JPS58111192A - 仮想接地を用いるメモリアレイ - Google Patents
仮想接地を用いるメモリアレイInfo
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- JPS58111192A JPS58111192A JP57201804A JP20180482A JPS58111192A JP S58111192 A JPS58111192 A JP S58111192A JP 57201804 A JP57201804 A JP 57201804A JP 20180482 A JP20180482 A JP 20180482A JP S58111192 A JPS58111192 A JP S58111192A
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- G11—INFORMATION STORAGE
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- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
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- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/04—Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
- G11C16/0491—Virtual ground arrays
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- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
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- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
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- G11C16/26—Sensing or reading circuits; Data output circuits
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体メモリの分野に関するものであり、とく
に、仮想接地を用いる半導体メモリに関するものである
。
に、仮想接地を用いる半導体メモリに関するものである
。
半導体メモリアレイにおいては、各メモリセルの一方の
端子を接地するのが普通である。他方の端子はビット線
へ選択的に結合される。セルの状態を検出する喪めに、
ビット線とアースの間に(メモリセルを介して)電流が
流れているか否かが検出される。このメモリアレイのア
ーキテクチャではアレイ全体にわたって接地線を配置す
ることが必要である。
端子を接地するのが普通である。他方の端子はビット線
へ選択的に結合される。セルの状態を検出する喪めに、
ビット線とアースの間に(メモリセルを介して)電流が
流れているか否かが検出される。このメモリアレイのア
ーキテクチャではアレイ全体にわたって接地線を配置す
ることが必要である。
ある種のメモリでは、メモリセルのいずれの端子も永久
的には接地されず、あるセルが選択されると、そのセル
の端子の一方が接地さね、他方の端子がビット線へ結合
される。この構成では、アレイ中の線がセルを接地する
ために用いられるとともに、他のセルのためのビット線
としても用いられる。この従来の「仮想」接地メモリに
ついて第1図を参照して詳しく説明する。
的には接地されず、あるセルが選択されると、そのセル
の端子の一方が接地さね、他方の端子がビット線へ結合
される。この構成では、アレイ中の線がセルを接地する
ために用いられるとともに、他のセルのためのビット線
としても用いられる。この従来の「仮想」接地メモリに
ついて第1図を参照して詳しく説明する。
仮想接地メモリの大きな利点は一層高密度で製作できる
ことである。このことは、仮想接地のためのオーバヘッ
ド回路があまり重要ではない人減のプレイ(たとえば2
56に、IM等)の場合には本当である。おそらく、そ
れらのメモリの製作における大きな問題は固有の寄生経
路が生ずることである。それらの寄生経路については第
1図を参照して説明する。
ことである。このことは、仮想接地のためのオーバヘッ
ド回路があまり重要ではない人減のプレイ(たとえば2
56に、IM等)の場合には本当である。おそらく、そ
れらのメモリの製作における大きな問題は固有の寄生経
路が生ずることである。それらの寄生経路については第
1図を参照して説明する。
寄生経路の問題は、電気的にプログラムできる読出し専
用メモリ(EFROM)のような、プログラミングに比
較的高い電位を必要とするメモリの場合には一層悪化す
る。
用メモリ(EFROM)のような、プログラミングに比
較的高い電位を必要とするメモリの場合には一層悪化す
る。
従来の仮想接地メモリの一例については米国特許第42
67632号の第11図を参照されたい。
67632号の第11図を参照されたい。
本発明により、仮想接地を用いる改喪したメモリアレイ
が得られる。このプレイは全体として平行に離隔される
複数のプレイ線と、それらのアレイ縁の間に結合される
複数のメモリ線とを含む。
が得られる。このプレイは全体として平行に離隔される
複数のプレイ線と、それらのアレイ縁の間に結合される
複数のメモリ線とを含む。
各アレイ線の間を第1の向きに電流を選択的に流すため
に第1のスイッチング要素が用いられる。
に第1のスイッチング要素が用いられる。
プレイ線6間を第1の同色とは逆の第2の向きに電流を
選択的に流すために第2のスイッチング要素も用いられ
る。第1と第2のスイッチング要素を制御するためにア
ドレス復号器が用いられる。
選択的に流すために第2のスイッチング要素も用いられ
る。第1と第2のスイッチング要素を制御するためにア
ドレス復号器が用いられる。
第1とwc2のスイッチング要素は、とくにEPROM
のプログラミング中に寄生経路を阻止する夕°イオード
として機能する。
のプログラミング中に寄生経路を阻止する夕°イオード
として機能する。
この明細書で説明する好ムな実施例においては、メモリ
アレイは金属−酸化物一半導体(MOS)技術を用いて
作られる。更に詳しくいえば、ポリシリコン・ゲートを
用いるnチャンネル素子が採用される。このメモリアレ
イは電気的にプログラム可能な複数のメモリセルを含む
。プレイに紫外線その他の放射を照射することによって
それらのメモリセルは消去される。それらのセルをプロ
グラミングするためには読出しに必要な電位よりも高い
一位を必要とする。ここで説明する好適なメモリセルで
は、絖出しのためには約5ボルトの電位が用いられ、プ
ログラミングのためには約12ボルトの電位を必要とす
る。本願出願人に譲渡された1980年lθ月4日付の
未決の米国特許出願第196838号にその好適なセル
が開示されている。
アレイは金属−酸化物一半導体(MOS)技術を用いて
作られる。更に詳しくいえば、ポリシリコン・ゲートを
用いるnチャンネル素子が採用される。このメモリアレ
イは電気的にプログラム可能な複数のメモリセルを含む
。プレイに紫外線その他の放射を照射することによって
それらのメモリセルは消去される。それらのセルをプロ
グラミングするためには読出しに必要な電位よりも高い
一位を必要とする。ここで説明する好適なメモリセルで
は、絖出しのためには約5ボルトの電位が用いられ、プ
ログラミングのためには約12ボルトの電位を必要とす
る。本願出願人に譲渡された1980年lθ月4日付の
未決の米国特許出願第196838号にその好適なセル
が開示されている。
しかし、本発明は他のセルおよび他のメモリにも使用で
きる。
きる。
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
まず、従来の仮想接地メモリの一部が示されでいる′#
11vAを参照する。このメモリアレイは[11゜12
のような平行に@隔された一層のビット線と、それらの
ビット1IIK全体として垂凛な複数の語線とを含む。
11vAを参照する。このメモリアレイは[11゜12
のような平行に@隔された一層のビット線と、それらの
ビット1IIK全体として垂凛な複数の語線とを含む。
メモリセル1oのようなメモリセルはビット線の間に配
置され、語線に結合される。したがって、九とえ−ば語
1113が選択されると、メモリセル10.11iのよ
・うな、この語線に沿うメモリセルが選択される。
置され、語線に結合される。したがって、九とえ−ば語
1113が選択されると、メモリセル10.11iのよ
・うな、この語線に沿うメモリセルが選択される。
語線13が選択され、この語線1aに沿うセル10を読
出すものと仮定する。それから、たとえば、線12が接
地され、纏11がセンス増幅器へ結合される。セル10
の状態を決定するためにセル10を流れる電流が検出さ
れる。セル1藝を通る寄生経路がセル1oの状態を検出
する際に問題が生ずることがある。線14がアース電位
に保たれ、セル16が導通状態にあるものとすると、経
路1Sによシ示されている寄生経路が、$111に接続
されているセル10を流れる電流の検出を阻止すること
になることは明らかである。経路15を通る寄生導通を
阻止する丸めに、線14の電位を線11の電位より十分
に高くするように注意せねばならない。線14が浮動状
態に放置されるものとすると、経路15を通じて十分な
電荷をこの線に送って誤つ九読出しを行なわせることが
あることに注意されたい。EFROMセルをプログラム
するために必要なより高い電位が用いられる場合には寄
生経路の問題は一層大きくなる。
出すものと仮定する。それから、たとえば、線12が接
地され、纏11がセンス増幅器へ結合される。セル10
の状態を決定するためにセル10を流れる電流が検出さ
れる。セル1藝を通る寄生経路がセル1oの状態を検出
する際に問題が生ずることがある。線14がアース電位
に保たれ、セル16が導通状態にあるものとすると、経
路1Sによシ示されている寄生経路が、$111に接続
されているセル10を流れる電流の検出を阻止すること
になることは明らかである。経路15を通る寄生導通を
阻止する丸めに、線14の電位を線11の電位より十分
に高くするように注意せねばならない。線14が浮動状
態に放置されるものとすると、経路15を通じて十分な
電荷をこの線に送って誤つ九読出しを行なわせることが
あることに注意されたい。EFROMセルをプログラム
するために必要なより高い電位が用いられる場合には寄
生経路の問題は一層大きくなる。
次に、本発明のメモリアレイの一実施例の回路図が示さ
れている第3図を参照する。図示されているプレイ部分
線1120.21.22.23のような平行に離隔され
た複数のピッ)ill(図では垂直線)を含む。それら
の各線の間にはセル211゜30、$1のような1li
llZsK結合されたメモリセルの行が配置され、1l
lH1iに沿って配置されたセル28が配置される。図
示を復線にしないように第3図には少数のビット線と語
線およびセルが示されている。
れている第3図を参照する。図示されているプレイ部分
線1120.21.22.23のような平行に離隔され
た複数のピッ)ill(図では垂直線)を含む。それら
の各線の間にはセル211゜30、$1のような1li
llZsK結合されたメモリセルの行が配置され、1l
lH1iに沿って配置されたセル28が配置される。図
示を復線にしないように第3図には少数のビット線と語
線およびセルが示されている。
t 本オ@のビット線が電界効果トランジスタを介して
1I32に結合される。たとえば、[20゜22がトラ
ンジスタ311.38をそれぞれ介して線32に結合さ
れる。残りの15本おきのビット線はトランジスタを介
して接地される。たとえば、1i21.23がトランジ
スタ81.39をそれぞれ介して選択的に接地される。
1I32に結合される。たとえば、[20゜22がトラ
ンジスタ311.38をそれぞれ介して線32に結合さ
れる。残りの15本おきのビット線はトランジスタを介
して接地される。たとえば、1i21.23がトランジ
スタ81.39をそれぞれ介して選択的に接地される。
トランジスタ36゜37.38.31およびアレイ中の
同様なトランジスタが復号され九アドレス信号Y1〜Y
6を受ける。アドレス信号をどのようにして復号するか
ということについては第4図を参照して説明する。
同様なトランジスタが復号され九アドレス信号Y1〜Y
6を受ける。アドレス信号をどのようにして復号するか
ということについては第4図を参照して説明する。
このようにして、プレイ中のビット線は入力/出力11
32まえはアースに選択的に結合される。後で説明する
ように、*SZはデータ検出のためのセンス増幅器に結
合される。この線32はプログラミング中はデータをプ
レイに結合する。プログラミング中は、ある選択された
セルをプセグ2ムするものとすると、1132はVpp
(約10ボルト)の電位にされる。
32まえはアースに選択的に結合される。後で説明する
ように、*SZはデータ検出のためのセンス増幅器に結
合される。この線32はプログラミング中はデータをプ
レイに結合する。プログラミング中は、ある選択された
セルをプセグ2ムするものとすると、1132はVpp
(約10ボルト)の電位にされる。
ビット線20.21.22.23の他端はトランジスタ
を介してvCC電位(5ボルト)に結合される。九とえ
ば、線22はトランジスタ33を介してMacに結合さ
れる。読出し中は、トランジスタ33のゲート(線34
)と同様なゲート1基準電位に結合される。そのために
全てのビット線はVr@fへ向って引き下げられる。
を介してvCC電位(5ボルト)に結合される。九とえ
ば、線22はトランジスタ33を介してMacに結合さ
れる。読出し中は、トランジスタ33のゲート(線34
)と同様なゲート1基準電位に結合される。そのために
全てのビット線はVr@fへ向って引き下げられる。
第2図にダイオード51.53として示されているよう
なダイオード状の動作を行なわせるために、各ビット線
の間に4個のトランジスタが配置される。たとえば、第
3図に示すように、トランジスタ42が@7oと21の
間に結合される。このトランジスタのゲートはトランジ
スタ45を介して接地される。トランジスタ45のゲー
トはトランジスタ43を介して*20に結合されるとと
もに、トランジスタ44を介して@21に結合される。
なダイオード状の動作を行なわせるために、各ビット線
の間に4個のトランジスタが配置される。たとえば、第
3図に示すように、トランジスタ42が@7oと21の
間に結合される。このトランジスタのゲートはトランジ
スタ45を介して接地される。トランジスタ45のゲー
トはトランジスタ43を介して*20に結合されるとと
もに、トランジスタ44を介して@21に結合される。
トランジスタ4sと、それに類似のトランジスタとのゲ
ートは、プログラミング信号の補数信号Pを受ける纏で
ある線46に結合される。トランジスタ43と、それに
類似のトランジスタとのゲートは大信号を受ける線4S
K結合される。
ートは、プログラミング信号の補数信号Pを受ける纏で
ある線46に結合される。トランジスタ43と、それに
類似のトランジスタとのゲートは大信号を受ける線4S
K結合される。
同様に、トランジスタ44と、それに類似のトランジス
タとのゲートはA信号を受ける948に結合される。!
148.48にそれぞれ与えられる信号A、Aの発生に
ついて紘第5図を参照して説明する。
タとのゲートはA信号を受ける948に結合される。!
148.48にそれぞれ与えられる信号A、Aの発生に
ついて紘第5図を参照して説明する。
トランジスタ42.43.44.45は通常は電界効果
トランジスタである。しかし、トランジスタ420チヤ
ンネルが比較的短いとより良い動作が行なわれる。たと
えば、ソース・ドレインゲートの長さが2ミクロンであ
ると好適である。そうすると、それらの領域からチャン
ネルへの横方向拡散を考慮に入れると、ソース・ドレイ
ン間の距離は約1ミクロンとなる。このようにチャンネ
ルの長さを短くするとダイオード状の動作を一層効果的
に行なえることになる。これについては後で第2図を参
照して詳しく説明する。
トランジスタである。しかし、トランジスタ420チヤ
ンネルが比較的短いとより良い動作が行なわれる。たと
えば、ソース・ドレインゲートの長さが2ミクロンであ
ると好適である。そうすると、それらの領域からチャン
ネルへの横方向拡散を考慮に入れると、ソース・ドレイ
ン間の距離は約1ミクロンとなる。このようにチャンネ
ルの長さを短くするとダイオード状の動作を一層効果的
に行なえることになる。これについては後で第2図を参
照して詳しく説明する。
トランジスタ420チヤンネルが短い電界効果トランジ
スタであるとすると、デプリー□ジョン型トランジスタ
47が1本おきのビット線/データ線の間に直列に接続
される(第3図)。このためにトランジスタ42にかか
る電圧が低くなり、トランジスタ42のダイオード状動
作の降伏が阻止される。実際には、プログラミング中は
デプリーション型トランジスタ47のしきい値電圧がト
ランジスタ42の最低電圧降下に全体として等しく彦る
ように、トランジスタ4Tのしきい値電圧が選択される
。トランジスタ41はトランジスタ42と、vpp電位
を受ける線との間に置かれる。
スタであるとすると、デプリー□ジョン型トランジスタ
47が1本おきのビット線/データ線の間に直列に接続
される(第3図)。このためにトランジスタ42にかか
る電圧が低くなり、トランジスタ42のダイオード状動
作の降伏が阻止される。実際には、プログラミング中は
デプリーション型トランジスタ47のしきい値電圧がト
ランジスタ42の最低電圧降下に全体として等しく彦る
ように、トランジスタ4Tのしきい値電圧が選択される
。トランジスタ41はトランジスタ42と、vpp電位
を受ける線との間に置かれる。
第1に、読出し中は第3−@のアレイを調べなければな
らない。セル30をアクセスするものと仮定する。この
条件の喪めに語@25が高レベルにされる。また、線3
4にVr@fが存在し、これは非プログラミングモード
にあるから、線46は高レベルである。第5図の回路を
−ぺると明らかであるように、読出し動作中は信号A、
Aは低レベルである。線46が高レベルであると、トラ
ンジスタ4sは導通状態となり、トランジスタ42と、
それに類似のトランジスタは非導通状態になる。
らない。セル30をアクセスするものと仮定する。この
条件の喪めに語@25が高レベルにされる。また、線3
4にVr@fが存在し、これは非プログラミングモード
にあるから、線46は高レベルである。第5図の回路を
−ぺると明らかであるように、読出し動作中は信号A、
Aは低レベルである。線46が高レベルであると、トラ
ンジスタ4sは導通状態となり、トランジスタ42と、
それに類似のトランジスタは非導通状態になる。
したがって、全ての実用的カ目的の丸めに、読出し動作
中はトランジスタ42.43.44.45およびそれら
に類似のトランジスタは無視できる。
中はトランジスタ42.43.44.45およびそれら
に類似のトランジスタは無視できる。
セル30をアクセスする九めのアドレス・デコーダは線
Ys、Y4に高V ヘに信号を与え、IIYI。
Ys、Y4に高V ヘに信号を与え、IIYI。
Y2.Y@、Y・のような残シの全てのY線に低レベル
の信号を4克る。その丸めに線21はトランジスタ3T
を介してアース電位にされ(Vrelが線34に存在し
九としても)、[22は約Vrefにされる。これによ
シセル3oを流れる電流の有無を832上で検出できる
。すなわち、セル3oが導通状lIK′6ると、トラン
ジスタ38と、lI22と、セル30と、lI21と、
トランジスタ3Tとを通って(アースへ)61れる電流
を検出される。
の信号を4克る。その丸めに線21はトランジスタ3T
を介してアース電位にされ(Vrelが線34に存在し
九としても)、[22は約Vrefにされる。これによ
シセル3oを流れる電流の有無を832上で検出できる
。すなわち、セル3oが導通状lIK′6ると、トラン
ジスタ38と、lI22と、セル30と、lI21と、
トランジスタ3Tとを通って(アースへ)61れる電流
を検出される。
@11125が選択されるから、線21と22の間の他
のセルは導通状態になる。
のセルは導通状態になる。
セル2sが導通して寄生経路が生じ得るものと仮定する
。線20はVr@fになっているからセル2sを電流が
流れることができることに注意されたい。しかし、線2
1がアース電位にあるから、セル29を流れる電流は@
32における検出動作を変更しない。セル31が導通し
ているとすると、線22.23が同じVr@f電位にあ
るから、セル31を通って線22と23の間に電流は流
れない。
。線20はVr@fになっているからセル2sを電流が
流れることができることに注意されたい。しかし、線2
1がアース電位にあるから、セル29を流れる電流は@
32における検出動作を変更しない。セル31が導通し
ているとすると、線22.23が同じVr@f電位にあ
るから、セル31を通って線22と23の間に電流は流
れない。
したがって、@32における読出しに影響を及ぼす寄生
経路は存在しない。
経路は存在しない。
同様に、読出しのためにセル31が選択されるものとす
ると、トランジスタss、ssが導通状態となり、トラ
ンジスタ311.37などの同様なトランジスタが非導
通状態にされる。再び、生じ得る寄生経路を調べると、
いずれも存在しないことがわかる。
ると、トランジスタss、ssが導通状態となり、トラ
ンジスタ311.37などの同様なトランジスタが非導
通状態にされる。再び、生じ得る寄生経路を調べると、
いずれも存在しないことがわかる。
1本おきのビット線を選択的に接地すると、選択され九
セルを流れる電流の向きを考えると、1本おきのピッ)
INの間のプレイ中に鏡儂対称関係が存在することに注
意されたい。この対称性のために、読出し中における寄
生経路を解消することが助勢される。プログツ2ング中
は、寄生経路をなくすえめに、独特の復号器に関連して
この対称性が用いられる。
セルを流れる電流の向きを考えると、1本おきのピッ)
INの間のプレイ中に鏡儂対称関係が存在することに注
意されたい。この対称性のために、読出し中における寄
生経路を解消することが助勢される。プログツ2ング中
は、寄生経路をなくすえめに、独特の復号器に関連して
この対称性が用いられる。
次に、第3図のプレイの一部が示されている第2図を参
照する。このアレイ部分は入力/出力線32と、ビット
線20,21.2123と、トランジスタsy、ss、
ssと、−にルlO,31とを含む。説明のために、ト
ランジスタ42.43゜44.45と、同様なトランジ
スタの群とが各ビット線の間に配置され九逆直列ダイオ
ードとして示されている。ダイオード53.54のよう
に電流を1つの向きに流すためのダイオードが、信号i
が高レベルの時に、ビット線の間に接続される。
照する。このアレイ部分は入力/出力線32と、ビット
線20,21.2123と、トランジスタsy、ss、
ssと、−にルlO,31とを含む。説明のために、ト
ランジスタ42.43゜44.45と、同様なトランジ
スタの群とが各ビット線の間に配置され九逆直列ダイオ
ードとして示されている。ダイオード53.54のよう
に電流を1つの向きに流すためのダイオードが、信号i
が高レベルの時に、ビット線の間に接続される。
同様に、ダイオード51.52と、それらに類似のダイ
オードが、信号ムが高レベルの時に、ビット線の間に接
続される。
オードが、信号ムが高レベルの時に、ビット線の間に接
続される。
再び第3図を参照して、線48上の信号Aが高レベルで
あるとすると、トランジスタ44と、それに類似のトラ
ンジスタが導通状態になる。そのためにトランジスタ4
2のゲートが1121に接続され、したがって第2図に
ダイオード51.52により示されているように、線2
1と220間にトランジスタ42を通るダイオード状の
経路が形成される。これとは逆に、信号人が高レベルで
あるとすると、トランジスタ43と、それに類似のトラ
ンジスタが導通状態になシ、第2図のダイオード53.
54によシ示されるような経路が存在することKなる。
あるとすると、トランジスタ44と、それに類似のトラ
ンジスタが導通状態になる。そのためにトランジスタ4
2のゲートが1121に接続され、したがって第2図に
ダイオード51.52により示されているように、線2
1と220間にトランジスタ42を通るダイオード状の
経路が形成される。これとは逆に、信号人が高レベルで
あるとすると、トランジスタ43と、それに類似のトラ
ンジスタが導通状態になシ、第2図のダイオード53.
54によシ示されるような経路が存在することKなる。
プログラミング中は信号Pは低レベルであるからトラン
ジスタ45と、それKli似するトランジスタは導通状
態とならず、vr・f信号(線34)はアース電位であ
る。
ジスタ45と、それKli似するトランジスタは導通状
態とならず、vr・f信号(線34)はアース電位であ
る。
第2図のセル30をプログラミングするものと仮定する
。復号され九Y信号がトランジスタ31゜38を導通状
態にし、トランジスタ39のような他のトランジスタは
非導通状態にされる。これは第2図に「ケース1」とし
て示されている。線25が選択されているから、113
2に与えられた電位vppがセルsOをプログ2ミング
する。このセルがプログラミングされないものとすると
、vpp電位が纏32へ結合されないことは明らかであ
る。
。復号され九Y信号がトランジスタ31゜38を導通状
態にし、トランジスタ39のような他のトランジスタは
非導通状態にされる。これは第2図に「ケース1」とし
て示されている。線25が選択されているから、113
2に与えられた電位vppがセルsOをプログ2ミング
する。このセルがプログラミングされないものとすると
、vpp電位が纏32へ結合されないことは明らかであ
る。
セル30をプログ2ミングするためには信号Aを高レベ
ルにし、信号ムを低レベルにする。第2図のダイオード
53.54により示されているダイオード状動作により
、纏25に沿う他のセルをプログラミングさせる寄生経
路が生ずることが阻止される。線21はA電位になって
いるから、線21の左側にあるセルはプログラミングさ
れない。
ルにし、信号ムを低レベルにする。第2図のダイオード
53.54により示されているダイオード状動作により
、纏25に沿う他のセルをプログラミングさせる寄生経
路が生ずることが阻止される。線21はA電位になって
いるから、線21の左側にあるセルはプログラミングさ
れない。
すなわち、電位vppはセル30を通った後でも、線2
1が接地されている九めに、プレイ中を左へ伝わること
はない。(これは第2図の上部のケースlで示されてい
る。)線22の右側では、正電位がダイオード54を通
って線23へ送られるというようにアレイに沿って送ら
れる。ダイオード54により線22と23の間にダイオ
ード状の電圧降下があり、アレイ中の引き続く各線の間
に同様な電圧降下がある。これ拡、ケース1では低下す
る電位vppとして示されている。セル31のような任
意のセルの間の最高電位はダイオード1個の電圧降下分
だけに等しい。この電位は任意のセルに寄生プログ25
ングを行なわせるには十分ではない。
1が接地されている九めに、プレイ中を左へ伝わること
はない。(これは第2図の上部のケースlで示されてい
る。)線22の右側では、正電位がダイオード54を通
って線23へ送られるというようにアレイに沿って送ら
れる。ダイオード54により線22と23の間にダイオ
ード状の電圧降下があり、アレイ中の引き続く各線の間
に同様な電圧降下がある。これ拡、ケース1では低下す
る電位vppとして示されている。セル31のような任
意のセルの間の最高電位はダイオード1個の電圧降下分
だけに等しい。この電位は任意のセルに寄生プログ25
ングを行なわせるには十分ではない。
セル31をプログラミングするものとすれば、トランジ
スタ38と3Iが導通状態にされ、トランジスタ3Tの
ような他のトランジスタは非導通状態にされる(これは
第2図に[ケース2.1として示されている)。このよ
うな条件に対して電位vppをトランジスタ38を介し
て与えることができる。仁の時には電位は左から右の向
きに与えられるのに対して、セル30のプログラミング
のためには電位は右から左の向きに与えられたことに注
意されたい。セル31をプログラミングする丸めには信
号Aを高レベルにし、信号Aを低レベルにする。したが
って、ダイオード51と52はビット線に接続され、ダ
イオード53と54は回路から切り離される。この場合
の丸めに、il!22の左側では電位vppは低下し、
923が接地されているから1123の右側では阻止さ
れる。
スタ38と3Iが導通状態にされ、トランジスタ3Tの
ような他のトランジスタは非導通状態にされる(これは
第2図に[ケース2.1として示されている)。このよ
うな条件に対して電位vppをトランジスタ38を介し
て与えることができる。仁の時には電位は左から右の向
きに与えられるのに対して、セル30のプログラミング
のためには電位は右から左の向きに与えられたことに注
意されたい。セル31をプログラミングする丸めには信
号Aを高レベルにし、信号Aを低レベルにする。したが
って、ダイオード51と52はビット線に接続され、ダ
イオード53と54は回路から切り離される。この場合
の丸めに、il!22の左側では電位vppは低下し、
923が接地されているから1123の右側では阻止さ
れる。
第5図の回路により発生される信号ムとAU。
セルをプログラミングするために左から右および右から
左へのシャントを行なってセルを分離する。
左へのシャントを行なってセルを分離する。
(本発明においてはダイオードによるシャント動作に似
たシャント動作はプログラミングの丸めにだけ用いられ
るが、ある種のメ篭りにおいてはこのシャント動作は読
出し中に用いることができる。)次に第4図を参照する
。この図には16ビツト線すなわち16本の列線を有す
本メ毫りの九めの部分アドレス復号器が示されている。
たシャント動作はプログラミングの丸めにだけ用いられ
るが、ある種のメ篭りにおいてはこのシャント動作は読
出し中に用いることができる。)次に第4図を参照する
。この図には16ビツト線すなわち16本の列線を有す
本メ毫りの九めの部分アドレス復号器が示されている。
(このメモリが、たとえば、4に×8の容量を有する場
合には、このメモリは16本の列線より成る群をいくつ
か含むことができる。)この場合には、4列のアドレス
・ビットAo”Asが要求される。アドレス信号ム0.
ムhム2と、それらのアドレス信号の補数信号との各組
合わせがノアゲートS3のようなノアゲートに結合され
る。ノアゲートの1つが図に膵しく示されてお抄、トラ
ンジスタ5−15日。
合には、このメモリは16本の列線より成る群をいくつ
か含むことができる。)この場合には、4列のアドレス
・ビットAo”Asが要求される。アドレス信号ム0.
ムhム2と、それらのアドレス信号の補数信号との各組
合わせがノアゲートS3のようなノアゲートに結合され
る。ノアゲートの1つが図に膵しく示されてお抄、トラ
ンジスタ5−15日。
@Ot含む。それらのトランジスタはアドレス信号A(
1,Al、Agを受ける”ために結合される。Y。
1,Al、Agを受ける”ために結合される。Y。
線がデプリーV画ン型ト2ンジスタ57を介してこのノ
アゲートの丸めのVeaに結合される。し九がって、信
号ム0IAI−ム2が全て低レベルであるとli Y
oが高レベルとなる。
アゲートの丸めのVeaに結合される。し九がって、信
号ム0IAI−ム2が全て低レベルであるとli Y
oが高レベルとなる。
第2の復号レベルが信号A3から得られる。この復号に
より復号器内の各ノアゲートが相互に結合される。たと
えば、IIYoが零しきい値電圧トランジスタ81.6
2を介して線Y2へ結合される。それら2個のトランジ
スタの相互結合点に線Y1が接続され、信号が与えられ
る。トランジスタ@1のゲートには信号ム3が与えられ
、トランジスタ62のゲートには信号A3が与えられる
。
より復号器内の各ノアゲートが相互に結合される。たと
えば、IIYoが零しきい値電圧トランジスタ81.6
2を介して線Y2へ結合される。それら2個のトランジ
スタの相互結合点に線Y1が接続され、信号が与えられ
る。トランジスタ@1のゲートには信号ム3が与えられ
、トランジスタ62のゲートには信号A3が与えられる
。
同様に、線Y*、Ynを結合され、信号Y3を与えるた
めにトランジスタ64と65が用いられる。
めにトランジスタ64と65が用いられる。
線BTが別のノアゲートに結合され、復号器を完成し、
出力信号yo−y1gを得る九めに、信号ム3により制
御される別のトランジスタを介して線68が延びる。プ
レイ中でピッ)IIを接地するそれらのトランジスタを
制御する九めに線Y1.Ysおよびその他の奇数番号の
lIYが用いられる。ビット線と入力/出力線32を結
合するトランジスタに偶数番号の線Yが結合される。
出力信号yo−y1gを得る九めに、信号ム3により制
御される別のトランジスタを介して線68が延びる。プ
レイ中でピッ)IIを接地するそれらのトランジスタを
制御する九めに線Y1.Ysおよびその他の奇数番号の
lIYが用いられる。ビット線と入力/出力線32を結
合するトランジスタに偶数番号の線Yが結合される。
第5図のシャント・アドレス制御バッファ信号A3.^
3から信号人、Aを発生する。零しきい値トランジスタ
ss、ssと、エンハンス屋トランジスタフ0を備える
インバータ段がトランジスタ6s。
3から信号人、Aを発生する。零しきい値トランジスタ
ss、ssと、エンハンス屋トランジスタフ0を備える
インバータ段がトランジスタ6s。
TOにそれぞれ存在する信号Am、A3をそれぞれ受け
る。トランジスタ6・、71は信号Pを受ける。この信
号Pはプログラミング中だけ高レベルである。線74.
75がトランジスタ110.81をそれぞれ介して接地
される。それらのトランジスタはP信号を受ける。非プ
ログラミングモードでは、線74.75は接地され、9
48.49はアース電位に保たれる。プログラミングモ
ード中は、i信号Asが高にペル、信号iが低レベルで
あると、![74がアース電位となシ、1175がVc
cにされる。このた結に締48はデプリーション型トラ
ンジスタTIを介してvppにされ、l149はアース
電位に保たれる。これとは逆に、信号A3が低レベルで
、信号A3が高レベルであると、線49がVpp K保
走れ、線4mはアース電位に保九れる。デプリーション
型トランジスタ717Fは電位vppがイ/パータヘ結
合されることを阻止する。したがって、第4図に示す復
号lIKよシ信以上、プレイ中のビット線すなわち列線
な1本おきに接地し、寄生経路が生ずる仁とを阻止する
ためにダイオード状シャントを用いる仮想接地メモリア
レイについて説明した。こOアレイの構造の丸めにアド
レス信号の使用が害鳥になるから、シャント経絡を制御
するために要求される附加回路は非常に僅かである。
る。トランジスタ6・、71は信号Pを受ける。この信
号Pはプログラミング中だけ高レベルである。線74.
75がトランジスタ110.81をそれぞれ介して接地
される。それらのトランジスタはP信号を受ける。非プ
ログラミングモードでは、線74.75は接地され、9
48.49はアース電位に保たれる。プログラミングモ
ード中は、i信号Asが高にペル、信号iが低レベルで
あると、![74がアース電位となシ、1175がVc
cにされる。このた結に締48はデプリーション型トラ
ンジスタTIを介してvppにされ、l149はアース
電位に保たれる。これとは逆に、信号A3が低レベルで
、信号A3が高レベルであると、線49がVpp K保
走れ、線4mはアース電位に保九れる。デプリーション
型トランジスタ717Fは電位vppがイ/パータヘ結
合されることを阻止する。したがって、第4図に示す復
号lIKよシ信以上、プレイ中のビット線すなわち列線
な1本おきに接地し、寄生経路が生ずる仁とを阻止する
ためにダイオード状シャントを用いる仮想接地メモリア
レイについて説明した。こOアレイの構造の丸めにアド
レス信号の使用が害鳥になるから、シャント経絡を制御
するために要求される附加回路は非常に僅かである。
第1図は従来の仮想接地メモリアレイの一部を示す回路
図、第2図社プログラミング中に寄生経路が生ずること
を阻止するために用いられるトランジスタのダイオード
状動作を説明する九めに用いられる、本発明のメモリア
レイの近似的な等価回路図、第3図は本発明の仮1lA
II地メモリアレイの一部を示す回路図、第4図は本発
明に関連して用いられるアドレス復号器の回路図、ms
図は本( 発明に用いられるダイオード状シャント動作を制御する
ために用いられる復号器の回路図である。 20〜26・−〇〇ビット線、2g、29,30゜$
l @ @ 11 @セル、l5−II、42〜45.
58〜59〜藝2.@4.@51NI、〜73.711
〜81・・・・電界効果トランジスタ、I3・・・・ノ
アゲート。 %許出願人 インテル・コーポレーション代理人
山 川 政 樹 (ほか1名) t 4孕2
図、第2図社プログラミング中に寄生経路が生ずること
を阻止するために用いられるトランジスタのダイオード
状動作を説明する九めに用いられる、本発明のメモリア
レイの近似的な等価回路図、第3図は本発明の仮1lA
II地メモリアレイの一部を示す回路図、第4図は本発
明に関連して用いられるアドレス復号器の回路図、ms
図は本( 発明に用いられるダイオード状シャント動作を制御する
ために用いられる復号器の回路図である。 20〜26・−〇〇ビット線、2g、29,30゜$
l @ @ 11 @セル、l5−II、42〜45.
58〜59〜藝2.@4.@51NI、〜73.711
〜81・・・・電界効果トランジスタ、I3・・・・ノ
アゲート。 %許出願人 インテル・コーポレーション代理人
山 川 政 樹 (ほか1名) t 4孕2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)全体として平行に離隔されている複数のプレイ線
と、それらのアレイ線の間に結合される複数のメモリセ
ルと、前記各7レイ線の間を第1の向きに選択的に流す
ようにする第1のスイッチング要素と、前記アレイ線の
間を前記第1の向きとは逆の第20向自に選択的に流す
ようにする第2のスイッチング要素と、前記第1と第2
のスイッチング要素を制御するためのアドレス信号を受
けるために結合される復号器と、を備え、それにより一
層少い数の寄生経路によって仮想接地を行なうことがで
きることを特徴とする仮想接地を用いる改良したメモリ
アレイ。 (2、特許請求の範囲の第1項に記載のメモリアレイで
あって、1本お亀の前記プレイ線が第3のスイッチング
ll素を介して選択的に接地されることを特徴とするメ
モリアレイ。 (3)41許請求の範囲の第2項に記載のメモリアレイ
であって、他の前記アレイ線が第4のスイッチング線を
介してデータ線に選択的に接続されることを特徴とする
メモリアレイ。 (4)特許請求の範囲の第3項に記載のメモリプレイで
あって、前記メモリセルは電気的にプログラム可能なセ
ルであり、前記第1と第2のスイッチング要素は前記セ
ルのプログラミング中に作動させられるだけであること
を特徴とするメモリアレイ。 (5)I¥1許請求の範囲の第4項に記載のメモリプレ
イであって、前記セルO読出し中は前記プレイI!L基
準電位に保たれる仁とを特徴とするメモリアレイ。 (6)!許請求の範囲の第1項に記載のメモリアレイで
あって、前記第1と第20スイツチング要素は、前記線
の間に結合される第1の電界効果トランジスタ(FET
)と、この第10mのゲートと前記線の一方との間に結
合される第2のF師と、前記第10)¥′rのゲートと
他方の前記線との間に結合される第3のFiFrと、を
各線の間に含むことを特値とするメモリアレイ。 (7)’lit許請求の範囲の第6項に記載のメモリア
レイであって、前記第1OFilTの前記ゲートを選択
的に接地するための第40PTrを含むことを特徴とす
るメモリアレイ。 (8)特許請求の範囲の第6項に記載のメモリアレイで
あって、前記第1C)Fiπは比゛較的狭いチャンネル
を有することを特徴とするメモリアレイ。 (9)特許請求の範囲の第8項に記載のメモリアレイで
あって、前記−0間で前記第tonπに直列接続される
少なくとも1個のデプリーション型トランジスタを更に
含むことを特徴とするメモリアレイ。 α・全体として平行に離隔されている複数のプレイ線と
、それらのアレイ線の間に結合される複数のメモリアレ
イ、データ線と、1本おきの前記アレイ線を前記データ
線へ選択的に結合するための第1の複数の電界効果トラ
ンジスタ(FIT)と、他方の前記プレイ線を選択的に
接地するための第2の複数のmと、を備え、それにより
一層少い数の寄生経路による仮想接地を用いるメモリア
レイが実現されることを特徴とする仮想接地を用いる改
良し九メモリアレイ。 αυ特許請求の範囲の第10項に記載のメモリアレイで
あって、前記各プレイ線の間を第1の向きに電流を選択
的に流すようにする第1のスイッチング要素と、前記プ
レイ線の間を前記第1の向きとは逆の第2の向きに電流
を選択的に流すようにする第2のスイッチング要素と、
それらの第1と第2のスイッチング要素を制御するため
にアドレス信号を受けるように結合される復号器と、を
含むことを特徴とするメモリアレイ。 α3特許請求の範囲の第10項に記載のメモリプレイで
あって、前記メモリセルは電気的にプログラム可能なセ
ルであり、前記第1と第2のスイッチング要素は前記セ
ルのプログラミング中に作動させられるだけであること
を特徴とするメモリアレイ。 03%許請求の範囲の第11項に記載のメモリセルであ
って、前記アレイ線は、前記セルの読出し中は、基準電
位に保たれることを特徴とするメモリアレイ。 041特許請求の範囲の第12項に記載のメモリアレイ
であって、前記第1と第2のスイッチング要素は、前記
線の間に結合される第1の電界効果トランジスタ(FE
T)と、この第1(2)FITと一方の前配線の間に結
合される第20Flipと、前記第1cmのゲートと他
方の前記線の間に結合される第3OFETと、を各線の
間に含むことを特徴とするメモリアレイ。 Q9%許請求の範囲の第1s項に記載のメモリアレイで
あって、前記第1の4汀の前記ゲートを選択的に接地す
るための第40FETを含むことを特徴とするメモリア
レイ。 +te特許請求の範囲の第14項に記載のメモリアレイ
であって、前記メモリセルは電気的にプログラム可能な
セルであり、前記第1と第2のスイッチング要素は前記
セルのプログラミング中に作動させられるだけであるこ
とを特徴とするメモリアレイ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/334,304 US4460981A (en) | 1981-12-24 | 1981-12-24 | Virtual ground memory |
| US334304 | 1999-06-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58111192A true JPS58111192A (ja) | 1983-07-02 |
| JPH0222475B2 JPH0222475B2 (ja) | 1990-05-18 |
Family
ID=23306598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57201804A Granted JPS58111192A (ja) | 1981-12-24 | 1982-11-17 | 仮想接地を用いるメモリアレイ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4460981A (ja) |
| JP (1) | JPS58111192A (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4594689A (en) * | 1984-09-04 | 1986-06-10 | Motorola, Inc. | Circuit for equalizing bit lines in a ROM |
| US4563753A (en) * | 1984-09-04 | 1986-01-07 | Motorola, Inc. | Circuit for reducing degradation of voltage differential in a memory |
| US4722075A (en) * | 1985-10-15 | 1988-01-26 | Texas Instruments Incorporated | Equalized biased array for PROMS and EPROMS |
| US4802121A (en) * | 1986-06-02 | 1989-01-31 | Texas Instruments Incorporated | Memory array with partitioned bit lines |
| US4868790A (en) * | 1988-04-28 | 1989-09-19 | Texas Instruments Incorporated | Reference circuit for integrated memory arrays having virtual ground connections |
| JPH023187A (ja) * | 1988-06-09 | 1990-01-08 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体メモリ |
| US4992980A (en) * | 1989-08-07 | 1991-02-12 | Intel Corporation | Novel architecture for virtual ground high-density EPROMS |
| US5023837A (en) * | 1989-09-05 | 1991-06-11 | Texas Instruments Incorporated | Bitline segmentation in logic arrays |
| US5027321A (en) * | 1989-11-21 | 1991-06-25 | Intel Corporation | Apparatus and method for improved reading/programming of virtual ground EPROM arrays |
| US5020026A (en) * | 1989-12-14 | 1991-05-28 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for reading and programming electrically programmable memory cells |
| EP0432481A3 (en) * | 1989-12-14 | 1992-04-29 | Texas Instruments Incorporated | Methods and apparatus for verifying the state of a plurality of electrically programmable memory cells |
| US5111270A (en) * | 1990-02-22 | 1992-05-05 | Intel Corporation | Three-dimensional contactless non-volatile memory cell |
| KR930000899B1 (ko) * | 1990-02-24 | 1993-02-11 | 현대전자산업 주식회사 | 다이나믹 램(dram)의 비트선 센스 증폭기의 균형 실현장치 |
| EP0461904A3 (en) * | 1990-06-14 | 1992-09-09 | Creative Integrated Systems, Inc. | An improved semiconductor read-only vlsi memory |
| DE69229374T2 (de) * | 1991-04-18 | 2000-01-20 | National Semiconductor Corp., Santa Clara | Gestapeltes Ätzverfahren für Koppelpunkt-EPROM-Matrizen |
| US5422842A (en) * | 1993-07-08 | 1995-06-06 | Sundisk Corporation | Method and circuit for simultaneously programming and verifying the programming of selected EEPROM cells |
| US5959892A (en) * | 1997-08-26 | 1999-09-28 | Macronix International Co., Ltd. | Apparatus and method for programming virtual ground EPROM array cell without disturbing adjacent cells |
| JP2004253115A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-09-09 | Sharp Corp | 半導体記憶装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4021781A (en) * | 1974-11-19 | 1977-05-03 | Texas Instruments Incorporated | Virtual ground read-only-memory for electronic calculator or digital processor |
| US4281397A (en) * | 1979-10-29 | 1981-07-28 | Texas Instruments Incorporated | Virtual ground MOS EPROM or ROM matrix |
| US4312047A (en) * | 1980-05-29 | 1982-01-19 | Motorola, Inc. | Memory array having improved isolation between sense lines |
-
1981
- 1981-12-24 US US06/334,304 patent/US4460981A/en not_active Expired - Lifetime
-
1982
- 1982-11-17 JP JP57201804A patent/JPS58111192A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0222475B2 (ja) | 1990-05-18 |
| US4460981A (en) | 1984-07-17 |
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