JPS58133623A - 垂直磁気記録媒体 - Google Patents
垂直磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS58133623A JPS58133623A JP57014363A JP1436382A JPS58133623A JP S58133623 A JPS58133623 A JP S58133623A JP 57014363 A JP57014363 A JP 57014363A JP 1436382 A JP1436382 A JP 1436382A JP S58133623 A JPS58133623 A JP S58133623A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- film
- recording medium
- perpendicular magnetic
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/66—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は垂直磁気記録媒体KI4するものであシ、゛詳
しくは支持基板と金属薄膜よりなる垂直磁気記録層との
接着性が改善され、かつ^密度記録時の再生出力の大き
な媒体を提供するものである。
しくは支持基板と金属薄膜よりなる垂直磁気記録層との
接着性が改善され、かつ^密度記録時の再生出力の大き
な媒体を提供するものである。
従来の長手(面内)磁化を用いる磁気記録方式Kかわり
、近年原塩的に高密度記録のoT能な方式として垂直磁
化を用いる磁気記録方式が提案されているう(「日経工
Vクトロニクス」1978年8月7日号、ムts2参照
)そして、□この垂直磁化方式の磁性−としては、スパ
ツクで作製されるhcp構造でC軸が支持体表面の法線
に配向した厚さα2〜10.のCo−0?合金膜が優れ
ていることが知られている。(電子通信学会研究会MR
7B−4参照)。tた、記録感度と再生出力を増大さす
方法として、支持体有機高分子フィルムと1jo−Or
垂直磁化膜との間に軟磁性体−を設けること49知であ
る。(「サイエンスJ1911G年1月号参照)そして
、このような媒体と垂直方向の砿界を発生する僑直一 ヘッドとの組合せKより高密度記録再生が可能となる、 しかしながら、可撓性を有する7gツピーディスクや磁
気テープ等において本方式を実用化するKは^密f紀録
時の再生出力が^い安価な高い信頼性を有する記録媒体
の出現が望まれている。すなわち現状の媒体の問題点と
しては以下の点があげられる。
、近年原塩的に高密度記録のoT能な方式として垂直磁
化を用いる磁気記録方式が提案されているう(「日経工
Vクトロニクス」1978年8月7日号、ムts2参照
)そして、□この垂直磁化方式の磁性−としては、スパ
ツクで作製されるhcp構造でC軸が支持体表面の法線
に配向した厚さα2〜10.のCo−0?合金膜が優れ
ていることが知られている。(電子通信学会研究会MR
7B−4参照)。tた、記録感度と再生出力を増大さす
方法として、支持体有機高分子フィルムと1jo−Or
垂直磁化膜との間に軟磁性体−を設けること49知であ
る。(「サイエンスJ1911G年1月号参照)そして
、このような媒体と垂直方向の砿界を発生する僑直一 ヘッドとの組合せKより高密度記録再生が可能となる、 しかしながら、可撓性を有する7gツピーディスクや磁
気テープ等において本方式を実用化するKは^密f紀録
時の再生出力が^い安価な高い信頼性を有する記録媒体
の出現が望まれている。すなわち現状の媒体の問題点と
しては以下の点があげられる。
(1) 有d&^分子基板上にスパッタで作製される
磁性釜−膜は、大きな内部応力、主として圧縮応力を有
する為、又、有4^分子基板との熱膨張率や強伸度が異
る為、カールやクランクが発生し易く、Il#に両者の
接着性が良好でない場合には該金属−の剥離などが生じ
実用に供し傅ない。
磁性釜−膜は、大きな内部応力、主として圧縮応力を有
する為、又、有4^分子基板との熱膨張率や強伸度が異
る為、カールやクランクが発生し易く、Il#に両者の
接着性が良好でない場合には該金属−の剥離などが生じ
実用に供し傅ない。
(2) スパッタ時に基板が受ける大きな熱量の為、
及び良好な結晶性と磁気特性、特に垂直方向に測定され
る保磁力として適当に大きな値を有する該金属膜を得る
為には基板温度として百敏十〜二百f (C)程度が必
要である為に通常は耐熱性の有機高分子フィルムが用い
られる。このようなフィルムとしては、ポリイミドフィ
ルムがよ(知られているが、該フィルムは、高価である
こと、湿度膨張による寸法安定性が悪いこと、及び表面
平滑性がわるくスペーシングロスによる高密度記録時の
再生出力の低下が著しいことKよりやはり実用には供し
s ” 。
及び良好な結晶性と磁気特性、特に垂直方向に測定され
る保磁力として適当に大きな値を有する該金属膜を得る
為には基板温度として百敏十〜二百f (C)程度が必
要である為に通常は耐熱性の有機高分子フィルムが用い
られる。このようなフィルムとしては、ポリイミドフィ
ルムがよ(知られているが、該フィルムは、高価である
こと、湿度膨張による寸法安定性が悪いこと、及び表面
平滑性がわるくスペーシングロスによる高密度記録時の
再生出力の低下が著しいことKよりやはり実用には供し
s ” 。
(3) 現用の塗布型磁気テープや7oツピーデイス
クのベースフィルムとしては、機械的強度。
クのベースフィルムとしては、機械的強度。
寸法安定性1表面平滑性、加工のし易さ、廉価である事
等の理由によ抄通常はポリエチレンテレフタレートのフ
ィルムが用いられる。
等の理由によ抄通常はポリエチレンテレフタレートのフ
ィルムが用いられる。
このようなポリニスデルフィルム上KM性4114I1
1を設は垂直磁気記録媒体とするには以下の間聰点を有
している。そのlは、スパッタ時にフィルムよ抄放出、
又はフィルム上Kfk着されている不純ガスの為に、金
J4JiIの結晶性、磁気特性が劣化することである。
1を設は垂直磁気記録媒体とするには以下の間聰点を有
している。そのlは、スパッタ時にフィルムよ抄放出、
又はフィルム上Kfk着されている不純ガスの為に、金
J4JiIの結晶性、磁気特性が劣化することである。
このような不純ガスとしては、水分、空気成分、低重合
物が考えられ、 1111に平衡反応として存在するポ
リエステル中のモノマー成分や低重合書の発生は、嵐好
な特性の得られる基板温度である130℃以上において
は着しく、良好な磁気LJI−を得ることが不可aにな
る。その2は、前記低重合物が、フィルム表面に集合結
晶化し、フィルムのI!l1ir平滑性を着しく損うこ
とである。七のsB、前記(1)項でも述べたように、
ポリエステルフィルムと金属膜の接着が不十分であるこ
とである。1F#に、両者の強呻直1弾性率、クリープ
性、温熱IHII卓が異る為か、長期の使用中に@が剥
離したり、くり返し曲は変形を与えることKよ如、@に
クラックや剥離が生じ易い。
物が考えられ、 1111に平衡反応として存在するポ
リエステル中のモノマー成分や低重合書の発生は、嵐好
な特性の得られる基板温度である130℃以上において
は着しく、良好な磁気LJI−を得ることが不可aにな
る。その2は、前記低重合物が、フィルム表面に集合結
晶化し、フィルムのI!l1ir平滑性を着しく損うこ
とである。七のsB、前記(1)項でも述べたように、
ポリエステルフィルムと金属膜の接着が不十分であるこ
とである。1F#に、両者の強呻直1弾性率、クリープ
性、温熱IHII卓が異る為か、長期の使用中に@が剥
離したり、くり返し曲は変形を与えることKよ如、@に
クラックや剥離が生じ易い。
不発明はかかる現状K11Mみなされたもので、原価で
^性能な垂直磁気記録媒体を提供する仁とを目的とした
ものである。すなわち本発明はq磁性を有する有機4分
子よりなる支持基板上に金jIwIli1よ抄なる―直
磁気紀録層を設けた垂直磁気記録媒体において、支持基
板と一直磁気配縁層との関に有機金属化合物から形成さ
れる下塗り層を設けたことt特徴とする垂直磁気記録媒
体である。
^性能な垂直磁気記録媒体を提供する仁とを目的とした
ものである。すなわち本発明はq磁性を有する有機4分
子よりなる支持基板上に金jIwIli1よ抄なる―直
磁気紀録層を設けた垂直磁気記録媒体において、支持基
板と一直磁気配縁層との関に有機金属化合物から形成さ
れる下塗り層を設けたことt特徴とする垂直磁気記録媒
体である。
とζろで、本発明では、支持基板をポリエチレンテレフ
タレート又はポリエチレンナフタレートとなしているが
、他のポリエステルも使用し得ることは言うまでもない
。しかしながら、より好壕しくはポリエチレンテレフタ
レートを用いる方がコストを低減できるのでよい。又、
磁気テープや7クツピーデイスク等の実用媒体を廉価に
製造するにはq−ル状に巻けるフィルム状の支持基板を
用いる方がよい。又、とこKいうポリエチレンテレフタ
レート又はポリエチレンナフタレートは、ホモポリマー
のみならず。
タレート又はポリエチレンナフタレートとなしているが
、他のポリエステルも使用し得ることは言うまでもない
。しかしながら、より好壕しくはポリエチレンテレフタ
レートを用いる方がコストを低減できるのでよい。又、
磁気テープや7クツピーデイスク等の実用媒体を廉価に
製造するにはq−ル状に巻けるフィルム状の支持基板を
用いる方がよい。又、とこKいうポリエチレンテレフタ
レート又はポリエチレンナフタレートは、ホモポリマー
のみならず。
繰り返し単位の8596以上がそれぞれエチレンプレ7
タレート又はエチレン、ナツタレート略位よりなり、残
カが他の成分であるような共菖合ポリマーであってもよ
く、又、他の樹脂とのブレンド1でもよい。又、他の4
分子を一!I1以上d14したフィルムで本よく、表面
性の改嵐の為に他の樹脂を薄くコーティングしたもので
もよい。
タレート又はエチレン、ナツタレート略位よりなり、残
カが他の成分であるような共菖合ポリマーであってもよ
く、又、他の樹脂とのブレンド1でもよい。又、他の4
分子を一!I1以上d14したフィルムで本よく、表面
性の改嵐の為に他の樹脂を薄くコーティングしたもので
もよい。
以下、本発明の特徴をなす、上記有機高分子フィルムと
―直磁気記録層との間に設ける下塗り噛について説明す
る。下塗D4に用いられる有機金属化合物は、金属ある
いは無機相と親和性を有する又は化学結合しうる基と、
有機相と親和性を有する又は化学結合しうる基とを同時
に持つ化合物である。有機金属化合物の代表的な−のと
してはケイ素化合一があげられるが、これに限定される
ものではなく、有機チタネート化合物、有機スズ化合物
、有機ジルコニウム化合物等本有効である。
―直磁気記録層との間に設ける下塗り噛について説明す
る。下塗D4に用いられる有機金属化合物は、金属ある
いは無機相と親和性を有する又は化学結合しうる基と、
有機相と親和性を有する又は化学結合しうる基とを同時
に持つ化合物である。有機金属化合物の代表的な−のと
してはケイ素化合一があげられるが、これに限定される
ものではなく、有機チタネート化合物、有機スズ化合物
、有機ジルコニウム化合物等本有効である。
無機相と親和性を有する又は化学結合しつる基としては
、加水分解によジヒドロキクル基に度化しうる基、例え
ばアルコキシ基特に炭素原子数411i1以下のアルコ
キシ基、ハロゲン原子やターシャリーブチルパーオ牟シ
基、アシル基が挙げられ、有機相と親和性を有する又は
化学結合しうる基としては低級アルキル基、フェニ声基
、(メタ)アクリロキシ基、メタクリロ中ジプロピル基
、ビニル基、エポキシ基、置換又は未置換の7ミノ基が
挙げられる。
、加水分解によジヒドロキクル基に度化しうる基、例え
ばアルコキシ基特に炭素原子数411i1以下のアルコ
キシ基、ハロゲン原子やターシャリーブチルパーオ牟シ
基、アシル基が挙げられ、有機相と親和性を有する又は
化学結合しうる基としては低級アルキル基、フェニ声基
、(メタ)アクリロキシ基、メタクリロ中ジプロピル基
、ビニル基、エポキシ基、置換又は未置換の7ミノ基が
挙げられる。
かかる化合物としては、下記一般式(1)〜(3)%式
%(1) (2) ) (3) 及び、下記一般式(4) Rn811m ”・・” (4) で表わされる化合物及びこれらを加水分解して得られる
プレポリマーから成る群から選ばれる1種又は2種以上
の化合物が好ましく用いられる。かかる有機金4化合物
は、必要に応じて硬化触媒、Ii着促進剤、ぬれ性改良
剤、町塑剤。
%(1) (2) ) (3) 及び、下記一般式(4) Rn811m ”・・” (4) で表わされる化合物及びこれらを加水分解して得られる
プレポリマーから成る群から選ばれる1種又は2種以上
の化合物が好ましく用いられる。かかる有機金4化合物
は、必要に応じて硬化触媒、Ii着促進剤、ぬれ性改良
剤、町塑剤。
各種安定剤、難燃剤、酸化防止剤、滑剤、消泡剤及び/
又は増結剤等と混合して用いることもできる。
又は増結剤等と混合して用いることもできる。
これは、そのままでも、又溶媒にとかして使用してもよ
い。かかる溶媒としては、メタノール、エタノール、イ
ノプロパツール、n−フfiノール、トルエン、酢酸エ
チル等の1種又は2種以上の混合物が挙けられろう 上記有機金属化合物層の厚みはIIKtl定さ4するも
のではないが5oX−1oooiが好ましい。可撓性を
十分発揮する為Kij50〜5OOXが特に好ましい。
い。かかる溶媒としては、メタノール、エタノール、イ
ノプロパツール、n−フfiノール、トルエン、酢酸エ
チル等の1種又は2種以上の混合物が挙けられろう 上記有機金属化合物層の厚みはIIKtl定さ4するも
のではないが5oX−1oooiが好ましい。可撓性を
十分発揮する為Kij50〜5OOXが特に好ましい。
有機金属化合物の塗布は。
f!用する樹脂薄−の性質に応じてドクターナイフ、パ
ー:l−ター、グラビヤロールコータ−。
ー:l−ター、グラビヤロールコータ−。
カーテンコーター、す・イフコーターなどの公知の癒工
機械を用いる塗工法、スプレー法、浸漬法などが用いら
れろう有機金属化合物層は樹脂111に塗布後、乾燥し
、加熱、イオンボンバード或いは紫外線、β線+r@な
どの放射線により硬化させる、 以上の有機金属化合物層を支持体有機高分子フィルムの
好ましくは両1fiK設け、その上に垂直磁気記録層を
設は画直磁気記鋒媒体とする。
機械を用いる塗工法、スプレー法、浸漬法などが用いら
れろう有機金属化合物層は樹脂111に塗布後、乾燥し
、加熱、イオンボンバード或いは紫外線、β線+r@な
どの放射線により硬化させる、 以上の有機金属化合物層を支持体有機高分子フィルムの
好ましくは両1fiK設け、その上に垂直磁気記録層を
設は画直磁気記鋒媒体とする。
該垂直磁気記録層としては、Co−(3r合金膜のみの
こともあるが、通常は約α2〜L 5 IIm のN1
−70合金膜(軟磁性体層)、さらにα2〜L5μ硯
のCo−0r合金II(垂直磁化膜層)の積層物が用い
られる。
こともあるが、通常は約α2〜L 5 IIm のN1
−70合金膜(軟磁性体層)、さらにα2〜L5μ硯
のCo−0r合金II(垂直磁化膜層)の積層物が用い
られる。
以上の金llAl1を設ける手段は通常PVD法と呼ば
れる方法、とりわけ蒸着法とスパンタ法が用いられる。
れる方法、とりわけ蒸着法とスパンタ法が用いられる。
スパッタ法にはRFスパッタ法、RF父はDoマグネト
ロンスパンタ法、対向タープ7 トスハフ/法(198
i年インターマグコンファレンス、 5g5s工ON
32−3参照)等がある。
ロンスパンタ法、対向タープ7 トスハフ/法(198
i年インターマグコンファレンス、 5g5s工ON
32−3参照)等がある。
また必要があれば、Co−0r合金膜上に耐翠耗性、耐
食性を付与する目的で適当な保鏝層を設けてもよい。
食性を付与する目的で適当な保鏝層を設けてもよい。
以下に1実施例を述べる。
実施例に用いた支持体は、145m 厚さの2軸嬌伸ポ
リエチレシテレ7タレートのフィルムであ抄、表面粗さ
は中心−平均粗さく JIsBo6ot参照)で100
7 fill のものである。
リエチレシテレ7タレートのフィルムであ抄、表面粗さ
は中心−平均粗さく JIsBo6ot参照)で100
7 fill のものである。
以下骸フィルムをフィル^ムと称すウフイルムムを用い
、以下の試料を作製した。なお、試料ムl〜4は本発明
に係る実施例であり、試料ム5は下塗り層を有しない比
較例である。
、以下の試料を作製した。なお、試料ムl〜4は本発明
に係る実施例であり、試料ム5は下塗り層を有しない比
較例である。
試料l; フィルムムに1ガンマ・メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン(信越化学工業KK製品AKB
MSO3)10重量−をエタノールSO重量−9水10
重量−の混合溶媒に溶解させた塗布液をグラビアミール
コーターで塗布j、、−150℃で2分間乾燥し、膜4
s o o Xの4r磯ケイ素化合物層を両diK設け
た。
ピルトリメトキシシラン(信越化学工業KK製品AKB
MSO3)10重量−をエタノールSO重量−9水10
重量−の混合溶媒に溶解させた塗布液をグラビアミール
コーターで塗布j、、−150℃で2分間乾燥し、膜4
s o o Xの4r磯ケイ素化合物層を両diK設け
た。
このようにして得られた試料フィルムの片面に1以下の
様にして対向ターゲット式スパッタ法により Nt−F
e軟磁性体層とCo−0r垂直磁化一層を逐次積層した
。
様にして対向ターゲット式スパッタ法により Nt−F
e軟磁性体層とCo−0r垂直磁化一層を逐次積層した
。
すなわちNi−Fe軟磁性体層はMi−Fe合金ターゲ
ット(Ni:79wt%116OX120111m++
5、厚)2枚を150m間隔で対向させた対向ターゲッ
ト式スパッタ装置を用い、ターゲット端部より400の
所に配置した1 50 、X 150喝の正方形の金わ
〈K一定した試料フィルム上に、アルゴンガス圧Lop
a、堆積速f 400^/分でスパッタを行い、αs
s pm 厚のNi−Fe合金−を形成した、 次に1ターゲツトのみCo−0r合金−Or”t?wt
m)K変え、前記M1−fee膜上に、アルゴンガス圧
a5Pa、堆積速度SOOλ/分でスパ7りを行い、α
S O5llL のCo−0r合金膜を形成した。
ット(Ni:79wt%116OX120111m++
5、厚)2枚を150m間隔で対向させた対向ターゲッ
ト式スパッタ装置を用い、ターゲット端部より400の
所に配置した1 50 、X 150喝の正方形の金わ
〈K一定した試料フィルム上に、アルゴンガス圧Lop
a、堆積速f 400^/分でスパッタを行い、αs
s pm 厚のNi−Fe合金−を形成した、 次に1ターゲツトのみCo−0r合金−Or”t?wt
m)K変え、前記M1−fee膜上に、アルゴンガス圧
a5Pa、堆積速度SOOλ/分でスパ7りを行い、α
S O5llL のCo−0r合金膜を形成した。
試料2: フイルムムの片面にのみ試料lと+t4じ下
lkシ層を設け、さらに#下塗り層上に試料lと同条件
で磁気記録層を設けた。
lkシ層を設け、さらに#下塗り層上に試料lと同条件
で磁気記録層を設けた。
試料3: フィルムAK、テトラブチルチタネートの1
0重量憾をブタノール50重量−とノルマ重量中サン5
0重量暢の混合溶液に溶解させた塗布液をパーコーター
(S番)で塗布し、t s’o℃で3分間乾燥硬化し、
膜厚700xの下me層を、両面く形成した。
0重量憾をブタノール50重量−とノルマ重量中サン5
0重量暢の混合溶液に溶解させた塗布液をパーコーター
(S番)で塗布し、t s’o℃で3分間乾燥硬化し、
膜厚700xの下me層を、両面く形成した。
該下塗砂層の片面上に%試料lと同条件で磁気記録層を
設けた。
設けた。
1KN4: フィルムAK% ” NUOシリコンプ
ライマー”(日本エニカー株式会社製品)α7電量慢含
有のメタノール、エタノール、′インプロパツール混合
アルコール系浴液をグラビアコーターで塗布し、150
℃で2分間乾燥し、膜厚yooXの有機ケイ素化合物層
を両面に形成した。
ライマー”(日本エニカー株式会社製品)α7電量慢含
有のメタノール、エタノール、′インプロパツール混合
アルコール系浴液をグラビアコーターで塗布し、150
℃で2分間乾燥し、膜厚yooXの有機ケイ素化合物層
を両面に形成した。
該F―抄−の片面上に、試料lと同条件で磁気記録rm
k aけた。
k aけた。
試料5; フイルムムの片面に、試料lと同条件でdi
気気配録音設けた。
気気配録音設けた。
上記5種−の試料の1ji−FeIk鍼性層と0o−O
r 垂直磁化II4の結晶特性及び磁気特性を第1表
に示した。
r 垂直磁化II4の結晶特性及び磁気特性を第1表
に示した。
第1表においてDI はX線回折の(002)向のピー
クの比強度、Δθ50はロツ千ング曲酵の半値巾、fl
Kは実効的異方性磁界、 ncv、 Hchはそれぞれ
編向に垂直方向と水平方向の保磁力を示す。
クの比強度、Δθ50はロツ千ング曲酵の半値巾、fl
Kは実効的異方性磁界、 ncv、 Hchはそれぞれ
編向に垂直方向と水平方向の保磁力を示す。
比較例として示した試料5以外は、いずれも良好な特性
を示した。試料5においてMi−Pa軟蝿性−の特性が
劣化したのri、基板フィルムよりの放出ガス又はフィ
ルム表面の吸着ガスが原因と考えられ、Co−0r垂垂
直磁化層の特性劣化は、ローye4の結晶性の悪影曽と
考えられる、 次に、各試料をα25インチ巾に切断し、テープ駆II
IJ装置を用い、ディジタル信号の記録書U対河生電圧
特性を調べたー、ヘッドは補助磁極励磁形の垂直ヘッド
を用い、主磁極の実効厚さは1.5μIll、補助磁極
巻線は記録用Zooターン。
を示した。試料5においてMi−Pa軟蝿性−の特性が
劣化したのri、基板フィルムよりの放出ガス又はフィ
ルム表面の吸着ガスが原因と考えられ、Co−0r垂垂
直磁化層の特性劣化は、ローye4の結晶性の悪影曽と
考えられる、 次に、各試料をα25インチ巾に切断し、テープ駆II
IJ装置を用い、ディジタル信号の記録書U対河生電圧
特性を調べたー、ヘッドは補助磁極励磁形の垂直ヘッド
を用い、主磁極の実効厚さは1.5μIll、補助磁極
巻線は記録用Zooターン。
再生用SOOターンのものを用い、デーグ速匿は記録時
47 sex/sea 、14生時9L 5 am /
secで飽和記録を行ったっ 第1図に、試料ムlの屯のの記録密度特性を小t1横軸
は記録密度(KBPI)、縦軸は再生出力(吾t・)V
スケール)である。主磁極の厚みに対応し、32KBP
I付近で第1の出力A、がゼロに低)しているが、その
後第2.第3.第4゜第5のピークA倉、・・・AIが
出現し、各ピークAt 。
47 sex/sea 、14生時9L 5 am /
secで飽和記録を行ったっ 第1図に、試料ムlの屯のの記録密度特性を小t1横軸
は記録密度(KBPI)、縦軸は再生出力(吾t・)V
スケール)である。主磁極の厚みに対応し、32KBP
I付近で第1の出力A、がゼロに低)しているが、その
後第2.第3.第4゜第5のピークA倉、・・・AIが
出現し、各ピークAt 。
・・・AIはリングへノドを用いた時のギャップ損失後
のピークには見られない大きな出力を有し、超^密を記
録がoT舵なことが実証された。
のピークには見られない大きな出力を有し、超^密を記
録がoT舵なことが実証された。
各試料の第2ピークAsと第4ピークA4のピーク出力
として夫々S’0KBPI及び140 [BPIの出力
を第2表に示す。第2表において一印は出力ピークが観
察されなかったものである。父、この時のノイズレベル
は4〜6IIIv であった。
として夫々S’0KBPI及び140 [BPIの出力
を第2表に示す。第2表において一印は出力ピークが観
察されなかったものである。父、この時のノイズレベル
は4〜6IIIv であった。
試料ム1−4ではいずれも良好な大きな再生出力が得ら
れたが、試料/l&5では小さな再生出力しか得られず
、特に140 KBPIという扁密度記録では再生出力
が得られなかった、父、l0KBPI再生時の声カエン
ペローグをオシロスコープで観察したが、試料A5以外
は均一な出力を示す良好な形状であったが、試料45に
おいては、ギザギザのエンベローブ形状であり、信号の
欠落部が多く見られた、第 2 次 仄に各試料の接着性と耐久性を市販の回転ヘッドfi
VTR(V)(8)装置を用い−ぺた。すなわち、6試
@をO,6インチ巾にスリットし、スチルで記録内生し
、再生出力が半分に低下する時間で計d l−た。なお
、w2録は4 MH2で行った。評価結縦を第3表に示
す。
れたが、試料/l&5では小さな再生出力しか得られず
、特に140 KBPIという扁密度記録では再生出力
が得られなかった、父、l0KBPI再生時の声カエン
ペローグをオシロスコープで観察したが、試料A5以外
は均一な出力を示す良好な形状であったが、試料45に
おいては、ギザギザのエンベローブ形状であり、信号の
欠落部が多く見られた、第 2 次 仄に各試料の接着性と耐久性を市販の回転ヘッドfi
VTR(V)(8)装置を用い−ぺた。すなわち、6試
@をO,6インチ巾にスリットし、スチルで記録内生し
、再生出力が半分に低下する時間で計d l−た。なお
、w2録は4 MH2で行った。評価結縦を第3表に示
す。
緘科ム1.λ4では2時間以上のスチル再生が−1−で
あったが、試料ム3では約30分後に′再生出力が低下
し始め、その後数分で磁気記録l−の金属膜が完全K
f#I 1lli Lベースフイぶムが見よるまでに到
りた。以上よりケイ素系の下車シ剤が特K111強fK
良い結果を与えることが@明した。
あったが、試料ム3では約30分後に′再生出力が低下
し始め、その後数分で磁気記録l−の金属膜が完全K
f#I 1lli Lベースフイぶムが見よるまでに到
りた。以上よりケイ素系の下車シ剤が特K111強fK
良い結果を与えることが@明した。
なお、片面にのみ下塗シーを有する試料ム2では裏rf
iK、三景体よりなるオリゴマーの析出が光学−徽鏡綾
察により―められた。とのようなフィルム裏面への14
1析出Fi、ロール状に媒体を巻いた時に磁気記録層へ
の転移が考えられ、ドロップアウトの原因になるので極
力押えるべきものである。すなわち、〒llkり層は、
−面に設ける方が良らが、片面のみに設けた場合でも、
クロロホルム等で洗滌するなどの鎌処!!1t−するこ
とにより良い結果を4たらすと考えられる。
iK、三景体よりなるオリゴマーの析出が光学−徽鏡綾
察により―められた。とのようなフィルム裏面への14
1析出Fi、ロール状に媒体を巻いた時に磁気記録層へ
の転移が考えられ、ドロップアウトの原因になるので極
力押えるべきものである。すなわち、〒llkり層は、
−面に設ける方が良らが、片面のみに設けた場合でも、
クロロホルム等で洗滌するなどの鎌処!!1t−するこ
とにより良い結果を4たらすと考えられる。
以上のように1本発明による下塗)層を、好ましくは両
面に設けることに工り、摩−で^性能な垂直磁気記録媒
体を提供することがEIT−になった。
面に設けることに工り、摩−で^性能な垂直磁気記録媒
体を提供することがEIT−になった。
第twJは、補助磁極励磁型垂直へラドを用いて測定し
た紀#V!!度に対する再生出力の関係を示したもので
ある 特許出願人 帝人株式会社
た紀#V!!度に対する再生出力の関係を示したもので
ある 特許出願人 帝人株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Li”TIII性を有する有機高分子よりなる支持基板
上に金属薄膜よりなる垂直磁気記録層を設けた垂直磁気
記録媒体において、支持基板と。 垂直−気記録層との関に有機金属化合物から形成される
下塗り層を設けることを特徴とする垂直磁気記録媒体。 2111記炙持基板がポリエチレンテレフタレート又は
ポリエチレンナフタレートである特許請求の範囲第1項
記載の垂直磁気記録媒体。 ユ 前記支持基板の両rMK前°記下塗9層を設け、少
くと本片面に垂直磁気記録層を設けた幡特許請求の範囲
第1項若しくは第2項記載の垂直磁気記録媒体。 表 前記有機金属化合物が、ケイ素化合物、戚−はケイ
素化合物を含有する混合物であ゛る特許請求の範囲第1
項、第2項若しくは第3項記載の垂直磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57014363A JPS58133623A (ja) | 1982-02-02 | 1982-02-02 | 垂直磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57014363A JPS58133623A (ja) | 1982-02-02 | 1982-02-02 | 垂直磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58133623A true JPS58133623A (ja) | 1983-08-09 |
| JPH0578087B2 JPH0578087B2 (ja) | 1993-10-28 |
Family
ID=11858970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57014363A Granted JPS58133623A (ja) | 1982-02-02 | 1982-02-02 | 垂直磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58133623A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59210532A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5326874A (en) * | 1976-08-25 | 1978-03-13 | Toray Ind Inc | Laminated film |
-
1982
- 1982-02-02 JP JP57014363A patent/JPS58133623A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5326874A (en) * | 1976-08-25 | 1978-03-13 | Toray Ind Inc | Laminated film |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59210532A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0578087B2 (ja) | 1993-10-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5178954A (en) | Magnetic recording medium having a metallic magnetic thin film layer, a primer layer comprising an amino alkoxysilane and a lubricant layer comprising a functional perfluoropolyether | |
| US4729924A (en) | Metallic thin film magnetic recording medium having a hard protective layer | |
| JPH0765347A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| US4743348A (en) | Magnetic medium for horizontal magnetization recording and method for making same | |
| US7879471B2 (en) | Support for magnetic recording medium, and magnetic recording medium | |
| US4803130A (en) | Reactive sputtering process for recording media | |
| JPH0578087B2 (ja) | ||
| JPH0465445B2 (ja) | ||
| WO1994028544A1 (en) | Magnetic recording medium | |
| JPS61145725A (ja) | 高トラツク密度記録可能なフロツピ−デイスク | |
| JPH01217745A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPS5982624A (ja) | 薄膜型磁気記録媒体 | |
| JPH07254128A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6292223A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPS59191130A (ja) | 磁気記録媒体用基材および磁気記録媒体 | |
| JPS63302445A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPS63239614A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JPS63104215A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0414646A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPH0512645A (ja) | 磁気デイスク | |
| JP2001060316A (ja) | 磁気ディスク媒体およびその製造方法 | |
| JPS6116013A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH01253817A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS62109216A (ja) | 垂直磁気記録用媒体 | |
| JPS63113926A (ja) | 磁気記録媒体 |