JPS63107977A - イソオキサゾロン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、優れた抗菌活性およびβ−ラクタマーゼ阻害
活性を有する新規な２−（３−オキソ−２−イソキザゾ
リジニル）−５−オキソ−２−テトラヒドロフランカル
ボン酸誘導体に関する。

従来の技術 最近　、土壌より分離されたエンベトバクター属および
リゾバクター属に属する新菌種より、グラム陽性菌およ
びグラム陰性菌に対して抗菌活性を示す新規抗生物質Ｔ
ＡＮ−５８８（以下、［ＴＡＮ−５８８Ｊと略称するこ
ともある。）が採取された。抗生物質ＴＡＮ−５８８の
化学構造は解明されつつあり、３−オキソイソキサゾリ
ジン環の窒素原子に５−オキソ−２−テトラヒドロフラ
ンカルボン酸が結合した特異な骨格を有していることが
判明している。

従来、３−オキソイソキサゾリジン環の窒素原子に１−
メチル酢酸基を導入した化合物の合成が報告されている
［辻、両名、ヘテロサイクルス（ｌｌｅｔｅｒｏｃｙｃ
　１ｅｓ）　、第８巻、１５３頁、１９７７年］。

しかしながら、該ｌ−メチル酢酸基を導入した化合物の
抗菌活性は認められないと報告されている。

発明が解決しようとする問題点 本発明は、抗菌活性を有する新規、有用な２−（３−才
キソー２−イソキサゾリジニル）−５−才キソー２−テ
トラヒドロフランカルボン酸誘導体を製造することにあ
る。

本発明は、式 ［式中、Ｒ１は水素、イソニトリルまたは窒素を介する
有機残基を、Ｒは水素、置換基を有していてらよいアル
キル、硫黄原子が酸化されていてもよいアルキルチオま
たはアジドを示すか、隣接する炭素原子と二重結合を形
成してもよい。但しＲ１が窒素を介する有機残基の場合
は、Ｒは水素でない。Ｒ″はカルボキシまたはそれから
誘導される基を示す］で表わされる化合物およびその塩
を提供するものである。

上記式（１）で表わされる化合物に関し、より詳細に説
明する。なお以下の明細四における各基の説明中、＊が
付された基は、置換基を有していてもよい場合を示す。

［（１で表わされる窒素を介する有機残基として、たと
えばアシルアミノ、炭素を介して置換されたアミノ、ア
ルケニルアミノ、チオアミノ、シリルアミノ、リン酸ア
ミノ、式−Ｃｏ−Ｇｏ−ＮＨ−で表わされる基などが挙
げられる。

上記アシルアミノにおけるアシルとしては、従来知られ
ているペニシリン誘導体の６位アミノ基に置換している
アシル基、°セファロスポリン誘導体の７位アミノ基に
置換しているアシル基等が挙げられる。

該アシルアミノ基の例としては、たとえば式１式％ ［式中、Ｒ″は水素、アルキル”、アルケニル１．シク
ロアルキル１．アリール１．複素環１．アルコキシ１ま
たはアリールオキシ１を　Ｒ４は水素またはアルキル−
を示し、Ｒ４はＲ″と環７を形成している場合を含む。

コで表わされる基。

式 ％式％） ［式中、Ｒ’は水素、アミノ酸残基１、アミノ基の保護
基または式Ｒ’−（ＣＨｔ）ｎ　　Ｃ（−Ｚ）−（式中
、Ｒ？は複素環１．アルコキシ１またはアミノ１を、ｎ
は０．１または２を、ＺはＯまたはＳをそれぞれ表わす
。）で表わされる基を、Ｒ８はアルキル１．アリール１
．シクロアルケニル１または複素環７を、それぞれ表わ
す。］で表わされる基１式％式％ ［式中、Ｒ１は式Ｒ”−Ｃ−（式中、Ｒ”はアル０−Ｒ
” キル１、複素環１またはアリール１を、Ｒ”は水素。

アルキル１．アルケニル１．シクロアルキル１．複素環
１また・は式−ＲＩ　！　−Ｒ，１′（式中、Ｒ１″は
アルキレンＩＩ９シクロアルキレンまたはアルケニレン
を、Ｒ１３はアリール１．カルボキシ１またはそのエス
テルまたはモノまたはジアルキルアミドを、それぞれ表
わす、）で表わされる基を、それぞれ表わす）で表わさ
れる基を、Ｒ８は化学結合手または式−Ｇｏ−ＮＨ−Ｃ
Ｈ−（式中、ＲＩ４はアル靜・ キル１．アリール１または複（Ｖを表わす。）で表わさ
れる基を、それぞれ表わす。コで表わされる基。

式 ％式％ ［式中、ＲＩ′はアリール１．複素環１またはシクロア
ルケニル１を、Ｒ”はヒドロキシ、スルファモイル、ス
ルホ、スルホオキシまたはアシルオキシ１をそれぞれ示
す。］で表わされる基。

式 ％式％ ［式中、ＲＩ′はアルキル１．シアノ、アリール１．ア
リールオキシ１．アルケニレン”、複素環１．アミノ１
または式Ｒ”’−Ｃ（冨５）−（式中、Ｒ′？’はアル
コキシを示す）で表わされる基を、Ｒ”は化学結合手ま
たは−Ｓ−を、それぞれ示す。］で表わされる基。

ＲＩ・ ［式中、ＲＩおよびＲ１０は、同一または異なって、水
素、アルキル１．アリール１．複素環１またはシクロア
ルキルを、Ｚは０またはＳをそれぞれ示す。］で表わさ
れる基がそれぞれ挙げられる。

また、Ｒ＠における式ｎ　ｌ　６−　ｃ−は、■ Ｑ　＋　Ｒｌ　１ 式ＲＩ　Ｏ−ｃ−で表わされるシン異性体と＼。−１１
１１ 式Ｒ１°−Ｃ−で表わされるアンチ異性体またはｌｌｌ
ｌ−８／ それらの混合物を表わす。

上記Ｒ１で示される窒素を介する有機残基の例としての
炭素を介して置換されたアミノの例としては、たとえば
式 ％式％ ［式中、ＲＩ＋はアルキル１．アリール１．アルケニル
１または複素環１を示す。］で表わされる基。

式 ［式中、ＲｏおよびＲ”は同一または異なってアルキル
１．アリール１またはアルケニル１をそれぞれ示し、Ｒ
”とＲ１とが隣接する璽素原子と共に複素環を形成して
いる場合を含む。］で表わされる基１式 ［式中、Ｒ”、Ｒ”およびＲ”は、同一または異なって
、アルキル１．アリール１．アルケニル１をそれぞれ示
し、Ｒ”とＲ”あるいはＲ”とか隣接する璽素原子と共
に複素環１を形成している場合を含む。］で表わされる
基がそれぞれ挙げられる。

上記Ｒ８で示される基の例としてのアルケニルアミノの
例としては、たとえば式 ［式中、Ｒ１？およびＲ１は同一または異なって、水素
、アルキル１．アリール１．シクロアルキル９．アミノ
１または複素環１を示し、Ｒ”およびＲ”が隣接する炭
素原子と共にシクロアルキル１または複素環１を形成し
ている場合を含む。］で表わされる基が挙げられる。

上記Ｒ′で示される基の例としてのチオアミノの例とし
て、たとえば式 ％式％ ［式中、Ｒ１″はアルキル１またはアリール１を、ｎは
０．１または２をそれぞれ示す。］で表わされる基が挙
げられる。

上ＥＲ’で示される基の例としてのシリルアミノのｆＦ
’ｌｌとしては、たとえば式 ＲＩ。

［式中、Ｒ２Ｏ，Ｒ”お上びＲ”は、同一または異なっ
て、アルキル１またはアリール１を示し、これらが環状
基を形成している場合を含む、Ｒ３３は水素またはシリ
ル１を示す。］で表わされる基が挙げられる。

上記Ｒ１で示される基の例としてのリン酸アミノの例と
しては、たとえば式 ［式中、Ｒ”およびＲ”は、同一または異なって、アル
キル１．アリール１．アルコキシ１またはアリールオキ
シ”を示し、Ｒ”とＲ”が複素環１を形成している場合
を含む。コで表わされる基が挙げられる。

上記Ｒ１で示される基の例として、式 ％式％ ［式中、Ｒ３６は水素、アルキル”、アルコキシ“、ア
リール１．アリールオキシ１．複素環１．アミノ“を示
ず。］で表わされる基が挙げられる。

上記式中、ＲＩで示される窒素を介する有機残基は、　
たとえば分子ｍ　５００までのものが好ましい。

Ｒで表わされる置換基を有°していてもよいアルキルは
直鎖状または側鎖を有する低級アルキルが挙げられ炭素
数１〜６のものが好ましい。例えば、メチル、エチル、
プロピル、ｉ−プロピル、ブヂル、ｉ−ブヂル、５ｅｃ
−ブヂル、【−ブチル、ペンデル、ヘキシルなどが挙げ
られる。上記アルキルは置換基を有していてもよく、該
置換基として水酸基（１級。

２級、３級）、置換オキシカルボニル（ベンツヒドリル
オキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルなど）、
置換カルボニルオキシ（低級アルカノイルオキシ、アミ
ノカルボニルオキシ、アシルアミノカルボニルオキシな
ど）、低級アルキルスルホニルオキシ、アジドなどが挙
げられる。

Ｒとしての硫黄原子が酸化されていてもよいアルキルチ
オとしては、低級（ｃｉ−４）アルキルチオが挙げられ
、該硫黄原子は１または２の酸素を有していてもよい。

例えばメチルチオ、エチルチオ。

メチルスルフィニル、メチルスルホニルなどが挙げられ
る。

Ｒが隣接する炭素原子と二重結合を形成する場合には、
イソオキザゾール環上の隣接する炭素と二重結合を形成
する場合（エンド二重結合）と、Ｒ１上の隣接する炭素
と二重結合を形成する場合（エキソニ重結合）がある。

上記式中、ＲＩで示されるカルボキシから誘導され得る
基の例としては、たとえば式 ％式％ ［式中、Ｒ３７はアルキル”、アルケニル７、アリール
”。

シクロアルキル“、複素環”またはシリル”を示す。コ
で表わされる基。

式 ［式中、ｒｔ３ＢおよびＲ３ｇは、同一または異なって
、水素、アルキル“、アリール１．シクロアルキル”、
アルケニル０または複素環１を示し、Ｒ”およびＲ”、
が隣接する窒素原子と共に複素環１を形成している場合
を含む。］で表イつされる基がそれぞれ挙げられる。

上記式中、Ｒ１で示されるカルボキシから誘導され得る
基は、たとえば分子量が５００までのものが好ましい。

上記式中、Ｒ３、ｎ　４　、　ｎ　（１、ＲＩ　Ｏ、Ｒ
Ｉ、Ｒ１４，Ｒ”。

ＲＩｓ３８におけるアルキルとしては、たとえば炭素数
１〜６のものが好ましく、その例としてはたとえばメチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブヂル
、イソブヂル、５ｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｌ。

ｌ−ジメチルブロピル、ｎ−ペンチル、イソペンチル１
ｎ−ヘキシル、イソヘキシルなどが挙げられる。

該アルキル基が有していてもよい置換基としては、たと
えばハロゲン、オキソ、デオキソ、ニトロ。

アミノ（アルギル、アルケニル、シクロアルキル、アリ
ール、アシル、カルバモイル、Ｎ−スルホカルバモイル
を置換基として有していてもよい。）、スルホ、シアン
、ヒドロキシ、カルボキシ（アルキルでエステル化され
ていてもよい。）、シクロアルギル。

シクロアルケニル、アルコキシ（アミノ、ヒドロキシ、
カルボキシ、ハロゲン、アリール、シクロアルキル、ア
ルコキシを置換基として有していてもよい。・）、アリ
ール（ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルキルアミ
ノ、アミノ、カルバモイル、スルホ、アルキルスルホニ
ル、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、ニトロ、アシル
オキシ、アラルキルオキシ、スルホオキシを置換基とし
て有していてもよい。）、上記のアリールと同様の置換
基を有していてもよＣ１アリールカルボニル、上記のア
リールと同様の置換基を有°していてもよいアリールオ
キシ、複素環にトロ、オキソ、アリール、アルケニレン
、ノ＼ロゲノアルキル、アルキルスルホニル、アルキル
、アルコキシ。

アルキルアミノ１．アミ八ハロゲン、カルバモイル。

ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、スルホを置換基とし
て有していてもよい。）、アシル（ヒドロキシ。

ハロゲン、アミノ、ニトロを置換基として有していても
よいアリールカルボニルヒドラジノを置換基として有し
ていてもよい。）、アシルオキシ、アルコキシカルボニ
ル、アルコキシカルボニルオキシ（）−ロゲンで置換さ
れていてもよい）、アシルオキシ−エトキシ、アラルキ
ル（アルキル、アルコキシ、ハロゲン、アミノ１ヒドロ
キシ、ニトロ、シアノ、カルバモイル、スルファモイル
を置換基として宵していてもよい。）、アラルキルオキ
シ（アシルオキシ、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、
アミノ、ヒドロキシ。

ニトロ、シアノ、カルバモイル、スルファモイルを置換
基として有していてもよい。）５ヒドロキシスルホニル
オキシ、アルキルスルホニルオキシ、アリールスルホニ
ルオキシ、アルキルスルホニル、アミノス“ルホニル、
アルキルスルフィニル、アリールスルホニル、アルキル
スルフィニル、アルキルチオ（シアノ、ハロゲン、カル
ボキシ、アルキルアミノ、イミ　　　゛）、カルバモイ
ル、アシルアミノを置換基として有していてもよい、）
、アリールチオ、複素環基−チオ（シアノ、ヒドロキシ
、アミノ、アルキルアミノ。

アルキル、ハロゲン、オキソを置換基として有していて
もよい。）、複素環（シアノ、ヒドロキシ、アミノ、ア
ルキルアミノ、アルキル、ハロゲン、オキソを置換基と
して有していてもよい。）−アルキル−チオ、イミノメ
チルアミノ、イミノエチルアミノ。

シリル（アルキル、アリールを置換基として有していて
もよい。）、アルキルオキシカルボニル、アリールカル
ボニル（アシルオキシ、ハロゲン、アミノ。

ヒドロキシ、アルコキシ、スルファモイルを置換基とし
て有していてもよい。）、フタルイミド、スクシンイミ
ド８ジアルキルアミノ、ジアルキルアミノカルボニル、
アリールカルボニルアミノ、カルバモイル、カルバモイ
ルオキシ、Ｎ−スルホカルバモイルオキシ、アルキルカ
ルボニルカルバモイルオキシ（ハロゲンで置換されてい
てもよい。）、アルコキシイミノ。

は、同一または異なって、水酸基またはアミノ基を示す
。）で示される基などが挙げられる。

炭素数１〜６のものが好ましく、その例としてはたとえ
ばメチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン
、ペンタメチレン、ヘキサメチレンなどが挙げられる。

該アルキレン基が有していてもよい置換基としては、た
とえばハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、アルコキシ、カ
ルボキシ、カルバモイル、シアノ、ニトロなどが挙げら
れる。

上記式中、Ｒ’ｌＲ”ＩＲ”、Ｒ”ＩＲ”ＩＲ”。

Ｒ”、Ｒ”、Ｒ”におけるシクロアルキル、シクロアル
キルオキシにおけるシクロアルキルあるいは形成してい
るシクロアルキルとしては、炭素数３〒８のものが好ま
しく、その列としてはたとえばシクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチル。

シクロヘキシル、シクロへブチル、シクロオクチルなど
が挙げられる。

該シクロアルキル基が有していてもよい置換基としては
、たとえばハロゲン、ニトロ、アミノ、ヒドロキシ、ス
ルホ、シアノ、カルボキシ５オキソ、チオキソなどが挙
げられる。

ＲＩ！で示されるシクロアルキレンとしては、上記シク
ロアルキルがさらにもう一つの結合手をもったものが挙
げられる。

上記式中、Ｒ’、Ｒ”、Ｒ”、ＲＩ３−”、Ｒ”−り−
Ｒ３４−′＊で示されるアリール（ａｒｙｌ）、アリー
ルカルボニル、アリールオキシカルボニルまたはアリー
ルオキシにおけるアリール（ａｒｙｌ）としては、たと
えばフェニル、ナフチル、ビフェニル、アンスリル。

インデニルなどが挙げられる。

該アリール基が存していてもよい置換基としては、たと
えばハロゲン、ニトロ、シアノ、アミノ（アルキル、ア
ルケニル、シクロアルキル、アリールを置換基として育
していてもよい。）、スルホ、メル゛カプト、ヒドロキ
シ、カルボキシ、アシル、スルホオキシ、スルファモイ
ル、カルバモイル、アルキル（アミノ、ハロゲン、ヒド
ロキシ、シアノ、カルボキシを置換基として有していて
もよい。）、アルコキシ。

アラルキルオキシ、アルキルスルホンアミド、メチレン
ジオキシ、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルア
ミノなどが挙げられる。また、シクロアルキルと縮合環
（例、テトラヒドロナフチル、インダニル、アセナフチ
ルなど）を形成していても′よい。

上記式中、Ｒ’、Ｒ’、ＲＩ？’、Ｒ”″′６で表わさ
れるアルコキシとしては、炭２数１〜６のものが好まし
く、その例としては、たとえばメトキシ、エトキシ、ｎ
−プロポキシ、ｉ−プロポキシ側−ブトキシ、ｉ−ブト
キシ、ｔ−ブトキシ側−ベンチルオキシ。

ｎ−へキシルオキシなどが挙げられる。

該アルコキシ基が宵していてもよい置換基としては、た
とえばハロゲン、ニトロ、アミノ、ヒドロキシ、スルホ
、シアノ、カルボキシ、アリールにトロ、アミノ、ヒド
ロキシ、アルキル、アルコキシを置換基として存してい
てもよい。）、シリル（アルキル、アリール、アラルキ
ルを置換基として宵していてもよい、）などが挙げられ
る。

上記式中、Ｒ２、ＲＩ　ｌ　、　Ｒ１Ｉ−鵞・、Ｒコ〒
−コ■で示されるアルケニルあるいはアルケニレンとし
ては、たとえば炭素数１〜６のものが好ましく、その例
としてはたとえばメチレン、ビニル、アリル（ａｌｌｙ
ｌ）。

イソプロペニル、１−プロペニル、２−ブテニル。

３−メチル−３−ブテニル、１．３−ブタジェニル。

１．３−ペンタジェニル、４−ペンタエニル、！、３−
へキサジェニル、エチリデン、プロピリデン、イソプロ
ピリデン、ブチリデンなどが挙げられる。

該アルケニル基が有していてもよいｆＨＩＡ基としては
、たとえばハロゲン、ニトロ、アミノ（アシルを置換基
として有していてもよい。）、スルホ、シアノ、ヒドロ
キシ、カルボキシ、カルバモイル５スルフアモイル、ア
リール（ａｒｙ　Ｉ）　、アシルなどが挙げられる。

上記式中、Ｒ”、Ｒ１？で示されるアルケニレンとして
は、たとえば炭素数２〜６のものが好ましく、その例と
してはたとえばビニレン、■−プロペニレン、２−ブテ
ニレン、２−ペンテニレン、■。

３−へキサジェニルンなどが挙げられる。

該アルケニレン基が有していてもよい置換基としては、
たとえばハロゲン、シアノ、カルバモイルなどが挙げら
れる。

上記式中、Ｒ＠　、　ＲＩ　Ｂで示されるシクロアルケ
ニルとしては、たとえば炭素数３〜８のものが好ましく
、その例としては、たとえば１−シクロプロペニル、ｌ
−シクロブテニル、１−シクロペンテニル、２−シクロ
ペンテニル、３−シクロペンテニル。

ｌ−シクロへキセニル、２−シクロへキセニル、３−シ
クロへキセニル、ｌ−シクロへブテニル、■。

４−シクロへキサジェニルなどが挙げられる。

該シクロアルケニル基が宵していてもよい置換基として
は、たとえばハロゲン、ニトロ、アミノ。

スルホ、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、カルバモイ
ル、スルファモイルなどが挙げられる。

上記式中、ＲコＲ”、Ｒ’、Ｒ”、Ｒ”、Ｒｔｓ、Ｒ１
？。

Ｒ”””＠、Ｒ”″”で示される複素環あるいはこれら
の基が形成している複素環としては、たとえば１個の硫
黄原子、窒素原子または酸素原子を含む５〜７貝ｙｉ素
環基、２〜４個の窒素原子を含む５〜６員復素環基、１
〜２個の窒素原子および１個のＷ、黄原子または酸素原
子を含む５〜６貝浚素環基が挙げられ、これらの複素環
基は２個以下の窒素原子を含む６貝環基、ベンゼン環ま
たは１個の硫黄原子を含む５員環基と縮合していてもよ
い。

上記の複素環基の具体例としては、たとえば、２−ピリ
ジル、３−ピリジル、４−ピリジル、ピリミジニル、ピ
ラジニル、ピリダジニル、ビベラジニル、ピペリジル、
ピラゾリル、ピラニル、チオピラニル、ピリミジニル、
イミダゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサシ
リル、イソキサゾリル、ピリド［２，３−ｄ：ｌピリミ
ジル、ベンゾピラニル、ｌ、８−ナフチリジル、１．５
−ナフチリジル、１．６−ナフチリジル、１．７−ナフ
チリジル、２，７−ナフチリジル、２．６−ナフチリジ
ル、キノリル、チェノ［２，３−ｂ］ピリジル、テトラ
ゾリル、チアジアゾリル。

オキサジアゾリル、トリアジニル、トリアゾリル。

チェニル、ピロリル、フリル、ピロリジニル、イミダゾ
リジニル、ジチェタン、テトラヒドロピラニル。

テトラヒドロフラニル、ベンゾチェニル、ピラニル。

ヘキサヒドロ−ＩＨ−アゼピニル、インドリル。

イソイントリジニル、クロマニルなどが挙げられる。

該複素環基が有していてもよい置換基としては、たとえ
ばアミノ（アシル、ハロゲン置換アルキルアシル、フェ
ニル、アルキルを置換基として有していてもよい。）、
ハロゲン、ニトロ、スルホ、シアノ、ヒドロキシ、カル
ボキシ、オキソ、チオキソ、　Ｃ＋−ｔｏアルキル［ア
リール、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ。

カルボキシ、アルコキシ、アルキルスルホニル、ジアル
キルアミノ、リン酸（アルキルをＨ＆基として有してい
てもよい。）を置換基として有していてもよい。］、シ
クロアルキル、アルコキシ（ハロゲン。

ヒドロキシを置換基として宵していてもよい、）。

炭素数１〜４のアシル、アリール（ハロゲン、ニトロ、
アルキル、アルコキシ、アミノ、スルホ、ヒドロキシ、
シアノを置換基として有していてもよい。）。

オキソ、チオキソ、アミノ酸残基−チオ（アミノ酸残基
の例としては、後述のそれらと同条のものが挙げられる
。）、ｃｉ＋ｌ。アルキル−チオ［アリール。

ハロゲン、アミノ、ヒドロキレ、カルボキシ、アルコキ
シ、アルキルスルホニル、ジアルキルアミノ、リン酸（
アルキルを置換基として存していてもよい。

）を置換基として宵していてもよい、］、復複素環アル
キル、アルコキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ５カルボ
キシ、ホルミル、アルキルスルホニルを置換基として有
していてもよい、）１式Ｒ”−ＣＨ＝Ｎ−［式中、Ｒ４
！は、複素環（アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ニト
ロ、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ。

ホルミル、アルキルスルホニルを置換基として有してい
てもよい。）を示す。コで表わされる基などが挙げられ
る。

上記式中、Ｒ４がＲ３と共に形成する環としては、たと
えばフタロイル、スクシニル、マレオイル、シトクコノ
イル。グルタリル、アジポイルなどと共に形成する環が
挙げられ、また、形成する環としては、たとえば２．２
−ジメチル−５−才キソー４−フェニル−イミダゾリジ
ンなどら挙げられる。

該環状基が有していても上い置換基としては、たとえば
ハロゲン、ニトロ、アミノ、ヒドロキシ、スルホ、シア
ノ、カルボキシなどが挙げられる。

上記式中、Ｒ”で示されるアシルオキシにおけるアシル
としては、たとえば炭素数１〜４のものが好ましく、そ
の例としてはたとえばホルミル。

アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリルなど
が挙げられ、その置換基としてはたとえばアルキル（ア
ミノ、ハロゲン、シアノ、アルコキシ、カルボキシ、ヒ
ドロキシを置換基として存していてもよい。）などが挙
げられる。

上記式中、Ｒ５で示されるアミノ酸残基としては、たと
えばグリシル、アラニル、バリル６０イシル、イソロイ
シル、セリル、スレオニル、システイニル、シスチル、
メチオニル、α−またはβ−アスパラギル、α−または
γ−グルタミル、リジル、アルギニル、フェニルアラニ
ル、フェニルグリシル、チロシル、ヒスチジル、トリプ
トファニル、プロリルなどが挙げられる。

該アミノ酸残基が宵していてもよい置換基としては、た
とえばハロゲン、ヒドロキシ、スルホ９カルボキシ、シ
アノ、アルキルアミノ、アラルキルオキシカルボニル、
アラルキルオキシ、グアニジノなどが挙げられる。

上記式中、Ｒ８で示されるアミノ基の保護基としては、
たとえばβ−ラクタムおよびペプチド合成の分野でこの
目的に用いられるものが便宜に採用される。たとえばフ
タロイル、４−ニトロベンゾイル、４−ｔｅｒｔ−ブチ
ルベンゾイル、４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼンスルホニ
ル、ベンゼンスルホニル。

トルエンスルホニル等の芳香族アシル基、たとえばホル
ミル、アセチル、プロピオニル、モノクロロアセチル、
ジクロロアセチル、トリクロロアセチル。

メタンスルホニル、エタンスルホニル、トリフルオロア
セチル、マロニル、スクシニル等の脂肪族アシル基、た
とえば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ
−ブトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、２
−シアノエトキシカルボニル、２゜２．２−）リクロ口
エトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、４−
ニトロベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル、ジフェニルメチルオキシカルボニ
ル、メトキシメチルオキシカルボニル、アセチルメチル
オキシカルボニル、イソボ、ルニル才キシカルボニル、
フェニルオキシカルボニル等のエステル化されたカルボ
キシル基、（ヘキサヒドロ−ＩＨ−アゼピン−１−イル
）メチレン等、のメチレン基、２−アミノ−２−カルボ
キシエチルスルホニル等のスルホニル基。

さらに、例えば、トリチル、２−ニトロフェニルチオ、
ベンジリデン、４−ニトロベンジリデン、ジもしくはト
リアルキルシリル、ベンジル、４−ニトロベンジル等の
アシル基以外のアミノ基の保護基が挙げられる。該保護
基の退択は本発明においては特に限定されるものではな
いが、特にモノクロロアセチル、ベンジルオキシカルボ
ニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、４−ニ
トロベンジルオキシカルボニルが好ましい。

上記式中、ＲＩ３で示される置換基を有していてもよい
カルボキシ基における置換基としては、たとえば、アル
キル（ハロゲン、シアノ、ヒドロキシを置換基として有
していてもよい。）、アリール（アルキル、アルコキシ
、ハロゲン、ヒドロキシ、アシルオキシ、スルホ、シア
ノ、スルファモイルを置換基として存していてもよい。

）、シリル（アルキル、アリール、アラルキルを置換基
として存していてもよい。）、複素環（アミノ、アルキ
ルアミノ、スルファモイル、カルバモイル、ハロゲン、
シアノ、ニトロを置換基として有していてもよい。）な
どが挙げられる。

上記式中、Ｒ”で示されるカルボキシのエステルにおけ
るエステルとしては、たとえば炭素数ｌ〜６のアルキル
エステルが挙げられ、その具体例としてはたとえばメチ
ルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、ｎ−
ブチルエステル、イソブチルエステル、　ｔｅｒｔ−ブ
チルエステルなどが挙げられる。

上記式中、Ｒ’　ｒ　Ｒ”　＋　Ｒ”　’　＋　Ｒ”　
’　＋　Ｒ”　”　テ示ｃ　ａる置換基を有していても
よいアミノにおける置換基としては、たとえば、アミジ
ン、イミノメチル。

イミノ（アリール置換）メチル、グアニジルカルボニル
、複素環”（前記の複素環と同様の置換基を存していて
もよい。）、イミノ（複素環で置換されていてもよい〕
メチル、アリールカルボニル、ヒドロキシアルキル、ア
ルキルなどが挙げられる。

上ｇ己式中、Ｒ３！ＩＲ”で示される置換基を有してい
てもよいシリルにおける置換基としては、たとえばアル
キル、アリール、アラルキルなどが挙げられろ。

上記Ｒ”、Ｒ”ＩＲ”は、Ｒｏと環状基を形成してもよ
く、その例としてはたとえば、２．５−ジシリルアザシ
クロベンチルなどが挙げられ、これらはたとえばアルキ
ル、アリールなどの置換基を有していてもよい。

上記置換基としてのハロゲンとしては、たとえば塩素、
臭素、フッ素、ヨウ素が挙げられる。

上記置換基の説明におけるアルキルとしては、炭素数１
〜１０、さらに１〜６．またさらに１〜４のものが好ま
しく、その例としてはたとえば、メチル、エチル、ｎ−
プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、Ｌ
−ブチル、５ｅｃ−ブチル、ｎ−ペンチル、イ°ソベン
チル、ｎ−ヘキシル、イソへキ、シル。

ヘプチル、オクチル、ノニル、デシルなどが挙げられる
。

上記置換基の説明におけるシクロアルキルとしては、炭
素数３〜６のものが好ましく、その例としてはシクロプ
ロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ルなどが挙げられる。

上記置換基の説明におけるアルコキシとしては、炭素数
１〜４のものが好ましく、その例としてはたとえばメト
キシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、１−プロポキシ、ｎ
−ブトキシ、ｉ−ブトキシ、ｔ−ブトキシなどが挙げら
れる。

上記置換基の説明におけるアリールとしては、たとえば
フェニル、ナフチルなどが挙げられる。

上記置換基の説明における複素環としては、前記したＲ
３等で示される複素環と同様のものが挙げられる。

上記置換基の説明におけるアシルとしては、炭素数１〜
６さらに１〜４のものが好ましく、たとえばホルミル、
アセチル、プロピオニル、ブチリル。

イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、
ヘキサノイルなどが夢げられる。

上記置換基の説明におけるアラルキルとしてはたとえば
ベンジル、フェネチル、フェニル−プロピルなどが挙げ
られる。

上記置換基の説明におけるアルケニルとしては、前記し
たＲ３等で示されるアルケニルと同様のものが挙げられ
る。

上記置換基の説明におけるアミノ酸残基としては、前記
したＲ５で示されるアミノ酸残基と同様のものが挙げら
れる。

上記各基における置換基は、１〜３個であることが好ま
しい。

上記式中、Ｒ’で示されるアシルアミノにおけるアシル
基のさらに好ましい例としては、たとえば式 ［式中、ＱＩはアミノまたは保護されたアミノ基を、Ｑ
２は水素、アルキル、アルケニル、式−ＣＨ，Ｃ０ＣＨ
。

【 ＯＱ’または式−〇−ＣＯＯＱ’（式中、Ｑ３は水Ｈ３ 素またはアルキル１を示す。）で示される基をそれぞれ
示す。］で表わされる基が挙げられる。上記式における
「アルキル」、「アルキル１ｊ、「アルケニル」および
保護されたアミノ基における「保護基」としては、前記
したものと同様のものが挙げられる。

上記のアシル基において、式Ｒ’−ＧＯ−Ｎ−で表わさ
れるアシルアミノ基の具体例としては、たとえば３−（
２，６−ジクロロフェニル）−５−メチルイソキサゾー
ル−４−イル−カルボニルアミノ、４−エチル−２，３
−ジオキソ−１−ピペラジノカルボニルアミノ、３−フ
ェニル−５−メチルイソキサゾール−４−イル−カルボ
ニルアミノ。

３−（２−クロロフェニル）−５−メチルイソキサゾー
ル７７４−イル−カルボニルアミノ、３−（２−クロａ
−６−フルオロフェニル）−５−メチルイソキサゾール
−４−イル−カルボニルアミノ、ニコチニルアミノ、ベ
ンゾイルアミノ、４−ブロモベンゾイルアミノ、２，６
−シメトキシベンゾイルアミノ、ホルミルアミノ、アセ
チルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、イ
ソブチリルアミノ。

ピバロイルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ、ｌ−アミノ−シクロヘキシ
ルカルボニルアミノ、２−アミノ−シクロへキシルカル
ボニルアミノ、３−エトキシナフトイルアミノ、２−（
２−アミノ−４−チアゾリル）−２−エチリデン−アセ
チルアミノ、２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−２
−クロロメチレン−アセチルアミノ、フタルイミド、ス
クシンイミ）’、１．２−シクロヘキサンジカルボキシ
イミド。

２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニルアミノ、
２．２−ジメチル−５−オキソ−４−フェニル−イミダ
ゾリジン、４−（カルバモイルカルボキシメチレン”）
−１，３−ジチェタン−２−イル−カルボニルアミノな
どが挙げられる。

弐Ｒ’−ＮＨ−ＣＨ−Ｇｏ−ＮＨ−で表わされるアシル
アミノ基の具体例としては、たとえばＤ−アラニルアミ
ノ、ベンジルＮ（Ｘ−カルボベンゾキシ−γ−〇−グル
タミルーＤ−アラニルアミノ、Ｄ−フェニルグリシル−
Ｄ−アラニルアミノ、Ｎ−カルボベンゾキシ−〇−アラ
ニルアミノ。

Ｎ−カルボベンゾキシ−ｐ−フェニルグリシルアミノ、
Ｄ−アラニル−Ｄ−フェニルグリシルアミノ、γ−〇−
グルタミルー〇−アラニルアミノ、２−（４−エチル−
２，３−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサミド）−
２−フェニルアセチルアミノ、２−（４−シクロヘキシ
ル−２，３−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサミド
）−２−フェニルアセチルアミノ、２−（４−エチル−
２，３−ジオキソ−ニーピペラジノカルボキサミド）−
２−（４−スルホキシフェニル）アセチルアミノ、Ｎ−
（４−エチル−２，３−ジオキソ−１−ピペラジノカル
ボニル）−Ｄ−アラニルアミノ、Ｎ−（４−エチル−２
，３−ジオキソ−１−ピペラジノカルボニル）−Ｄ−フ
ェニルグリシルアミノ、２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（４−エチル−２゜３−ジオキソ−１−ピ
ペラジノカルボキサミド）アセチルアミノ、２−（４−
ヒドロキシ−６−メチルニコチンアミド）−２−フェニ
ルアセチルアミノ、２−（４−ヒドロキシ−６−メ、チ
ルニコチンアミド）−２−（４−ヒドロキシフェニル）
アセチルアミノ、２−（５，８−ジヒドロ−２−（４−
ホルミル−！−ピペラジニル）−Ｓ−、；ｔ″キソビリ
ド２゜３−ｄ］ピリミジン−６−カルボキサミド）−２
−フェニルアセチルアミノ、２−（３，５−ジオキソ−
１，２，４−）リアジン−６−カルボキサミド）−２−
（４−ヒドロキシフェニル）アセチルアミノ。

２−（３−フルフリデンアミノ−２−才キソイミダゾリ
ジン−１−カルボキサミド）−２−フェニルアセチルア
ミノ、２−（クマリン−３−カルボキサミド）−２−フ
ェニルアセチルアミノ、２−（４−ヒドロキシ−７−メ
チル−１，８−ナフチリデン−３−カルボキサミド）−
２−フェニルアセチルアミノ゛、２−（４−ヒドロキシ
−７−ドリフルオロメチルキノリンー３−カルボキサミ
ド）−２−フェニルアセチルアミノ、Ｎ−［２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）アセチル］−Ｄ−フェニルグ
リシルアミノ、２−（６−プロモー１−エチル−１゜４
−ジヒドロ−４−オキソチェノ［２，３−ｂ］ピリジン
−３−カルボキサミド）−２−７エニルアセチルアミノ
、２−（４−エチル−２，３−ジオキソ−１−ピペラジ
ノカルボキサミド）−２−チェニルアセチルアミノ、２
−（４−ｎ−ペンチル−２，３−シオキソー！−ピペラ
ジノカルボキサミド）−２−チェニルアセチルアミノ、
２−（４−ｎ−才クチル−２，３−ジオキソ−１−ピペ
ラジノカルボキサミド）−２−チェニルアセチルアミノ
、２−（４−シクロへキシル−２，３−ジオキソ−１−
ピペラジノカルボキサミド）−２−チェニルアセチルア
ミノ、２−［４−（２−フェニルエチル）−２，３−ジ
オキソ−１−ピペラジノカルボキサミド］−２−チェニ
ルアセチルアミノ、２−（３−メチルスルホニル−２−
オキソイミダゾリジンーｌ−カルボキサミ゛ド）−２−
フェニルアセチルアミノ、２−（３−フルフリデンアミ
ノ−２−才キソイミダゾリジン−１−カルボキサミド）
−２−（４−ヒドロキシフェニル）アセチルアミノ、２
−（４−エチル−２，３−ジオキソ−１−ピペラジノカ
ルボキサミド）−２−（４−ベンジルオキシフェニルコ
アセチルアミノ、２−（４−エチル−２，３−ジオキソ
−１−ピペラジノカルボキサミド）−２−（４−メトキ
シフェニル）アセチルアミノ、２−（８−ヒドロキシ−
１，５−ナフチリジン−７−カルボキサミド）−２−フ
ェニルアセチルアミノ、２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−ホルムアミドアセチルアミノ、２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−アセトアミドアセチル
アミノ、２−フェニル−２−ウレイドアセチルアミノ、
２−フェニル−２−スルホウレイドアミノ、２−チェニ
ル−２−ウレイトアセチルアミノ、２−アミノ−３−ス
ルファモイルプロピオニルアミノ、２−アミノ−２−（
ＩＨ−インドール−３−イル）アセチルアミノ、２−ア
ミノ−２−（３−ペンゾロｂ］チェニル）アセチルアミ
ノ、２−アミノ−２−（２−ナフチル）アセチルアミノ
、Ｄ−フェニルグリシル、Ｄ−２−アミノ−（４−ヒド
ロキシフェニル）アセチルアミノ、Ｄ−２−アミノ−２
−（１，４−シクロへキサジェニル）アセチルアミノ、
Ｄ−２−アミノ−２−（ｌ−シクロへキセニル）アセチ
ルアミノ、Ｄ−２−アミノ−２−（３−クロロ−４−ヒ
ドロキシフェニル）アセチルアミノ、２−ヒドロキシメ
チルアミノ−２−フェニルアセチルアミノ、２−（１−
シクロへキセニル）−２−（４−エチル−２，３−ジ才
キラー１−ピペラジノカルボキサミド）アセチルアミノ
、Ｎ−［２−（４−エチル−２，３−ジオキソ−１−ピ
ペラジノカルボニル）］−］Ｄ−スレオニルアミノ２−
グアニルカルボキサミド−２−フェニルアセチルアミノ
、２−（４−エチル−２，３−ジオキソ−１−ピペラジ
ノカルボキサミド−２−（３，４−ジヒドロキシフェニ
ル）アセチルアミノ。

２−（４−カルボキシ−５−イミダゾリルカルボキサミ
ド）−２−フェニルアセチルアミノ、２−アミノ−２−
（３−メチルスルホンアミドフェニル）アセチルアミノ
などが挙げられる。

式Ｒ＠−Ｒ”−Ｃｏ−ＮＨ−で表わされるアシルアミノ
基の具体例としては、たとえば、Ｎ−［２−（２−アミ
ノ−４−チアゾリル）−２−メトキシイミノアセチル］
−Ｄ−アラニルアミノ、Ｎ−［２−（２−アミノ−４−
チアゾリル）−２−メトキシイミノアセチル］−Ｄ−フ
ェニルグリシルアミノ。

２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−２−［２−（２
−アミノ−４−チアゾリル）−２−メトキシイミノアセ
トアミドコアセチルアミノ、２−（２−クロロアセトア
ミド−４−チアゾリル）−２−メトキシイミノアセチル
アミノ、２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−２−メ
トキシイミノアセチルアミノ、２−（２−アミノ−４−
チアゾリル）−２−エトキシイミノアセチルアミノ、２
−（２−アミノ−４−チアゾリル）−２−イソプロポキ
シイミノアセチルアミノ、２−（２−アミノ−４−チア
ゾリル）９−２−ブトキシイミノアセチルアミノ、２−
（２−アミノ−４−チアゾリル）−２−シクロプロピル
メチルオキシイミノアセチルアミノ、２−（２−アミノ
−４−チアゾリル）−２−ベンジルオキシイミノアセチ
ルアミノ、２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−２−
アリルオキシイミノアセチルアミノ、２−（２−アミノ
−４−チアゾリル）−２−［：（１−メチル−１−カル
ボキシエチル）オキシイミノコアセチルアミノ、２−（
２−アミ゛ノー４−チアゾリル）−２−Ｃ（１−メチル
−１−メトキシカルボニルエチル）オキシイミノコアセ
チルアミノ、２−（２−アミノ−４ニチアゾリル）−２
−カルボキシメチルオキシイミノアセチルアミノ、２−
（２−アミノ−４−チアゾリル）−２−カルボ、キシビ
ニルオキシイミノアセチルアミノ、２−（２−アミノ−
４−チアゾリル）−２−カルボキシエチルオキシイミノ
アセチルアミノ、２−（２−アミノ−４−チアゾリル）
−２−メトキシカルボニルエチルオキシイミノアセチル
アミノ、２−（２−アミノ−５−クロロ−４−チアゾリ
ル）−２−メトキシイミノアセチルアミノ、２−（２−
アミノ−５−ブロモ−４−チアゾリル）−２−メトキシ
イミノアセチルアミノ、２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−オキジイミノアセチルアミノ、２−チェニ
ル−２−メトキシイミノアセチルアミノ、２−フリ・ル
ー２−メトキシイミノアセチルアミノ、２−（１゜２．
４−チアジアゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ
アセチルアミノ、２−（１，２，４−チアジアゾール−
５−イル）−２−メトキシイミノアセチルアミノ、２−
（１，３，４−チアジアゾリル）−２−メトキシイミノ
アセチルアミノ、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２
−メトキシイミノアセチルアミノ、２−７エニルー２−
メトキシイミノアセチルアミノ、２−フェニル−２−オ
キシイミノアセチルアミノ、２−（４−（γ−Ｄ−グル
タミルオキシ）フェニル］−２−才キジイミノアセチル
アミノ、２−［：４−（３−アミノ−３−カルボキシプ
ロポキシ）フェニル］−２−オキシイミノアセチルアミ
ノ、２−チェニル−２−オキジイミノアセチルアミノ、
　２−（Ｓ−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３
−イル）−２−メトキシイミノアセチルアミノ、２−（
５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）
−２−エトキシイミノアセチルアミノ゛、２−（５−ア
ミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２−
カルボキシメチルオキシイミノアセチルアミノ、２−（
５−アミノ−１゜２．４−チアジアゾール−３−イル）
−２−［（１−メチル−１−カルボキシエチル）オキシ
イミノコアセチルアミノ、２−（２−アミノ−４−チア
ゾリル）−２−（２，−アミノ−２−カルボキシ）エチ
ルオキシイミノアセチルアミノ、２−（２−アミノ−４
−チアゾリル）−２−（ジメチルアミドメチルオキシイ
ミノ）アセチルアミノ、２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル’）−２−（３，４−ジアセトキシ−ベンゾイルオ
キシイミノ）アセチルアミノ、２−（２−アミノ−４−
チアゾリル）−２−（１−カルボキシ−シクロプロビル
オキシ、イミノ）アセチルアミノ。

２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−２−（１−カル
ボキシ−シクロブチルオキシイミノ）アセチルアミノ、
２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−２−（２−イミ
ダゾリルメチルオキシイミノ）アセチルアミノ、２−（
２−アミノ−４−チアゾリル）−２−（２−メチル−４
−二トロー［−イミダゾリルエチルオキシイミノ）アセ
チルアミノ、’−ｃ２−アミノー４−チアゾリル）−２
−（３−ピラゾリルメチルオキシイミノ）アセチルアミ
ノ、２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−２−（１）
（−テトラゾール−５−イル−メチルオキシイミノ）ア
セチルアミノ、２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−
２−（２−オキソ−３−ピロリジニルオキシイミノ）ア
セチルアミノ、２−Ｃ２−（２−アミノ−２−カルボキ
シ匣チルチオ）］−］４−チアゾリルー２−メトキシイ
ミノアセチルアミノ２−（２−チオキソ−４−チアゾリ
ジニル）−２−メトキシイミノアセチルアミノなどが挙
げられる。

式Ｒ１５−ＣＨ−Ｃｏ−ＮＨ，−テ表わされルア人・・ シルアミノ基の具体例として、たとえば２−フェニル−
２−スルホアセチルアミノ、２−ヒドロキレ−２−フェ
ニルアセチルアミノ、２−フェニル−２−スルファモイ
ルアセチルアミノ、２−カルボキシ−２−フェニルアセ
チルアミノ、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−４
ルポキシアセチルアミノ、−２−フェノキシカルボニル
−２−フェニルアセチルアミノ、２−フェニル−２−ト
リルオキシカルボニルアセチルアミノ、２−（５−イン
ダニルオキシカルボニル）−２−フェニルアセチルアミ
ノ、２−ホルミルオキシ−２−フェニルアセチルアミノ
、２−アラニルオキシ−２−フェニルアセチルアミノ、
２−カルボキシ−２−チェニルアセチルアミノ、２−（
２−メチルフェノキシカルボニル）−２−チェニルアセ
チルアミノ、２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−２
−ヒドロキシアセチルアミノ、２（４−（２−アミノ−
２−カルボキシエトキシカルボキサミド）フェニル］−
２−ヒドロキシアセチルアミノなどが挙げられる。

式ＲＩ？−Ｒ”−ＣＨｔ−Ｃｏ−ＮＨ−で表わされるア
シルアミノ基の具体例としては、たとえば、シアノアセ
チルアミノ、フェニルアセチルアミノ。

フェノキシアセチルアミノ、トリフルオロメチルチオア
セチルアミノ、シアノメチルチオアセチルアミノ、ジフ
ルオロメチルチオアセチルアミノ、ｌＨ−テトラゾリル
−１−アセチルアミノ、チェニルアセチルアミノ、２−
（２−アミノ−４−チアゾリル）アセチルアミノ、４−
ピリジルチオアセチルアミノ、２−チェニルチオアセチ
ルアミノ、３．５−ジクロロ−１，４−ジヒドロ−４−
才キソビリジン−１−アセチルアミノ、β−カルボキシ
ビニルチオアセチルアミノ、２−（２−アミノメチルフ
ェニル）アセチルアミノ、２−クロロアセチルアミノ。

３−アミノプロピオニルアミノ、（２−アミノ−２−カ
ルボキシ）エチルチオアセチルアミノ、４−アミノ−３
−ヒドロキシブチリルアミノ、２−カルボキシエチルチ
オアセチルアミノ、２−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ−アセチルアミノ、β−カルバモイル−β−フルオロ
ビニルチオアセチルアミノ、２−（１−イソプロピルア
ミノ−！−イソプロピルイミノメチルチオ）アセチルア
ミノ、２−［１−（２−ジメチルアミノエチル）−１Ｈ
−テトラゾール−５−イル−チオコアセチルアミノ、２
−（ｌ−メチル−１，３，５−トリアゾール−２−イル
）アセチルアミノ、２−（４−シアノ−３−ヒドロキシ
−５−イソチアゾリールチオ）アセチルアミノなどが挙
げられる。

体例としては、たとえばカルバモイルアミノ、メチルア
ミノカルボニルアミノ、エチルアミノカルボニルアミノ
、ｔ−ブチルアミノカルボニルアミノ。

イソブチルアミノカルボニルアミノ、ジメチルアミノカ
ルボニルアミノ、２−メチルフェニルアミノカルボニル
アミノ、フニニルアミノカルボニルアミノ、３−クロロ
フェニルアミノカルボニルアミノ、４−ニトロフェニル
アミノカルボニルアミノ、４−ブロモフェニルアミノカ
ルボニルアミノ。

チオカルバモイルアミノ、メチルアミノチオカルボニル
アミノ、エチルアミノチオカルボニルアミノ、フェニル
アミノチオカルボニルアミノ、ジメチルアミノカルボニ
ルアミノ、３−フルオロフェニルアミノカルボニルアミ
ノなどが挙げられる。

式Ｒ”−ＮＨ−で表わされる基の具体例としては、たと
えばメチルアミノ、エチルアミノ、アリルアミノ、シク
ロへキシルアミノ、シクロへキシルメチルア゛ミノ、ベ
ンジルアミノ、４−クロロベンジルアミノ、フェニルア
ミノ、２−イミダゾリルアミノ。

１−メチル−２−イミダゾリルアミノ、２−（２−アミ
ノ−４−チアゾリル）−２−メトキシイミノ−チオアセ
チルアミノ、１−ベンジル−４−ピリジニウムアミノ、
２−アセチル−１−メチルビニルアミノなどが挙げられ
る。

の具体例としては、たとえばジメチルアミ八ジエチルア
ミノ、ジプロピルアミノ、ジベンジルアミノ、ジシクロ
へキシルアミノ、Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミノ、ジ
アリルアミノ、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミノ、ピロ
リジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニル
などが挙げられる。

Ｒ” 具体例としては、たとえばトリメチルアンモニウム、ト
リエチルアンモニウム、トリベンジルアンモニウム：ベ
ンジルジメチルアンモニウム、メチルピロリジニウム、
メチルピペリジニウムなどが挙げられる。

ミノ基の具体例としては、たとえばジメチルアミノメチ
レンアミノ、１−ジメチルアミノエチリデンアミノ、ヘ
キサヒドロ−ＩＨ−アゼピン−１−イルメチレンアミノ
、１−（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミノ）エチリデン
アミノ、４−ジメチルアミノベンジリデンアミノ、（ｐ
−ニトロ）ベンジリデンアミノ、ベンジリデンアミノな
どが挙げられる。

式Ｒ”−５ｏｎ−ＮＨ−で表わされるチオアミノ基の具
体［％Ｉとしては、たとえばベンゼンスルホニルアミノ
、４−メチルベンゼンスルホニルアミノ、４−メトキシ
ベンゼンスルホニルアミノ、２゜４．６−トリメチルベ
ンゼンスルホニルアミノ、ベンジルスルホニルアミノ、
４−メチルベンジルスルホニルアミノ、トリフルオロメ
チルスルホニルアミノ、フェナシルスルホニルアミノ、
メチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、４
−フルオロベンゼンスルホニルアミノ、ベンゼンスルフ
ィニルアミノ、２−ニトロベンゼンスルフィニルアミノ
、２，４−ジメチルベンゼンスルフィニルアミノ、４−
クロロベンゼンスルフィニルアミノ、４−メトキシベン
ゼンスルフィニルアミノ、フェニルチオアミノ、２，４
−ジニトロフェニルチオアミノ。

トリフェニルメチルチオアミノ、２−ニトロ−４−メト
キシフェニルチオアミノなどが挙げられる。

）基の具体例としては、たとえばトリメチルシリルアミ
ノ、トリエチルシリルアミノ、ｔ−ブチルジメチルシリ
ルアミノ、ｔ−ブチルジフェニルシリルアミノ、イソプ
ロピルジメチルシリルアミノ、トリフェニルシリルアミ
ノ、トリイソプロピルシリルアミノ、トリベンジルシリ
ルアミノ、（トリフェニルメチル）ジメチルシリルアミ
ノ、２，２，５．５−テトラメチル−２，５−ジシリル
アザシクロペンタンなどが挙げられる。

としては、たとえばジメチルリン酸アミノ、ジエチルリ
ン酸アミノ、ジフェニルリン酸アミノ、ジベンジルリン
酸アミノ、ジー４−クロロフェニルリン酸アミノなどが
挙げられる。

式Ｒ”−ＣＯ−ＧＯ−ＮＨ−で表わされる基の具体列と
しては、たとえばメトキサリルアミノ。

エトキサリルアミノ、フェノキサリルアミノ、ベンジル
オキサリルアミノ、ピルボイルアミノ、エチルオキサリ
ルアミノ、オキサモイルアミノ、ベンジルアミノオキサ
リルアミノ、チェニルオキサリルアミノ、２−アミノ−
４−チアゾリル−オキサリルアミノ、エチルアミノオキ
サリルアミノなどが挙げられる。

式−ＧＯＯＲ”で表わされる基の具体例としては、たと
えばメチルエステル、エチルエステル、ｎ−プロピルエ
ステル、イソプロピルエステル、１−ブチルエステル、
ｔ−アミルエステル、ベンジルエステル、４−ブロモベ
ンジルエステル、４−ニトロ。

ベンジルエステル、２−ニトロベンジルエステル。

３．５−ジニトロベンジルエステル、４−メトキシベン
ジルエステル、ベンズヒドリルニスナル、フェナシルエ
ステル、４−ブロモ−フェナシルエステル、フェニルエ
ステル、４−ニトロフェニルエステル、メトキシメチル
エステル、メトキシエトキシメチルエステル、エトキシ
メチルエステル、ベンジルオキシメチルエステル、アセ
トキシメチルエステル、ピバロイルオキシメチルエステ
ル、２−メチルスルホニルエチルエステル、２−トリメ
チルシリルエチルエステル、メチルチオメチルエステル
、トリチルエステル、２．２．２−トリクロロエチルエ
ステル、２−ヨードエチルエステル、シクロヘキシルエ
ステル、シクロペンチルエステル、アリルエステル、シ
ンナミルエステル、４−ピコリルエステル。

２−テトラヒドロピラニルエステル、２−テトラヒドロ
フラニルエステル、トリメチルシリルエステル、ｔ−ブ
チルジメチルシリルエステル、ｔ−ブチルジフェニルシ
リルエステル、アセチルメチルエステル、４−ニトロベ
ンゾイルメチルエステル、４−メシルベンゾイルメチル
エステル、フタルイミドメチルエステル、プロピオニル
オキシメチルエステル、１．１−ジメチルプロピルエス
テル、３−メチル−３−ブテニルエステル、スクシンイ
ミドメチルエステル、３，５−ジーし一ブチルー４−ヒ
ドロキシベンジルエステル、メシルメチルエステル、ベ
ンゼンスルホニルメチルエステル５フエニルチオメチル
エステル、イミノメチルアミノエチルエステル、１−イ
ミノエチルアミノエチルエステル、ジメチルアミノエチ
ルエステル、ピリジン−１−才キシト−２−メチルエス
テル、メチルスルフィニルメチルエステル、ビス−（４
−メトキシフェニル）メチルエステル、２−シアノ−１
，１−ジメチルエチルエステル、ｔ−ブチルオキシカル
ボニルメチルエステル、ベンゾイルアミノメチルエステ
ル。

ｌ−アセトキシエチルエステル、１−イソブチリルオキ
シエチルエステル、！−エトキシカルボニルオキシエチ
ルエステル、フタライドエステル、４−ｔ−ブチルベン
ジルエステル、５−インダニルエステル、５−メチル−
２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イルメチルエ
ステル、５−ｔ−ブチル−２−才キソー１．３−ジオキ
ソレ゛ンー４−イルメチルエステルなどが挙げられる。

としては、たとえばジメチルアミド、ジエチルアミド、
ジプロピルアミド、ジベンジルアミド、ジシクロへキシ
ルアミド、Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミド、ジアリル
アミド、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミド、ピロリジン
アミド、ピペリジンアミド。

ピペラジンアミド、モルホリンアミド、カルボキシメチ
ルアミド。１−カルボキシエチルアミドなどが挙げられ
る。

本発明の化合物（１）は、例えば２−（４−ホルミルア
ミド−３−オキソ−２−イソキザゾリジニル）−５−オ
キソ−２−テトラヒドロフランカルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル（■）［特願昭６０−２８０１３９号（昭和
６０年１２月１２日出願）明細書参照コを原料に自体公
知の反応またはこれらの組合せにより製造できる。

図式化すれば、例えば下記のとおりである。

（以下余白） （Ｊ）（ＩＩ［） （Ｖ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　ＣＶＩ）
（１’）　　　　　　　　　　　　　　　　　　（１）
［式中、各記号は前記のとおり〕 上記で得られた（　１　）、（ｒ　’）、（Ｖ）につい
て、さらに自体公知の反応によりｒｊ’、Ｒ，Ｒ’に対
応する置換基を有する化合物（ｒ）を製造することがで
きる。

またＲで表わされる基を脱離することにより、Ｒが隣接
する炭素原子と二重結合を形成している化合物を製造す
ることができる。

上記自体公知の反応を説明すれば以下のとおりである。

イソシアノ体（■）の合成 ４−ホルムアミド誘導体（Ｉ［Ｉ）の脱水反応には、例
えば無水の無極性溶媒中、三級アミンの存在下トリクロ
ロメチルクロロホルメートを作用させることにより行な
われる。溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム
、ジクロルエタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
アセトニトリル等が単独又は混合して用いられる。三級
アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン
。トリーｎ　−ブチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルシクロ
ヘキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン
、キノリンなどが用いられる。本反応は出発原料を首記
溶媒に溶解または懸濁し、これに三級アミン、ついでト
リクロロメチルクロロホルメートを加えて反応させる。

この際４−ホルムアミド誘導体１モルに対して三級アミ
ンは２．１モル、トリクロロメチルクロロホルメートは
０．５モル加えて反応させることが好ましい。反応は一
６０°ないし０℃で進行する。反応終了後、反応生成物
の加水分解防止のため反応液は冷飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液で中和することが望ましい。

親電子置換反応による（Ｖ）の合成 化合物（ＩＶ）に対する親電子置換反応は、まず（ＩＶ
）を有機溶媒中塩基で処理することによりイソニトリル
基のα位にカルバニオンを生成せしめ、これに種々の親
電子試剤を作用させることにより行なわれる。使用され
る溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホ
キシド、ジクロロメタン、ベンゼン、ジメチルホルムア
ミド、メタノール。

エタノール等である。塩基としては、ｎ−ブヂルリチウ
ム、水素化ナトリウム、カリウムｔ−ブトキシド、ナト
リウムエトキシド、水酸化カリウム、シアン化ナトリウ
ム、リチウムジイソプロピルアミド、炭酸カリウム、ト
リエチルアミン、トリーｎ−ブヂルアミンおよび１．８
−ジアザビシクロ［’５，４゜０］ウンデセ−７−エン
（ＤＢ［Ｊ）等から適当に選択して用いられる。また、
親電子試剤としては、ベンジルブロマイド、フェナシル
ブロマイド、ブロム酢酸エステル等の比較的反応性の高
い置換低級アルキルハライド、アクリル酸エステル、メ
タンヂオスルホン酸メチル、メトキシカルボニルジスル
フィドおよびアセトン、ホルムアルデヒド、アセトアル
デヒド等の低級オキソアルカンが挙げられる。

本反応は化合物ＣＩＶ）を前記溶媒に溶解または懸濁し
、塩基の０．５〜２モルおよび親電子試剤１．０〜１．
５モルを加えて反応させることが好ましい。

反応温度は約−６０℃ないし３０’Ｃで進行し、反応時
間は約０．５〜３時間を要する。かくして得られた化合
物（Ｖ）の置換基Ｒは、さらに他の置換基に変換できる
。例えば、メチルチオ基はメトキシ。

ホルムアミド、アジド等の官能基へそれぞれ自体公知の
方法と同様の方法で変換することができる。

また、Ｒがヒドロキシメチルの場合には種々の求核試剤
との反応により酸素を介しての誘導体が多数得られるが
、これらのうち、スルホン酸誘導体などの活性エステル
はさらに求核試剤との反応により、種々の置換メチル誘
導体を得ることができる。

これらの置換メチル誘導体としては、アシルオキシメチ
ル、カルバモイルオキシメヂル、メタンスルホニルオキ
シメチル、臭素、塩素、沃素等のバーハロメチル。シア
ツメデル、アジドメチル、アミノメチル、アシルアミノ
メチルなどが挙げられる。

イソシアノ荘の脱離反応による（ｌ′）の合成化合物（
ビ）は、対応する化合物（Ｖ）をイソシアノ基の脱離反
応に付すことにより製造することができる。この脱離反
応は、例えば水素化トリ（ｎ−、ｔｅｒｔ、ブヂル）ス
ズ等の水素化ジ（またはトリ）アルキルスズ、例えば水
素化トリフェニルスズ等のトリアリールスズ等のような
還元剤の存在下に行うことができる。反応は、テトラヒ
ドロフラン。

ジメチルホルムアミド２ジオキサン、ベンゼン、トルエ
ン等の非プロトン系の溶媒中、触媒量のアゾイソブチロ
ニトリルの存在下に行なわれる。本反応の反応温度は特
に限定されないが、好ましくは冷却下ないし加温下の範
囲で行われ、反応時間は３０分ないし３時間である。本
反応によって得られる化合物（■′）のＲがハイドロキ
シメチル誘導体の場合には、さらに脱水反応に付すこと
によりエキソメヂレン誘導体に変換できる。

αｌへ星久生吸久吃 化合物（Ｖｌ）は、対応する化合物（Ｖ）の加水分解に
より得ることができる。加水分解の方法については、ペ
ニシリンの分野で利用された方法を適用することができ
る。本反応は通常有機溶媒中、ｐ−ｌ−ルエンスルホン
酸モノハイドレートを作用させることにより行なわれる
。有機溶媒としては、アセトン、ジクロルメタン、テト
ラヒドロフラン。

ジメチルホルムアミド等の繁用溶媒が用いられる。

反応温度は特に限定されないが好ましくは０℃〜５０℃
１反応時間は１５分〜６０分である。化合物（Ｖｌ）は
、ｐ−トルエンスルホン酸塩として場合によっては結晶
として得られるが、通常は単離することなく１ｎｓｉｔ
ｕに窒素を介する有機残基形成反応に付される。

化合物（Ｖｌ）の窒素を介する有機残基形成反応化合物
（Ｖｌ）に窒素を介する有機残基を形成する基を導入し
得る化合物を反応させる場合の反応としては、たとえば
、アシル化、ウレイド化（ヂオウレイド化）、アルキル
化、アルケニル化、ヂオ化、シリル化、リン酸化反応な
どが挙げられる。

アシル化 アミノ基のアシル化は溶媒中で、原料化合物と、基ＲＩ
中のアシル基を含むアシル化剤、たとえばカルボン酸の
反応性誘導体とを反応させることにより行なうことがで
きる。カルボン酸の反応性誘導体としては、たとえば酸
ハライド、酸無水物、アミド化合物、活性ヂオエステル
等が用いられ、このような反応性誘導体を具体的に述べ
ると次のとおりである。

１）　酸ハライド： ここで酸ハライドとしては、たとえば酸クロリド、酸プ
ロミド等が用いられる。

２）酸無水物： ここで酸無水物としては、たとえばモノアルキル炭酸混
合酸無水物、脂肪族カルボン酸（たとえば、酢酸、ビバ
ル酸、吉草酸、イソ吉草酸、トリクロル酢酸等）からな
る混合酸無水物、芳香族カルボン酸（たとえば、安息香
酸等）からなる混合酸無水物、対称型酸無水物等が用い
られる。

３）　アミド化合物： ここでアミド化合物としては、たとえばピラゾール、イ
ミダゾール、４−置換イミダゾール、ジメチルピラゾー
ル、ベンゾトリアゾール等の環内の憲素にアシル基が結
合した化合物が用いられる。

４）活性エステル： ここで活性エステルとしては、たとえばメチルエステル
、エチルエステル、メトキシメチルエステル、プロパル
ギルエステル、４−ニトロフェニルエステル、２．４−
ジニトロフェニルエステル、トリクロロフェニルエステ
ル、ペンタクロロフェニルエステル、メシルフェニルエ
ステル等のエステルの池、■−ヒドロキシーＩＨ−２−
ピリドン、Ｎ−ヒドロキシサクシンイ、ミド、Ｎ−ヒド
ロキシフタルイミド等とのエステル等が用いられる。

５）活性チオエステル： ここで活性チオエステルとしては、たとえば２−ピリジ
ルチオール、２−ベンズチアゾリルチオール等の複素環
チオール等とのチオエステル等が用いられる。

以上のような各Ｉ反応性誘導体は、カルボン酸の覆順に
よって適宜選択される。

本反応において塩基の存在下実施される場合があり、用
いられる塩基としては、たとえば脂肪族第三アミン（た
とえばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロ
ピルアミン、トリーｎ−ブチルアミンなど）、Ｎ−メチ
ルピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン、シクロへキシル
ジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリンなどの第三アミ
ン、たとえばジ−ｎ−ブチルアミン、ジイソブチルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミンなどのジアルキルアミン、
たとえばピリジン、ルチジン、γ−コリジンなどの芳香
族アミン、たとえばリチウム、ナトリウム、カリウムな
どのアルカリ金属、たとえばカルシウム、マグネシウム
などのアルカリ土類金属等の水酸化物または炭酸塩など
が用いられる。

本方法においては、化合物（■）１モルに対してカルボ
ン酸の反応性誘導体を通常約１モル用いるが、反応に支
障のないかぎり過剰に用いることもできろ、塩基を用い
る場合塩基の使用量は、用いられる原料化合物（Ｉ［［
）、カルボン酸の反応性誘導体の積項、他の反応条件に
よって異なるが、化合物（■）１モルに対して通常的１
ないし３０モル、好ましくは約１ないし１０モルである
。本反応は、通常溶媒中で行なわれる。該溶媒としては
、たとえばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、プロピレンオキシ
ド、ブチレンオキシドなどのエーテル類、たとえば酢酸
エチル、ギ酸エチルなどのエステル類、たとえばクロロ
ホルム、ジクロロメタ゛ン、１．２−ジクロロエタン、
１．１．１−トリクロルエタンなどのハロゲン化炭化水
素類、たとえばベンゼン。

トルエン、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、たとえ、ば
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセ
トアミドなどのアミド類、たとえばアセトニトリルなど
のニトリル類など通常の有機溶媒が単独または混合して
用いられる。また、前述の塩基のうち液体のものは溶媒
を兼ねて使用することもできる。反応温度は、反応か進
行するかぎり特に限定されないが、通常的−５０℃ない
し１５０℃好ましくは約−３０℃ないし８０℃で行なわ
れる。用いられる原料、塩基、反応温度、溶媒の種類に
より異なるが、Ｘｉ！’に数十分から数十時間で反応は
終了するが、ときに数十日間を要することもある。

ウレイド化（チオウレイド基） アミノ基のウレイド基あるいはチオウレイド基への変換
反応は溶媒の存在下、原料化合物に、Ｒ”およびＺはＦ
ＪＪ己と同意義を存する。）で表わされる基を含む置換
イソシアネートあるいは置換イソチオシアネートを反応
させることによって行なわれる。該置換イソシアネート
としては、たとえば、メチルイソシアネート、エチルイ
ソシアネート、フェニルイソシアネート、ｐ−ブロモフ
ェニルイソシアネートなどが、置換イソチオシアネート
としては、たとえば、メチルイソチオシアネート、フェ
ニルイソチオシアネートなどが用いられる。本反応にお
いては、化合物（■）１モルに対して置換イソシアネー
トあるいは置換イソチオシアネートを通常約１モル用い
るが、反応に支障のないかぎり過剰に用いることもでき
る。用いられる溶媒としては、たとえばテトラヒドロフ
ラン、ジエチルエーテル、酢酸エチル、クロロホルム、
ジクロロメタン、トルエンなどが用いられる。反応温度
は約−２０℃から５０℃付近、反応時間は通常約１０分
から５時間浬度である。

アルキル化 化合物（ＩＩＩ）のアミノ基に、炭素を介して結合する
基を結合させる反応は、以下に、アルキル化として説明
する。

化合物（Ｉ）のアルキル化は、化合物（Ｉ［Ｉ）に、基
Ｒ１の該窒素に炭素を介して結合する基を含むアルキル
化剤を作用させることにより製造することができる。ア
ルキル化剤としては、例えばプロピルクロリド、ブチル
クロリド、ベンジルクロリド。

ブチルプロミド、ベンジルプロミド、アリルプロミド、
メチルヨウダイト、エチルヨウダイト、プロピルヨウダ
イト等のハロゲン化アルキル化合物、例えばジメチル硫
酸、ジエチル硫酸等のジアルキルｔａ化合物、例えばメ
チルメシレート、エチルメシレート、メチルトシレート
、エチルトシレート等の置換スルホン酸エステル化合物
、ジハロゲン化アルキル化合物（例、ｌ、５−ジクロル
ペンタン。

１．４−ジクロルブタン等）等が用いられる１本反応は
通常溶媒中で行なわれ、使用される溶媒としては、水、
メタノール、エタノール、ベンジルアルコール、ベンゼ
ン、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、アセ
トニトリル等があげられる。

本反応の温度は約２０℃ないし２００℃であり、反応時
間は約３０分から５０時間である。本反応は反応条件０
例えば化合物（ＩＩＩ）とアルキル化剤とのモル比を変
えることにより、第三アミン化合物。

第三アミン化合物あるいは第四アミン化合物を選択的に
製造することができる。また段階的に反応を行なうこと
により、窒素に異なる置換基を導入することも可能であ
る。アルキル以外の炭素を介　　　゛して結合する基を
導入する反応も、上記と同様に行なうことができる。

又、該アルキル化は、化合物（ＩＩＥ）とカルボニル化
合物とを還元剤の存在下で結合させて行なうことも出来
る０本反応で用いられる還元剤としては、水素化アルミ
ニウムリチウム、水素化シアノホウ素ナトリウム、水素
化ホウ素ナトリウム、ナトリウム、ナトリウムアマルガ
２−６亜鉛と酸との組み合わせ等があげられる。またパ
ラジウム、白金、ロジウム等を触媒とする接触還元によ
っても行なわれる。

アミノ基をＲ”−Ｎ）ｆ−（イミノ基Ｒ，換アルキルア
ミノ基、アルキルイミノ基Ｒ１Ａアルキルアミノあるい
は置換グアニジノ基）で表わされる化合物に変換する反
応ニ アミノ基のイミノ基置換アルキルアミノ基、アルキルイ
ミノ基置換アルキルアミノ基への変換反応は、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロ
ロホルム、アセトン、アセトニトリル、水などの溶媒中
、たとえば、イミドエステル類と反応させることによっ
て行なわれる。適当なイミドエステル類としては、たと
えば、メチルホルムイミデート、エチルホルムイミデー
ト、ベンジルホルムイミデート、メチルアセトイミデー
ト、エチルアセトイミデート、メチルフェニルアセトイ
ミデート、エチル　Ｎ−メチルホルムイミデート、メチ
ル　Ｎ−エチルホルムイミデート、メチル・　Ｎ−イソ
プロピルホルムイミデートなどが用いられる。反応温度
は０＠から２５℃付近、反応時間は通常ｌから６時間程
度である。アミノ基のグアニジノ基への変換反応は、水
、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチレンホスホロアミ
ドなどの溶媒中、たとえば、０−アルキルまたは、０−
アリールプソイド尿素、または、Ｓ−アルキルまたは、
Ｓ−アリールプソイドチオ尿素類と反応させることによ
って行なわれる。上記プソイド尿素類としては、０−メ
チルプソイド尿素、Ｓ−メチルプソイド尿素、Ｏ−２，
４−ジクロロフェニルプソイド尿素、Ｏ−Ｎ、Ｎ−斗す
メチルプソイド尿素など、上記プソイドチオ尿素類とし
ては、５−ｐ−ニトロフェニルプソイドチオ尿素などが
用いられる０反応温度はＯ＠から４０℃付近、反応時間
は通常１から２４４時間程である。

アルケニル化（イミノ化） 化合物（ＩＩ［）のアルケニル化（イミノ化）は、化合
物（Ｉ［Ｉ）とカルボニル化合物との脱水縮合により行
なうことが出来る。本反応は無溶媒でも進丘するが、溶
媒中で行なうことも出来る。酸あるいは塩基を触媒とし
て使用することもある。また化合物（Ｉ［Ｉ）とカルボ
ニル化合物とを脱水剤の存在下あるいはディーンスター
クのような脱水装置を用い加熱還流して製造することも
出来る。本反応で使用される溶媒としては、テ１えばベ
ンゼン、トルエン。

ジクロロメタン、エタノール等であり、反応温度は約０
″から２００℃であり、反応時間は約１時間から２０時
間である。触媒として用いられる酸としては、例えばベ
ンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、三フッ化
ホウ素、塩化亜鉛等があり、塩基としては水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウムなどがあげられる。本反応で用いら
れる脱水剤としては、モレキ二う−シーブ、シリカゲル
、無水硫酸マグネシウム、無水Ｗｅナトリウムなどが挙
げられる。

チオ化 化合物（１）のチオ化反応は、通常、化合物（ＩＩＩ）
と、弐Ｒ”−５ｏｎ−（式中、Ｒ８”およびｎは前記と
同意義を宵する。）で表わされる基を含むハロゲン化チ
オ化合物（例、ハロゲン化スルホニル、２＼ロゲン化ス
ルフイニル、ハロゲン化スルフェニル）とを塩基の存在
下に溶媒中で反応させることにより行なわれる。本反応
で用いられる溶媒としては、例えば水、アセトン、ジオ
キサン、ジメチルホルムアミド、ベンゼン、テトラヒド
ロフラン、ジクロロメタン、あるいはこれらの混合；８
媒などが挙げられる。塩基としては、ピリジン、ピコリ
ン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
Ｎ−メチルモルホリンなどの有機塩基あるいは、水酸（
ヒナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基が用いら
れる。本反応は通常化合物（［）に対しハロゲン化チオ
化合物を約１当量、塩基を約１当量ないし１０当ｉｔ使
用し、反応温度は約−２０℃ないし８０℃であり、反応
時間は１５分ないし１０時間である。

本反応はハロゲン化チオ化合物のかわりにチオ酸無水物
（例、トルエンスルホン酸無水物、トリフルオロメタン
スルホン酸無水物など）を用いても行なわれる。また例
えば、Ｎ−スルホニル−Ｎ−メチルピロリジニウム、Ｎ
−スルホニルイミダゾリドあるい、はＮ−スルホニル−
ＩＨ−１，２，４−トリアゾリドなどのチオ化試薬と反
応させることによっても行なうことができる。

シリル化 化合物（ＩＩＩ）のシリル化反応は、通常、化合物Ｒ” −１は前記と同！！義を有する。）で表わされる基を含
有するハロゲン化シリル化合物（例、シリルクロリド化
合物、シリルプロミド化合物）とを塩基の存在下に反応
させることにより行なうことができる。該塩基としては
、たとえばピリジン、ピコリン、トリエチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリンなど
の有機塩基が挙げられる。反応は溶媒中で行なうのが好
ましく、該溶媒としてはたとえばアセトン、ジオキサン
、ジメチルホルムアミド、ベンゼン、テトラヒドロフラ
ン６ジクロロメタンなどが挙げられる。反応温度は約−
２０℃ないし溶媒の沸点まで、あるいは約−２０℃ない
し８０℃であり、反応時間は約１５分ないし２０時間で
ある。

リン酸化 化合物（ＩＩＩ）のリン酸化反応は、通常化合物は前記
と同意義を有する。）で表わされる基を含有するリン酸
クロリド（例えばジメチルリン酸クロリド、ジメチルリ
ン酸クロリド、ジフェニルリン酸クロリド、ジベンジル
リン酸クロリドなど）とを約当量ないし過剰量の塩基と
溶媒中で反応させることにより行なわれる。塩基として
はピリジン。

ピコリン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリンな
どの有機塩基あるいは、水酸化ナトリウム。

水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム
などの無機塩基などが用いられる。溶媒としてはたとえ
ば水、アセトン、アセトニトリル、ジオキサン、ジメチ
ルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン
など、あるいはこれらの混合溶媒が用いられる。反応温
度は約−２０℃ないし８０℃であり、反応時間は１５分
ないし１５時間である。

化合物（１）に、カルボキシの炭素原子または酸素原子
と結合し、カルボキシから誘導され得る基を形成する基
を導入し得る化合物を反応させる場合の反応としては、
たとえばエステル化またはアミド化反応などに付すこと
により行なわれる。

カルボン酸のエステル化 エステル化は、たとえば次の方法により行なわれる。

１）化合物（Ｔ、但しＲ２はカルボキシ。以下同じ）を
ジアゾアルカン、例えば、　ジアゾメタン、フェニルジ
アゾメタン、　ジフェニルジアゾメタンなど、と溶媒、
例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、
アセトニトリルな（以下余白） ど、の中で、約０℃ないし還流温度で約２分から２時間
反応させる。

２）化合物（Ｖ）のアルカリ金属塩を活性化アルキルハ
ライド、例えば、メチルヨーシト、ベンジルプロ゛辷ド
、ｐ−ニトロ−ベンジルプロミド、ｍ　−フェノキシベ
ンジルプロミド、ｐ−ｔ−ブチルベンジルプロミド、ピ
バロイルオキシメチルクロリド。

な、どと反応させる。適当な反応条沖は、溶媒、例えば
、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ、ドアミドまた
はへキサメチルホスホルアミドなどを使用し、約Ｏ℃な
いし６０℃で、約２分から４時間反応させる。この反応
液中にトリエチルアミンなどを共存させても反応の進行
には差しつかえない。

３）化合物（Ｖ）をアルコール、例えば、メタノール、
エタノール、ベンジルアルコールなどと反応させる。こ
の反応は、カルボジイミド縮合剤、例えば、ジシクロへ
キシルカルボジイミドな゛どの存在下で行なわれる。約
０℃ないし還流温度で、約１５分ないし１８時間行ない
、溶媒としてはクロロホルム、ジクロロメタン、ジクロ
ロエタンなどが用いられる。

４）化合物（Ｖ）を酸クロリド、たとえば、エチルクロ
ロホーメート、ベンジルクロロホーメートなどと反応さ
せて得られた化合物（Ｖ）の酸無水物をアルコール、例
えば、３）に挙げたものと、３）に記載の反応条件下で
反応させる。この無水物は化合物（■）を酸クロリドと
、溶媒、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン
、などの中で２５℃ないし還流温度で、約１５分ないし
１０時間反応させることにより得られる。

５）化合物（Ｖ）をシリル化剤たとえばトリメチルシリ
ルクロリド、ｔ−ブチルージメチルシリルク占リドとト
リエチルアミンなどとの共存化、溶媒たとえばジクロロ
メタン、クロロホルム、テトラヒドロフランなどの中で
約０℃ないし還流温度で約１５分ないし１６時間反応さ
せる。

カルボン酸のアミド化 カルボン酸のアミド化は、化合物（Ｖ）を酸クロリド、
たとえば、トリメチルアセチルクロリド。

エチルクロロホーメート、ベンジルクロロホーメートま
たは酸無水物、たとえば無水酢酸、無水トリフルオロ酢
酸などで化合物（ｒ）の酸無水物を合成し、アンモニア
又は選んだアミン、例えば、前記のアルキル−、ジアル
キル−、アラルキル−又は複素環アミン剤とを反応させ
ることにより行なわれる。

上記反応は溶媒たとえばジクロロメタン、テトラヒドロ
フラン、ジメチルホルムアミドなどの中で約０℃ないし
還流温度で約１５分ないし１６時間反応させることによ
り行なわれる。

脱保護化反応 かくして得られる目的化合物（Ｉ）がそのカルボキシル
基に保護基を有する場合には、必要に応じてその保護基
を除去することができる。該保護基を除去する方法とし
ては、その保護基の種類に応じて、酸による方法、塩基
による方法、ヒドラビンによる方法、還元による方法等
の常用の方法を適宜選択して行なうことができる。ここ
で酸による方法の場合には、保護基の種類その曲の条件
によって異なるが、酸として例えば塩酸、硫酸、リン酸
等の無機酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオ
ン酸等の有機酸の他、酸性イオン交換樹脂等が使用され
る。塩基によ７る方法の場合には、保護基の種類その他
の条件によって異なるが、塩基として例えばナトリウム
、カリウム等のアルカリ金属もしくはカルシウム、マグ
ネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩等の
無機塩基、金属アルコキサイド類、有機アミン類、第四
アンモニウム塩等の有機塩基の他、塩基性イオン交換樹
脂等が使用される。

上記酸または塩基による方法の場合において溶媒（以下
余白） を使用する場合には親水性有限溶媒、水または混合溶媒
が使用されることが多い。

還元による方法による場合には、保護基の種類その他の
条件により異なるが、例えばスズ、亜鉛等の金属あるい
は２塩化クロム、酢酸クロム等の金属化合物と、酢酸、
プロピオン酸、塩酸等の有機および無機酸等の酸を使用
する方法、接触還元用金属触媒の存在下に還元する方法
等が用いられ、ここで接触還元による方法で使用される
触媒としては、例えば白金線、白金海綿、白金黒、酸化
白金。

コロイド白金等の白金触媒、パラジウム海綿、パラジウ
ム黒、酸化パラジウム、パラジウム硫酸バリウム、パラ
ジウム炭酸バリウム、パラジウム炭素。

パラジウムシリカゲル、コロイドパラジウム等のパラジ
ウム触媒、還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケ
ル、漆原ニッケル等が挙げられる。また金属と酸による
還元方法の場合においては鉄。

クロム等の金属と塩酸等の無＠酸またはギ酸、酢酸、プ
ロピオン酸等の有機酸が使用される。還元に上る方法は
通常溶媒中で行なわれ、例えば接触還元による方法にお
いてはメタノール、エタノール、プロピルアルコール、
イソプロピルアルコール等のアルコール類、酢酸エチル
等が繁用される。

また金属と酸による方法においては水、アセトン等が繁
用されるが酸が液体のときは酸自身を溶媒として使用す
ることもできる。

酸による方法、塩基による方法、還元による方法におけ
る反応温度は、通常冷却下ないし加温程度で行なわれる
。

上記式（■′）においてＲ１がアミノである化合物（Ｉ
ＩＩ）は、化合物（ｌ′）においてＲ１がアミノ以外の
璽素を介する有機残基である化合物を、前記した脱保護
化反応と同様の反応を行なうことにより製造できる。

また、化合＊（Ｉ［Ｉ）は、化合物（■′）においてＲ
１がアミノ以外の宣素を介する有機残基である化合物を
製造するための原料化合物（合成中間体）として有用で
ある。

さらに、化合物（■′）においてＲ１がカルボキシル基
である化合物（Ｖ）は、化合物（Ｉ′）においてＲ”が
カルボキシル基から誘導され得る基である化合物を、前
記した脱保護化反応と同様の反応を行なうことにより製
造できる。

かくして得られる目的化合物（１）は、自体公知の手段
たとえば濃縮、液性変換、転溶、溶媒抽出、凍結乾燥、
結晶化、再結晶１分留、クロマトグラフィーなどにより
単離精製することができる。

目的化合物（１）は基本骨格中に２個の不斉炭素がある
ため理論上４種類の立体異性体が存在するがそれらの各
異性体、およびそれらの混合物も本発明に含まれる。ま
たＲＩおよびＲ２で示される基に不斉炭素を有する場合
も同様に立体異性体を生ずるが、それらの各異性体、お
よびそれらの混合物も本発明に含まれる。前記の反応で
これらの異性体が混在して生成する場合には必要に応じ
て、それぞれの異性体を種々のクロマトグラフィー。

再結晶等の常法により単離することができる。

本発明の化合物（１）は、塩基と作用して塩を形成する
ことがあり得る。該塩基としてはたとえばナトリウム、
カリウム、リチウム、カルシウム、マグネシウム、アン
モニアなどの無機塩基、たとえばピリジン、コリジン、
トリエチルアミン、トリエタノールアミンなどの有機塩
基などが挙げられる。

本発明の化合物（１）が遊離形で得られた場合にこれを
常套手段を用いて塩を形成させてもよく、また、塩とし
て得られたものを常套手段を用いてＸ！２雛形としても
よい。

また化合物（１）は分子内４を形成する場合もあり、そ
の場合も本発明に含まれる。

化合物（１）の立体異性体はそれぞれ単独で、あるいは
混合物のいずれの状態でも医薬として使用することがで
きる。

このようにして得られる化合物（１）は医薬として有用
であり、たとえばある種のダラム陽性菌。

ダラム陰性菌に対して抗菌力を有する。

実施例 実施例！ ２−［（４Ｓ）−４−イソシアノ−３−オキソ−２−イ
ソキサゾリジニル］−５−オキソ−２−テトラヒドロフ
ランカルボン酸ジフェニルメチルエステルの製造： ２−［（４Ｓ）−４−ホルムアミド−３−オキソ−２−
イソキサゾリジニルコー５＝オキソ−２−テトラヒドロ
フランカルボン酸ジフェニルメチルエステル５．２ｇを
４００−の乾燥塩化メチレンに溶解し、アセトン−ドラ
イアイス冷却下ピリジン４ｇ、クロルギ酸トリクロロメ
チルエステル（ジホスゲン）０．８−を加え、同温度で
１時間かきまぜる。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液と振り混ぜたのち、塩化メチレン層を無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ｎ−
ヘキサン（１：１）で溶出すると、題記化合物の３．５
ｇが橙色粉末として得られた。

ＩＲｖＫＢｒｃｍ−’：　２１５０，１８００，１７６
５．１７４０．１４９０゜ａＸ １４５Ｇ、１２９５，１２６０．１１７０，１０６０，
７４０，７０ＯＮＭ　Ｒ（’ＣＤ　ＣＩｓ、ｐｐｍ）：
　２．１０〜３．５０（４１１，ｍ）、４．００〜４．
９０（３１１，ｍ）、７．００（ＩＨ，ｓ）、７．３５
（１０１１，ｓ）実施例２ ２−［（４Ｒ９）−４−イソシアノ−４−メチルチオ−
３−オキソ−２−イソキサゾリジニル］−５−オキソ−
２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチルエ
ステルの製造； ２　＝［（４Ｓ）−４−イソシアノ−３−オキソ−２−
イソオキサゾリジニル］−５−オキソ−２−テトラヒド
ロフランカルボン酸ジフェニルメチルエステル１．Ｏｇ
を無水ジメチルホルムアミドの５ｄに溶解し、メタンチ
オスルホン酸メチルエステル０．／Ｉｇを加えて冷却す
る。粉末化した無水炭酸カリ０．３７ｇを加え同温度で
夏時間かきまぜる。

反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出、水洗し無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。減圧下に濃縮し、残留部をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル
−ｎ−ヘキサン（１：２）で展開すると題記化合物の０
．６ｇが得られた。

Ｉ　ｎ　ｖ　ＫＢｒｃｍ−’：２１２０，１８００，１
７６５，１７３０，１４９０゜ａｘ １４５０．１１？０，１０６０．６９５Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｃ
Ｄ　ＣＩｓ、ｐｐｍ）＋　２．１０〜３．５０（４１１
，ｍ）、２．３３（３１１，ｓ）、４．１０〜４．７５
（２Ｈ，ｍ）、７．０Ｏ（１１１，ｓ）、７．２０〜７
．５０（１０１１，ｂｒ、ｓ） 実施例３ ２−［（４ＲＳ）−４−イソシアノ−４−ヒドロキシメ
チル−３−才キソー２−イソオキサゾリジニル］−５−
オキソ−２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニル
メチルエステルの製造：２−　［：（４Ｓ）−４−イソ
シアノ−３−オキソ−２−イソオキサゾリジニル］−５
−才キソー２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニ
ルメチルエステルの２０３ｍｇを無水ジメチルホルムア
ミドの３滅に溶解し、冷却下、３７％ホルマリン水溶液
０．５１ｎ１．粉末化した炭酸カリウム７０ｍｇを加え
４０分間同温度でかきまぜる。反応液を水にあけ酢酸エ
チルで抽出、水洗し無水硫酸マグネシウムで乾燥する。

減圧下に濃縮し、残留物をシリカゲルカラム、クロマト
グラフィーに付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン（１：Ｉ
）で展開すると、題記化合物の１４２ｍｇが得られた。

Ｉ　ＲｖＫＢｒｃｍ””：　２１４０，１８００．１７
６５．１７４０．１１８０゜ｍａｘ １０６０．６９５ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＩｓ、ｐｐｉ）＋　２．１０〜３
．６０（５１１，ｍ）Ｊ、８０〜４．０５（２１１，ｍ
）、４．１０〜４．８０（２１！、ｍ）、７．００（１
１１，ｓ）。

７．２０〜７．５０（１０１１，ｂｒ、ｓ）実施例４ ２−［（４ＲＳ）−４−イソシアノ−４−（２−ヒドロ
キシ−２−プロピル）−３−オキソ−２−イソオキサゾ
リジニル］−５−オキソ−２−テトラヒドロフランカル
ボン酸ジフェニルメチルエステルの製造： ２−［（４Ｓ）−４−イソシアノ−３−オキソ−２−イ
ソオキサゾリジニル］−５−オキソ−２−テトラヒドロ
フランカルボン酸ジフェニルメチルエステルの８１２ｍ
ｇをアセトン８−に懸濁し、粉末化した炭酸カリ２７６
Ｄを加え、冷水冷却下２．５時間かきまぜる。反応液を
減圧下濃縮し、残渣を酢酸エチルで抽出、水洗し無水硫
酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に濃縮し、残留部を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチ
ル−１−ヘキサン（１：Ｉ）で展開すると、連記化合物
の５１０ｍｇが得られた。

Ｉ　ｎ　ｖ　”ｊ０’ｃｍ−’：　２１３０，１７９５
，１７６０，１７２５゜ｍａｘ １１７５．１０６０，７２５，７０Ｏ ＮＭＲ（ＣＤ０１ｓ、Ｉ）ｐｍ）：　１．４（１（６ｔ
ｌ、ｓ）、２．２０〜３．４５（５川Ｉ、ｍ）、４．０
０〜４．８０（２１１，ｍ）、７．００（ＩＩＩ、ｓ）
、７．２Ｏ−Ｊ７．５０（ｔｏｌｌ、ｂｒ、ｓ） 実施例５ ２−［（４ＲＳ）−４−イソシアノ−４−（ジフェニル
メチルオキシカルボニルメチル）−３−オキソ−２−イ
ソオキサゾリジニルコー５−オキソ−２−テトラヒドロ
フランカルボン酸ジフェニルメチルエステルの製造： ２−［（４Ｓ）−４−イソシアノ−３−才キソー２−イ
ソ゛オキサゾリジニルコー５−オキソー２−テトラヒド
ロフランカルボン酸ジフェニルメチルエステルの８００
ｍｇを無水ジメチルホルムアミドの３−に溶解し、冷却
下にブロム酢酸ジフェニルメチルエステル６６０ｍｇお
よび粉末化した炭酸カリ２７２ｍｇを加え同温度で３時
間かきまぜる。反応液を水にあけ酢酸エチルで抽出、酢
酸エチル層を水洗、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下に濃縮する。残留物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、酢酸エチル−ｎ−へキチン（ｌ：２）
で展開すると、連記化合物の７５０ｍｇが得られた。

ＩＲｖＫＢｒｃＩｌｌ−’：　２１３０．１８０５，１
７６５，１７３０，１４９５゜ｍａｘ １４５０．１３７５，１０６０，７４０，６９ＯＮ　Ｍ
　Ｒ（ＣＤ　ＣＩ３．ｐｐｍ）：　２．２０〜３．５０
（６１１，ｍ）、４．５０（２１１，ｓ）　、　６．９
３（ｌｉｔ、　ｓ）　、　７．００（ＩＨ，ｓ）　、　
７．２（１−７，５０（２０Ｈ，ｂｒ、ｓ） 実施例６ ２−［（４ｒｔＳ）−４−アセトキシメチル−４−イソ
シアノ−３−オキソ−２−イソオキサゾリジニルクー５
−オキソ−２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニ
ルメチルエステルの製造：２−［（４ＩＩＳ）−４−イ
ソシアノ−４−ヒドロキシメチル−３−オキソ−２−イ
ソオキサゾリジニルクー５−才キソー２−テトラヒドロ
フランカルボン酸ジフェニルメチルエステルの４３６ｍ
ｇを塩化メチセン８艷に溶解し、冷却下、ピリジン１１
８Ｄ、無水酢酸１５３　ｍｇを加えたのち室温で３時間
かきまぜる。反応液は水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、減圧下に濃縮する。残留部冬シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン（
１：２）で溶出すると連記化合物の３８２ｍｇが得られ
た。

ＩＲｖＫＢｒａｍ−’：　２１４０，１８Ｑ５．１７６
０．１７３０（ｓ）。

ｍａｘ １４９５．１４５０，１２２０，１１８０，１０６０．
７０ＯＮ　ＭＲ（ＣＤ　ＣＩｓ、ｐｐｍ）＋　２．０３
（３Ｈ，ｓ）、２．２０〜３．４５（４１１，ｍ）、４
．１０〜４．６０（２１１，ｍ）、４．４０（２１１，
ｓ）、６．９３（Ｉｌｌ、Ｓ）、７．１５〜フ、４５（
１０１１，ｂｒ、ｓ）実施例７” ２−ＥＣ４Ｒ８＞−４−クロロアセチルカルバモイルオ
キシメチル−４−イソシアノ−３−才キソ−２−イソオ
キサゾリジニル］−５−才キソー２−テトラヒドロフラ
ンカルボン酸ジフェニルメチルエステルの製造： ２−［（４Ｒ９）−４−ヒドロキシメチル−４−イソシ
アノ−３−オキソ−２−イソオキサゾリジニルツー５−
オキソ−２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニル
メチルエステル９７０ｍｇを乾燥塩化メチレンの２０−
に懸濁し、水冷下、クロロアセチルイソシアナート４０
０ｍｇを加え、同温度で１時間かきまぜたのち減圧下に
濃縮する。残留部をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：Ｉ）で溶出
すると連記化合物の５２０ｍｇが得られた。

ＩＲシＫＢｒｃｍ−’：２１３０，１８００，１７６５
，１４９０，１１９０゜ａｘ １０５０．７５０，８９Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＩａｐｌ＋ｍ）：　２．１０〜３
．６０（４１１，ｍ）、４．２５〜４．８０（６Ｈ，ｍ
）、７．００（ＩＨ，ｓ）、７．２０〜７．５０（１０
１１，ｍ）。

８．４０〜８．６０（ＩＨ，ｂｒ、ｓ）実施例８ ２−（（４ＲＳ）−４−［２−（２−アミノ−４−チア
ゾリル）−（Ｚ）−２−（メトキシイミノ）アセトアミ
トコ−４−メチルチオ−３−オキソ−２−イソオキサゾ
リジニル）−５−オキソ−２−テトラヒドロフランカル
ボン酸　ナトリウム塩［化合物（８ｃ）コの製造： （ａ）　　２−（（４Ｒ８）−４−［２−（２−クロロ
アセトアミド−４−チアゾリル）−（Ｚ）−２−（メト
キシイミノ）アセトアミド］−４−メチルチオ−３−オ
キソ−２−イソオキサゾリジニル）−５−才キソー２−
テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチルエステ
ル［化合物（８ａ）］の製造：２−［（４１１Ｓ）−４
−イソシアノ−４−メチルチオ−３−オキソ−２−イソ
オキサゾリジニル］−５−才キソー２−テトラヒドロフ
ランカルボン酸ジフェニルメチルエステルの１．５２ｇ
を塩化メチレン２０−に溶解し、水冷下にｐ−）ルエン
スルホン酸モノハイドレートの０．８ｇを加え、同温度
で２．５時間かきませたのち、反応液に炭酸水素ナトリ
ウム水を加えてアルカリ性とする。塩化メチレン層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮する。残留
部にジメチルアセトアミド１０ｄおよびピリジン０．９
ｇを加え、水冷下、２−（２−クロロアセトアミド−４
−デアゾリル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノ酢酸クロ
ライド・塩酸塩１．３ｇを加え、同温度で４０分間かき
ませる。

反応液を水にあけ酢酸エチルで抽出、有機層を水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮する
。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、
酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（２：ｌ）で展開すると化合
物（８ａ）の０．７ｇが淡黄色泡状物として得られた。

ＩＲシＫＢｒｃｍ−’：１８１０，１７７０．’１６９
０，１５４５，１２７０゜ａｘ １１ｇ０，１０５０，７４０，７０Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＩ３１）Ｉ）ｍ）　：　２．１０
（３１１，ｓ）、２．２０〜３．４０（４１１，ｎ）　
、　４．０５（３！Ｉ、　ｓ）　、　４．２０（２１１
，ｓ）　、　４．４０〜５．０（２１！。

ｍ）、７．００（ＩＨ，ｓ）７．２０〜７．５０（１０
１１，ｍ）（ｂ）　　２−（（４ＲＳ）−４−［２−（
２−アミノ−４−チアゾリル）−（Ｚ）−２−（メトキ
シイミノ）アセトアミド）−４−メチルチオ−３−オキ
ソ−２−イソオキサゾリジニル）−５−オキソ−２−テ
トラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチルエステル
［化合物（８ｂ）］の製造： 上記で得られた化合物（８ａ）の４２５ｍｇをジメチル
ホルムアミド４旙に溶解し、水冷下にＮ−メチルジヂオ
カルバミン酸ナトリウム１０６＋ｎｇを加え、同温度で
２．５時間かきませたのち、反応液を水にあけ酢酸エチ
ルで抽出し、水洗後無水硫酸マグネシウムで乾燥する。

減圧下に濃縮し、残留部をシリカゲルカラムクロマトグ
ラブイ−に付し、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（２＋１）
で溶出すると化合物（８ｂ）の２３３ｍｇが得られた。

ＩＲシＫＢｒｃｍ−’：１８０５，１７６０．１７３０
（ｓ）、１６７５゜１１８Ｘ １６１０．１５３０，１１８０，１０５０，７５０，６
９５Ｎ　Ｍ　ｎ　（Ｄ　Ｍ　Ｓ　　Ｏ−ｄｓ、Ｉ’　ｐ
ｌｌｌ）　二　２．２０（３１１，ｓ）、２．２０〜３
．４０（４１ｒ“、ｍ）、４．００（３１１，ｓ）、４
．４０〜４．９０（２１１，ｍ）。

６．０５〜８．２５（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）、７．００（Ｉ
ＩＩ、ｓ）、７．１０〜７．５０（１０１１，ｂｒ、ｓ
）、８．７５．８．８５（ｉｌｌ、ｂｒ、ｓ）（ｅ）　
　連記化合物（８Ｃ）の製造：化合物（８ｂ）の１８５
ｍｇに９９％ギ酸２蔵を加え、室温で１．５時間かきま
せる。減圧下にギ酸を留去し、残渣に炭酸水素ナトリウ
ム水を加えて中和したのち、ＣＨＰ−２０カラムクロマ
トグラフイーに付し、１０％のエタノールを含む水で溶
出される部分を凍結乾燥すると、連記化合物（８Ｃ）の
１０９ｍｇが無色粉末として得られた。

ＩＲシＫＢｒｃｍ−’：１７７０，１７１５，１８５５
，１５２５．ｔ３７０゜曵ａＸ １１９０．１０３０゜ ＮＭＲ（ＤＭＳ　Ｏｄｓ、Ｉ）ｐｍ）：　２．１５（３
１１，ｓ）、２．１０〜３．２０（４１１，ｍ）、３．
８０（３Ｈ，ｓ）、４．３５〜４．７０（２Ｈ，ｍ）。

６．７０（１ｔＬｓ）、７．００〜７ＪＯ（２Ｈ，ｂｒ
、ｓ）、９．４５〜９．５５（ｉｌｌ、ｂｒ、ｓ） 実施例９ ２−　［（４Ｒ８）−４−［２−（２−アミノ−４−チ
アゾリル）−（Ｚ）−２−（メトキシイミノ）アセトア
ミド］−４−ヒドロキシメチル−３−才キソー２−イソ
オキサゾリジニル）−５−才キソー２−テトラヒドロフ
ランカルボン酸ナトリウム塩［化合物（９ｃ）コの製造
： （ａ）　　２−（（４ＲＳ）−４−［２−（２−クロロ
アセトアミド−４−チアゾリル）−（Ｚ）−２−（メト
キシイミノ）アセトアミドツー４−ヒドロキシメチル−
３−オキソ−２−イソオキサゾリジニル）−５−オキソ
−２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチル
エステル［化合物（９ａ）］の製造＝２−［（４ＲＳ）
−４−ヒドロキシメチル−４−イソシアノ−３−オキソ
−２−イソオキサゾリジニル］−５−オキソ−２−テト
ラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチルエステルの
４３６ｎ＋ｇをクロロホルム３７ｎ１に懸濁し、水冷下
、ｐ−トルエンスルホン酸モノハイドレートの２０９ｍ
ｇを加え、同温度で１時間かきまぜる。反応液を炭酸水
素ナトリウム水溶液でアルカリ性としたのち、クロロホ
ルム層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下に濃縮す
る。濃縮物を３旙のジメチルアセトアミドに溶解し、水
冷下ピリジン１７４　ｍｇ、ついで２−（２−クロロア
セトアミド−４−チアゾリル）−ＣＺ）−２−メトキシ
イミノ酢酸クロライド・塩酸塩３６６ｍｇを加え、同温
度で２時間反応させる。

反応液を水にあけ酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層
は水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧下に濃縮
する。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（３：Ｉ）で溶出する
と連記化合物（９ａ）の１７０１１Ｉｇが得られた。

Ｉ　ＲシＫＢｒｃｍ−’：１ｇ１０，１７７０．１？４
０，１６７０，１５４０゜ａＸ １１８０．１０５０．７０Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＩ＊　、ｐｐｍ）　：　２．１０
〜３．５０（４ｔｌ、ｍ）　、４．０３（３Ｈ，ｓ）、
４．２３（２１１，ｓ）、４．５０〜５．００（４Ｈ，
ｍ）、７．００（ＩＩＩ。

ｓ）、７．２０〜７．５０（１０）１．ｍ）（ｂ）２−
（（４ＲＳ）−４−［２−（２−アミノ−４−チアゾリ
ル）−（Ｚ）−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］
−４−ヒドロキシメチル−３−オキソ−２−イソオキサ
ゾリジニル）−５−才キソー２−テトラヒドロフランカ
ルボン酸ジフェニルメチルエステル［化合物（９ｂ）］
の製造：上記で得た化合物（９ａ）のｔ’ｉ’ｏｍｇを
ジメチルホルムアミド３蔵に溶解し、水冷下Ｎ−メチル
ジチオカルバミン酸ナトリウム４８ｍｇを加え、室温で
１時間かきまぜる。反応液を水にあけ酢酸エチルで抽出
、酢酸エチル府は水洗後無水硫酸マグネシウムで乾燥し
、減圧下に濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン（２：１
）で溶出すると連記化合物（９ｂ）の１１５ｍｇが得ら
れた。

ＩＲνＫ””Ｃｍ−’：１８０５，１７６０，１７３５
，１６７０，１５３５゜ｎａＸ １１ｇ０，１０５０．７０Ｏ ＮＭ　Ｒ（ＣＤ　ＣＩｓ、ｐｐｍ）：　２．１０〜３．
５０（４１１，ｍ）、４．００（３１１，ｓ）、４．５
０〜５．００（４１１，ｍ）、５．１０〜５．３０（２
Ｈ，ｂｒ。

ｓ）　、　６．８６（１１１，ｓ）　、　７．００（Ｉ
ＩＩ、　ｓ）　、　７．２０〜７　、５０（１０１１，
ｂｒ、（ｅ）　　連記化合物（９Ｃ）の製造：上記で得
られた化合物（９ｂ）の１１５ｍｇを水冷下、４旙のギ
酸に溶解し、室温で１時間反応させｔこのち減圧下にギ
酸を留去し、炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ７に調整
後、ＣＨＰ−２０カラムクロマトグラフイーに付し、１
０％エタノール−水で溶出し凍結乾燥すると連記化合物
（９Ｃ）の４７ｍｇが得られた。

ＩＲシＫＢｒｃｍ−’：１７８０．１？３０，１６５５
，１５３０，１３７５゜ａｘ １１８０．１０４Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｄ　ｔ　Ｏ、Ｉ）ｌ）ｍ外部基準）：　２
．２０〜３．５０（４Ｈ，ｍ）。

４．００（３１１，ｓ）、７．０３（ｉｌｌ、ｓ）実施
例１０ ２−（（４Ｒｓ）−４−［２−（２−アミノ−４−デア
ゾリル）−（Ｚ）−２−（メトキシイミノ）アセトアミ
ド］−４−アセトキシメチル−３−才キソー２−イソオ
キサゾリジニル）−５−オキソ−２−テトラヒドロフラ
ンカルボン酸ナトリウム塩［化合物（１０ｃ）］の製造
： （ａ）　　２−（（４ＲＳ）−４−［２−（２−クロロ
アセトアミド−４−チアゾリル）−（Ｚ）−２−（メト
キシイミノ）アセトアミド］−４−アセトキシメチル−
３−オキソ−２−イソオキサゾリジニル）−５−オキソ
−２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチル
エステル［化合物（ＩＯａ）］の製造： ２−［（４Ｒ９）−４−アセトキシメチル−４−イソシ
ア°ノー３−オキソー２−イソオキサゾリジニルコー５
−オキソ−２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニ
ルメチルエステルの４００ｍｇをクロロホルム３成に溶
解し、水冷下１）−トルエンスルホン酸モノハイドレー
ト１７５ｍｇを加え同温度で１時間かきまぜのち、反応
液を重曹アルカリ性とし、クロロホルム層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。減圧下に濃縮し、残留部をジメ
チルアセトアミドの２Ｔｎ１．に溶解し、水冷下にピリ
ジン１４６　ｍｇ、ついで２−（２−クロロアセトアミ
ド−４−デアゾリル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノ酢
酸クロライド・塩酸塩３０５ｍｇを加え、同温度で１時
皿かきまぜる。。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出、
酢酸エチル届は水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン（２：１
）で溶出すると、連記化合物（１０ａ）の５１０ｍｇが
得られた。

ＩＲシＫＢｒｃｍ−’：１８０５，１７５５，１６Ｈ，
１５４５，１２６０゜ａｘ １２３０、１１８０．１０５０，７８０，７５５．６９
５Ｎ　Ｍ　Ｉ’ｌ　（ＣＤ　Ｃｒ３．ｐｐｍ）：　２．
０６（３１１，Ｓ）、２．１０〜３．５０（４ＩＩ、　
ｍ）　、　４．０３（３１１，ｓ）　、４．２０（２＋
１．ｓ）　、　４　、３０〜４．８０（４１１゜ｍ）、
７．００（Ｉｌｌ、ｓ）、７．１５”７．４５（ＩＯＨ
，ｍ）（ｂ）　　２−（（４ＲＳ）−４−［２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−（Ｚ）−２−（メトキンイ
ミノ）アセトアミド］−４−アセトキシメチル−３−オ
キソ−２−イソオキサゾリジニル）−５−オキソ−２−
テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチルエステ
ル［化合物（ＩＯｂ）］の製造：上記で得られた化合物
（１０ａ）の４７０ｍｇを２力辺のジメチルホルムアミ
ドに溶解し、水冷下にＮ−メメチジヂオカルバ、ミン酸
ナトリウム！０８ｍｇを加えたのち、室温で１時間かき
まぜる。反応液に酢酸エチルを加えて水洗し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後減圧下に濃縮する。残留部をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ｎ
−ヘキサン（３：１）で溶出すると連記化合物（Ｊｏｂ
）の２５１ｍｇが得られた。

ＫＢｒ　　−＋ Ｉｎ　　ｖ　　　　ａｍ　　：ＩＨ５，１７５０，１６
７５４５２５，１０４５゜ａｘ ７５０．６９Ｏ Ｎ　Ｍ　ｎ　（ＣＤ　Ｃｘｓ、ｐｐｍ）：　２．０３（
３１１，ｓ）、２．１０〜３．５０（４＋１．ｍ）、４
．００（３１１，ｓ）、４．４０〜Ｉ１．９０（４１１
，ｍ）、５．１０〜５．３５（２１１，ｂｒ、ｓ）、７
．００（ＩＨ，ｓ）、７．２０〜７．５０（１０１１゜
ｍ） （Ｃ）　　連記化合物（ｆｏｅ）の製造：上記で得た化
合物（１０ｂ）の２００ｍｇに、水冷下、９９％ギ酸２
Ｍｌを加えたのち、室温で１時間反応させる。反応液を
減圧下に濃縮後、炭酸水素ナトリウム水でｐＨ７に調整
し、ＣＦ（Ｐ−２０カラムクロマトグラフイーに付し、
１０％エタノール−水で溶出される部分を凍結乾燥する
と連記化合物（１”Ｏｃ）の１０７ｍｇが無色粉末とし
て得られた。

ｒｒＬ　ν”Ｂｒｃｍ−’：１６８０，１７４０．１６
６０，１５３０，１３７５゜ａｘ １２４０□１２００．１０４Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｄ　ｔ　Ｏ、ｐＩ）ｍ外部基準）：　２，
３９（３１１，ｓ）、２．４０〜３．６０（４１１，ｍ
）、　４．２３（３Ｈ，ｓ）、　７．２６（ＩＩＩ、ｓ
）実施例１１ ２−（（４ＲＳ）−４−［２−（２−アミノ−４−チア
ゾリル）−（Ｚ）−２−（メトキシイミノ）アセトアミ
ド］−４−カルバモイルオキシメチル−３−オキソ−２
−イソオキサゾリジニル）−５−才キソー２−テトラヒ
ドロフランカルボン酸ナトリウム塩［化合物（ＩＩＣ）
］の製造： （ａ）　　２−（（４ＲＳ）−４−［２−（２−クロロ
アセトアミド−４−デアゾリル）−（Ｚ）−２−（メト
キシイミノ）アセトアミド］−４−クロロアセチルカル
バモイルオキシメチル−３−オキソ−２−イソオキサゾ
リジニル）−５−オキソ−２−テトラヒドロフランカル
ボン酸ジフェニルメチルエステル［化合物（Ｉｌａ）コ
の製造： ２−［（４ＲＳ）−４−クロロアセチルカルバモイルオ
キシメチル−４−イソシアノ−３−才キソー２−イソオ
キサゾリジニル］−５＝オキソ−２−テトラヒドロフラ
ンカルボン酸ジフェニルメチルエステルの４８０ｍｇを
クロロホルム４滅に溶解し、水冷下、ｐ−トルエンスル
ホン酸１８１ｍｇを加え同温度で１時間かきまぜる。反
応液を炭酸水素ナトリウム水でアルカリ性としたのち、
クロロホルム層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
下に濃縮する。濃縮物をジメチルアセトアミドの２−に
溶解し、ピリジン１６４ｍｇを加えついで水冷下に２−
（２−クロロアセトアミド−４−チアゾリル）−（Ｚ）
−２−メトキシイミノ酢酸クロライド・塩酸塩３４５ｍ
ｇを加え、同温度で１時間かきまぜる。反応液に水を加
え、酢酸エチルで抽出する。酢エチ層は水洗後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮する。濃縮物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチ
ルで溶出すると連記化合物（ｆｌａ）の５４０ｍｇが得
られた。

ｉｎ　νＫ”ｃｍ−’：１８００，１７６０，１７３０
．１６ｇ５，１５４０゜■ａｘ １４９５．１２６０，１１９０．１０５５．７８０，７
５５゜６９ＯＮＭＲ（ＣＤ　ＣＩ＊、ｐｐｍ）：　２．
２０〜３．６０（４Ｈ，ｍ）、４．０３（３１１，ｓ）
　、　４．２９　（２１１，ｓ）　、　４．３９（２！
Ｌ　ｓ）　、　４．３０〜４．ｇＯ（４１１゜ｍ）、７
．０３（ＩＨ，ｓ）、７．２０〜７．５０（ＩＯＨ，ｂ
ｒ、５）（ｂ）２−（（４ＲＳ）−４−［２−（２−ア
ミノ−４−デアゾリル）−ＣＺ’）−２−（メトキシイ
ミノ）アセトアミトコ−４−カルバモイルオキシメチル
−３＝オキソ−２−イソオキサゾリジニル）−５−オキ
ソ−２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチ
ルエステル［化合物（ｌｌｂ）］の製製造上上で得られ
た化合物（Ｉｌａ）の５２０ｍｇを２１ｒｄｌのジメチ
ルホルムアミドに溶解し、水冷下にＮ−メチルジヂオカ
ルバミン酸ナトリウム２１７ｍｇを加え、同温度で５時
間かきまぜた。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出す
る。酢酸エチル層は、水洗後無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下に濃縮する。濃縮物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、酢酸エチルで溶出すると連記
化合物（Ｉｌａ）の５４０ｍｇが得られた。

ＩＲν　ＫＢｒｃｍ−’：１８００，１７３０，１６７
５．１６１０，１５１５゜ａＸ １７２５．１２６０．１１？５，１０４０．６９ＯＮ　
Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＩ３　、ｐｐＩＩｌ）　＋　　２．１
０〜３．４０（４１１，ｌ１ｌ）、　４．０００＋１．
　ｓ）　、　４　、３０〜４．８０（４ｔＬ　ｍ）　、
　５．２０〜５．４０（２１１，ｂｒ。

ｓ）、７．００（ｉｌｌ、ｓ）、７．２０〜７．５０（
１０１１，ｂｒ、５）（ｃ）　　連記化合物（ｌｌｃ）
の製造：上記で得た化合物（Ｉｌｂ）の１５０ｍｇを、
水冷下に４−のギ酸に溶解し、室温で１．５時間反応さ
せたのち減圧下にギ酸を留去する。残渣を炭酸水素ナト
リウム水溶液でｐＨ７に調整後、ＣＨＰ−２０カラムク
ロマトグラフイーに付し、５％エタノール−水で溶出す
る部分を凍結乾燥すると連記化合物（ｌｌｃ）の７６Ｂ
が得られた。

Ｉ　ＲνＫＢｒｃｍ−’：１７８０，１７３０，１６６
０．Ｌ５３０，１３８０゜ａＸ １３３５．１２００．１０８５．１０４ＯＮＭ１０４Ｏ
Ｎ、ｌ）Ｉ）ｍ外部基’Ａ）：　２．５０〜３．５０（
４１１，ｍ）。

４．２０（３１１，ｓ）、４．６６〜４．８６（２１１
，ｍ）、７．２６（ＩＨ，ｓ）実施例１２’ ２−（（４ＲＳ）−４−［２−（２−アミノ−４−デア
ゾリル）−（Ｚ）−２−（メトキンイミノ）アセトアミ
ドコー４−ジフェニルメチルオキシカルボニルメチル−
３−オキソ−２−イソオキサゾリジニル−５−オキソ−
２−テトラヒドロフランカルボン酸ナトリウム塩〔化合
物（１２Ｃ）］の製造−（ａ）　　２−（（４ＲＳ）　
−４−［２−（２−クロロアセトアミド−４−チアゾリ
ル）−（Ｚ）−２−（メトキシイミノ）アセトアミトコ
−４−ジフェニルメチルオキシカルボニルメチル−３−
才キソー２−イソオキサゾリジニル−５−オキソ−２−
テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチルエステ
ル［化合物（１２ａ）コの製造： ２−［（４ＲＳ）−４−ジフェニルメチルオキシカルボ
ニルメチル−４−イソシアノ−３−オキソ−２−イソオ
キサゾリジニルコー５−オキソ−２−テトラヒドロフラ
ンカルボン酸ジフェニルメチルエステルの７００ｍｇを
クロロホルム８威に溶解し、水冷下にｐ−トルエンスル
ホン酸モノハイドレートの２３２ｍｇを加え同温度で１
時間かきまぜる。反応液を炭酸水素ナトリウムでアルカ
リ性としたのち、クロロホルム層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧下に濃縮する。残留部をジメチルアセ
トアミドの３蔵に溶解し、水冷下ピリジン２１１　ｍｇ
、ついで２−（２−クロロアセトアミド−４−チアゾリ
ル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノ酢酸クロライド・塩
酸塩４４３ｍｇを加え、同温度で１時間かきまぜる。反
応液に水を加え、酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層
は、水洗後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃
縮する。残留部をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン（１：２）で溶出す
ると連記化合物（１２ａ）の４５８ｍｇが得られた。

Ｉ　ｎ　ｐＫＢｒｃｌｌ−’：１８０５，１７８０（ｓ
）、１７３５．１６８０゜ｌ１ａｘ １５４０．１１７５，１０４０，７５０，６９ＯＮＭＲ
（ＣＤ　ＣＩｓ、ｐＰｆｆｌ）：　２．１０〜３．４０
（６１１，ｍ）、３．９６（３［１，ｓ）　、４．２３
（２１１，ｓ）　、　４．５３（２１１，ｓ）　、　６
．８６（ＩＩＩ、ｓ）　。

７．００（ＩＨ，ｓ）、７．２０〜７．５０（２，０１
１，ｍ）（ｂ）２’−（（４ＲＳ）−４−［２−（２−
アミノ−４−デアゾリル）−（Ｚ）−２−（メトキシイ
ミノ）アセトアミド］−４−ジフェニルメチルオキシカ
ルボニルメチル−３−オキソ−２−イソオキサゾリジニ
ル）−５＝オキソ−２−テトラヒドロフランカルボン酸
ジフェニルメチルエステル［化合物（１２ｂ）コの製造
： 上記で得た化合物（１２ａ）の４４５ｍｇを２−のジメ
チルホルムアミドに溶解し、水冷下、Ｎ−メチルジチオ
カルバミン酸ナトリウムの８５ｍｇを加え室温で２時間
かきまぜた。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、
水洗し無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に濃縮
後、残留部をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン（２：Ｉ）で展開し連記
化合物（１２ｂ）の３８９ｍｇを得た。

ＩＲシＫＢｒｃｍ−’：１８０５．１７６０（ｓ）、１
７３０，１６７５゜ａＸ １６０５．１５２５，１１７０，１０４０．７４５，６
９ＯＮ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＩ＊、ｐＩ）ｆｆｌ　）：　
２．１０〜３．５０（６Ｈ，ｍ）、３．９３（３１１，
ｓ）、４．５（１（２Ｈ，ｓ）、５．０５〜５．１５（
２１！、ｂｒ、ｓ）。

８．９０（１１１，ｓ）、７．００（１１，ｓ）、７．
２０〜７．５０（２０ｔｌ、ｍ）（Ｃ）　　連記化合物
（＋２ｃ）の製造：上記で得た化合物（１２ｂ）３１０
ｍｇを水冷下４−のギ酸に溶解後、室温で１．５時間か
きまぜる。

減圧下にギ酸を留去したのち、炭酸水素ナトリウム水で
ｐｉ−１７に調整し、Ｃ）ＩＰ−２０カラムクロマトグ
ラフイーに付し、５０％エタノール−水で溶出する部分
を凍結乾燥し、連記化合物（１２ｃ）の５５ｍｇを得た
。

ｉ　ｎ　シＫＢ’ｃｍ−’：１７７５Ｊ７３Ｑ、１６６
（１，１５２５，１３７０゜ｌ１ａｘ １１９０．１０３５．６９Ｏ ＮＭｒｔ（ＤｔＯ，ｌ）ｐｍ　’）：　６．９０（ｌｔ
ｌ、ｓ）、７．２０〜７．５０（１０１１、ｍ）、２．
５０〜３．５０（４１１，ｍ）、４．１０（３Ｈ，ｓ）
実施例１３ ２−（（４ＲＳ）−４−アミド−４−［２−（２−クロ
ロアセトアミド−４−チアゾリル）−（Ｚ）−２−（メ
トキシイミノ）アセトアミドゴー３−オキソ−２−イソ
オキサゾリジニル）−５−才キソー２−テトラヒドロフ
ランカルボン酸ジフェニルメチルエステルの製造： ２−（（４ＲＳ）−４−イソシアノ−４−メチルチオ−
３−オキソ−２−イソオキサゾリジニルコー５−オキソ
ー２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチル
エステルの６１６ｍｇを５−のクロロポルムに溶解し、
水冷下に２５０ｍｇのｐ−トルエンスルホン酸モノハイ
ドレートを加え、同温度で１時間かきまぜる。反応液を
炭酸水素ナトリウムアルカリ性としたのち、クロロホル
ム層を無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に濃縮
し、残留部を２−のジメチルアセトアミドに溶解する。

水冷下、ピリジン０．２ｄおよび１　、３　ｍｍｏｌｅ
濃度のピリジニウムアジド−塩化メチレン溶液の５１ｎ
１を加える。ついで、−２０℃に冷却し、塩化第二水銀
の２７１ｍｇを加えて３０分間かきまぜたのちろ過、ろ
液は水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下
に濃縮し、残留する油状物を２−のジメチルアセトアミ
ドに溶解し、水冷下、ピリジン２００ｍｇついで２−（
２−クロロアセトアミド−４−チアゾリル）−（Ｚ）−
２−メトキシイミノ酢酸クロライド・塩酸塩の５００＋
＋＋ｇを加えたのち、室温で４０分間かきまぜる。反応
液を水にあけ、酢酸エチルで抽出し、水洗し無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。減圧下に濃縮し、残留部をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−
ｎ−ヘキサン（１：ｌ）で溶出すると連記化合物の４０
ｍｇが得られた。

Ｉ　ｎ　ｖ　ＫＢｒｃｍ−’：２１２０．１８１０，１
７７０．１７３５，１８９０゜ｌ１ａｘ ＋５４０．１２６０．１１８０，１０６０．１０４０．
６９ＯＮＭＲ（ＣＤ　Ｃ１ｓ、ｐｐｍ　）：　２．１０
〜３．４０（４１１，ｍ）、４．００（３１１，ｓ）、
４．２０（２１１，ｓ）、４．４６，４．８６（２ｔｌ
、ｄ、ｄ、Ｊ＝９１１ｚ）、７．００（ＩＨ，ｓ）、７
．１０〜７．４０（１０）１．ｍ）、７．７６〜７．９
６（１０１１，ｂｒ、ｓ） 実施例１４ ２−［（４ＲＳ）−４−ヒドロキシメチル−３−才キソ
ー２−イソオキサゾリジニルツー５−オキソ−２−テト
ラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチルエステルの
製造： ２−［（ｌｔＳ）−４−ヒドロキシメチル−４−イソシ
アノ−３−オキソ−２−イソオキサゾリジニルツー５−
オキソ−２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニル
メチルエステルの８７８　ｍｇヲ乾燥ベンゼン２０成に
懸濁し、水素化トリーｎ　−プヂル錫０．６威および触
媒量のアゾビスイソブチロニトリルを加え、アルゴン気
流下に３０分間加熱還流する。溶媒を減圧下に留去し、
残留部をデカンテークタン法によりｎ−ヘキサンで数回
洗浄したのち、不溶の油状物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン（１：
Ｉ）で溶出すると連記化合物の５６０ｍｇが得られた。

Ｉ　Ｒｖ　Ｎｕｊ　Ｏ°’　ｃｍ−’：　１７８５，１
７６０，１７２０．１６１５゜ａｘ １２６０．１１８０．１０５Ｏ １０５ＯＮ　Ｄ　ＣＩｓ、Ｉ）ｐｍ　）：　２．１５〜
３．５０（５ｔｌ、ｍ）、３．７０〜４．６ＣＩ（４１
１，ｍ）　、　６．９６（ｉｌｌ、　ｓ）　、　７．２
０〜７．５０（１０１１，ｍ）実施例１５ ２−［（４ＲＳ）−４−少タンスルホニルオキシメチル
−３−才キソー２−イソオキサゾリジニルコー５−オキ
ソー２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチ
ルエステルの製造： ２−［（４ＲＳ）−４−ヒドロキシメチル−３−オキソ
−２−イソオキサゾリジニルコー５−オキソ−２−テト
ラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチルエステル１
．２ｇをピリジン２．４−に溶解し、水冷下メタンスル
ホニルクロライド０．２４−を加え、同温度で３０分間
かき儀ぜたのち、氷水中に注ぎ酢酸エチルで抽出する。

有機層は希塩酸、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去すると連記化
合物の１．４ｇが得られた。

ｒ　ｎ　ｖ　ＮｕｊｏＩａｍ−’：　１７８５，１７６
０，１７２０．１１７５゜ａｘ １０６０．７０Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＩ＋、ｐＰｍ　）　：　２．　ｌ
Ｑ〜３．５０（５１［、ｍ）、　３．６３（３１１，ｓ
）、４．１０〜４．７０（４１１，ｍ）、６．９６（１
１，ｓ）、７．２０〜７．５０（１０１１，ｍ） 実施例１６ ２　”［（４ＲＳ　）−４−アジトメデル−３−オキソ
−２−イソオキサゾリジニル］−５−才キソー２−テト
ラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチルエステルの
製造； ２−［（４Ｒ９）−４−メタンスルホニルオキシメチル
−３−オキソ−２−イソオキサゾリジニル］−５−オキ
ソ−２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチ
ルエステル！、４ｇをジメチルスルホキシド１０ｄに溶
解し、水冷下に沃化ナトリウム０．４５ｇ、アジ化ナト
リウム０．３９ｇを加えたのち、室温で３０分間かきま
ぜる。反応液を氷水中に注ぎ酢酸エチルで抽出する。有
機層は水洗後無水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下に
溶媒を留去し、残留部をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン（ｌ：２）で
溶出すると連記化合物の０．４９ｇが得られた。

Ｉ　ＲｐＮｕ””　ｃｍ−’：　２１００，１７９０．
１７６０，１７２０゜ａＸ １１７０．１０６Ｏ Ｎ　ＭＲ（ＣＤ　ＣＩ３　、Ｉ）ｐｍ　）　：　２．１
０〜３．４５（５ｔｌ、ｍ）、３．４５〜４．７０（４
１１，ｍ）　、　６．９ＫＩＩｌ、　ｓ）　、　７．２
０〜７．５０（１０ｔｌ、　ｍ）実施例ｌ７ ２−［＜４ＲＳ）−４−［２−（２−アミノ−４−デア
ゾリル）−（Ｚ）−２−（メトキシイミノ）アセトアミ
ドメチルゴー３−オキソ−２−イソオキサゾリジニル）
−５−オキソ−２−テトラヒドロフランカルボン酸ナト
リウム塩［化合物（１７ｂ）］の製造： （ａ）　’２−（（４ＲＳ）−４−［２°−（２−クロ
ロアセトアミド−４−チアゾリル）−（Ｚ）−２−（メ
トキシイミノ）アセトアミトメデル］−３−オキソ−２
−イソオキサゾリジニル）−５−オキソ−２−テトラヒ
ドロフランカルボン酸ナトリウム塩［化合物（１７ａ）
コの製造： ２−［（４ｒ（Ｓ）−４−アジドメチル−３−オキソ−
２−イソオキサゾリジニル］−５−オキソ−２−テトラ
ヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチルエステル２１
８ｍｇを５０％テトラヒドロフラン−水４ｔｎ１．．に
溶解し、５％パラジウム炭素２２０ｍｇを加え、水冷下
、水素気流中３０分間かきまぜる。触媒をろ去し、ろ液
にテトラヒドロフラン２−を加え、水冷下に炭酸水素ナ
トリウムＩＧ８ｍｇおよび２−（２−クロロアセトアミ
ド−４−チアゾリル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノ酢
酸クロライド・塩酸塩の１５０ｍｇを加え同温度で１時
間かきまぜる。反応液を酢酸エチルと振り混ぜて、水層
を分取しＣＨＰ−２０カラムクロマトグラフイーに付し
、３０％エタノール−水で溶出される部分を凍結乾燥す
ると、連記化合物（１７ａ）の１０５ｍｇが無色粉末と
して得られた。

ＩＲシＫＢｒｃｍ−’：１７７０．１７００（ｓ）、１
６５０，１５４０゜ａＸ １３７０．１１９Ｏ ＮＭＲ（Ｄ　ｔｏ　、ｐｐｉ外部基準）：　２．３５〜
５．００（９１１，＋ｎ）。

４．０３（３ｔｌ、ｓ）、４．４５（２１１，ｓ）、７
．５０（ＩＩＩ、５）（ｂ）　　連記化合物（１７ｂ）
の製造：上記で得られた化合物（１７ａ）の１’０５ｍ
ｇを５０％テトラヒドロフラン−水２ｄに溶解し、水冷
下、Ｎ−メチルジチオカルバミン酸ナトリウム６５ｍｇ
を加えたのち室温で１時間かきまぜる。反応液を酢酸エ
チルと振り混ぜ、水層を分取しＣＨＰ−２０カラムクロ
マトグラフイーに付し、水のみで溶出される部分を凍結
乾燥すると連記化合物（１７ｂ）の４０ｍｇが淡黄色粉
末として得られた。

Ｉ　ｎ　シＫＢｒＣｍ−’：１７８０，１７１０，１６
６０，１５３０４３８０゜ａｘ １１９０．１０４Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｄ　ｔ　Ｏ、Ｉ）Ｉ）ＩＩＩ外部基準”）
：　２４５〜５．００（９Ｈ，ｍ）。

４．００（３Ｂ、ｓ）、６．９７（１１，ｓ）実施例！
８ ２−［（４ＲＳ）−４−メチルチオ−３−オキソ−２−
イソオキサゾリジニル］−５−才キソー２−テトラヒド
ロフランカルボン酸ジフェニルメチルエステルの製造： ２−［（４ＲＳ）−４−イソシアノ−４−メチルチオ−
３−才キソー２−イソオキサゾリジニル］−５−オキソ
−２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチル
エステル４５２１１１ｇを乾燥ベンゼン１０歳に溶解し
、水素化トリーローブチル錫０．３−および触媒量のア
ゾビスイソブチロニトリルを加え、アルゴン気流下に１
時間加熱還流する。溶媒を減圧下に留去し、残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、アセトニト
リル−塩化メチレン（０，５：９．５）で溶出すると連
記化合物の２３５ｍｇが得られた。

ｒ　ｎ　、　ＮＬＩＪ°’　ｃｍ−’：　１７９０．１
？６０，１７０５，１２７０゜ａｘ １１８０．１０６Ｏ １０６ＯＮ　Ｄ　ＣＩｓ、ｐＩ）ｆｆｌ　）：　２．２
０（３１１，ｓ）、２．２０〜３．５０（４１１，ｍ）
　、　３．５０〜３．９０（ＩＩｌ、　ｍ）　、　３．
９５〜４．８０（２Ｈ，ｍ）　。

７．００（１１１，ｓ）、７．２５〜７．５０（ＩＯＨ
，ｍ）実施例１９ ２−［（４ＲＳ）−４−メチルチオ−３−オキソ−２−
イソオキサゾリジニル］−５−オキソ−２−テトラヒド
ロフランカルボン酸ナトリウム塩の製造： ２−［（４ＲＳ）−４−メチルチオ−３−オキソ−２−
イソオキサゾリジニルコー５−オキソ−２−テトラヒド
ロフランカルボン酸ジフェニルメチルエステル１５０ｍ
ｇに９９％ギ酸３−を加え室温でｌ°待時間きまぜる。

減圧下に濃縮し、残留部をｎ−ヘキサンで洗浄する。不
溶物に２−の水および８０ｍｇの炭酸水素ナトリウムを
加えて中和したのち、酢酸エチルと振混ぜ水層をＣＩ−
Ｉ　Ｐ　−２０カラムクロマトグラフイーに付し、５％
エタノール−水で溶出される部分を凍結乾燥して連記化
合物の６５ｍｇを得た。

ＩＲシＫＢｒｃｍ−’：１７７５，１７１０，１６４５
．１３ｇ０，１２００゜１１８Ｘ Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｄ　ｔ　Ｏ、ｐｐｍ外部基準）：　２．２
５（３ｔ１．ｓ）、２．２０〜３４Ｏ（４１１，ｍ）、
３．９０〜’４．９５（３ｔ１．ｍ）実施例２０ ２−［（４ＲＳ）−４−メチルスルホニル−３−オキソ
−２−イソオキサゾリジニル］−５−才キソー２−テト
ラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチルエステルの
製造： ２−［（４ＲＳ）−４−メチルチオ−３−オキソ−２−
イソオキサゾリジニルコー５−オキソー２−テトラヒド
ロフランカルボン酸ジフェニルメチルエステル１８０ｍ
ｇを塩化メチレン５蔵に溶解し、Ｉ−クロル過安息呑酸
２４５ｍｇを加え室温で２時間反応さける。反応液を炭
酸水素ナトリウム水、ついでチオ硫酸ナトリウム水で洗
浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下に溶媒を
留去し、残留部をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン（１：１）で溶出す
ると連記化合物の１６４ｍｇが得られた。

Ｉ　ＲｖＮｕｊ０’　ｃｍ−’：　１７８０．１７６０
．１７００，１３２５゜ｒｌａＸ ＋１８０４１５Ｏ ＮＭＲ（ＤＭ　Ｓ　Ｏ−ｄｓ＋ｐｐｍ　）：　２．３０
〜４．００（４ｔｌ、ｍ）。

３．２０（３１１，ｓ）、４．１０〜４．９０（３ｔ（
、ｍ）実施例２１ ２−［（４ｒＺＳ）−４−メチルスルホニル−３−オキ
ソ−２−イソオキサゾリジニルツー５−オキソ−２−テ
トラヒドロフランカルボン酸ナトリウム塩の製造： ２−［（４ＲＳ）−４−メチルスルホニル−３−オキソ
−２−イソオキサゾリジニル］−５−オキソ−２−テト
ラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチルエステル１
５０ｍｇに９９％ギ酸２藏を加え室温で１時間かきまぜ
たのち、減圧下に濃縮し、残留部をｎ−ヘキサンで洗浄
後、２滅の水および７０ｍｇの重炭酸水素ナトリウムを
加えて中和する。

酢酸エチルと振り混ぜたのち、水層をＣＨＰ−２０カラ
ムクロマトグラフイーに付し、水のみで溶出する部分を
凍結乾燥すると連記化合物の６５Ｂが無色粉末として得
られた。

ＫＢｒ　　−＋ Ｉｎ　　ｖ　　　ｃｍ　　：１７７０，１７１０，１６
３０，１３７０，１３００゜ａｘ １１９０．１１４Ｏ ＮＭｒ（（Ｄ！Ｏ，ｐＩ）Ｉｌｌ外部基準）：　２．３
５〜３．５０（４Ｈ，ｍ）。

３．３０（３１１，ｓ）、４．１０〜５．００（３１１
，ｍ）実施例２２ ２−［（４ＲＳ）−４−（２−ヒドロキシ−２−プロピ
ル）−３−オキソ−２−イソオキサゾリジニル］−５−
オキソ−２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニル
メチルエステルの製造：２−［（４ＲＳ）−４−（２−
ヒドロキシ−２−プロピル）−４−イソシアノ−３−オ
キソ−２−イソオキサゾリジニルツー５−オキソ−２−
テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチルエステ
ル６００ｍｇを乾燥ベンゼン７０威に懸浸し、水素化ト
リーｎ−ブチル錫０．７５−および触媒量のアゾビスイ
ソブチロニトリルを加え、アルゴン気流下、３０分間加
熱還流する。溶媒を減圧下に留去したのち、残留部をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、塩化メチレ
ン−アセトニトリル（９’：Ｉ）で溶出し、連記化合物
の３２０ｍｇを得た。

Ｉ　ＲｖＮｕｊ０’　ｃｍ−’：　１７８５．１？６５
，１７１０，１１７５゜ａｘ １０５０．７５０，７０５ ＮＭＲ（ＣＤ　Ｃ１３，ｐｐｍ　）：　１．３０（６１
１，ｓ）、２．１０〜３．４０（５１１，ｍ）、４．１
０〜４．６０（２Ｈ，ｍ）、７．００（ＩＩＩ、ｓ）、
７．２０〜７．５０（１０１１，ｓ） 実施例２３ ’２−［（４ＲＳ）−４−（２−ヒドロキシ−２−プロ
ピル）−３−オキソ−２−イソオキサゾリジニル］−５
−才キソー２−テトラヒドロフランカルボン酸ナトリウ
ム塩の製造； ２−［（４Ｒｓ）−４−（２−ヒドロキシ−２−プロピ
ル）−３−オキソ−２−イソオキサゾリジニルコー５−
オキソ−２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニル
メチルエステル１１０ｍｇを　９９％ギ酸０．５−に懸
濁し、室温で３時間かきまぜたのち減圧下にギ酸を留去
する。残留部を炭酸水素ナトリウム水でｐＨ７，２に調
整後、酢酸エチルと振り混ぜ、水層をＣＨＰ−２０カラ
ムクロマトグラフイーに付し、水で溶出する部分を凍結
乾燥して連記化合物の４５ｍｇを得た。

ＩＲシＫＢｒｃｍ−’：１７７５．１７２０（ｓ）、１
７１０（ｓ）、１６５０゜１１８Ｘ １３８０．１１９５ Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｄ　ｔｏ　、ｐｐｍ外部基準）：　ＩＪ９
（６１１，ｓ）、２．２０〜３．３０（４Ｈ，ｍ）、４
．３０〜４．７０（２Ｈ，ｎ＋）実施例２４ ２−（４−イソプロピリデン−３−オキソ−２−イソオ
キサゾリジニル）−５−才キソー２−テトラビトロフラ
ンカルボン酸ジフェニルメチルエステルの製造： ２−［（４ｒＺＳ）−４−（２−ヒドロキシ−２−プロ
ピル）−３−オキソ−２−イソオキサゾリジニル］−５
−オキソ−２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニ
ルメチルエステル２３６ｍｇを塩化メチレン３戒に溶解
し水冷下、ピリジン８６ｍｇ。

塩化チオニル９５ｍｇを加え同温度で１０分間かきまぜ
たのち、反応液に酢酸エチルを加え、水で洗浄する。無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下にａ縮し残留部をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル
−ｎ−ヘキサン（１：１）で溶出すると連記化合物の１
６Ｏｎ＋ｇが得られた。

Ｉ　Ｒν”ｔｃｍ−’：　１７９０，１７６０，１７１
０，１６６５゜ａｘ １１７５．１０６０．７０Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＩｓ、Ｉ）ｉ）Ｉｎ　）：１．７
３（３ｆＬｓ）、２．２０（３１１，ｓ）。

２ＪＯ〜３．４０（４Ｈ，ｍ）、４．７０〜５．１０（
２■、ｍ）、７．００（ＩＨ。

ｓ）、７．２０〜７．５０（１０Ｈ，ｍ）実施例２５ ２−（４−イソプロピリデン−３−才キ“ソー２−イソ
オキサゾリジニル）−５−才キソー２−テトラヒドロフ
ランカルボン酸ジフェニルメチルエステル１６０ｍｇを
テトラヒドロフラン５１ｎ１に溶解し、炭酸水素ナトリ
ウムの３１ｍｇを含む水２，５−および５％パラジウム
炭素１６０ｍｇを加え、水素気流中１時間かきまぜる。

触媒をろ去し、ろ液に酢酸エステルを加えて振り混ぜ、
水層を凍結乾燥ずろと連記化合物の６２Ｂが無色粉末と
して得られた。

ＩＲシＫＢｒｃ＋ｎ−’：１７７０，１７１０（ｓ）、
１６５０．１３８０゜ａＸ １１９０．９１Ｏ ＮＭＲ（ＤｔＯ，Ｉ）［）１１外部基準）：　１．８６
（３１１，ｓ）、２．２３（３１１、ｓ）、２．２０〜
３．３０（４１１，ｍ）実施例２６ ２−（３−オキソ−２−イソオキサゾリジニル）−５−
オキソ−２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニル
メチルエステルの製造： ２−［（４Ｓ）−４−イソシアノ−３−オキソ−２−イ
ラオキサゾリジニルコー５−オキソー２−テトラヒドロ
フランカルボン酸ジフェニルメチルエステル２０３ｍｇ
の乾燥ベンゼン２０？ｄ溶液に、水素−トリーｎ−ブチ
ル錫０．２５１ｎ１および触媒量のアゾビスイソブチロ
ニトリルを加えアルゴン気流下に３０分間加熱還流後、
溶媒を減圧下に留去し、残留部をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン（１
：１）で溶出すると、連記化合物の１８０ｍｇが得られ
た。

Ｉ　ＲｖＮｕｊ０’　ｃｍ−’：　１７８５，１７６０
，１７２０，１１８０゜ａｘ ０６Ｏ ＮＭ　ｎ　（Ｄ　Ｍ　Ｓ　Ｏ−ｄｌｌ、ｐｐｍ）：　２
．１０〜３．３０（６１１，ｍ）。

４Ｊ３（２１！、ｔ、Ｊ＝　９１１ｚ）、６．９０（１
１！、ｓ）、７．２０〜７．５０（ｔｏｌｌ、ｍ） 実施例２７ ２−（３−オキソ−２−イソオキサゾリジニル）−５−
才キソー２−テトラヒドロフランカルボン酸ナトリウム
塩の製造： ２−（３−オキソ−２−イソオキサゾリジニル）−５−
才キソー２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニル
メチルエステル１８０ｍｇをテトラヒドロフラン１２Ｍ
Ｌに溶解し、炭酸水素ナトリウム４０ｍｇ、５％パラジ
ウム炭素１８０ｍｇ、水６成を加え、水素気流中１時間
かき混ぜる。触媒をろ去し、減圧下に濃縮後Ｃ）（Ｐ−
２０カラムクロマトグラフイーに付し、水のみで溶出す
る部分を凍結乾燥して連記化合物の６０ｍｇを得た。

ＩＲνＫＢｒａｍ−’：１７８０，１７１０，１６５０
．＋３９０．１１９５゜ａｘ Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｄ　ｔ　Ｏ、ｐｌ）ｍ外部基準）：　２．
３０〜３．３０（６１１，ｍ）。

４．４６（２＋１．ｔ、Ｊ＝　９１１ｚ）実施例２８ ２−［（４ＲＳ）−４−（２−ヒドロキシエチル）＝４
−イソシアノ）−３−オキソ−２−イソオキサゾリジニ
ル］−５−オキソ−２−テトラヒドロフランカルボン酸
ジフェニルメチルエステルの製造： ２−［（４Ｓ）−４−イソシアノ−３−オキソ−２−イ
ソオキサゾリジニル］−５−才キソー２−テトラビトロ
フランカルボン酸ジフェニルメチルエステル４０６ｍｇ
をジメチルホルムアミド４ｄに溶解し、水冷下、８０％
アセトアルデヒド０．１−および粉末化した無水炭酸カ
リ１３８ｍｇを加え、同温度で３０分間かきまぜる。酢
酸エチルおよび水を加えて酢エチ層をとり水洗、無水硫
酸ナトリウムで乾燥する。減圧下に濃縮し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトに付し、酢酸エチル：ｎ−ヘキサ
ン（１：Ｉ）で溶出すると連記化合物の２８０ｍｇが得
られた。

ｒ　Ｒν”ｊｏｌｃｍ−’：　２１２０，１７９０，１
７６０，１７２０゜ａｘ １３８０．１０６Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＩ３．ｐｐｍ）　：　１．３６（
３１１，ｄ、　Ｊ＝　７Ｈ２）、、１．６０（Ｉｔ（、
ｂｒ、ｓ）　、　２．２０〜３’、　５０（４１１，ｍ
）　、　４．００〜４．８０（３１１゜ｍ）、７．００
（ＩＩＩ、ｓ）、７．２０〜７．５０（ＩＯＨ，ｂｒ、
ｓ）実施例２９ ２−［（４ＲＳ）−４−（２−ヒドロキシエチル）−３
−オキソ−２−イソオキサゾリジニル］−５−オキソ−
２−テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチルエ
ステルの製造： ２−［（４Ｒ９）−４−（２−ヒドロキシエチル）−４
−イソシアノ−３−オキソ−２−イソオキサゾリジニル
］−５−オキソ−２−テトラヒドロフランカルボン酸ジ
フェニルメチルエステル２００ｍｇを乾燥ベンゼン５蔵
に溶解し、水素トリーｎ−ブチル錫０．＋　５ｄ、触媒
量のアゾビスイソブチロニトリ・ルを加えアルゴン気流
下に３０分間加熱還流する。減圧下に濃縮し、残留部を
ｎ−ヘキサンで洗浄し、不溶残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン（
１：ｌ）で溶出すると、連記化合物の１７０ｍｇが得ら
れた。

Ｉ　ｎ　νＮｕ”’　ｃｍ−’：　１７９０，１７６０
，１７２０，１１８０゜ａｘ １０６０．７５０．７０５ ＮＭＲ（ＣＤ　Ｃ１３，ｐＩ）ｍ）：　１．２３（３＋
１．ｄ、Ｊ＝７１１２）、１．６６（ｉｌｌ、ｂｒ、ｓ
）、２．１０〜３．５０（４Ｈ，ｍ）、３．８０〜４．
９０（３１１゜ｍ）、６．９６（１８，ｓ）、７．２０
〜７．５０（１０１１，ｍ）実施例３０ ２−（４“−”−［２−（２−アミノーノ１−チアゾリ
ル）−（Ｚ）−２−（メトキシイミノ）−アセトアミド
ゴー３−オキソ−２−イソオキサゾリジニル）−５−オ
キソ−２−テトラヒドロフランカルボン酸ナトリウム塩
［化合物（３０Ｃ）］の製造：（ａ）　　２−（４−［
２−（２−クロロアセトアミド−４−チアゾリル）−（
Ｚ）−２−（メトキシイミノ）アセトアミド〕−３−オ
キソー２−イソオキサゾリジニル）−５−オキソ−２−
テトラヒドロフランカルボン酸ジフェニルメチルエステ
ル［化合物（３０ａ）コの製造： ２−（（４ＲＳ）−４−［２−（２−クロロアセトナミ
ド−４−チアゾリル）−（Ｚ）−２−（、メトキシイミ
ノ）アセトアミトコ−４−メチルチオ−３−オキソ−２
−イソオキサゾリジニル）−５−オキソ−２−テトラヒ
ドロフランカルボン酸ジフェニルメチルエステル２１０
ｍｇを乾燥塩化メチレン４−に溶解し、ｍ−クロル過安
息呑酸１．４５ｍｇを加え室温で２０時間反応させる。

反応液を減圧下に濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解し、
重炭酸水素ナトリウム水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し減圧下に濃縮する。残留部をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ｎ　−ヘキ
サン（１：１）で溶出すると連記化合物（３０ａ）の１
６２ｍｇが得られた。

Ｉ　Ｒｖ　ＫＢ’　ｃｍ−’：　１ｇ１５．１７６５．
１７１０（ｓ）Ｊ６７５゜ｆｌａｘ １８４０．１５４０，１２６０，１１７０Ｊ０４０，７
８５，７５５，６９５Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　Ｃｌｓ、ｐｐ
ｍ）　：　２．２０〜３．００（３１１，ｍ）、　３．
３６〜３．８０（ＩＩＩ、　ｍ）　、　４．００（３ｔ
Ｌ　ｓ）　、　４．１６（２１１，ｓ）　、　７．００
（１１ｉ、　ｓ）　、　１．２（１−７，５０（ｌｆｌ
ｌ、ｍ）　、　８．６０（ＩＨ，ｓ）　、　９．３０（
ｉｌｌ。

ｂｒ、５） （ｂ）　　２−（４−［２−（２−アミノ−４−デアゾ
リル）−（Ｚ）−２−（メトキシイミノ）アセトアミド
クー３−オキソ−２−イソオキサゾリジニル）−５−オ
キソ−２−フランカルボン酸ジフェニルメチルエステル
［化合物（３０ｂ）］の製造：上記で得た化合物（３０
ａ）Ｉ　６０ｍｇをジメチルホルムアミド２戒に溶解し
、水冷下、Ｎ−メチルジチオカルバミン酸ナトリウム４
１ｍｇを加え同温度で２　、５　ｈｒ反応させたのち、
反応液を水にあけ酢酸エチル抽出、水洗し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。減圧下に濃縮後、残留部をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−
ｎ−ヘキサン（１：１）で溶出すると連記化合物（３０
ｂ）の７９ｍｇが得られた。

ＩＲｖＫＢｒａｍ−’：　１８２０，１７７０，１７１
０，１６８０゜ａＸ １６４５、１５３５．１２５０．１１ｇ０．１０５０．
７０ＯＮＭＲ（ＣＤ　ＣＩｓ、ｐＩ）ｍ）：　２．２０
〜３．１０（３１１，ｍ）、３．３０〜３．８０（１，
１１、ｍ）　、　３．９３（３Ｈ，ｓ）　、　５．６３
（２ｆｌ　、　ｂｒ、ｓ）　、　６．７３（Ｉｌｌ、　
ｓ）　、　６．９６（１１１，ｓ）　、　７．２０〜７
　、５０（１０ｔＬ　ｍ）　、　８．７０（Ｉｌｌ、ｓ
）、９．４３（ＩＨ，ｂｒ、５）（ｃ）　　２−（４−
［２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−（Ｚ）−２−
（メトキシイミノ）アセトアミドクー３−オキソ−２−
イソオキサゾリジニル）−５−才キソー２−フランカル
ボン酸ナトリウム塩［化合物（３０ｃ）コの製造： 上記で得た化合物（３０ｂ）の７９ｍｇを水冷下ｌ成の
ギ酸に溶解後、室温で１時間かきまぜる。減圧下にギ酸
を留去し、炭酸水素ナトリウム水でｐＨ７に調整したの
ち、Ｃ）（Ｐ−２０カラムクロマトグラフイーに付し、
１０％エタノール−水で溶出する部分を凍結乾燥すると
連記化合物（３０ｃ）の４３Ｂが得られた。

Ｉ　ｎ　ｖ　ＫＢｒｃｍ−’：　１７８０．１７００（
ｓ）、１６８０（ｓ）。

ａｘ １６６０．１６３５，１５２５．１３８０．１０３ＯＮ
Ｍ１０３ＯＮ、ｆ）ｐｍ、外部基準）：　２．１０〜３
．２０（３＋１．ｍ）。

３．２０〜３．７０（１１１，ｍ）、３．８０（３Ｈ，
ｓ）、７．２０（Ｉｌｌ、ｓ）。

８．６０（ＩＨ，ｓ） 発明の効果 本発明の化合物（１）は優れた抗菌作用等を存し、抗菌
剤等として有用である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１は水素、イソニトリルまたは窒素を介す
   る有機残基を、Ｒは水素、置換基を有していてもよいア
   ルキル、硫黄原子が酸化されていてもよいアルキルチオ
   またはアジドを示すか、隣接する炭素原子と二重結合を
   形成してもよい。但しＲ＾１が窒素を介する有機残基の
   場合は、Ｒは水素でない。Ｒ＾２はカルボキシまたはそ
   れから誘導される基を示す］で表わされる化合物または
   その塩。