JPS58189247A - 安定化ポリオレフイン樹脂組成物 - Google Patents
安定化ポリオレフイン樹脂組成物Info
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- JPS58189247A JPS58189247A JP7183582A JP7183582A JPS58189247A JP S58189247 A JPS58189247 A JP S58189247A JP 7183582 A JP7183582 A JP 7183582A JP 7183582 A JP7183582 A JP 7183582A JP S58189247 A JPS58189247 A JP S58189247A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は熱および酸化および光に対し−Cきわめて優れ
た安定性を有するポリオレフィン樹脂組成物に関する。
た安定性を有するポリオレフィン樹脂組成物に関する。
ポリオレフィン樹脂は優れた物理的、化学的、電気的性
質を有しているため、吹込成形、押出成形、射出成形ま
たはカレンダー加工などの各種の方法により成形品、パ
イプ、シート、フィルムなどに加工され、多くの分野で
使用されている。しかしポリエチレン、ポリプロピレン
などのポリオレフィン樹脂はそれ単独で用いられるとき
は加工時irこは使用時において、熱および酸素あるい
は光の作用により劣化し、軟化、脆化または変色などの
現象を伴ってその物性が着しく低l・することもよく知
られている。
質を有しているため、吹込成形、押出成形、射出成形ま
たはカレンダー加工などの各種の方法により成形品、パ
イプ、シート、フィルムなどに加工され、多くの分野で
使用されている。しかしポリエチレン、ポリプロピレン
などのポリオレフィン樹脂はそれ単独で用いられるとき
は加工時irこは使用時において、熱および酸素あるい
は光の作用により劣化し、軟化、脆化または変色などの
現象を伴ってその物性が着しく低l・することもよく知
られている。
このJ:うな熱および酸化による劣化を防止する目的で
従来J jl 、例えば2.6−ジーt−ブチル−4−
メチルフェノール、n−オクタデシル−β−(8、5−
ジーL−ブチルー4−ヒドロキシフェニル)プロピオネ
ート、テトラキス〔メチルジー8−(8,F+−ジ−t
−ブチル−4−ハイドロキシフェニル)プロピ、t*−
)]メタン、1,8.5−1−ジメチル−2,4,6−
トリス(8,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)ベンゼン、1,1.8−)リス(2−メチル−4
−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、ビス
[8,8−ビス(4−ヒドロキシ−B−t−ブチルフェ
ニル)M酸]グリコールエステル、トリス(2,6−ジ
−メチル−4−ブチル−8−ヒドロキシベンジル)イソ
シアヌレート等の各種フェノール系酸化防止剤を、更に
酸化防止性能を向上させる目的でこれらフェノール系酸
化防止剤と、例えばジラウリル−8,8′−チオジプロ
ピオネート、シミリスチル−8,8′−チオジプロピオ
ネート、ジステアリル−8,8′−チオジプロピオネー
ト等のイオウ系酸化防止剤が併用され、更には光による
劣化を防止する目的で、例えば2−ヒドロキシ−4−メ
トキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オク
トキシベンシフ、ノン等のベンゾフェノン系、2 (2
’−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリア
ゾール、2(2′−ヒドロキシ−8′−t−ブチル−5
′−メチルフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアソー
ル等糞ベンゾトリアゾール系、ビス(2,2゜6.6−
テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、4−ベン
ゾイルオキシ−2,2,6゜6−チトラメチルビペリジ
ン等のヒンダード型ヒヘリジン系等の光安定剤が、ポリ
オレフィン樹脂の製造、JJI+ に’If中に添加さ
れ使用されている。しかし、これらの方法は熱および酸
化および光に対する安定性の点でまだ充分満足すべきも
のではない。
従来J jl 、例えば2.6−ジーt−ブチル−4−
メチルフェノール、n−オクタデシル−β−(8、5−
ジーL−ブチルー4−ヒドロキシフェニル)プロピオネ
ート、テトラキス〔メチルジー8−(8,F+−ジ−t
−ブチル−4−ハイドロキシフェニル)プロピ、t*−
)]メタン、1,8.5−1−ジメチル−2,4,6−
トリス(8,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)ベンゼン、1,1.8−)リス(2−メチル−4
−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、ビス
[8,8−ビス(4−ヒドロキシ−B−t−ブチルフェ
ニル)M酸]グリコールエステル、トリス(2,6−ジ
−メチル−4−ブチル−8−ヒドロキシベンジル)イソ
シアヌレート等の各種フェノール系酸化防止剤を、更に
酸化防止性能を向上させる目的でこれらフェノール系酸
化防止剤と、例えばジラウリル−8,8′−チオジプロ
ピオネート、シミリスチル−8,8′−チオジプロピオ
ネート、ジステアリル−8,8′−チオジプロピオネー
ト等のイオウ系酸化防止剤が併用され、更には光による
劣化を防止する目的で、例えば2−ヒドロキシ−4−メ
トキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オク
トキシベンシフ、ノン等のベンゾフェノン系、2 (2
’−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリア
ゾール、2(2′−ヒドロキシ−8′−t−ブチル−5
′−メチルフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアソー
ル等糞ベンゾトリアゾール系、ビス(2,2゜6.6−
テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、4−ベン
ゾイルオキシ−2,2,6゜6−チトラメチルビペリジ
ン等のヒンダード型ヒヘリジン系等の光安定剤が、ポリ
オレフィン樹脂の製造、JJI+ に’If中に添加さ
れ使用されている。しかし、これらの方法は熱および酸
化および光に対する安定性の点でまだ充分満足すべきも
のではない。
本発明にらは、これらの点に解決を与えるべく柿々横討
の結果、特定のヒンダード型ピペリジン系光安定剤は、
通常の各種ヒンダードピペリジン系光安定剤と% 11
14酸化防止剤、特にイオウ系酸化防出剤との組み合せ
に艶られる大巾な光安定性能低−ト挙動を角さないばか
りでなく、特定のイオウ系酸化防1F剤および特定のフ
ェノール系酸化防止剤との組み合せにおいては従来の組
み合せ技術からはとうてい予測できない驚くべき相乗効
果が得らtlることを見い出し、従来技術よりきわめて
優れた熱および酸化および光に対しての安定性を有する
ことを見い出し、本発明に至っfご。
の結果、特定のヒンダード型ピペリジン系光安定剤は、
通常の各種ヒンダードピペリジン系光安定剤と% 11
14酸化防止剤、特にイオウ系酸化防出剤との組み合せ
に艶られる大巾な光安定性能低−ト挙動を角さないばか
りでなく、特定のイオウ系酸化防1F剤および特定のフ
ェノール系酸化防止剤との組み合せにおいては従来の組
み合せ技術からはとうてい予測できない驚くべき相乗効
果が得らtlることを見い出し、従来技術よりきわめて
優れた熱および酸化および光に対しての安定性を有する
ことを見い出し、本発明に至っfご。
すなわち本発明は、ポリオレフィン樹脂に(I) 下
記一般式で示されるヒンダード型ピペリジン系化合物 (式中、R1は炭素数2〜8のアルキレン基または炭素
数5・−6のシクロアルキレン基を表わし、几2および
R8は谷、々炭素数1〜8のアルキル基を表わし、14
は水紫原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜8のアルコキ
シ基または炭素数1〜8のアシロキシ基を表わし、 R
FIは炭素数1〜8のアルキル基または炭素数5〜6の
シクロアルキル基を表わし、nは4〜10の整数を表わ
す。) 偉) テトラキス[メチレン−8−(8,5−ジーも
一ブチルー4−ヒドロキシフェニル)フロビオオートコ
メタン、 (m) 下記一般式で示されるチオジプロピオネート
、および S (O1l鼠(+IbOO−ILs )!(式中、几
6は炭素数12〜18のアルキル基を表わす) (ロ)下記一般式で示されるイオウ系化合物1 (Ry−8−011m1311m −C−0−C1h−
)7C(式中、助は炭素数4〜20のアルキル基を表わ
す) を(I):(II):(IN):(1/)−1〜20
: 1 : 0〜15 :θ〜16であって、かつ偵)
:[@)+(転)〕=1:1〜15(重量比)の割合で
配合してなることを特徴とする安定化ポリオレフィン樹
脂組成物を提供するものである。
記一般式で示されるヒンダード型ピペリジン系化合物 (式中、R1は炭素数2〜8のアルキレン基または炭素
数5・−6のシクロアルキレン基を表わし、几2および
R8は谷、々炭素数1〜8のアルキル基を表わし、14
は水紫原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜8のアルコキ
シ基または炭素数1〜8のアシロキシ基を表わし、 R
FIは炭素数1〜8のアルキル基または炭素数5〜6の
シクロアルキル基を表わし、nは4〜10の整数を表わ
す。) 偉) テトラキス[メチレン−8−(8,5−ジーも
一ブチルー4−ヒドロキシフェニル)フロビオオートコ
メタン、 (m) 下記一般式で示されるチオジプロピオネート
、および S (O1l鼠(+IbOO−ILs )!(式中、几
6は炭素数12〜18のアルキル基を表わす) (ロ)下記一般式で示されるイオウ系化合物1 (Ry−8−011m1311m −C−0−C1h−
)7C(式中、助は炭素数4〜20のアルキル基を表わ
す) を(I):(II):(IN):(1/)−1〜20
: 1 : 0〜15 :θ〜16であって、かつ偵)
:[@)+(転)〕=1:1〜15(重量比)の割合で
配合してなることを特徴とする安定化ポリオレフィン樹
脂組成物を提供するものである。
本発明に用いられる」二記一般式で示されるヒンダード
型ピペリジン系化合物において、置換lf5 R1−R
sの意味は先に述べtことおりであるが、好ま【ノくは
R1は炭素数2〜4のアルキレン基であり、ILsIお
よびRsは炭素数1〜4のアルキル基であり、lL4は
水素原子、ヒドロキシル基であ(0) す、R6は炭素数1〜8のアルキル基であり、nは約6
〜8の整数である。さらに好ましくは、R1はエチレン
基であり、 RgおよびRsはメチル基であり、R4は
ヒドロキシル基であり、R5はメン チル基である。かかるヒンダード型ピペリジン系化合物
としては (lO) などが例示される。
型ピペリジン系化合物において、置換lf5 R1−R
sの意味は先に述べtことおりであるが、好ま【ノくは
R1は炭素数2〜4のアルキレン基であり、ILsIお
よびRsは炭素数1〜4のアルキル基であり、lL4は
水素原子、ヒドロキシル基であ(0) す、R6は炭素数1〜8のアルキル基であり、nは約6
〜8の整数である。さらに好ましくは、R1はエチレン
基であり、 RgおよびRsはメチル基であり、R4は
ヒドロキシル基であり、R5はメン チル基である。かかるヒンダード型ピペリジン系化合物
としては (lO) などが例示される。
このようなヒメダード型ピペリジン系化合物は一般式
(式中、lL+〜lL6は前記と同じ意味を有する。)
で示されるエステル化合物を、たとえば米国特許第4,
265,805号明細書に記載の公知の方法により、高
温、重合触媒存在下で結合重合することによって容易に
製造することができる。
で示されるエステル化合物を、たとえば米国特許第4,
265,805号明細書に記載の公知の方法により、高
温、重合触媒存在下で結合重合することによって容易に
製造することができる。
また、上記一般式で示されるチオジプロピオネートおよ
びイオウ系化合物において、置換基ELs 、 E、7
の意味は先に述べたとおりであるが、R6は炭素数14
〜18のアルキル基が好ましい。
びイオウ系化合物において、置換基ELs 、 E、7
の意味は先に述べたとおりであるが、R6は炭素数14
〜18のアルキル基が好ましい。
またR7は炭素数6〜18のアルキル基が好ましく、と
りわけ炭素数12のアルキル基が最も好ましい。かかる
チオジプロピオネートとしてはジラウリル−8,8′−
チオジプロピオネート、シミリスチル−8,8′−チオ
ジプロピオネート、ジステアリル−8,8′−チオジプ
ロピオネートなどが例示され、またイオウ系化合物とし
てはペンタエリスリトール−テトラキス(β−へキシル
チオプロピオネート)、ペンタエリスリトール−テトラ
キス(β−ドデシルチオプロピオ)、ペンタエリスリト
ール−テトラキス(β−オクタデシルチオプロピオネー
ト)などが例示される。
りわけ炭素数12のアルキル基が最も好ましい。かかる
チオジプロピオネートとしてはジラウリル−8,8′−
チオジプロピオネート、シミリスチル−8,8′−チオ
ジプロピオネート、ジステアリル−8,8′−チオジプ
ロピオネートなどが例示され、またイオウ系化合物とし
てはペンタエリスリトール−テトラキス(β−へキシル
チオプロピオネート)、ペンタエリスリトール−テトラ
キス(β−ドデシルチオプロピオ)、ペンタエリスリト
ール−テトラキス(β−オクタデシルチオプロピオネー
ト)などが例示される。
本発明のポリオレフィン樹脂組成物において、前記化合
物(Tl 、 (tt) 、θ11)および(的の総添
加量はポIJ Jレフイン樹脂100直垣部に対して通
常0、(11〜5旭隠部であり、好ましくは0.1〜1
重皿部である。まlコ、各化合物の使用割合は重A↓
〕七 で (t) : Ot) : (Ill
) : (■l ・二 冒 〜 20:1:0
〜15:0〜15でJ>−、)て、か−’)’(I[
) : [@)+(P/) ] = 1=1〜15で島
るが、好ましくは化合物位)に対して化合物(r)が2
〜15重量倍、化合物@)と(酌の合計が2〜18重量
倍である。
物(Tl 、 (tt) 、θ11)および(的の総添
加量はポIJ Jレフイン樹脂100直垣部に対して通
常0、(11〜5旭隠部であり、好ましくは0.1〜1
重皿部である。まlコ、各化合物の使用割合は重A↓
〕七 で (t) : Ot) : (Ill
) : (■l ・二 冒 〜 20:1:0
〜15:0〜15でJ>−、)て、か−’)’(I[
) : [@)+(P/) ] = 1=1〜15で島
るが、好ましくは化合物位)に対して化合物(r)が2
〜15重量倍、化合物@)と(酌の合計が2〜18重量
倍である。
ここで、化合物(+)およびC’ (Ill) +(1
’/l 1が化合物@)に対して1重量倍未満では目的
とする効果が十分に得られ難く、また化合物(1)が2
0重量倍を越えてもそれに見合うだけの効果が得難く、
経済的にも不利となる。化合物〔(2))+(11が1
5重量倍を越えるとそれによる態影響があられれ易くな
る。化合物(2))と(めの使用割合はその合計量が化
合物(TI)に対して1〜15i量倍の範囲である限り
において任意であるが、一般には@)ま(18) たは(酌のぞれぞれ単独が用いられる。
’/l 1が化合物@)に対して1重量倍未満では目的
とする効果が十分に得られ難く、また化合物(1)が2
0重量倍を越えてもそれに見合うだけの効果が得難く、
経済的にも不利となる。化合物〔(2))+(11が1
5重量倍を越えるとそれによる態影響があられれ易くな
る。化合物(2))と(めの使用割合はその合計量が化
合物(TI)に対して1〜15i量倍の範囲である限り
において任意であるが、一般には@)ま(18) たは(酌のぞれぞれ単独が用いられる。
本発明において、化合物(I)、 ([) 、 (口■
)および(IV)をポリオレフィン樹脂に配合する方法
としては、ポリオレフィン樹脂中に安定剤、顔料、充て
ん剤等を混和配合する従来より公知の装置および操作法
がそのまま適用できる。
)および(IV)をポリオレフィン樹脂に配合する方法
としては、ポリオレフィン樹脂中に安定剤、顔料、充て
ん剤等を混和配合する従来より公知の装置および操作法
がそのまま適用できる。
本発明のポリオレフィン樹脂組成物には他の添加剤、た
とえば紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、金属不活
性化剤、金属石ケン類、造核剤、滑剤、帯電防止剤、難
燃剤、顔料および充填剤などを含有してもよい。
とえば紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、金属不活
性化剤、金属石ケン類、造核剤、滑剤、帯電防止剤、難
燃剤、顔料および充填剤などを含有してもよい。
本発明により安定化されるポリオレフィン樹脂としては
、低密度ポリエチレン、中高[ポリエチレン、リニヤ−
低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−1
などのポリα−オレフィン、ブロビレンーエチレンラン
タムマtこはブロック共重合体、エチし・ノーブテン−
1ランダム共重合体などのポリα−オレフィン共重合体
、無水マレイン、酸変性ポリプロピレン、などのポリα
−オレフィンとビニルモノマーの共(IA ) 重合体およびこれらの混合物が例示されるが、この中で
持にポリプロピレンに対して汀効である。
、低密度ポリエチレン、中高[ポリエチレン、リニヤ−
低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−1
などのポリα−オレフィン、ブロビレンーエチレンラン
タムマtこはブロック共重合体、エチし・ノーブテン−
1ランダム共重合体などのポリα−オレフィン共重合体
、無水マレイン、酸変性ポリプロピレン、などのポリα
−オレフィンとビニルモノマーの共(IA ) 重合体およびこれらの混合物が例示されるが、この中で
持にポリプロピレンに対して汀効である。
次に実施例を挙げて本発明の詳細な説明するか、本発明
はこれに、上り限定されるものではない。
はこれに、上り限定されるものではない。
実施例1
下記配合物をミギザーで5分間混合したあと、シリンダ
ー温If 280〜240℃、ヘッドダイス渥11[2
5(1℃、回転数20 rpm cD押出機によって溶
融混練【7て造粒し1こ。かくしで得られたべl/ソト
を210 ℃の熱プレスで厚さl■のシー1に成形し、
40X40X1關の試験片を作成しIこ、、160℃の
ギヤーオーブン中で試験片面積の80%が脆化するまで
の時間を測定し、熱および酸化安定性を評価した。その
結果を表−2に示す。
ー温If 280〜240℃、ヘッドダイス渥11[2
5(1℃、回転数20 rpm cD押出機によって溶
融混練【7て造粒し1こ。かくしで得られたべl/ソト
を210 ℃の熱プレスで厚さl■のシー1に成形し、
40X40X1關の試験片を作成しIこ、、160℃の
ギヤーオーブン中で試験片面積の80%が脆化するまで
の時間を測定し、熱および酸化安定性を評価した。その
結果を表−2に示す。
また一方、150X80X1mmの試験片を作成し、サ
ンシャインウェーザーメーター(光源;カーボンアーク
、ブラックパネル温度;88十B℃、スプレー周期11
20分、スプt・一時間i18分)中で光照射させ、6
0時間毎にエビ状に折り曲げ、折れ切れるまでの時間を
測定し、耐候性を評価した。その結果を表−2に示す。
ンシャインウェーザーメーター(光源;カーボンアーク
、ブラックパネル温度;88十B℃、スプレー周期11
20分、スプt・一時間i18分)中で光照射させ、6
0時間毎にエビ状に折り曲げ、折れ切れるまでの時間を
測定し、耐候性を評価した。その結果を表−2に示す。
〈配 合〉
未安定化ポリプロピレン 100 ’tllkW6ス
テアリン酸カルシウム 0.1 2.6−ジーt−ブチル−4− メチルフェノール 0.2 供試化合物 表に記載 なお、表−2における供試化合物において、記号I−1
〜T−5は表−1に示すヒンダード型ピペリジン系化合
物を示し、その他は下記のとおりである。
テアリン酸カルシウム 0.1 2.6−ジーt−ブチル−4− メチルフェノール 0.2 供試化合物 表に記載 なお、表−2における供試化合物において、記号I−1
〜T−5は表−1に示すヒンダード型ピペリジン系化合
物を示し、その他は下記のとおりである。
I −(5ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)セバケー ト I−74−ベンゾイルオキシ−2,2゜6.6−チトラ
メチルビペリジン I −8キマソーブ944(キモサ社品)(ヒンダード
型ピペリジン系光安 定則) 1−9 ホスタビン TMN−20(ヘキスト社品)
(ヒンダード型ピペリジ ン系 光安定剤) ■ テトラキス〔メチレン−8−(8゜b−ジ−t
−ブチル−4−ハイド ロキシフェニル)プロピオネートコ メタン 11−1 ジラウリル−8,8′−チオジプロビオネ
ーi・ 111−2 ジiリスチルー8.81−チオジプロピ
オネート ll−8ジステアリル−8,8′−チオジプロピオネー
ト M−1ペンタエリスリトール−テトラキス(β−ドデシ
ルチオプロピオネ ート) 1/−2ペンタエリスリトールーテトラキ(17) ス(β−オクタデシルチオプロピ オネート) 表 −1
ピペリジル)セバケー ト I−74−ベンゾイルオキシ−2,2゜6.6−チトラ
メチルビペリジン I −8キマソーブ944(キモサ社品)(ヒンダード
型ピペリジン系光安 定則) 1−9 ホスタビン TMN−20(ヘキスト社品)
(ヒンダード型ピペリジ ン系 光安定剤) ■ テトラキス〔メチレン−8−(8゜b−ジ−t
−ブチル−4−ハイド ロキシフェニル)プロピオネートコ メタン 11−1 ジラウリル−8,8′−チオジプロビオネ
ーi・ 111−2 ジiリスチルー8.81−チオジプロピ
オネート ll−8ジステアリル−8,8′−チオジプロピオネー
ト M−1ペンタエリスリトール−テトラキス(β−ドデシ
ルチオプロピオネ ート) 1/−2ペンタエリスリトールーテトラキ(17) ス(β−オクタデシルチオプロピ オネート) 表 −1
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)ポリオレフィン樹脂に (1) ド記一般式で示されるヒンダード型ピペリジ
ン系化合物、 (式中、R1は炭素数2〜8のアルキレン基または炭素
数5〜6のシクロアルキレン基を表わし、損およびRa
は各々炭素数1〜Bのアルキル基を表わし、 Raは水
素原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜8のアルコキシ基
または炭素数1〜8のアシロキシ基を表わし、几6は炭
素数1〜8のアルキル基または炭素数5〜6のシクロア
ルキル基を表わし、nは4〜10の整数を表わす。)(
1)′ (n) テトラキス〔メチレン−8−(8,5−ジー
も一ブチルー4−ヒドロキシフェニル)プロピオネ−1
’ ]メタン、 @)ト記一般式で示されるチオジプロピオネート、およ
び 0・ 1 8−(−CH2CJ420−0−R6)+1(式中、R
eは炭素数12〜18のアルキル基を表わす) (ロ) 下記一般式で示されるイオウ系化合物1 (R7−S −0Hs+ (J2−C−0−CHs++
j−C(式中、R7は炭素数4〜20のアルキル基を表
わす) を(I) : 、(I[) : @) : (酌=1〜
20:1:0〜15二0〜15であって、かつ(IF)
: [(2)+(転)〕=1:l〜15(重量比)の
割合で配合してなるごとを、特徴とする安定化ポリオレ
フィン樹脂組成物・。 ・ (2) 2)ポリオレフィン樹脂がポリプロピレンである特許請
求の範囲1@1項に記載の安定化ポリオレフィン樹脂組
成物。 8)ヒンダード型ピペリジン系化合物において、置換基
1L1が炭素数2〜4のアルキレン基であり、lugお
よびILaがメチル基であり、抱が水素原子または[;
ド13キシル基であり、Rsが炭素数lへHのアルキル
基であり、nが6〜8の整数である持ff lf#求の
範囲第2項に記載の安定化ポリオレフィン樹脂組成物。 4)ヒンダード型ピペリジン系化合物におイテ、置換基
R1がエチレン基であり、凡2およびRaがメチル基で
あり、R4がヒドロキシル基であり、絢がメチル基であ
り、nが6〜8の整数である特許請求の範囲第2項に記
載の安定化ポリオレフィン樹脂組成物。 5)チオジプロピオネートがジラウリル−8゜8′−チ
オジプロピオネートである特許請求の範囲第8項及び第
4項に記載の安定化ポリオレフィン樹脂組成物。 6)チオジプロピオネートがシミリスチル−8゜8′−
チオジプロピオネートである特許請求の範囲第8項及び
第4項に記載の安定化ポリオレフィン樹脂組成物。 7)チオジプロピオネ−1・がジステアリル−8゜8′
−チオジプロピオネートである特許請求の範囲第8項及
び第4項に記載の安定化ポリオレフィン樹脂組成物。 8)イオウ系化合物がペンクエリスリトール−テトラキ
ス(β−ドデシルチオプロピオネート)である特許請求
の範囲第8項及び第4項に記載の安定化ポリオレフィン
樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7183582A JPS58189247A (ja) | 1982-04-28 | 1982-04-28 | 安定化ポリオレフイン樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7183582A JPS58189247A (ja) | 1982-04-28 | 1982-04-28 | 安定化ポリオレフイン樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58189247A true JPS58189247A (ja) | 1983-11-04 |
Family
ID=13471992
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7183582A Pending JPS58189247A (ja) | 1982-04-28 | 1982-04-28 | 安定化ポリオレフイン樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58189247A (ja) |
-
1982
- 1982-04-28 JP JP7183582A patent/JPS58189247A/ja active Pending
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