JPS5816086A - ニッケル複合電気めっき浴及び電着方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は改東電簿組成物及び腐食し鳥い基材金属上に複
合ニッケル含有電気めっ１層を電着して耐食性を与える
方法に関する。複合電気めっき層は、厚さ及びイオウ會
有量を制御した３つの隣接結合ニッケル含有層から成）
、これら層は通常外傷ニッケル層の表面上に従来のクロ
ム被膜を有し、同じ厚さの単−又は二重のニッケル含有
電気めっき層と比較しても基材金属の屋外におけゐ腐食
に対して非常に優れた抵抗性を備えている。このような
複合ニッケル含有電気めっき層は、鋼、銅、黄銅、アル
ミニウム又は鳳鉛Ｏダイカス）０ような基材金属を保譲
するために広く商業的に使用されてお〕、これら基材金
属は利用中に外気にさらされ、ＩＦ＃に船舶及び自動車
の使用条件にさらされるものでああ。このような複合ニ
ッケル含有層はプラスチック基質を使用する場合にも有
利な耐食性を付与することができ、これらプラスチック
基質は周知の技術に従って好適に前処理吉れ、プラスチ
ック基質自体をニッケル電気めりきし易い状態にするた
めに、銅層のような電気伝導被膜を前もって設けたもの
である。電気めっき可能なそのようなプラスチック材料
の代表的なものは、＾ＢＪ５．ポリオレフィン、ポリビ
ニルクロリド、及びフェノールホルムアルデヒドポリマ
ーである。

このような複合ニッケル含有電気めっき層は、プラスチ
ック基質と一緒に用いられる時、鋼基材層の腐食攻撃又
は７ラツシ３−によって生じる、いわゆる「縁の」腐食
斑点を充分に減少し、又は除去する。

このような複合ニッケル含有電気めっき方法及び組成物
の代表的な先行技術は、米国特許第ｓ、ｏｓｏ。

７３３号及び第３，７０３．４４１１号Ｋｌｌ！示され
曵イる。なお、これら特許の内容はこの明細書において
参考までに引・用される。１９６３年５月２１日に発行
された米国特許第３，０９０，７３３号によれば、基質
上に３層状ニッケル含有めっき層を電着する方法が開示
されておシ、この方法の場合、中間ニッケル層を塗布す
る操作浴は、少なくとも中間ニッケル含有層にイオウを
制御した量で供給するイオウ化合物を會み、複合層の間
に必要な粘着性及び下情の基質ＫＩＦ食性を付与するこ
とが意図されている。この方法の改良臘は１９７２年１
１月２１日に発行された米国特許第３，７０８．４４８
号に開示されている。この方法の場合、ニトリル又はア
ミドＯチオスルホネートから成るいずれかのイオウ化合
物が、少なくとも中間層を電着する操作浴中で使用され
ている。

本発明の組成物及び方法は、少なくとも中間層を電着す
る操作浴中においてイオウ化合物を使用している前記２
つ（０４＋１許に開示され１いる組成物及び方法をさら
に改良したものである。なお、これら特許の操作浴は、
めっき速度を増加させ且つ添加物の消費を抑えるため条
件、即ち空気攪拌、高温度および低い−の存在において
浴の安定性を改良しようとするものである。本発明の新
規なイオウ添加化合物はさらに次の利点を有する。即ち
、このイオウ添加化合物は操作浴中で容易に分解されて
、その濃度を最適操作範囲内に保持することかでき、且
つ中間層操作浴から入〕込むイオウ添加物による外側ニ
ッケル含有層めっき用操作浴の汚染は、外側ニッケル含
有層のイオウ濃度に殆んど影響を与えることがない、と
いうことである。

この後者の利点は重要である。なぜならば通常中間めっ
き段階と外側ニッケルめっき段階との間に水洗段階が用
いられることはなく、且つ外側ニッケル層のイオウ含有
量の増加は望ましくなく、最終クロム電着の被覆を妨げ
るからである。

本発明の利益及び利点は、中間ニッケル含有層をめっき
するのに充分な量のニッケルイオン、及びめっきした中
間ニッケル含有層に約Ｏ，ＯＳ〜約ｏｓ’のイオウ含有
量を与える量で存在する構造式（式中、Ｘ、Ｙ及び２は
岡−又は異なシ、ＨｌＭＨＩ　、　０１１１　ｓ　８Ｈ
％　”　ｏゲン化物又は）１０．　テある） のチアゾール化合物並びＫその肉塊な含む酸性水溶液か
ら成る電解質を提供することによ〕、その組成特性に従
って達成される。

中間層におけるイオウ濃度を前記ｏｔｐｉ定範囲内に到
達させるために、チアゾール化合物は通常的０．０１〜
約０．４１／ｌ　（Ｄ量で存在し、約ｏ、ｏｓ　〜約０
．１１／ｌの量が好ましい。また、中間操作浴は任意に
且っ好ましくは湿潤剤及びホウ酸のよ５な緩衝剤を含む
。

本発明の特徴ある方法によれば、前もって電気的に伝導
性にした表面を有する金属基質又はプラスチック基質に
、通常的０ＯＳ−未満の平均イオウ濃度を含む約０．１
ｓ〜約１．ｌＳ（ルの厚さの内側ニッケル含有層が電気
めっきされ、次に約ｏ、ｏｏｓ〜約０．２ミルの厚さ及
び約０．０５〜約０．５％のイオウ含有量の中間ニッケ
ル含有層が電気めっきされ、さらに通常約Ｏｊ〜約ｉｓ
　ｔルの厚さ及び約０．０２〜約０．１Ｂ−のイオウ含
有量の外層ニッケル含有層が電気めっきされる。外側ニ
ッケル層のイオウ濃度は、中間層のそれよ〕も少ないが
、内層のそれよシ４大きい。なお、内層には殆んどイオ
ウがなくてもよい。通常、３つのニッケル含有層のそれ
ぞれはワット（Ｗ亀ｔｔ＃）　ＩＩ　＝ツケルめつき浴
によシミ着され、中間及び外側操作浴は、各層内に必要
なイオウ含有量を付与するのに充分な濃度でチアゾール
添加化合物を含んでいる。各操作浴は、通常約室温（２
０℃）から約８６℃までの温度範囲内で、且つ酸性操作
浴の場合、約１〜６のｐＨ範囲内で操作される。

本発明の他の利益及び利点は、与えられた特別の実施例
に関する次の説明から明らかになる。

複合ニッケル含有電気めっき層は、米国特許第３．０１
１０，７Ｂ！１号及び３，７０８，４４８号に開示され
ている電解質を用いて生成される。少なくとも中間操作
浴におけるイオウ化合物嬬、次に述べる特別な種類のチ
アゾール化合物又はその誘導体から成る。なお、とめこ
とを除いて、前記米国特許の内容は参考までにζζに引
用される。従って、内側ニッケル層をめっきするための
電解質は、従来全知のワット臘ニッケルめっき浴、フル
オロホウ酸塩、高塩化物、スル７アマートニツケルめっ
き浴又は本質的にイオウを含まない牛透明ニッケルめっ
き浴から成っている。中間ニッケル含有層を形成する電
鍔質は、内側ニッケル含有層のめつき用のものと同じで
あるが、さらに中間層に必要なイオウ含有量を付与する
ＯＫ適切な量でチアゾール添加化合物を含んでいる。同
様に、外側ニッケル含有層をめつきする電解質は、チア
ゾール化合物又はイオウ含有化合物の濃度が中間層の場
合よ〕低いイオウ含有量を与えるように制御されている
ことを除き、中間層に用いられたものと同様である。装
飾めっき仕上げを必要とする時、外側ニッケル含有層は
、米国特許第２，５１２．２５１０号の第■表及び米国
特許第λ８００．４００号の第肛表に述べられているよ
うな有機スルホ−酸素化合物の１つ又はそれ以上を用い
て透明ニッケルめっき浴から形成されるのが好ましい。

このスルホ−酸素化合物はレベリング及び光沢を与える
不飽和化合物又はアミンと一緒に使用されるのが好まし
い、また、３つのニッケル含有電解質は、浴に可溶で且
つ適合性のある点食防止湿潤剤、ホウ酸、ギ酸、クエン
酸、酢酸、フルオロホウ酸等の緩衝剤のような従来使用
の任意の成分を含むことができる。

内側ニッケル含有層をめっきするのにふされしい電解質
は、約２００〜約４００１７ｔの硫酸ニッケル・６水和
物、約３０〜約１００ＪＦ／Ａの塩化ニッケル・６水和
物、及び約３０〜約６０１１／Ｌの緩衝剤としてのホウ
酸を含むワラ）ＩＩの浴から成っている。この浴は約１
〜約６の−で約室温（２０℃）〜約８１ｓ℃の温度で使
用される。

イオウ濃度の高い中間ニッケル含有層は、内側ニッケル
含有層の場合に用いられたものと同様であるが次の構造
式のチアゾール添加化合物並びにその内填の約０．０１
〜約ＯＡ１／Ｉ−１好ましくは約０．０３〜約０．１１
／Ｉ−を含む電解質によシめっきされる：−０−Ｎ 式中、Ｘ、　Ｙ及び２は同−又は異なシ、ＨｌＭＨ，、
ＯＨ，、ａｌｌ　、ハロゲン化物又はＮＯＩである。

特ＫｉＩましいチアゾール化合物は、Ｘが２−アミノチ
アゾールを形成する藷、基から成る化合物である。上記
構造式に含まれる本発明において轡に有効な他のチアゾ
ール化合物は、２−アミノ−４−メチルチアゾール、２
−アミノ−４，５−ジメチルチアゾール、２−メルカプ
トチアゾリン、雪−アミノ−５−ブロモチアゾールモノ
ヒドロプロミド；２−アミノ−５−ニトロテアシール等
である。

中間ニッケル含有層Ｏ電解質に加えられるチアゾール添
加化合物の使用量は、採用される化金物の配合物又は混
合物の特定の分子量、電解質中に存在する他の成分の濃
度、浴を使用する時の操作上のパラメーター、及びめっ
きされ為外側ニッケル層におけるイオウの相対的濃度に
よってかなル左右される。従来、チアゾール添加化合物
は、中間層に約Ｏ，ＯＳ〜約０８１１１ｑＩＩ、好亥し
くは約０．１〜約０．２％　Ｋ）イオウ含有量を付与す
るように制御されている。このイオウ含有量は、通常約
０．０１〜約０．４１／ｌ　、好ましくは約Ｏ，Ｓ〜約
０．１１／ｌ　Ｏ濃度のチアゾール添加化合物を採用す
ることｋよｐ達成される。

′外側ニッケル含有層は、このニッケル層自体に約０．
０２〜約０．１　！！重量−の範囲内のイオウな付与す
るように適量のイオウ化合物を含むことを除き、内側層
をめっきするために使用されたものと同様の電解質によ
り電着される。好ましい適切なイオウ化合物は、透明な
梨地ニッケル浴中において従来使用されたもの、例えば
ナトリウムアリルスルホネート、ナトリウムスチレンス
ルホネート、サッカリン、ベンゼンスルホンアミド、ナ
フタレントリスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等である
。

トリアゾール添加物、ニトリル又はア建ドのベンゼンス
ルフィネート及びチオスルホネートは通寝好ましくない
。とＫかく、外側ニッケル含有層におけるイオウ含有量
は、中間層のそれよ〕少ないが内側層のそれよシ多くな
っている。内側層は約０．０３重量慢以下、好ましくは
約０．０１重量−来演のイオウ含有量を有していなけれ
ばならない。

本発明によれば、３層重合ニッケル含有電着層は、通常
連続電気めっき０間に水洗工種を介在せずに連続的にめ
っきされる。複合ニッケル含有層は鋼、ａ銅、ニッケル
、コバルト又はニッケルー鉄合金のストライクを有する
基質に通営めつきされる。内側ニッケル含有層は、通常
約０．１　Ｂ〜約１．１ミルの厚さまでめっきされ、好
ましくは外側ニッケル含有層よ〕亀厚くめつきされる。

複合電気めっき層に最適の延性を付与するためには、外
側ニッケル含有層に対する内側ニッケル含有層の厚さの
比を約１０２８０〜約ｓｏ　：　ｉｏの範囲内とする。

４し基質をめっきすることに４１別困Ｉｌ１問題がなけ
れば、内側層の厚さを外側層の厚さよ〕少なくすること
ができ、例えば約４０２６０の厚さＯ比にすることがで
きる。中間層は従来の態様で約ｏ、ｏｏｓ〜約０．２　
ミルの厚さにめっきされ、次に約０．２〜約り、Ｓミル
の厚さの外側層がめりきされ為。

最適の大気耐食性及び装飾外観を付与するためＫは、外
側ニッケル含有層の上に約ｏ、ｏ　ｏ　ｓ〜約０．２ミ
ルの厚さｏｌ員的な透明の従来のクロムめっき、微小亀
裂めつ１又は微孔質クロムめっきを施すことが通常好ま
しい、使用中にそれ場厳しくない腐食条件にさらされる
基質に対しては、内側および゛外側ニッケル含有層は約
０．１５ミルの厚さのみで、改良した耐食性を有する。

複合めっきから成るニッケル含有層は、従来の量で存在
する他の従来の汚染物を含んでも問題はなく、この汚染
物は電震質内に導入され且つ電気めっき層内に連れ込ま
れる。さらに、コバルトを例えば約ｓｏｂまでの適切な
童でニッケル含有層内に含めることもできる。しかしな
がら、一般的な用途に対しては、内情ニッケル含有層は
できるだけ純粋なニッケルの方が望ましい、というヒと
がわかった。

本発明の改良組成物及び方法をさらに説明するためｋ、
次Ｋ１１ｊｉ１例を挙げる。３１１ｍされるように、実
施例は＾体例として挙げられるもので、前記され且つ特
許請求の範１１に述べられた発明の範囲を限定するもの
ではない。

＊＊　　　ｔ ワラ）Ｉにニッケルめつき溶液から成る試験５ｉｌｌム
が調整され、との＊＊は、３．８リツトル（１ガロン）
！Ｉシ約ｔ、１ｓｓＩ（４０オンＸ）の硫酸ニッケル・
６水和物、３．８リツトｌ＆Ｉ（１ガロン）轟カｚ２ｙ
ｐ（１オンス）の塩化ニッケル・６水和物及び３１リツ
）ル（１ガロン）　４ｍ　Ｊ７１．７０４Ｆ　（６０オ
ンス）のホウ酸を含む。試験滴液ムＯ８ＧＧ　＜　９１
７ツトルが、空気攪拌機を備えた１リットル容ｌＩＫ加
えられる。試験溶液ムのｐＨｉｊ　２．Ｂ　Ｋ調節され
且つ温度は６０℃（１４０″Ｐ）Ｋ高められる。ジヘキ
シルスルホサクシネートから成る湿潤剤の７１ｎ／Ｌが
試験溶液五に加えられる。

試験溶液Ｂ　＄　２８ＩＩＰ３　（２，５Ｘ１０−’％
＃／Ａ　）　Ｃ）　２−アミノチアゾールを試験１１１
ｍＡＫ加えることにより調整される。ニッケル箔が試験
溶液ＢＫよｐめっきされ、化学分析によｊ）　０．１０
１Ｓ％のイオウを含んでいることがわかる。

ニッケル箔は、５．１ｍ＋　（！１インチ）ｘｉ（ｍ（
４インチ）のスチールパネルをアルカリ性洗浄剤中で電
気分ｔｓＫよシ洗浄し、次に水洗、および硫酸の２０−
溶液中におけゐ酸浸漬によシ調整される。酸浸漬したパ
ネルは、その後水洗され、ウッド（Ｗｏｏｄｇ）ニッケ
ルストライク中でめっきされてニッケルストライク層を
形成する。得られたパネルは、アルカリ性洗浄剤中にお
いて１〜２秒の間パネルを陽極電解することによ〕不動
態化される。その後、パネルは４５ＡｊｉＦ（ａｍｐ＠
ｒｅｓ　ｐ＠ｒ　＠ｑｔｌ＆ｒ＠　ｒｏｏｔ）の電流密
度で３６分間試験溶液Ｂ中でめっきされる。その後、パ
ネルは水洗及び乾燥され、縁部が切断され、得られたニ
ッケル箔が取り出される。

＠’ａ 試験溶液Ｏが、実施例ＩＫ述べられた方法に従つ”Ｃ４
ＧＱＦ／Ａ　（４，ＯＸ　１０−’　％ｌ＆ｐ／　Ｌ　
）を試験溶液五に加えることによシ調整される。ニッケ
ル箔が実施例１の方法を用いて調整され、分析によＪ）
　０．１１８２９１のイオウを含んでいることがわかる
。

試験溶液Ｄ　ｆｉｌ　ＢＯＩｆ／ｌ（８ｘ　１０−’！
＃／ｊ　）　０２−アミノチアゾールを試験溶液ムに加
えることＫよ〕調整され、またニッケル箔が実施例ＩＫ
述べられた方法を用いて＊＊される。箔のイオウ含有量
は、化学分析によればｏ、ｓｏｓｇ　ｏ渋皮である。

肚（ 実ｊｌｌｆ１２において述べたような試験５ｉｉｏが調
整され且つ実施例ＩＫ述べられた条件の下で使用され、
１．−（ＩＪ！Ｉｓインチ）　Ｘ　１．１Ｓｈ（８イン
チ）のスチールパネルをめっきする。なお、このスチー
ルパネルは、極端に低い電流密度領域を生成するために
一端におい′Ｃ巻締されている。パネルのめつきは８０
ＡＩＦ　において７分間行なわれた。得られたニッケル
めっき層は、低い電流密度領域から高い電流密度領域に
わたって良好な被覆状態を有し、半透＠Ｏ光択のある外
観を示す。

前記実施例において述べられた試験溶液１．０及びＤは
、電解質として大変満足なものであル、イオウ濃度を約
Ｏ，ＯＳ〜約Ｏ，Ｓ重量−〇望ましい範囲内忙設定する
ようにニッケル含有中間層をめっきする。チアゾール添
加化合物は、電解質の改真安定性及び高速めつき処理の
利点を提供するのみならず、外側層用電第質への中間層
用電解質の連れ込みの結果による性能及び外側ニッケル
含有層のイオウ含有量への影響を殆んど引き起こさない
。

このようなア建ノチアゾール添加化金物を使用す・ゐ時
、−の増加を伴ってイオウの含有量が少なくなることが
わかった。従って、約Ａｌｌ　４０　ｐｌｉ　Ｋおける
中間層電解質の操作は、中間層に満足なイオウ含有量を
付与する。しかしながら１通常約３．５〜約４、！Ｓの
ｐＨにおいて外側ニッケル含有層をめっきする透明ニッ
ケル電解質への添加物の連れ込みは、透明ニッケル外側
めつき層のイオウ含有量をそれ糧増加させるものではな
い。

前記利点をさらに立証するために、実施例冨の試験溶液
ｏＯｐＩ！が３から４に増加され、１４８テの浴温度を
ｉ用し４ｓム８１の電流密度でＳＳ分間空気攪拌の存在
の下で、ニッケル箔がめつきされた。

各ｐＨ値において得られた箔のイオウ含有量が化学的に
分析され、各ｐＨ＠におけるニッケル含有めっき層中の
イオウの重量％は次の表に述べられていゐ。

ｐＨ差２１け９す！見 ２．０　　　　　　　　　　　　　　　０．１７０Ｌｌ
＄　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１Ｂ＠３．
０　　　　　　　　　　　　　　　　　　Ｇ、１１７ｓ
、ｓ　　　　　　　　　　　　　　　　ｏ、ｏｓｓ４．
０　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０７０前記
表に述ぺられているデータから明らかなよ５ｔＣ，電気
めっき層におけるイオウのパー竜ントは、明らかにｐＨ
の増加と共に減少している。

１１４２の分子量の２−アζノー４−メチルチアゾール
の２ＢＴＩｌ／ｌ　（１５Ｘ　１０−４１＃／　Ａ　）
、Ｓｌｙ／２　（！１ｘ　ｔｏ−’　ｓ＆ｐｖ／　Ｌ　
）および１ｏｏ＃、／Ｌ（Ｉ　Ｘ　１０″”＊ｗ／Ｌ）
をそれぞれ実施例１０試験溶液ムに加えるこ七により、
試験１１１１１ｍ、ＦおよびＧが調１１された。

黄銅外観パネル及びニッケル箔は、約士！Ｉ″ＰＯ温度
で２．５のｐｉｔで空気攪拌の存在で試験溶１１　Ｋ、
？及び０のそれぞれによ１めっきされる。なお、各溶液
は７５ｑ／Ａの湿潤剤ジヘキシルヌルホスクシネートを
含んでいる。　　！ＩＪａａ　（１インチ）　ｘ　１１
２ａｓ　（６インチ）の黄銅外観パネルは、最初アルカ
リ性洗浄液中で電気分解によ）洗浄され、低電流密度領
域を形成するために一端において巻締され、水洗され、
２Ｇ−の硫酸溶液中に酸浸漬され、水洗され、その後。

試験溶液中で約４ＯＡ８ＦでＳ分間めっきされる。その
後、この黄銅外観パネルは巻出され、めっき層全体が高
い電流密度領域並びに低い電流密度領域の外観並びにめ
つき層の粘着性について評価される。実施例１において
述べられているように調整されたニッケル箔もまたイオ
ウ含有パーセントを求めて分析された。

試験湊液冨によシめっきされたニッケル箔はｏ、ｏｓｓ
−ｏイオウ含有量を有していた；試験溶液νによプめっ
きされたニッケル箔は０．１８４１１のイオウ饋度を有
していた；試験溶ｍｅによ〕めっきされたニッケル箔は
０．４３４−のイオウ浸度を有していた。

各試験溶１［において生成されたニッケル電気めっき層
の外観は良好であシ、また基質に対するニッケが層の接
着は満足なものであった。

１１五−１ 実施例５と同じ方法を利用し、１０９．１の平均分子量
の２−アミノ−４，８−ジメチルチアゾールヒドロプロ
建ドから成る同じグラムモル濃度の別個のチアゾール添
加化合物を用いて、　Ｒ，Ｉ、Ｊとして表わされた一連
の試験溶液が調整され、試験溶液ＨＫ　８０＊／ｊ　、
試験溶ＩＩＩ　Ｘ　Ｋ　１００雫／を及び試験溶液Ｊ　
Ｋ　２００Ｗｔの対応する濃度を与える。

これらの試験溶液からめつきされたニッケル箔は、分析
によシ、イオウ含有量が試験＠＠Ｎｏ場合ｏ、ｏ＊ｓｌ
　、試験溶＠ＸＯ場合０．１７８９１、試験溶液Ｊ。

の場合ｏ、５２ｓｌである。それぞれの場合、黄銅外観
パネルは良好な外観を有してお〕、またニッケル含有層
は満足な接着性を有していた。

皇１碧−ユ １１１１Ｊの分子量の２−メルカプトチアゾリンの２８
１１７ｔ％５０７１１／を及び１００！／ｊをそれぞれ
実施例１０試験溶液ムに加えることによシ、実施例１５
において前述したものと同じ分子一度で、一連の試験溶
ｉ１　Ｋ、Ｉ、及び輩が調整される。実施例ＩＮＫ述べ
られた方法に従って調整されたニッケル箔及び黄銅外観
パネルＫ１１ｌ、、分析及び観察によれば、試験１１１
ＥＫＫよりめっきされたニッケル箔のイオウ濃度は０．
３４１１９！、試験溶１ｌＩＩＬＫよシめっきされたニ
ッケル箔のイオウ濃度は０Ｊ９６嘔、および試験溶液Ｍ
忙よりめっきされたニッケル箔のイオウ濃度は０．８４
８−であった。明らかなように％前記実施例に述べられ
た化合物と同じ分子濃度のこの添加化合物を使用すると
、前記ニッケル層のイオウ含有量を通常望ましいレベル
まで増加させ、複合めっき層の被覆外側ニッケル層を満
足に接着させる。それＫもかかわらず、パネルの一般的
外観は満足な亀のであ〕且つ接着性も良好であった。

実施例　８ 実施例５と同様の方法で、ｌ！施何例１試験溶液ムに対
応する分子濃度の２−アさノー５−ブロモチアゾールモ
ノヒト霧プロミドを加えることＫよシ、一連の試験溶液
Ｘ、Ｏ及びＰが調整され、これら試験溶液Ｈ，Ｏ及びＰ
の濃度をそれぞれｓｔ８ｓｗ／ｊ、１２６Ｗｔ及び２５
０ｑ／ｌとする。実施ｆ４ＢＫ述ベラした方法を用いて
、黄銅外観パネル及びニッケル箔が調整され、これらに
ついて観察及び分析が行なわれる。試験溶液ＮＫよシめ
っきされたニッケル箔は、分析によｊ）０．１１２％の
イオウな含んでいることがわかシ；試験溶ＩＥＯＫよる
ニッケル箔は０．１？！−のイオウを含み、一方試験溶
液ＰＫよ〕めっきされたニッケル箔は０．５８４１１の
イオウを含んでいる。

各試験パネルの外観及びニッケル層の接着性は満足なも
のである。

実施例　９ １４４１の分子量の２−アミノ−器−ニトロチアゾール
を実施例１０試験液五に同じ分子濃度を加えることｋよ
）、一連の試験溶ＩＩ　Ｑ、Ｒ及びａが調整され、この
添加物の対応する濃度を試験溶１１１ＥＱにおいて３７
，６ダ／１．試験溶１ｌＲＩｃおいてフロｗｐ／Ｌ　。

及び試験溶液ｓにおいて１　！ｉ　０ｓｗ／Ａとする。

実施例５に述べられたパラメーター及び方法に従って、
これら３つの試験溶液を用いて調整されたニッケル箔及
び黄銅外観パネルは、ニッケルめっき層の外観は良好で
あ夛且つ接着性は満足なものである。

試験溶液ＱＫよシめっきされたニッケル箔は００１１！
−のイオウ含有量を有し、試験溶液１１によ）めつきさ
れたニッケル箔は０．１１２９６のイオウ含有量を有し
、一方試験溶液ＢＫよりめっきされたニッケル箔は０．
５４嗟のイオウ含有量を有する。

開示された発明の好ましい異体例が前記目的を充分に＠
たすものであることは明らかであるが、本発明は轡許請
求の範囲から逸脱することなく変化及び変更が可能であ
る。

手続補正書０栽２ （特許庁審査官 １、事件の表示 複合ニッケル層の組成物及びその電着方法３、補正をす
る者 事件との関係　出願人 氏名（名称）　　オクンデンタル・ケミカル・コーポレ
ーション４、代理人 住所　東京都港区南青山−丁目１番１号５、補正命令の
日付（自発）

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. （１）ニッケル含有層をめっきするのに充分な量のニッ
   ケルイオン、及びめっきしたニッケル含有層に約０．０
   ５〜約ＯＳ重量−のイオウ含有量を与える量で存在する
   構造式 （式中、Ｘ％Ｙ及び２は同−又は異なシ、ＨｌＭＷ、　
   、ＯＲ，、８１，ハロゲン化物又はＮＯｌである） のチアゾール化合物並びに七Ｏ内塩な含む酸性水溶液か
   ら成る、複合ニッケル含有風気メッキ層を電着するのに
   望ましい電気めっき浴。
2. （２）　　前記チアゾール化合物が、めっきしたニッケ
   ル含有層において約０．１〜約０．２重畳−のイオウ含
   有量を与える量で存在することを特徴とする特許請求の
   範囲第１項記載の電気めっき浴。
3. （３）゛前記チアゾール化合物がアミノチアゾール化合
   物であることを特徴とする特許請求ＯＩＩ＠Ｉ第１項記
   載の電気めっき浴。
4. （４）前記チアゾール化合物が２−アζノチアゾールで
   あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の電気
   めっき浴。
5. （５）　　前記チアゾール化合物が２−アミノ−４−メ
   チル−チアゾールであることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載の電気めっき浴。
6. （６）前記チアゾール化合物が２−アミノ−４，８−ジ
   メチルチアゾールであることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載の電気めっき浴。
7. （７）前記チアゾール化合物が２−メルカプトチアゾリ
   ンであることを特徴とする特許請求ＯＳＳ第１項記載の
   電気めっき浴。
8. （８）前記チアゾール化合物が２−アセノー６−プｃ１
   モチアゾールモノヒドロプロζドであることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の電気めつき浴。
9. （９）前記チアゾール化合物が２−アミノ−６−二シロ
   チアゾールであることを特徴とする特許請求の範囲第１
   項記載の電気めっき浴。 ａｔｔ　　前記チアゾール化金物が約０．０１〜約０．
   ４＃／Ａ。 量で存在することを特徴とする特許請求の範囲第１項記
   載の電気めっき浴。 ａＤ　　前記チアゾール化金物が約０．０３〜約Ｑ、１
   １／ｌの量で存在することを特徴とする特許請求の範囲
   第１項記載の電気めっき浴。 ａ３特許請求の範囲第１項から第１１項のいずれかの組
   成物の酸性水溶液によ〕基質上にニッケル含有層を電気
   めっきする段階から成る、複合ニッケル含有電気メツキ
   層を電着する方法。 Ｉ　基質上に約Ｑ、１５〜約１．！ｌ　４ルの厚さ及び
   約０．８−未満の平均イオウ含有量の内側ニッケル含有
   層を電気めっきし、この内側層上に約ｏ、ｏ　ｏ　ｓ〜
   約０．２ミルの厚さ及び約ｏ、ｏｏｓ〜約０．８１ｊの
   平均イオウ含有量の接着中間ニッケル含有層を電気めっ
   きし、この中間層の上に約０１〜約１．ｓｔルの厚さ及
   び約０．０２〜約０．１１Ｓ％の平均イオウ含有量の接
   着外側ニッケル含有層を電気めっきする仁とから威力、
   前記外゛側層は、前記中間層よシイオウＯ含有量が低く
   且つ前記内側層よ〕イオウＯ含有量が高く、前記中間層
   は、４１許請求の範囲第１項から第１１項のいずれかに
   記載の酸性水溶液により電着されることを特徴とする、
   基質上に複合３層ニッケル含有層を電着する方法。