JPS5817108A - ポリビニルメチルホスフィン酸及びその製法 - Google Patents
ポリビニルメチルホスフィン酸及びその製法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規のポリマーであるノリビニルメチルホスフ
ィン酸、その製法及びそれをオフセット印刷版の製造に
使用することに関する。
ィン酸、その製法及びそれをオフセット印刷版の製造に
使用することに関する。
燐含有基で置換されている有機ポリマー及びその製法は
既に公知である。例えば、ビニルホスホン酸ジクロリド
から液体〜固体のポリマーを製造することは、西ドイツ
特許第1032537号明細書(英国特許第86504
6号)に記載されている。西ドイツ特許第110696
3号の発明は、ビニルホスホン酸を重合して非常に粘稠
性〜硬く、澄明かつ殆んど無色の生成物として得られる
?リビニルホスホン酸を得る・方法に関する。これは水
、アルコール及び多価アルコール例えばグリコール類、
グリフールエ−チル類、ポリグリコール又はグリセロー
ル及び他の溶剤中に容易に溶け、多かれ少なかれ粘稠性
の溶液を生じる。
既に公知である。例えば、ビニルホスホン酸ジクロリド
から液体〜固体のポリマーを製造することは、西ドイツ
特許第1032537号明細書(英国特許第86504
6号)に記載されている。西ドイツ特許第110696
3号の発明は、ビニルホスホン酸を重合して非常に粘稠
性〜硬く、澄明かつ殆んど無色の生成物として得られる
?リビニルホスホン酸を得る・方法に関する。これは水
、アルコール及び多価アルコール例えばグリコール類、
グリフールエ−チル類、ポリグリコール又はグリセロー
ル及び他の溶剤中に容易に溶け、多かれ少なかれ粘稠性
の溶液を生じる。
ポリビニルホスホン酸は顕著な膜形成特性をも有する。
ビニルホスホン酸から形成さ′れるこの型、のポリマー
は、プラスチック用中間体として、かつ防炎剤、繊維助
剤及び湿潤剤及び乳化剤の製造にかなり重要である。こ
れらは金属表面上に腐蝕防止の目的で被膜を形成するた
めにも使用される(西ドイツ特許第11871004明
細書参照)。更にポリビニルホスホン酸は平版印刷版(
オフセット印刷版)の製造にかなりの重要性を有する。
は、プラスチック用中間体として、かつ防炎剤、繊維助
剤及び湿潤剤及び乳化剤の製造にかなり重要である。こ
れらは金属表面上に腐蝕防止の目的で被膜を形成するた
めにも使用される(西ドイツ特許第11871004明
細書参照)。更にポリビニルホスホン酸は平版印刷版(
オフセット印刷版)の製造にかなりの重要性を有する。
この型の印刷版は、T真製版法でオリジナルの像を形成
する目的で感服射線複写層を施こした支持層よりなる。
する目的で感服射線複写層を施こした支持層よりなる。
印刷版がこのようにして製造された後に、支持層はイン
キ受容性の像域を有し、同時に像の′ない領域上に像に
対する水受容性の・セックグラウンド(像のない域)を
形成する。
キ受容性の像域を有し、同時に像の′ない領域上に像に
対する水受容性の・セックグラウンド(像のない域)を
形成する。
従って、印刷版製造用の感光性材料にとって好適な支持
層から、一方では、材料の複写層から現像すれた印刷す
べき像域が後者に堅固に付着し、他方では、この支持層
が親水性の像・セックグラウンドを成し、印刷法の多く
の要求下に親油性印刷インキに対する反発作用の影響を
失な−わないことが要求される。従って、この支持層は
、常にある程度多孔性である表面構造を有し、従ってそ
の表面は、印刷工程で使用さiる印刷インキに対して充
分な反発作用を有するように充分な水を保留することが
できる。
層から、一方では、材料の複写層から現像すれた印刷す
べき像域が後者に堅固に付着し、他方では、この支持層
が親水性の像・セックグラウンドを成し、印刷法の多く
の要求下に親油性印刷インキに対する反発作用の影響を
失な−わないことが要求される。従って、この支持層は
、常にある程度多孔性である表面構造を有し、従ってそ
の表面は、印刷工程で使用さiる印刷インキに対して充
分な反発作用を有するように充分な水を保留することが
できる。
この型の支持層を會るために使用される基材は、アルミ
ニウム、鋼、銅、真ちゅう又は亜鉛筋であってよい。こ
れら材料は、適当な操作例えば砂目室て、鈍いクロムメ
ッキ、表面酸化及ff/3(は中間層の施与により、オ
フセット印刷版用の支持層に変えられる。
ニウム、鋼、銅、真ちゅう又は亜鉛筋であってよい。こ
れら材料は、適当な操作例えば砂目室て、鈍いクロムメ
ッキ、表面酸化及ff/3(は中間層の施与により、オ
フセット印刷版用の支持層に変えられる。
今日おそらく最も屡々オフセット印刷版用基材として使
用されているアルミニウムを公知方法により乾燥プラシ
ング、湿式ブラシング、砂目室て又は化学的又は電気化
学的処理により表面粗面化する。その剥離抵抗を増すた
めに、粗面化された基材に付加的に酸化物の薄層を形成
するための陽極酸化工程を施こすことができる従来の技
術水準によれば、この型の陽極酸化された支持材料に、
層の付着性を改良し、その親水性を増加し、かっ/又は
感光性接写層の現像性を促進するための処理工程を施こ
すことは慣用のことである。シリケート化(西rイッ特
許出願公開第2532769号=米国特許第39029
76号明細書)及び弗化物錯体での処理(西ドイツ特許
出願公告筒1300415号=米国有許第344005
0号明細書)又はポリビニルホスホン酸での処理(西ド
イツ’%許第1134093号=米国特許第32768
68号明細書)等の方法が、特にこの特許文献中に記載
されている。
用されているアルミニウムを公知方法により乾燥プラシ
ング、湿式ブラシング、砂目室て又は化学的又は電気化
学的処理により表面粗面化する。その剥離抵抗を増すた
めに、粗面化された基材に付加的に酸化物の薄層を形成
するための陽極酸化工程を施こすことができる従来の技
術水準によれば、この型の陽極酸化された支持材料に、
層の付着性を改良し、その親水性を増加し、かっ/又は
感光性接写層の現像性を促進するための処理工程を施こ
すことは慣用のことである。シリケート化(西rイッ特
許出願公開第2532769号=米国特許第39029
76号明細書)及び弗化物錯体での処理(西ドイツ特許
出願公告筒1300415号=米国有許第344005
0号明細書)又はポリビニルホスホン酸での処理(西ド
イツ’%許第1134093号=米国特許第32768
68号明細書)等の方法が、特にこの特許文献中に記載
されている。
しかしながら、前記の方法は、多がれ、少なかれ欠点を
有し為こうして製造した支持材料は屡々オフセット印刷
の現在の要求にもはやそぐわない。例えば、現像特性及
び親水性に関して良好な可能性を生じ゛るアルカリ金属
シリケートでの処理の後には、これに施こされた感光層
の貯蔵安定性のある種の損失を甘受する必要がある。
有し為こうして製造した支持材料は屡々オフセット印刷
の現在の要求にもはやそぐわない。例えば、現像特性及
び親水性に関して良好な可能性を生じ゛るアルカリ金属
シリケートでの処理の後には、これに施こされた感光層
の貯蔵安定性のある種の損失を甘受する必要がある。
支持材の後処理のためにポリビニルボスボン酸を用いて
、複ず及び印刷技術の観点から良好な特性を有する印刷
版を生じるとしても、支持材料上へのポリビニルホスホ
ン酸の沈着は製造技術に関して困難を生じる。これらの
困難は、At+3カチオンにより生ぜしめられ、これは
1先の処理工程で、原則的にH2SO,及びAt2(S
o、)3を含有する電解液中での陽極酸化工程で、表面
゛に達し、完全なリンスによっても除去は困難かつ不完
全にのみ可能でありうる。ポリビニルホスホン酸はこれ
らAz+3イオンと反応して極めて低い可溶性の沈殿を
形成する。この沈殿は、完全ナリンスによっても除くこ
とのテキナい白色粉状層の形で支持材を被覆する。この
粉状粒子は、感光層での被覆などの早い工程で湿潤化の
問題を生じるか又は、後に、現像又は印刷の間に層を噴
出させることがありうる。この型の問題は、生産技術の
点でかなりの経費によってのみ抑制することができる。
、複ず及び印刷技術の観点から良好な特性を有する印刷
版を生じるとしても、支持材料上へのポリビニルホスホ
ン酸の沈着は製造技術に関して困難を生じる。これらの
困難は、At+3カチオンにより生ぜしめられ、これは
1先の処理工程で、原則的にH2SO,及びAt2(S
o、)3を含有する電解液中での陽極酸化工程で、表面
゛に達し、完全なリンスによっても除去は困難かつ不完
全にのみ可能でありうる。ポリビニルホスホン酸はこれ
らAz+3イオンと反応して極めて低い可溶性の沈殿を
形成する。この沈殿は、完全ナリンスによっても除くこ
とのテキナい白色粉状層の形で支持材を被覆する。この
粉状粒子は、感光層での被覆などの早い工程で湿潤化の
問題を生じるか又は、後に、現像又は印刷の間に層を噴
出させることがありうる。この型の問題は、生産技術の
点でかなりの経費によってのみ抑制することができる。
ポリビニルホ”スホン酸で処理された支持材料は、被覆
しない萩態で貯蔵すると、老化現象を示す傾向がある。
しない萩態で貯蔵すると、老化現象を示す傾向がある。
この老化現象は、支持材料の製造のかなり長時間後の親
水性の低下(インク反発作用の低下)及び被覆として施
こされているだけのネがチブ作用感光層の現像に関する
低下された能力に現われる。
水性の低下(インク反発作用の低下)及び被覆として施
こされているだけのネがチブ作用感光層の現像に関する
低下された能力に現われる。
ポリビ=にホスホン酸のもう1つの用途は、西ドイツ特
許第1121632号(−米国特許第3108535号
)明細書に記載のオフセット印刷版の湿潤剤及び浄化剤
への添加物である。
許第1121632号(−米国特許第3108535号
)明細書に記載のオフセット印刷版の湿潤剤及び浄化剤
への添加物である。
この種の湿潤剤(永久溶液)は、印刷法の間に連続的に
印刷版に到達して、版の印刷されるべきでない部分モイ
ンク吸収及び不所望の撥水性から保護すべきである。
印刷版に到達して、版の印刷されるべきでない部分モイ
ンク吸収及び不所望の撥水性から保護すべきである。
本発明の目的は、特に、公知処理剤の前記欠点をさ−け
基か又は減少するような方法でオフセット印刷版用の支
持材料を処理することを可能とする新規の水溶性ポリマ
ーを得ることである本発明はポリビニルメチルホスフィ
ン酸に関する。
基か又は減少するような方法でオフセット印刷版用の支
持材料を処理することを可能とする新規の水溶性ポリマ
ーを得ることである本発明はポリビニルメチルホスフィ
ン酸に関する。
これは、西ドイツ特許出願公開第2344332号及び
同第2646.582@明細書に2記載の方法で製造で
きるビニルメチルホスフィン酸の重合により得られる。
同第2646.582@明細書に2記載の方法で製造で
きるビニルメチルホスフィン酸の重合により得られる。
ビニルメチルホスフィン酸の重合は、有利に、加温及び
/又はUV線照射時に遊離ラジカ′ル形成可能な触媒の
存在で実施することができる。この方法は、−10〜+
35.0℃の間の温度で実施できるが、適当な場合には
例えば真空中で又は不活性ガス雰囲気中でより高い温°
度を使用することができるか又は、適当な場合には、開
始剤系及び溶剤を用い、更に低い温度も使用できる。し
かしながら、遊離□ラジカルを形成することのできる触
媒を用いるか、かつ/又はUV線の照射により実施する
場合は、この重合の 。
/又はUV線照射時に遊離ラジカ′ル形成可能な触媒の
存在で実施することができる。この方法は、−10〜+
35.0℃の間の温度で実施できるが、適当な場合には
例えば真空中で又は不活性ガス雰囲気中でより高い温°
度を使用することができるか又は、適当な場合には、開
始剤系及び溶剤を用い、更に低い温度も使用できる。し
かしながら、遊離□ラジカルを形成することのできる触
媒を用いるか、かつ/又はUV線の照射により実施する
場合は、この重合の 。
実施のために+5〜+130℃の間の温度範囲を選択す
るのが有利である。
るのが有利である。
場合によっては、特にビニル、メチルホスフィン酸を主
として熱の作用に上って重合する場合は、+175℃よ
り高い温度で反応を実施するのが有利である。
として熱の作用に上って重合する場合は、+175℃よ
り高い温度で反応を実施するのが有利である。
好適な触媒は(特に、ビニルメチルホスフィン酸中でそ
れ自体可溶性であるか又は有機溶剤中に可溶であるか又
は水中にも可溶でもある化合物例えば被ルオキシP類、
°例えば過酸化Rンゾイル、過酸化トルイル、ジ−t−
ブチル(ルオキシド、過酸化クロルベンゾイル及びメチ
ルエチルケトンペルオキシP及びヒPロペルオキシrの
有機誘導体及び過酸化′水素、過硫酸カリウム、過カル
ぜン酸塩、更にアゾビスイソブチロニトリル、スルフィ
ン酸類例えばp−メトキシペンぜンスルフイン酸、イン
アミルスルフィン酸又はベンゼンスルフィン酸及び適当
な場合には、この型の種々′の触媒相互の及び/又はロ
ンガリット又は亜硫酸塩とを含有する混合物である。示
に付加的に、′適当な可溶性の形の重金 。
れ自体可溶性であるか又は有機溶剤中に可溶であるか又
は水中にも可溶でもある化合物例えば被ルオキシP類、
°例えば過酸化Rンゾイル、過酸化トルイル、ジ−t−
ブチル(ルオキシド、過酸化クロルベンゾイル及びメチ
ルエチルケトンペルオキシP及びヒPロペルオキシrの
有機誘導体及び過酸化′水素、過硫酸カリウム、過カル
ぜン酸塩、更にアゾビスイソブチロニトリル、スルフィ
ン酸類例えばp−メトキシペンぜンスルフイン酸、イン
アミルスルフィン酸又はベンゼンスルフィン酸及び適当
な場合には、この型の種々′の触媒相互の及び/又はロ
ンガリット又は亜硫酸塩とを含有する混合物である。示
に付加的に、′適当な可溶性の形の重金 。
属化合物を促進剤として使用することもできる一般に、
触媒はビニルメチルホスフィン酸モノマーの重量に対し
て約0.01〜10%有利に0.1〜6%の量で使用さ
れる。重合は、ブロック重合又は溶液重合で実施できる
。
触媒はビニルメチルホスフィン酸モノマーの重量に対し
て約0.01〜10%有利に0.1〜6%の量で使用さ
れる。重合は、ブロック重合又は溶液重合で実施できる
。
遊離酸の代りにビニルメチ、ルホスフイン酸の塩を重合
することもできる。この範ちゅうに入ル塩ハ、ビニルメ
チルホスフィン酸とアルカリ金属の酸化物及び水酸化物
との反応により製造できるものである。
することもできる。この範ちゅうに入ル塩ハ、ビニルメ
チルホスフィン酸とアルカリ金属の酸化物及び水酸化物
との反応により製造できるものである。
ポリビニルメチルホスフィン酸を毛細管中で加熱する場
合、この管の上方の冷部での凝縮物の形成は、160〜
230℃の温度で現われる。240〜245℃でポリビ
ニルメチルホスフィン酸は融解して〕澄明な融液を生じ
る。温度が280℃を越えると、分解が起こり、暗色と
なる。
合、この管の上方の冷部での凝縮物の形成は、160〜
230℃の温度で現われる。240〜245℃でポリビ
ニルメチルホスフィン酸は融解して〕澄明な融液を生じ
る。温度が280℃を越えると、分解が起こり、暗色と
なる。
10%塩化ナトリウム中のポリビニルメチルホスフィン
酸の5%溶液の25℃での相対的粘度はウベローデ(u
bbelohde )粘度計で測定して5.8である。
酸の5%溶液の25℃での相対的粘度はウベローデ(u
bbelohde )粘度計で測定して5.8である。
測定されたR8V値−(= reclucetlspe
cific visc、osity ;還元比粘度)、
は、3.5〜5.0 ml/fIの間である。
cific visc、osity ;還元比粘度)、
は、3.5〜5.0 ml/fIの間である。
ポリビニルメチルホスフィン酸(PVMPA )は水に
易溶性である。1価のカチオンを有する水中に易溶性で
ある塩のみを形成するポリビニルホスホン酸とは反対に
、ポリビニルメチルホスフィン酸と1価の、2価の及び
多価の陽イオン例えばNa+、計、NH4+、gtaN
+、モノジアゾニウムカチオン、ビスジアゾニウムカチ
オン、ポリジアゾニウムカチオン、Mg++、Oa”、
Ba++1Fe++又はco との反応の生成物は水
中に易溶性であ++ る。3価の陽イオン例えばAt3+又はFe”+との反
応生成物は1価又は2価の陽イオンとの反応生成物より
も低い可溶性であるが、これらはなお水中で明白な溶解
層を示す。相応するポリビニルホスホン酸化合物に比べ
たポリビニルメチルホスフィン酸のアルミニウム化合物
の明瞭な高溶解度の結果として、ポリビニルメチルホス
フィン酸をオフセット印刷版の支持層の浸漬処理で使用
する際には、先に記載の沈殿は形成されない。
易溶性である。1価のカチオンを有する水中に易溶性で
ある塩のみを形成するポリビニルホスホン酸とは反対に
、ポリビニルメチルホスフィン酸と1価の、2価の及び
多価の陽イオン例えばNa+、計、NH4+、gtaN
+、モノジアゾニウムカチオン、ビスジアゾニウムカチ
オン、ポリジアゾニウムカチオン、Mg++、Oa”、
Ba++1Fe++又はco との反応の生成物は水
中に易溶性であ++ る。3価の陽イオン例えばAt3+又はFe”+との反
応生成物は1価又は2価の陽イオンとの反応生成物より
も低い可溶性であるが、これらはなお水中で明白な溶解
層を示す。相応するポリビニルホスホン酸化合物に比べ
たポリビニルメチルホスフィン酸のアルミニウム化合物
の明瞭な高溶解度の結果として、ポリビニルメチルホス
フィン酸をオフセット印刷版の支持層の浸漬処理で使用
する際には、先に記載の沈殿は形成されない。
有利な適用分野、平版印刷版用の支持層を形成するため
の基材の処理において、ポリビニルメチルホスフィン酸
は0.1〜1%の濃度の水溶液として使用するのが有利
である。
の基材の処理において、ポリビニルメチルホスフィン酸
は0.1〜1%の濃度の水溶液として使用するのが有利
である。
ポリビニルメチルホスフィン酸での処理は有利に、基材
を浸漬するか又は基材片をこの溶液の浴に通すことによ
って実施される。20〜95℃、有利に26〜70℃の
、温度及び2秒〜10分、有利に10秒〜3分の保留時
間は、この方法の実施に・とって最も有利である。浴の
温度を高−めると、基材上′へのポリビニルメチルホス
フィン酸の化学吸着を促進する。、このことは、特に片
の処理において、保留時間をかなり減縮することを可能
とする。この浸漬処理に引続き水でのすすぎ工程を行な
う。この方法で処理された基材を、次いで110〜13
0℃で乾燥させる。
を浸漬するか又は基材片をこの溶液の浴に通すことによ
って実施される。20〜95℃、有利に26〜70℃の
、温度及び2秒〜10分、有利に10秒〜3分の保留時
間は、この方法の実施に・とって最も有利である。浴の
温度を高−めると、基材上′へのポリビニルメチルホス
フィン酸の化学吸着を促進する。、このことは、特に片
の処理において、保留時間をかなり減縮することを可能
とする。この浸漬処理に引続き水でのすすぎ工程を行な
う。この方法で処理された基材を、次いで110〜13
0℃で乾燥させる。
ポリビニルホスホン酸と比較したこの新規ポリマーが提
供する決定的利点は、前処理した基材に施こすことをか
なり促進されることである。ポリビニルメチルホスフィ
ン酸とアルミニウムイオンとの反応生成物の非常に高い
溶解度(高溶解性生成物)の結果として、ポリビニルホ
スホン酸とは対照的に、アルミニウムイオンで汚染され
ているアルミニウムシートを処理する際に問題となる前
記の沈殿は形成されない。ポリビニルメチルホスフィン
酸で処理されたアルミニウム支持体は意外にも、ポリビ
ニルホスホン酸で処理された支持体に比べて、被覆され
ていない状態での貯蔵時に明確に増大した安定性を示す
。このことは、この方法で処理した支持材料をフィゾー
オン法(wipθ−on procθss )に使用す
る可能性即ち、感光性コーティングが回復されている支
持層の数種の印、刷版を得るための多くの用途を開発す
゛る。
供する決定的利点は、前処理した基材に施こすことをか
なり促進されることである。ポリビニルメチルホスフィ
ン酸とアルミニウムイオンとの反応生成物の非常に高い
溶解度(高溶解性生成物)の結果として、ポリビニルホ
スホン酸とは対照的に、アルミニウムイオンで汚染され
ているアルミニウムシートを処理する際に問題となる前
記の沈殿は形成されない。ポリビニルメチルホスフィン
酸で処理されたアルミニウム支持体は意外にも、ポリビ
ニルホスホン酸で処理された支持体に比べて、被覆され
ていない状態での貯蔵時に明確に増大した安定性を示す
。このことは、この方法で処理した支持材料をフィゾー
オン法(wipθ−on procθss )に使用す
る可能性即ち、感光性コーティングが回復されている支
持層の数種の印、刷版を得るための多くの用途を開発す
゛る。
特に2価又は多価の、陽イオンを含有する複雑な性質の
生成物の構成成分としてのポリビニルメチルホスフィン
酸の他の可能な有用性は西Pイツ特許出願第31266
36.3号明細書に記載されており、[オフセット印刷
版に親水性を与える支持材料、その製法及びその用途:
Supportmaterials、which
have been rendered hyd
ro−philic 、for offset
printing plates 、a pro
−cess for their manufa
cture ’* and their use」
なる名称で本発明と同時に出願されている。
生成物の構成成分としてのポリビニルメチルホスフィン
酸の他の可能な有用性は西Pイツ特許出願第31266
36.3号明細書に記載されており、[オフセット印刷
版に親水性を与える支持材料、その製法及びその用途:
Supportmaterials、which
have been rendered hyd
ro−philic 、for offset
printing plates 、a pro
−cess for their manufa
cture ’* and their use」
なる名称で本発明と同時に出願されている。
要約すれば、ポリビニルメチルホスフィン酸の薄い表面
層を有する支持材料は、良好な親水性、複写層への付着
性の良好な増大及び複写及び印刷技術の点からの良好な
特性において顕著であり、かなり容易に製造できること
が記載されている。
層を有する支持材料は、良好な親水性、複写層への付着
性の良好な増大及び複写及び印刷技術の点からの良好な
特性において顕著であり、かなり容易に製造できること
が記載されている。
例
例中に引用した測定デニタは、国際SI系の次元に相当
する。特にことわりのないかぎり、「%」は1重量%」
である。重量部は「?」で、容量部は[ml Jで示す
。粘度データ「相対粘泣」及び[R8v(=還元比粘度
)」は、ポリマー成分の特徴付けのために専門文献に慣
用のデータであり、この点に関しては特にG、シュルツ
(5chulz )のゾラスチ゛ンク(Die ’ku
nststoff :plastics ; earl
Hanser Verlag、 Munich195
9年)、143頁に記載されている。
する。特にことわりのないかぎり、「%」は1重量%」
である。重量部は「?」で、容量部は[ml Jで示す
。粘度データ「相対粘泣」及び[R8v(=還元比粘度
)」は、ポリマー成分の特徴付けのために専門文献に慣
用のデータであり、この点に関しては特にG、シュルツ
(5chulz )のゾラスチ゛ンク(Die ’ku
nststoff :plastics ; earl
Hanser Verlag、 Munich195
9年)、143頁に記載されている。
例1
無水酢酸エチル15QmJを、まず保護ガスとしてのア
ルザン気下に、ゾロペラ攪拌機、満願ロート、還流冷却
器及び温度計を備えた口頚フラスコ中に導入した。別に
、アゾビスイソブチロニトリル4.8y−を無水酢酸エ
チル1oo=e中に溶かした。僅かな不溶粒子の濾去の
後に、この溶液にメチルビニルホスフィン酸160y−
を添加し、これを、更に酢酸エチル5Qmlで稀釈し、
溶液を満願ロート中に注いだ。満願ロート中の内容物を
一様な速度で、3時間がか′って丸゛底フラスコ中のエ
ステルに添′加し、これを加熱沸騰させ攪拌した。約2
時間後に、ポリマーは微細な白色粉末として沈殿しはじ
めた。滴加が完了したら、反応混合物を□還流乍に更に
1時間加熱し、この間一様な速度で攪拌する。Wi細な
結晶質粉末を、室温で、ガラス7リツト上で吸引濾取し
、水冷酢酸エチル数mlで3回洗浄し、かつ室温で厳密
に乾燥させた。
ルザン気下に、ゾロペラ攪拌機、満願ロート、還流冷却
器及び温度計を備えた口頚フラスコ中に導入した。別に
、アゾビスイソブチロニトリル4.8y−を無水酢酸エ
チル1oo=e中に溶かした。僅かな不溶粒子の濾去の
後に、この溶液にメチルビニルホスフィン酸160y−
を添加し、これを、更に酢酸エチル5Qmlで稀釈し、
溶液を満願ロート中に注いだ。満願ロート中の内容物を
一様な速度で、3時間がか′って丸゛底フラスコ中のエ
ステルに添′加し、これを加熱沸騰させ攪拌した。約2
時間後に、ポリマーは微細な白色粉末として沈殿しはじ
めた。滴加が完了したら、反応混合物を□還流乍に更に
1時間加熱し、この間一様な速度で攪拌する。Wi細な
結晶質粉末を、室温で、ガラス7リツト上で吸引濾取し
、水冷酢酸エチル数mlで3回洗浄し、かつ室温で厳密
に乾燥させた。
141、55’の収量は、理論量の88.4%に相当す
る。母液をその量の半分まで濃縮することにより更にポ
リ”マー酸’4.6 Pが得られ、従って全収率は理論
量の91.3%に相当する。
る。母液をその量の半分まで濃縮することにより更にポ
リ”マー酸’4.6 Pが得られ、従って全収率は理論
量の91.3%に相当する。
最終液体は、詳細には特性付けられていなし・オリーf
マー性油状物より成っていた。
マー性油状物より成っていた。
酸基は平行ノ々ツチ中で、水中にメチルビニルホスフィ
ン酸(MVPA)及びポリビニルメチルホスフィン酸(
pvM、pA)の分析的に純粋な試料を溶かし、過剰の
0. I N NaOHを添加することにより滴定した
。次いでこの溶液をQ、INHc!tをμいてフェノー
ルフタレインに対して逆滴定した。理論的に予測される
OH基の含分に相対して、次の結果が得られた: 滴定によりfIQ定されたOH基pノξ−センテージM
VPA ’98.04% ; 98.4
6%PVMPA 85.42% ; 84.65
% −′小・々ツチ(1a%lb及びlc)の結果を次
表に示す: 第 1 表 1a ’2 50.052.53.568.51b 2
0500.31.5554.24.71c 20500
.63.0581.14.3例2 厚す0.3gagの広幅巻きアルミニウム片をアルカリ
ビックリング液(溶液1を当りNaou、 20 fF
の水溶液)で約50〜70℃の高めた温度で脱脂し゛た
。アルミニウム表面の電気化学的粗面化を、西ドイツ特
許出願公告第2234434号明細書記載の方法で設置
された交流装置を用いて、HNO3を含有する電解液中
で実施した。この際RZ値6μを有する粗面が得られた
。引続く陽極酸化を西ドイツ特許出願公開第28113
9.6号明細書に記載の方法で、硫酸含有電解液中で実
施した。酸化物層の重量は:s、oy/rrlであった
。
ン酸(MVPA)及びポリビニルメチルホスフィン酸(
pvM、pA)の分析的に純粋な試料を溶かし、過剰の
0. I N NaOHを添加することにより滴定した
。次いでこの溶液をQ、INHc!tをμいてフェノー
ルフタレインに対して逆滴定した。理論的に予測される
OH基の含分に相対して、次の結果が得られた: 滴定によりfIQ定されたOH基pノξ−センテージM
VPA ’98.04% ; 98.4
6%PVMPA 85.42% ; 84.65
% −′小・々ツチ(1a%lb及びlc)の結果を次
表に示す: 第 1 表 1a ’2 50.052.53.568.51b 2
0500.31.5554.24.71c 20500
.63.0581.14.3例2 厚す0.3gagの広幅巻きアルミニウム片をアルカリ
ビックリング液(溶液1を当りNaou、 20 fF
の水溶液)で約50〜70℃の高めた温度で脱脂し゛た
。アルミニウム表面の電気化学的粗面化を、西ドイツ特
許出願公告第2234434号明細書記載の方法で設置
された交流装置を用いて、HNO3を含有する電解液中
で実施した。この際RZ値6μを有する粗面が得られた
。引続く陽極酸化を西ドイツ特許出願公開第28113
9.6号明細書に記載の方法で、硫酸含有電解液中で実
施した。酸化物層の重量は:s、oy/rrlであった
。
こうして得たアルミニウム片を次いで60yに加温し、
ポリビニルメチルホスフィン酸の0゜5%濃度溶液より
成る浴に通°した。洛中の保留時間は20秒であった。
ポリビニルメチルホスフィン酸の0゜5%濃度溶液より
成る浴に通°した。洛中の保留時間は20秒であった。
次いで、過剰の溶液をすすぎ工程で水で除去し、片を1
00〜130℃の温度での熱気で乾燥させた。
00〜130℃の温度での熱気で乾燥させた。
この支持体に次の溶液をコーティングし乾燥させて平版
印刷版を製造した: 85%燐酸 3.4重量部ベ
ンジルトリ、メチルアンモニウムと ドロキシドの存在で、1000より テトラヒドロフラン 30.6重量
部及び ネカチブマスクを通す露光の後に次の溶液を用いて現像
した: N So ・1’OH2O2,8重量部a2 4 MgSO4・7H202,8重量部 85%オルトホスホン酸 0,9重量
部亜燐酸 0.08重
量部ノンイオニツク湿潤剤 1.6
重量部ベンジルアルコール 10.
0重量in−ゾロノξノール 2
0.0重量部水
60.0重量部こうして得た印刷版は、迅速に現像でき
、ぼやけかない。像のない部分は、非常に良好なインク
反発性で識別された。水滴と接触角度を測定すると、コ
ーティングされ、ていない材料に対しては43°の値で
あった。 こうして得た印刷版の印刷数!;;2000
00であった。
印刷版を製造した: 85%燐酸 3.4重量部ベ
ンジルトリ、メチルアンモニウムと ドロキシドの存在で、1000より テトラヒドロフラン 30.6重量
部及び ネカチブマスクを通す露光の後に次の溶液を用いて現像
した: N So ・1’OH2O2,8重量部a2 4 MgSO4・7H202,8重量部 85%オルトホスホン酸 0,9重量
部亜燐酸 0.08重
量部ノンイオニツク湿潤剤 1.6
重量部ベンジルアルコール 10.
0重量in−ゾロノξノール 2
0.0重量部水
60.0重量部こうして得た印刷版は、迅速に現像でき
、ぼやけかない。像のない部分は、非常に良好なインク
反発性で識別された。水滴と接触角度を測定すると、コ
ーティングされ、ていない材料に対しては43°の値で
あった。 こうして得た印刷版の印刷数!;;2000
00であった。
例3・
例2により処理したアルミニウム片に次の溶液をコーテ
ィングした: クリスタルノ々イオレット o、oa
重量部及び エチレングリフールモノメチルニー このコーティングされた片を120℃までの温度で乾燥
路中で乾燥させた。こうして得た印刷版をポジチブオリ
ジナルの下で露光し、次の組成の現像剤で現像した: メタ珪酸ナトリウム・9 H2O5,,3重1g燐酸三
す) IJウム・12 3.4重量部
無水燐酸二水素す) IJウム ゛0.
3重量部及び 水 91.0重
量部得られた印刷版は複写及び印刷技術の観点がら欠点
がなかった。
ィングした: クリスタルノ々イオレット o、oa
重量部及び エチレングリフールモノメチルニー このコーティングされた片を120℃までの温度で乾燥
路中で乾燥させた。こうして得た印刷版をポジチブオリ
ジナルの下で露光し、次の組成の現像剤で現像した: メタ珪酸ナトリウム・9 H2O5,,3重1g燐酸三
す) IJウム・12 3.4重量部
無水燐酸二水素す) IJウム ゛0.
3重量部及び 水 91.0重
量部得られた印刷版は複写及び印刷技術の観点がら欠点
がなかった。
像のない個所は良好なインク反発作用を有し、、)作用
は印刷機中−c、)迅速印刷をすi印刷版中に現われた
。印刷数は100000より多かった。
は印刷機中−c、)迅速印刷をすi印刷版中に現われた
。印刷数は100000より多かった。
例4
例2で処理したアルミニウムシートに次の溶液をコーテ
ィングした: 中に溶かした この層に暗所で、コロナ放電により約400ゼルトの負
電荷を与えた。1荷電した版を複写カメラ中で露光し、
次いで、185〜210℃の沸騰範囲を有するイソ・に
ラフイン混合物1200 ml中のペンタエリスリトル
樹脂7.51の溶液中に硫酸マグネシウム3.01を分
散させること、により得た電子写真用懸濁現像剤で現像
した過剰の゛現像液が除去された後に、版を次の組成の
溶液中に60秒間浸漬させた: メタ珪酸ナトリウム・9. H2O35重量部グリセロ
ール 140容量部エチレン
グリフール 55o容量s及び エタノール 140容量
部次に版を水の激流ですすぎ、この工程でトナーで覆わ
れなかった光伝導層の領域を除去した。こうして、この
版は印刷準備完了された。
ィングした: 中に溶かした この層に暗所で、コロナ放電により約400ゼルトの負
電荷を与えた。1荷電した版を複写カメラ中で露光し、
次いで、185〜210℃の沸騰範囲を有するイソ・に
ラフイン混合物1200 ml中のペンタエリスリトル
樹脂7.51の溶液中に硫酸マグネシウム3.01を分
散させること、により得た電子写真用懸濁現像剤で現像
した過剰の゛現像液が除去された後に、版を次の組成の
溶液中に60秒間浸漬させた: メタ珪酸ナトリウム・9. H2O35重量部グリセロ
ール 140容量部エチレン
グリフール 55o容量s及び エタノール 140容量
部次に版を水の激流ですすぎ、この工程でトナーで覆わ
れなかった光伝導層の領域を除去した。こうして、この
版は印刷準備完了された。
こうして得た平版印刷版は、像のない領域その非常に良
好なインキ反発作用を有した。
好なインキ反発作用を有した。
比較例・C工
例2の記載と同様に電気化学的に粗面化し、かつ陽極醸
化処理したアルミニウムシートを0゜5%ポリビニルホ
スホン酸水溶液中に55℃で゛30秒間浸漬した。次い
で、過剰の溶液をすすぎ工程で水で除去し、基材を10
0〜130°Cの熱空気で乾燥させた。平版印刷版の製
造のために、この支持体に、例2に記載の感光層をコー
ティングし、そこに記載と同様に更に処理を行なった。
化処理したアルミニウムシートを0゜5%ポリビニルホ
スホン酸水溶液中に55℃で゛30秒間浸漬した。次い
で、過剰の溶液をすすぎ工程で水で除去し、基材を10
0〜130°Cの熱空気で乾燥させた。平版印刷版の製
造のために、この支持体に、例2に記載の感光層をコー
ティングし、そこに記載と同様に更に処理を行なった。
水滴との接触角度を測定すると、コーティングされなか
った材料で43°の値・を示した。この支持材料を3ケ
月間にわたり貯蔵すると、この値j163°に増大し、
ポリビニルホスフィン酸で処理した材料の場合には、
3ケ月後に測定したこの値は49°であり1 接触角度
は、貯蔵期゛ 間中殆んど変らずに残った。
った材料で43°の値・を示した。この支持材料を3ケ
月間にわたり貯蔵すると、この値j163°に増大し、
ポリビニルホスフィン酸で処理した材料の場合には、
3ケ月後に測定したこの値は49°であり1 接触角度
は、貯蔵期゛ 間中殆んど変らずに残った。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 、t?ノリビニルメチルホスフィン酸2、 ポ
リビニルメチルホスフィン酸を製造するために、一般式
: %式% 〔式中Xは水素又はアルカリ金属を表わす〕のビニルメ
チル声スフィン酸モノマー゛及び/又はそ−の塩を、適
宜、不活性稀釈剤又は溶剤の存在下に、重合を開始させ
る遊離ラジカルの触媒作用及び/又は電磁線の作用及び
/又は加熱により、重合させることを特徴とするポリビ
ニルメチルホスフィン酸の製法。 3、中性の極性有機溶剤に属し、無水である有機溶剤を
重合のために使用する、特許請求の範囲第2項記載の方
法。 先 支持層、この層の上に施こされたポリビニルメチル
ホスフィン酸よりなる親水層少なくとも1層及び感照射
線複写層少なくとも1層よりなる平版印刷版。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3126627.4 | 1981-07-06 | ||
| DE19813126627 DE3126627A1 (de) | 1981-07-06 | 1981-07-06 | Polyvinylmethylphosphinsaeure, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5817108A true JPS5817108A (ja) | 1983-02-01 |
| JPH0348215B2 JPH0348215B2 (ja) | 1991-07-23 |
Family
ID=6136233
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57116334A Granted JPS5817108A (ja) | 1981-07-06 | 1982-07-06 | ポリビニルメチルホスフィン酸及びその製法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4458005A (ja) |
| EP (1) | EP0069318B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5817108A (ja) |
| BR (1) | BR8203901A (ja) |
| CA (1) | CA1189650A (ja) |
| DE (2) | DE3126627A1 (ja) |
| ZA (1) | ZA824357B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4856075B2 (ja) * | 2004-08-20 | 2012-01-18 | イーストマン コダック カンパニー | 平版印刷版前駆体のための基板 |
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