JPS58188043A - ビ−ム加工装置 - Google Patents
ビ−ム加工装置Info
- Publication number
- JPS58188043A JPS58188043A JP57071822A JP7182282A JPS58188043A JP S58188043 A JPS58188043 A JP S58188043A JP 57071822 A JP57071822 A JP 57071822A JP 7182282 A JP7182282 A JP 7182282A JP S58188043 A JPS58188043 A JP S58188043A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pulse
- output
- oscillation circuit
- circuit
- control
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/24—Circuit arrangements not adapted to a particular application of the tube and not otherwise provided for
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、イオンビーム、電子ビーム、プラズマビーム
、レーザービーム等のビームを加工部に照射して掘削加
工、溶接、エツチング、ブレーティング、熱処理等の加
工を行うビーム加工装置の改良に関する。
、レーザービーム等のビームを加工部に照射して掘削加
工、溶接、エツチング、ブレーティング、熱処理等の加
工を行うビーム加工装置の改良に関する。
従来ビームを発生する１電■、例えば電子、イオンを加
速する加速電源には定状直流高電圧を利用しているが、
この場合加工韮ネルギが充分精密に制御できない。また
レーザに於てコンデンサに貯えたエネルギを放電管に放
電してレーザ発振さぜることは知られ（いる。しかしこ
のコデンサの放電を目的に合せて任意に制御するという
わけにはいかない。ビーム加−［に於て加−ｒ性能、特
に精密な加工を打うＩこめにはビームの制御が極めて重
要であるが、従来は何れのものも充分な制御ができなか
った。
速する加速電源には定状直流高電圧を利用しているが、
この場合加工韮ネルギが充分精密に制御できない。また
レーザに於てコンデンサに貯えたエネルギを放電管に放
電してレーザ発振さぜることは知られ（いる。しかしこ
のコデンサの放電を目的に合せて任意に制御するという
わけにはいかない。ビーム加−［に於て加−ｒ性能、特
に精密な加工を打うＩこめにはビームの制御が極めて重
要であるが、従来は何れのものも充分な制御ができなか
った。
本発明は電源に単位パルスのパルス数を制御するパルス
電源を設けたことを特徴とづるものである。
電源を設けたことを特徴とづるものである。
以ド図面の一実施例により本発明を説明すると、第１図
に於て、第１は陰極を構成するフィラメントで、２が加
熱用電源、３は電子放射を制御するウェーネルト電極、
４，５は電子加速用電極で、この間に静電レンズ用電極
６が設けられている。
に於て、第１は陰極を構成するフィラメントで、２が加
熱用電源、３は電子放射を制御するウェーネルト電極、
４，５は電子加速用電極で、この間に静電レンズ用電極
６が設けられている。
７はビーム集束用電磁レンズで、集束したビームスポッ
トを被加工体１３に与えて加工する。８はパルス変圧器
で、変圧出力を整流器９で整流して加速電極に印加する
。１０は直流電源、１１は直流をスイッチングしてパル
スを発生するスイッチ素子。
トを被加工体１３に与えて加工する。８はパルス変圧器
で、変圧出力を整流器９で整流して加速電極に印加する
。１０は直流電源、１１は直流をスイッチングしてパル
スを発生するスイッチ素子。
１２が制御パルスを発生するパルス発生回路である。
陰極フィラメント１の加熱により陰極から放射する電子
ビームはウェーネルト３のスリットを通り電極４．５．
６の加速集束作用を受け、被加工体１３の加工部に焦点
を結ぶ、勿論このビーム照射の雰囲気は真空ポンプによ
って高真空に排気されている。被加工体１３は加速電子
ビームによって溶解、蒸発等して加工されるが、微細精
密加工に於て照射ビームのエネルギ制御が重要になって
くる。
ビームはウェーネルト３のスリットを通り電極４．５．
６の加速集束作用を受け、被加工体１３の加工部に焦点
を結ぶ、勿論このビーム照射の雰囲気は真空ポンプによ
って高真空に排気されている。被加工体１３は加速電子
ビームによって溶解、蒸発等して加工されるが、微細精
密加工に於て照射ビームのエネルギ制御が重要になって
くる。
エネルギ制御はパルス電源のパルス数の制御によって行
う。
う。
パルス発生回路１２の詳細は第２図の通りで、１２１が
単位パルス列を発生する発振回路、１２２が継続するパ
ルス数を制御するパルス発生用の発振回路で、両者の出
力をＡＮＤ回路１２３により結合することによって所定
のパルス数が継続するパルスを出力し増巾器１２４で増
巾してスイッチ１１を制御する。発振回路１２１は一定
のパルス巾と休止中を有するパルスを発生し続けるので
、このパルス数によってエネルギ制御がデジタルに精密
に制御て、きる３、即りＲ振開回路１２１出力パルスと
発振回路１２２の出ツノパルスとはＡ Ｎ ｌ’）回路
１２３によってノ′ント結ａ４るので・、発振回路１
２２の出力のＡンパルス時間ｊごＧｊ ｌ 情パルスか
出カケることになり、Ａンバルス中の制御によ・〕（単
位パルス数を容易に制御づる（−とができる。
単位パルス列を発生する発振回路、１２２が継続するパ
ルス数を制御するパルス発生用の発振回路で、両者の出
力をＡＮＤ回路１２３により結合することによって所定
のパルス数が継続するパルスを出力し増巾器１２４で増
巾してスイッチ１１を制御する。発振回路１２１は一定
のパルス巾と休止中を有するパルスを発生し続けるので
、このパルス数によってエネルギ制御がデジタルに精密
に制御て、きる３、即りＲ振開回路１２１出力パルスと
発振回路１２２の出ツノパルスとはＡ Ｎ ｌ’）回路
１２３によってノ′ント結ａ４るので・、発振回路１
２２の出力のＡンパルス時間ｊごＧｊ ｌ 情パルスか
出カケることになり、Ａンバルス中の制御によ・〕（単
位パルス数を容易に制御づる（−とができる。
よｌ、甲（＆パルス列が中断づる時間＋ｉ＋も発振回路
１２２の出力オノパルス時間により容易に精密に制御す
ることかＣき、これによりスイッチ１１′Ａン。
１２２の出力オノパルス時間により容易に精密に制御す
ることかＣき、これによりスイッチ１１′Ａン。
Ａ］し弯Ｉｆ器８で・昇圧して加速電極に加えるエネル
１が容易にＭ密に制御でさ、ビーへＪネルギの制御か（
さ、照射加Ｉの精密制御ができるものである。
１が容易にＭ密に制御でさ、ビーへＪネルギの制御か（
さ、照射加Ｉの精密制御ができるものである。
Ｌ、／、が）（この本発明！４ Ｎ Ｇ；よれば、加り
部照射Ｊネル−１″−の制御が任意に精密に制御できる
ので、細削加１．溶接、［ツチング、ブレーＪインク。
部照射Ｊネル−１″−の制御が任意に精密に制御できる
ので、細削加１．溶接、［ツチング、ブレーＪインク。
熱処理等の加１を［」的に対しく常に１１−確に什１げ
る（丁とが（さる。
る（丁とが（さる。
尚前記パルス発９回路１２は発振回路１２１の発９パル
スを／Ｊウンタで計数して所定数に達する毎に単イ）“
ｌパルス列を中断させるようにしても単位パルスのパル
ス数の制御が任意にでき精密な制御がて・きる。また単
位パルスを発生する発振回路１２１の発振作動を所定時
間もしくはパルス発生毎に中断制御するようにしてもよ
く、その他パルス発生回路１２は任意のものが利用でき
る。
スを／Ｊウンタで計数して所定数に達する毎に単イ）“
ｌパルス列を中断させるようにしても単位パルスのパル
ス数の制御が任意にでき精密な制御がて・きる。また単
位パルスを発生する発振回路１２１の発振作動を所定時
間もしくはパルス発生毎に中断制御するようにしてもよ
く、その他パルス発生回路１２は任意のものが利用でき
る。
また本発明は前記パルス電源を設けることによって電子
ビーム、イオンビームに限らず、プラズマ、レーリ“−
等のビームの制御も容易にでき、これらによるビーム加
工が正確に高性能に行える効果を秦づる１゜
ビーム、イオンビームに限らず、プラズマ、レーリ“−
等のビームの制御も容易にでき、これらによるビーム加
工が正確に高性能に行える効果を秦づる１゜
第１図は本発明装置の一実施例構成図、第２図はぞの一
部分の詳細図である。 ］・・・・・・・・・フィラメント ２・・・・・・・・・つ１−ネルト ４．５．６・・・・・・・・・電極 ８・・・・・・・・・変圧器 ９・・・・・・・・・整流器 １０・・・・・・・・・直流電源 １１・・・・・・・・・スイツチ １２・・・・・・・・・パルス発生回路１３・・・・・
・・・・液加１体 特 許 出 願 人 株式会社井１シトパックス研究所 代表省 井 １− 潔
部分の詳細図である。 ］・・・・・・・・・フィラメント ２・・・・・・・・・つ１−ネルト ４．５．６・・・・・・・・・電極 ８・・・・・・・・・変圧器 ９・・・・・・・・・整流器 １０・・・・・・・・・直流電源 １１・・・・・・・・・スイツチ １２・・・・・・・・・パルス発生回路１３・・・・・
・・・・液加１体 特 許 出 願 人 株式会社井１シトパックス研究所 代表省 井 １− 潔
Claims (1)
- 加工部分に高エネルギビームを［射して加工するビーム
加工装置に於て、前記畠エネルギビームを発生する主電
源に単位パルスのパルス数を制御するパルス電源を設け
たことを特徴とするビーム加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57071822A JPS58188043A (ja) | 1982-04-28 | 1982-04-28 | ビ−ム加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57071822A JPS58188043A (ja) | 1982-04-28 | 1982-04-28 | ビ−ム加工装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58188043A true JPS58188043A (ja) | 1983-11-02 |
| JPH0447422B2 JPH0447422B2 (ja) | 1992-08-03 |
Family
ID=13471626
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57071822A Granted JPS58188043A (ja) | 1982-04-28 | 1982-04-28 | ビ−ム加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58188043A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006244871A (ja) * | 2005-03-03 | 2006-09-14 | Fujitsu Ltd | 粒子を堆積する方法、電子放出装置及びトランジスタ |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7339222B2 (ja) | 2020-09-03 | 2023-09-05 | 株式会社神戸製鋼所 | 銑鉄製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5728686A (en) * | 1980-07-28 | 1982-02-16 | Daihen Corp | Working apparatus by charged particle beam |
-
1982
- 1982-04-28 JP JP57071822A patent/JPS58188043A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5728686A (en) * | 1980-07-28 | 1982-02-16 | Daihen Corp | Working apparatus by charged particle beam |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006244871A (ja) * | 2005-03-03 | 2006-09-14 | Fujitsu Ltd | 粒子を堆積する方法、電子放出装置及びトランジスタ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0447422B2 (ja) | 1992-08-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7706506B1 (en) | X-ray system for irradiating material used in transfusions | |
| US4393295A (en) | Apparatus and method for engraving with an electron beam | |
| US3875366A (en) | Method and apparatus for regulating the beam current in industrial charge carrier beam apparatus | |
| JPS58188043A (ja) | ビ−ム加工装置 | |
| US4551606A (en) | Beamed energy radiation control method and apparatus | |
| JPH08155670A (ja) | レーザ加工機とその加工方法 | |
| JP5813536B2 (ja) | イオン源 | |
| US5097178A (en) | RF electron gun with cathode activating device | |
| JP2637948B2 (ja) | ビームプラズマ型イオン銃 | |
| JP2621369B2 (ja) | 電子ビーム加工装置 | |
| EP0127706B1 (en) | Beamed energy radiation control method and apparatus, and processes and equipment comprising said method and apparatus respectively | |
| JP3490770B2 (ja) | ターゲット装置及びｘ線レーザ装置 | |
| JPH0223973B2 (ja) | ||
| JP2006142315A (ja) | エネルギービーム加工装置，エネルギービーム加工方法 | |
| JP3135864B2 (ja) | イオン・プラズマ型電子銃とその制御方法 | |
| JPS6182984A (ja) | 電子ビ−ム溶接方法及び装置 | |
| JPH06176723A (ja) | 電子線発生装置 | |
| JP2002323598A (ja) | レーザー誘起プラズマによるｘ線集光方法及び装置 | |
| JP2544236B2 (ja) | 多価イオン発生法 | |
| JPH03261057A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
| JPH03167742A (ja) | 電子パルスビーム発生時の絞りの保護方法及び装置 | |
| JPS59191250A (ja) | 放射線発生装置 | |
| JPS61288361A (ja) | 電子ビ−ム溶接装置 | |
| JP2022108281A5 (ja) | ||
| JP2723781B2 (ja) | レーザトリガ放電型スイッチ装置 |