JPS58182202A - サ−ミスタの製造法 - Google Patents
サ−ミスタの製造法Info
- Publication number
- JPS58182202A JPS58182202A JP57064336A JP6433682A JPS58182202A JP S58182202 A JPS58182202 A JP S58182202A JP 57064336 A JP57064336 A JP 57064336A JP 6433682 A JP6433682 A JP 6433682A JP S58182202 A JPS58182202 A JP S58182202A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thermistor
- conductive
- thin film
- manufacturing
- holes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Thermistors And Varistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は作業性容易にして応答性の優れたサーミスタを
安価に提供しようとするサーミスタの製造法に関するも
のである。
安価に提供しようとするサーミスタの製造法に関するも
のである。
従来における薄膜サーミスタの製造は、印刷により電極
が多数設けられたセラミック板上に薄膜サーミスタ層を
蒸着する際に、それぞれの電極の引出電極となる部分に
マスクを使用してサーミスタ層を゛蒸着しないようにし
ている。そして、このように形成されたものを1チツプ
づつ切断して製造するものであった。
が多数設けられたセラミック板上に薄膜サーミスタ層を
蒸着する際に、それぞれの電極の引出電極となる部分に
マスクを使用してサーミスタ層を゛蒸着しないようにし
ている。そして、このように形成されたものを1チツプ
づつ切断して製造するものであった。
このような製造によるものは、電極の寸法精度が製品の
特性バラツキに大きく影響するものであった。また、サ
ーミスタ層の蒸着時にマスクを使用するため、生産時の
作業性も悪いといった欠点を有していた。
特性バラツキに大きく影響するものであった。また、サ
ーミスタ層の蒸着時にマスクを使用するため、生産時の
作業性も悪いといった欠点を有していた。
本発明は以上のような従来の欠点を除去するサーミスタ
の製造法を提案するものであり、以下その一実施例につ
いて第1図〜第7図と共に説明する。
の製造法を提案するものであり、以下その一実施例につ
いて第1図〜第7図と共に説明する。
まず、図において1は熱伝導性に優れたアルミナ板等の
セラミック基板で、第1図に示すように多数の穴2が整
列状に開けられている。この基板1の片面に電極材、料
を印刷し、この時に穴2の中にその電極材料が流れ込み
、完全に電極材料が穴2を埋めるようにする。この状態
を第2図に示しており、−上記基板1の片面に設けられ
た導電部3は穴2内に達している。つぎに、上記基板1
のもう一方の而に上記と同じ電極材料を印刷し、第3図
に示すように導電部4を形成する。これにより上記導電
部3.4は多数の穴2を通して電気的に完全な導通状態
となる。ついで、上記基板1の片面の上記導電部3−ヒ
に第4図に示すようにサーミスタ特性を有する材料を蒸
着して薄膜サーミスタ層5を形成し、さらにそのサーミ
ス層5の」ユに」−記と同じかまたは異なる電極材料を
印刷または蒸着して第5図に示すように導電部6を形成
する。
セラミック基板で、第1図に示すように多数の穴2が整
列状に開けられている。この基板1の片面に電極材、料
を印刷し、この時に穴2の中にその電極材料が流れ込み
、完全に電極材料が穴2を埋めるようにする。この状態
を第2図に示しており、−上記基板1の片面に設けられ
た導電部3は穴2内に達している。つぎに、上記基板1
のもう一方の而に上記と同じ電極材料を印刷し、第3図
に示すように導電部4を形成する。これにより上記導電
部3.4は多数の穴2を通して電気的に完全な導通状態
となる。ついで、上記基板1の片面の上記導電部3−ヒ
に第4図に示すようにサーミスタ特性を有する材料を蒸
着して薄膜サーミスタ層5を形成し、さらにそのサーミ
ス層5の」ユに」−記と同じかまたは異なる電極材料を
印刷または蒸着して第5図に示すように導電部6を形成
する。
その後、多数の穴2によって上記導電部3.4が導通し
ている状態のものを第°6図に示すように切断線7のと
ころで9ノ断じ、穴2の1つでそれぞれ1チツプが導通
している形に切断する。このようにしてサーミスタは製
造されるのであり、第7図に1チツプになった状態のサ
ーミスタを示しでいる。
ている状態のものを第°6図に示すように切断線7のと
ころで9ノ断じ、穴2の1つでそれぞれ1チツプが導通
している形に切断する。このようにしてサーミスタは製
造されるのであり、第7図に1チツプになった状態のサ
ーミスタを示しでいる。
このような製造どすることべよって、セラミック基板と
して用いる例えばアルミナ板は薄く熱伝導性に優れてい
るため、応答性の優れたものとなる。ま、た、従来のよ
うにマスクを使用しないため位置合せの作業がなく、作
業上の向−にが図れる。
して用いる例えばアルミナ板は薄く熱伝導性に優れてい
るため、応答性の優れたものとなる。ま、た、従来のよ
うにマスクを使用しないため位置合せの作業がなく、作
業上の向−にが図れる。
以上のように本発明の製造法によれば、熱伝導性に優れ
たセラミック基板の而に薄膜サーミスタ層を形成す不こ
とによって、高品質で組立ての作業性もきわめて優五た
ものとなり、安価にして製、作できるという実用的価値
を有するものである。
たセラミック基板の而に薄膜サーミスタ層を形成す不こ
とによって、高品質で組立ての作業性もきわめて優五た
ものとなり、安価にして製、作できるという実用的価値
を有するものである。
第1図は本発明の詳細な説明するだめのセラミック基板
の斜視図、第2図〜第6図は同製造工程順の状態を示す
断面図、第6図は同しく切断工程を示す斜視図、第7図
は同じく切断によりサーミスタが1チツプになった状態
を示す斜視図である。 1・・・・・セラミック基板、 2・・・・・穴、3
・4・・・・・第1、第2の導電部、5o・・・薄膜サ
ーミスタ層、6・・・・・第3の導電部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 3 第6図 第7図
の斜視図、第2図〜第6図は同製造工程順の状態を示す
断面図、第6図は同しく切断工程を示す斜視図、第7図
は同じく切断によりサーミスタが1チツプになった状態
を示す斜視図である。 1・・・・・セラミック基板、 2・・・・・穴、3
・4・・・・・第1、第2の導電部、5o・・・薄膜サ
ーミスタ層、6・・・・・第3の導電部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 3 第6図 第7図
Claims (1)
- 熱伝導性に優れた複数の穴を有するセラミック基板の両
面にその穴を通して印刷により第1、第2の導電部を設
け、上記セラミック基板の片面の上記導電部上にサーミ
スタ特性を有する材料を蒸着して薄膜サーミスタ層を形
成し、この薄膜サーミスタ層の上に導電材料を蒸着また
は印刷して第3の導電部を設け、その後多数の穴によっ
て」二記第1、第2の導電部が導通している状態のもの
を1ケの穴によって導通している形に切断することを特
徴とするサーミスタの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57064336A JPS58182202A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | サ−ミスタの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57064336A JPS58182202A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | サ−ミスタの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58182202A true JPS58182202A (ja) | 1983-10-25 |
| JPH0341962B2 JPH0341962B2 (ja) | 1991-06-25 |
Family
ID=13255292
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57064336A Granted JPS58182202A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | サ−ミスタの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58182202A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01171201A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-06 | Okazaki Seisakusho:Kk | 薄膜抵抗測温体および測温体 |
-
1982
- 1982-04-16 JP JP57064336A patent/JPS58182202A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01171201A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-06 | Okazaki Seisakusho:Kk | 薄膜抵抗測温体および測温体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0341962B2 (ja) | 1991-06-25 |
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