ　。 ＣＩＣＨＩ−）　、　５．３２（ｓ　、（：Ｈ２−）　
、　ｓ、ａｓｔａｄ。 Ｊ＝６　、９Ｈｚ　、　Ｃ３−ＩＩ）　、　７．４１　
（ｓ　、５））−Ｒ）、　７．６０゜８．０８（各々ｄ
　、　Ｊｓｇ９１’ｌｚ　、　ａｒｏｍ　Ｈ）、　８．
４７　（４ｅＮＩＩＬ８、８６　（ｄ　、　Ｊ＝９Ｈｚ
　、　Ｎｕ　）実施例ａ （３８，４８）−４−シアノ−３−トリフェニルメチル
アミノ−２−アゼチジノン１６０１１Ｆｔジクロロメタ
ン２−に溶かし、硫酸水素テトラ−ｎ−ブチルアンモニ
ウム１５４’ｆを加え、水冷下かきまぜながら３０％過
酸化水素水０．１０３ＩＩｔとｌ規定水酸化ナトリウム
水溶液０．６８ｍｇを加え、３０分間激しくか！まぜた
。１規定塩酸０．！２ｙｄを含む氷水中に反応液を注入
し、分液後水層をクロロホルムで２回抽出した。有機層
を合わせて、食増水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧下濃縮後、残留物をシリカゲルカラムクロマト
グツフィーで精製する〔クロロホルム：酢酸エチ：メタ
ノール（５０：５０：５）で溶出〕と、（３８，４８）
−４−カルバモイル−３−トリフェニルメチルアミノ−
２−アゼチジノン７５１１Ｆが得られた。本化合物のＸ
Ｒ，ＮＭＲスペクトルは実施例６で得られ走化合物のそ
れらと一致した。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 〔式中　ＨＩＬはアシル化されまたは保護されていても
   よいアミノ基を、Ｘは水素またはメトキシ基を。 Ｗは水素またはスルホ基を示す〕で表わされる４シアノ
   −２−アゼチジノン誘導体。 （２）式 〔式中、Ｒｔまアシル化されまたは保護されたアミン基
   を、Ｘは水素またはメトキシ基を、Ｗは水素またはスル
   ホ基を、Ｙは）・ロゲンまたは式−０ＣＯＲ。 （Ｏｎ または２を示す）で費わされる基を示す〕で表わされる
   化合物とシアン化合物を反応させ、必要に応じて保護基
   を除去することを特徴とする１式〔式中、Ｒ１はアシル
   化されまたは保護されていてもよいアミノ基を、Ｘおよ
   びＷは前記と同意義を示す〕で表わされる４−シアノ−
   ２−アゼチジノン誘導体の製造法。 （３）式 〔式中、Ｒはアシル化されまたは保霞されていてもよい
   アミノ基を、Ｘは水素またはメトキシ基を。 Ｗは水素またはスルホ基を示す〕で表わされる４−シア
   ノ−２−７ゼチジノン誘導体を水利反応に付し、必要に
   応じて保護基を除去することを特徴とする１式 〔式中　Ｒ４けアシル化されまたは保護されていてもよ
   いアミノ基を、ＸおよびＷは前記と同意義を示すＪで表
   わされる４−カルバモイル−２−アゼチジノン誘導体の
   製造法。