JPS5817108A - ポリビニルメチルホスフィン酸及びその製法 - Google Patents

ポリビニルメチルホスフィン酸及びその製法

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JPS5817108A
JPS5817108A JP57116334A JP11633482A JPS5817108A JP S5817108 A JPS5817108 A JP S5817108A JP 57116334 A JP57116334 A JP 57116334A JP 11633482 A JP11633482 A JP 11633482A JP S5817108 A JPS5817108 A JP S5817108A
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    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F230/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規のポリマーであるノリビニルメチルホスフ
ィン酸、その製法及びそれをオフセット印刷版の製造に
使用することに関する。
燐含有基で置換されている有機ポリマー及びその製法は
既に公知である。例えば、ビニルホスホン酸ジクロリド
から液体〜固体のポリマーを製造することは、西ドイツ
特許第1032537号明細書(英国特許第86504
6号)に記載されている。西ドイツ特許第110696
3号の発明は、ビニルホスホン酸を重合して非常に粘稠
性〜硬く、澄明かつ殆んど無色の生成物として得られる
?リビニルホスホン酸を得る・方法に関する。これは水
、アルコール及び多価アルコール例えばグリコール類、
グリフールエ−チル類、ポリグリコール又はグリセロー
ル及び他の溶剤中に容易に溶け、多かれ少なかれ粘稠性
の溶液を生じる。
ポリビニルホスホン酸は顕著な膜形成特性をも有する。
ビニルホスホン酸から形成さ′れるこの型、のポリマー
は、プラスチック用中間体として、かつ防炎剤、繊維助
剤及び湿潤剤及び乳化剤の製造にかなり重要である。こ
れらは金属表面上に腐蝕防止の目的で被膜を形成するた
めにも使用される(西ドイツ特許第11871004明
細書参照)。更にポリビニルホスホン酸は平版印刷版(
オフセット印刷版)の製造にかなりの重要性を有する。
この型の印刷版は、T真製版法でオリジナルの像を形成
する目的で感服射線複写層を施こした支持層よりなる。
印刷版がこのようにして製造された後に、支持層はイン
キ受容性の像域を有し、同時に像の′ない領域上に像に
対する水受容性の・セックグラウンド(像のない域)を
形成する。
従って、印刷版製造用の感光性材料にとって好適な支持
層から、一方では、材料の複写層から現像すれた印刷す
べき像域が後者に堅固に付着し、他方では、この支持層
が親水性の像・セックグラウンドを成し、印刷法の多く
の要求下に親油性印刷インキに対する反発作用の影響を
失な−わないことが要求される。従って、この支持層は
、常にある程度多孔性である表面構造を有し、従ってそ
の表面は、印刷工程で使用さiる印刷インキに対して充
分な反発作用を有するように充分な水を保留することが
できる。
この型の支持層を會るために使用される基材は、アルミ
ニウム、鋼、銅、真ちゅう又は亜鉛筋であってよい。こ
れら材料は、適当な操作例えば砂目室て、鈍いクロムメ
ッキ、表面酸化及ff/3(は中間層の施与により、オ
フセット印刷版用の支持層に変えられる。
今日おそらく最も屡々オフセット印刷版用基材として使
用されているアルミニウムを公知方法により乾燥プラシ
ング、湿式ブラシング、砂目室て又は化学的又は電気化
学的処理により表面粗面化する。その剥離抵抗を増すた
めに、粗面化された基材に付加的に酸化物の薄層を形成
するための陽極酸化工程を施こすことができる従来の技
術水準によれば、この型の陽極酸化された支持材料に、
層の付着性を改良し、その親水性を増加し、かっ/又は
感光性接写層の現像性を促進するための処理工程を施こ
すことは慣用のことである。シリケート化(西rイッ特
許出願公開第2532769号=米国特許第39029
76号明細書)及び弗化物錯体での処理(西ドイツ特許
出願公告筒1300415号=米国有許第344005
0号明細書)又はポリビニルホスホン酸での処理(西ド
イツ’%許第1134093号=米国特許第32768
68号明細書)等の方法が、特にこの特許文献中に記載
されている。
しかしながら、前記の方法は、多がれ、少なかれ欠点を
有し為こうして製造した支持材料は屡々オフセット印刷
の現在の要求にもはやそぐわない。例えば、現像特性及
び親水性に関して良好な可能性を生じ゛るアルカリ金属
シリケートでの処理の後には、これに施こされた感光層
の貯蔵安定性のある種の損失を甘受する必要がある。
支持材の後処理のためにポリビニルボスボン酸を用いて
、複ず及び印刷技術の観点から良好な特性を有する印刷
版を生じるとしても、支持材料上へのポリビニルホスホ
ン酸の沈着は製造技術に関して困難を生じる。これらの
困難は、At+3カチオンにより生ぜしめられ、これは
1先の処理工程で、原則的にH2SO,及びAt2(S
o、)3を含有する電解液中での陽極酸化工程で、表面
゛に達し、完全なリンスによっても除去は困難かつ不完
全にのみ可能でありうる。ポリビニルホスホン酸はこれ
らAz+3イオンと反応して極めて低い可溶性の沈殿を
形成する。この沈殿は、完全ナリンスによっても除くこ
とのテキナい白色粉状層の形で支持材を被覆する。この
粉状粒子は、感光層での被覆などの早い工程で湿潤化の
問題を生じるか又は、後に、現像又は印刷の間に層を噴
出させることがありうる。この型の問題は、生産技術の
点でかなりの経費によってのみ抑制することができる。
ポリビニルホ”スホン酸で処理された支持材料は、被覆
しない萩態で貯蔵すると、老化現象を示す傾向がある。
この老化現象は、支持材料の製造のかなり長時間後の親
水性の低下(インク反発作用の低下)及び被覆として施
こされているだけのネがチブ作用感光層の現像に関する
低下された能力に現われる。
ポリビ=にホスホン酸のもう1つの用途は、西ドイツ特
許第1121632号(−米国特許第3108535号
)明細書に記載のオフセット印刷版の湿潤剤及び浄化剤
への添加物である。
この種の湿潤剤(永久溶液)は、印刷法の間に連続的に
印刷版に到達して、版の印刷されるべきでない部分モイ
ンク吸収及び不所望の撥水性から保護すべきである。
本発明の目的は、特に、公知処理剤の前記欠点をさ−け
基か又は減少するような方法でオフセット印刷版用の支
持材料を処理することを可能とする新規の水溶性ポリマ
ーを得ることである本発明はポリビニルメチルホスフィ
ン酸に関する。
これは、西ドイツ特許出願公開第2344332号及び
同第2646.582@明細書に2記載の方法で製造で
きるビニルメチルホスフィン酸の重合により得られる。
ビニルメチルホスフィン酸の重合は、有利に、加温及び
/又はUV線照射時に遊離ラジカ′ル形成可能な触媒の
存在で実施することができる。この方法は、−10〜+
35.0℃の間の温度で実施できるが、適当な場合には
例えば真空中で又は不活性ガス雰囲気中でより高い温°
度を使用することができるか又は、適当な場合には、開
始剤系及び溶剤を用い、更に低い温度も使用できる。し
かしながら、遊離□ラジカルを形成することのできる触
媒を用いるか、かつ/又はUV線の照射により実施する
場合は、この重合の 。
実施のために+5〜+130℃の間の温度範囲を選択す
るのが有利である。
場合によっては、特にビニル、メチルホスフィン酸を主
として熱の作用に上って重合する場合は、+175℃よ
り高い温度で反応を実施するのが有利である。
好適な触媒は(特に、ビニルメチルホスフィン酸中でそ
れ自体可溶性であるか又は有機溶剤中に可溶であるか又
は水中にも可溶でもある化合物例えば被ルオキシP類、
°例えば過酸化Rンゾイル、過酸化トルイル、ジ−t−
ブチル(ルオキシド、過酸化クロルベンゾイル及びメチ
ルエチルケトンペルオキシP及びヒPロペルオキシrの
有機誘導体及び過酸化′水素、過硫酸カリウム、過カル
ぜン酸塩、更にアゾビスイソブチロニトリル、スルフィ
ン酸類例えばp−メトキシペンぜンスルフイン酸、イン
アミルスルフィン酸又はベンゼンスルフィン酸及び適当
な場合には、この型の種々′の触媒相互の及び/又はロ
ンガリット又は亜硫酸塩とを含有する混合物である。示
に付加的に、′適当な可溶性の形の重金 。
属化合物を促進剤として使用することもできる一般に、
触媒はビニルメチルホスフィン酸モノマーの重量に対し
て約0.01〜10%有利に0.1〜6%の量で使用さ
れる。重合は、ブロック重合又は溶液重合で実施できる
遊離酸の代りにビニルメチ、ルホスフイン酸の塩を重合
することもできる。この範ちゅうに入ル塩ハ、ビニルメ
チルホスフィン酸とアルカリ金属の酸化物及び水酸化物
との反応により製造できるものである。
ポリビニルメチルホスフィン酸を毛細管中で加熱する場
合、この管の上方の冷部での凝縮物の形成は、160〜
230℃の温度で現われる。240〜245℃でポリビ
ニルメチルホスフィン酸は融解して〕澄明な融液を生じ
る。温度が280℃を越えると、分解が起こり、暗色と
なる。
10%塩化ナトリウム中のポリビニルメチルホスフィン
酸の5%溶液の25℃での相対的粘度はウベローデ(u
bbelohde )粘度計で測定して5.8である。
測定されたR8V値−(= reclucetlspe
cific visc、osity ;還元比粘度)、
は、3.5〜5.0 ml/fIの間である。
ポリビニルメチルホスフィン酸(PVMPA )は水に
易溶性である。1価のカチオンを有する水中に易溶性で
ある塩のみを形成するポリビニルホスホン酸とは反対に
、ポリビニルメチルホスフィン酸と1価の、2価の及び
多価の陽イオン例えばNa+、計、NH4+、gtaN
+、モノジアゾニウムカチオン、ビスジアゾニウムカチ
オン、ポリジアゾニウムカチオン、Mg++、Oa”、
Ba++1Fe++又はco  との反応の生成物は水
中に易溶性であ++ る。3価の陽イオン例えばAt3+又はFe”+との反
応生成物は1価又は2価の陽イオンとの反応生成物より
も低い可溶性であるが、これらはなお水中で明白な溶解
層を示す。相応するポリビニルホスホン酸化合物に比べ
たポリビニルメチルホスフィン酸のアルミニウム化合物
の明瞭な高溶解度の結果として、ポリビニルメチルホス
フィン酸をオフセット印刷版の支持層の浸漬処理で使用
する際には、先に記載の沈殿は形成されない。
有利な適用分野、平版印刷版用の支持層を形成するため
の基材の処理において、ポリビニルメチルホスフィン酸
は0.1〜1%の濃度の水溶液として使用するのが有利
である。
ポリビニルメチルホスフィン酸での処理は有利に、基材
を浸漬するか又は基材片をこの溶液の浴に通すことによ
って実施される。20〜95℃、有利に26〜70℃の
、温度及び2秒〜10分、有利に10秒〜3分の保留時
間は、この方法の実施に・とって最も有利である。浴の
温度を高−めると、基材上′へのポリビニルメチルホス
フィン酸の化学吸着を促進する。、このことは、特に片
の処理において、保留時間をかなり減縮することを可能
とする。この浸漬処理に引続き水でのすすぎ工程を行な
う。この方法で処理された基材を、次いで110〜13
0℃で乾燥させる。
ポリビニルホスホン酸と比較したこの新規ポリマーが提
供する決定的利点は、前処理した基材に施こすことをか
なり促進されることである。ポリビニルメチルホスフィ
ン酸とアルミニウムイオンとの反応生成物の非常に高い
溶解度(高溶解性生成物)の結果として、ポリビニルホ
スホン酸とは対照的に、アルミニウムイオンで汚染され
ているアルミニウムシートを処理する際に問題となる前
記の沈殿は形成されない。ポリビニルメチルホスフィン
酸で処理されたアルミニウム支持体は意外にも、ポリビ
ニルホスホン酸で処理された支持体に比べて、被覆され
ていない状態での貯蔵時に明確に増大した安定性を示す
。このことは、この方法で処理した支持材料をフィゾー
オン法(wipθ−on procθss )に使用す
る可能性即ち、感光性コーティングが回復されている支
持層の数種の印、刷版を得るための多くの用途を開発す
゛る。
特に2価又は多価の、陽イオンを含有する複雑な性質の
生成物の構成成分としてのポリビニルメチルホスフィン
酸の他の可能な有用性は西Pイツ特許出願第31266
36.3号明細書に記載されており、[オフセット印刷
版に親水性を与える支持材料、その製法及びその用途:
 Supportmaterials、which  
have  been  rendered  hyd
ro−philic  、for  offset  
printing  plates  、a  pro
−cess  for  their  manufa
cture ’* and  their  use」
なる名称で本発明と同時に出願されている。
要約すれば、ポリビニルメチルホスフィン酸の薄い表面
層を有する支持材料は、良好な親水性、複写層への付着
性の良好な増大及び複写及び印刷技術の点からの良好な
特性において顕著であり、かなり容易に製造できること
が記載されている。
例 例中に引用した測定デニタは、国際SI系の次元に相当
する。特にことわりのないかぎり、「%」は1重量%」
である。重量部は「?」で、容量部は[ml Jで示す
。粘度データ「相対粘泣」及び[R8v(=還元比粘度
)」は、ポリマー成分の特徴付けのために専門文献に慣
用のデータであり、この点に関しては特にG、シュルツ
(5chulz )のゾラスチ゛ンク(Die ’ku
nststoff :plastics ; earl
 Hanser Verlag、 Munich195
9年)、143頁に記載されている。
例1 無水酢酸エチル15QmJを、まず保護ガスとしてのア
ルザン気下に、ゾロペラ攪拌機、満願ロート、還流冷却
器及び温度計を備えた口頚フラスコ中に導入した。別に
、アゾビスイソブチロニトリル4.8y−を無水酢酸エ
チル1oo=e中に溶かした。僅かな不溶粒子の濾去の
後に、この溶液にメチルビニルホスフィン酸160y−
を添加し、これを、更に酢酸エチル5Qmlで稀釈し、
溶液を満願ロート中に注いだ。満願ロート中の内容物を
一様な速度で、3時間がか′って丸゛底フラスコ中のエ
ステルに添′加し、これを加熱沸騰させ攪拌した。約2
時間後に、ポリマーは微細な白色粉末として沈殿しはじ
めた。滴加が完了したら、反応混合物を□還流乍に更に
1時間加熱し、この間一様な速度で攪拌する。Wi細な
結晶質粉末を、室温で、ガラス7リツト上で吸引濾取し
、水冷酢酸エチル数mlで3回洗浄し、かつ室温で厳密
に乾燥させた。
141、55’の収量は、理論量の88.4%に相当す
る。母液をその量の半分まで濃縮することにより更にポ
リ”マー酸’4.6 Pが得られ、従って全収率は理論
量の91.3%に相当する。
最終液体は、詳細には特性付けられていなし・オリーf
マー性油状物より成っていた。
酸基は平行ノ々ツチ中で、水中にメチルビニルホスフィ
ン酸(MVPA)及びポリビニルメチルホスフィン酸(
pvM、pA)の分析的に純粋な試料を溶かし、過剰の
0. I N NaOHを添加することにより滴定した
。次いでこの溶液をQ、INHc!tをμいてフェノー
ルフタレインに対して逆滴定した。理論的に予測される
OH基の含分に相対して、次の結果が得られた: 滴定によりfIQ定されたOH基pノξ−センテージM
VPA     ’98.04%  ;   98.4
6%PVMPA   85.42% ;  84.65
% −′小・々ツチ(1a%lb及びlc)の結果を次
表に示す: 第  1  表 1a ’2 50.052.53.568.51b 2
0500.31.5554.24.71c 20500
.63.0581.14.3例2 厚す0.3gagの広幅巻きアルミニウム片をアルカリ
ビックリング液(溶液1を当りNaou、 20 fF
の水溶液)で約50〜70℃の高めた温度で脱脂し゛た
。アルミニウム表面の電気化学的粗面化を、西ドイツ特
許出願公告第2234434号明細書記載の方法で設置
された交流装置を用いて、HNO3を含有する電解液中
で実施した。この際RZ値6μを有する粗面が得られた
。引続く陽極酸化を西ドイツ特許出願公開第28113
9.6号明細書に記載の方法で、硫酸含有電解液中で実
施した。酸化物層の重量は:s、oy/rrlであった
こうして得たアルミニウム片を次いで60yに加温し、
ポリビニルメチルホスフィン酸の0゜5%濃度溶液より
成る浴に通°した。洛中の保留時間は20秒であった。
次いで、過剰の溶液をすすぎ工程で水で除去し、片を1
00〜130℃の温度での熱気で乾燥させた。
この支持体に次の溶液をコーティングし乾燥させて平版
印刷版を製造した: 85%燐酸             3.4重量部ベ
ンジルトリ、メチルアンモニウムと ドロキシドの存在で、1000より テトラヒドロフラン          30.6重量
部及び ネカチブマスクを通す露光の後に次の溶液を用いて現像
した: N  So ・1’OH2O2,8重量部a2   4 MgSO4・7H202,8重量部 85%オルトホスホン酸         0,9重量
部亜燐酸                0.08重
量部ノンイオニツク湿潤剤          1.6
重量部ベンジルアルコール          10.
0重量in−ゾロノξノール           2
0.0重量部水                  
60.0重量部こうして得た印刷版は、迅速に現像でき
、ぼやけかない。像のない部分は、非常に良好なインク
反発性で識別された。水滴と接触角度を測定すると、コ
ーティングされ、ていない材料に対しては43°の値で
あった。 こうして得た印刷版の印刷数!;;2000
00であった。
例3・ 例2により処理したアルミニウム片に次の溶液をコーテ
ィングした: クリスタルノ々イオレット         o、oa
重量部及び エチレングリフールモノメチルニー このコーティングされた片を120℃までの温度で乾燥
路中で乾燥させた。こうして得た印刷版をポジチブオリ
ジナルの下で露光し、次の組成の現像剤で現像した: メタ珪酸ナトリウム・9 H2O5,,3重1g燐酸三
す) IJウム・12         3.4重量部
無水燐酸二水素す) IJウム        ゛0.
3重量部及び 水                   91.0重
量部得られた印刷版は複写及び印刷技術の観点がら欠点
がなかった。
像のない個所は良好なインク反発作用を有し、、)作用
は印刷機中−c、)迅速印刷をすi印刷版中に現われた
。印刷数は100000より多かった。
例4 例2で処理したアルミニウムシートに次の溶液をコーテ
ィングした: 中に溶かした この層に暗所で、コロナ放電により約400ゼルトの負
電荷を与えた。1荷電した版を複写カメラ中で露光し、
次いで、185〜210℃の沸騰範囲を有するイソ・に
ラフイン混合物1200 ml中のペンタエリスリトル
樹脂7.51の溶液中に硫酸マグネシウム3.01を分
散させること、により得た電子写真用懸濁現像剤で現像
した過剰の゛現像液が除去された後に、版を次の組成の
溶液中に60秒間浸漬させた: メタ珪酸ナトリウム・9. H2O35重量部グリセロ
ール             140容量部エチレン
グリフール           55o容量s及び エタノール               140容量
部次に版を水の激流ですすぎ、この工程でトナーで覆わ
れなかった光伝導層の領域を除去した。こうして、この
版は印刷準備完了された。
こうして得た平版印刷版は、像のない領域その非常に良
好なインキ反発作用を有した。
比較例・C工 例2の記載と同様に電気化学的に粗面化し、かつ陽極醸
化処理したアルミニウムシートを0゜5%ポリビニルホ
スホン酸水溶液中に55℃で゛30秒間浸漬した。次い
で、過剰の溶液をすすぎ工程で水で除去し、基材を10
0〜130°Cの熱空気で乾燥させた。平版印刷版の製
造のために、この支持体に、例2に記載の感光層をコー
ティングし、そこに記載と同様に更に処理を行なった。
水滴との接触角度を測定すると、コーティングされなか
った材料で43°の値・を示した。この支持材料を3ケ
月間にわたり貯蔵すると、この値j163°に増大し、
 ポリビニルホスフィン酸で処理した材料の場合には、
3ケ月後に測定したこの値は49°であり1 接触角度
は、貯蔵期゛ 間中殆んど変らずに残った。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、  、t?ノリビニルメチルホスフィン酸2、 ポ
    リビニルメチルホスフィン酸を製造するために、一般式
    : %式% 〔式中Xは水素又はアルカリ金属を表わす〕のビニルメ
    チル声スフィン酸モノマー゛及び/又はそ−の塩を、適
    宜、不活性稀釈剤又は溶剤の存在下に、重合を開始させ
    る遊離ラジカルの触媒作用及び/又は電磁線の作用及び
    /又は加熱により、重合させることを特徴とするポリビ
    ニルメチルホスフィン酸の製法。 3、中性の極性有機溶剤に属し、無水である有機溶剤を
    重合のために使用する、特許請求の範囲第2項記載の方
    法。 先 支持層、この層の上に施こされたポリビニルメチル
    ホスフィン酸よりなる親水層少なくとも1層及び感照射
    線複写層少なくとも1層よりなる平版印刷版。
JP57116334A 1981-07-06 1982-07-06 ポリビニルメチルホスフィン酸及びその製法 Granted JPS5817108A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3126627.4 1981-07-06
DE19813126627 DE3126627A1 (de) 1981-07-06 1981-07-06 Polyvinylmethylphosphinsaeure, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung

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JPS5817108A true JPS5817108A (ja) 1983-02-01
JPH0348215B2 JPH0348215B2 (ja) 1991-07-23

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