JPS58197732A - カツプ回転機構付レジスト塗布装置 - Google Patents
カツプ回転機構付レジスト塗布装置Info
- Publication number
- JPS58197732A JPS58197732A JP57079436A JP7943682A JPS58197732A JP S58197732 A JPS58197732 A JP S58197732A JP 57079436 A JP57079436 A JP 57079436A JP 7943682 A JP7943682 A JP 7943682A JP S58197732 A JPS58197732 A JP S58197732A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- cup
- floor plate
- processed
- cup body
- Prior art date
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、カップ回転機構付レジストを布装置１１１−
関する、 〔発明の技術的背景とその間一点〕 半導体ウェハ等の被処理体の表面にレジスト膜を形成す
る場合１例えば襖１図【；示す如く。
関する、 〔発明の技術的背景とその間一点〕 半導体ウェハ等の被処理体の表面にレジスト膜を形成す
る場合１例えば襖１図【；示す如く。
レジスト−重装＠ｒ、加熱台２．彼処増体１の収納庫４
ｍ、４−等を設けたレジスト塗布架台Ｓ上で行われてい
る・収納ｊｌｆ ４ ａ ｌユ収納された処理１ｉＩｃ
Ｄ半導体クエ八−は、＄２図（Ａ） （：示す如く１通
常シリコン等からなる基板６１上に、厚さ２０００〜４
０００Ａ＠化［１４を形成したものであり、処理後の半
導体ウェハ６’には、同図（Ｈ）Ｃユ示す如く、この酸
化膜ａｈ上冒ユ通常厚さ５０００〜２００ＧＯＡのレジ
ス） 膜６ ｃが形成されている。
ｍ、４−等を設けたレジスト塗布架台Ｓ上で行われてい
る・収納ｊｌｆ ４ ａ ｌユ収納された処理１ｉＩｃ
Ｄ半導体クエ八−は、＄２図（Ａ） （：示す如く１通
常シリコン等からなる基板６１上に、厚さ２０００〜４
０００Ａ＠化［１４を形成したものであり、処理後の半
導体ウェハ６’には、同図（Ｈ）Ｃユ示す如く、この酸
化膜ａｈ上冒ユ通常厚さ５０００〜２００ＧＯＡのレジ
ス） 膜６ ｃが形成されている。
而して、レジストの塗布処理を行うレジスト塗布装置“
は１例えば、襖３図≦−示す如く、排気管１０に介して
排気機構（内示せず）！−接続されたカップ７７内５二
、真空チャックｌｌｖ回転自在５二設けたものであり、
カップ１２の上部の開口部１４鳳から半導体ウェハ６を
真空チャック１２上≦：載置し、モータ１３でこれを回
転させながら関口部１１ｍの上方≦一般けられたノズル
ｊ４から半導体ウェハ６上１；レジストを吹き付けるよ
う櫨ユなっている・しかしながら、半導体ウェハーが回
転しているため、ノズル１４から半導体ウニへ−上Ｃ−
吹き付けられたレジストの一部は、その表１ｔｉｃ衝突
した後、遠心力で飛ばされカップ１１の内Ｉｉ面で反射
して第４図１示す如く、既（−半導体ウェハーの表面−
二形成されたレジス）ｌ１ｇｃ上５；局部的−一しジヌ
トの盛り上がり部１４ｖ形成する・このようなレジスジ
の所＃１１１照り返し現象Ｖ防止するため櫨；、襖５図
（−示す如く、カップ１１の内壁ｔｈＩ４ユ多数個の羽
根ｉｓを所足の開き角αで取付けたレジスト塗布装置Ｊ
ｇが開発されている・羽根１５を有するレジスト塗布装
置１１ｇでは、半導体ウェハ６からカップ１１の内を面
１１１に同けて飛ばされたしＶス）ｇｃＩは、内壁ｆｌ
Ｊｔｔａで反射した後羽根１ｊじよってそのはね返りＶ
過給され羽根ＪｊＣ付璽する・その結果、レジストの照
り返し現蒙が発生するのｖｔ阻止できる・しかしながら
１羽根Ｊｊｖ有するレジスト塗布装置ｌ−も長期間使用
すると、第６図に示す如く。
は１例えば、襖３図≦−示す如く、排気管１０に介して
排気機構（内示せず）！−接続されたカップ７７内５二
、真空チャックｌｌｖ回転自在５二設けたものであり、
カップ１２の上部の開口部１４鳳から半導体ウェハ６を
真空チャック１２上≦：載置し、モータ１３でこれを回
転させながら関口部１１ｍの上方≦一般けられたノズル
ｊ４から半導体ウェハ６上１；レジストを吹き付けるよ
う櫨ユなっている・しかしながら、半導体ウェハーが回
転しているため、ノズル１４から半導体ウニへ−上Ｃ−
吹き付けられたレジストの一部は、その表１ｔｉｃ衝突
した後、遠心力で飛ばされカップ１１の内Ｉｉ面で反射
して第４図１示す如く、既（−半導体ウェハーの表面−
二形成されたレジス）ｌ１ｇｃ上５；局部的−一しジヌ
トの盛り上がり部１４ｖ形成する・このようなレジスジ
の所＃１１１照り返し現象Ｖ防止するため櫨；、襖５図
（−示す如く、カップ１１の内壁ｔｈＩ４ユ多数個の羽
根ｉｓを所足の開き角αで取付けたレジスト塗布装置Ｊ
ｇが開発されている・羽根１５を有するレジスト塗布装
置１１ｇでは、半導体ウェハ６からカップ１１の内を面
１１１に同けて飛ばされたしＶス）ｇｃＩは、内壁ｆｌ
Ｊｔｔａで反射した後羽根１ｊじよってそのはね返りＶ
過給され羽根ＪｊＣ付璽する・その結果、レジストの照
り返し現蒙が発生するのｖｔ阻止できる・しかしながら
１羽根Ｊｊｖ有するレジスト塗布装置ｌ−も長期間使用
すると、第６図に示す如く。
カップＪ ｊの内壁面１１麿の近傍にレジストの薄膜１
ｒが形成される−その結果、ごの薄膜１７が羽根７ｊの
内壁−ＩＩ−と同様の作用を呈し。
ｒが形成される−その結果、ごの薄膜１７が羽根７ｊの
内壁−ＩＩ−と同様の作用を呈し。
再び照り返し現蒙が起きる間軸があった。就中。
この薄＠ｚＷの形成は、半導体ウェハ６が高速回転して
いる場合や、カップＩＩからの排気皺が増大した場合≦
二促進される。
いる場合や、カップＩＩからの排気皺が増大した場合≦
二促進される。
本発明は、被処理体を回転させる真空チャックを収容し
たカップを１転可能な構造にして。
たカップを１転可能な構造にして。
レジストの錬り返し現＄＆Ｊ発生な阻止すると共感；、
カップ内６二簿膜が形成されるのを阻止し。
カップ内６二簿膜が形成されるのを阻止し。
極めて一品質のレジスト膜を被処理体上颯；容紡感二形
成できるよう６二したカップ回転機構付レジスト塗布装
置である− 〔発明の目的〕 本発明は、カップ内でのレジストの照り返しＪｌ！＠傘
の発生を阻止すると共−、カップ内の全量１；＃膜が形
成されるのｖｌｌ１ｇ止して、極めて一品質のレジスト
膜な被処理体上に容品Ｃ；形成できるカップ１転機構付
レジスト像布装置を提供することをその目的とするもの
である− 〔発明の実施例〕 以下１本発明の一実施例懺；ついてｍｒ、因ｖ番照して
説明する。
成できるよう６二したカップ回転機構付レジスト塗布装
置である− 〔発明の目的〕 本発明は、カップ内でのレジストの照り返しＪｌ！＠傘
の発生を阻止すると共−、カップ内の全量１；＃膜が形
成されるのｖｌｌ１ｇ止して、極めて一品質のレジスト
膜な被処理体上に容品Ｃ；形成できるカップ１転機構付
レジスト像布装置を提供することをその目的とするもの
である− 〔発明の実施例〕 以下１本発明の一実施例懺；ついてｍｒ、因ｖ番照して
説明する。
図中１０は、被処理体１１である半導体ウニ／％＆収容
被処理体収容部を形成したカップ本体である・カップ本
体１０は、その床部な形成する床板１２−一ベヤリング
１１を介して回転自在区ユ取付けられている・床板１２
１；は、カップ本体１１内を図示しない排気機構口接続
する排気管１４が形成されている・まだ、床板ＳＸの略
中央部（二は、先端部−二被処理体１１ＣＩＪ向書部を
有する真空チャックｊｊが貫挿されている。裏口ｓ１１
か形成されている・開口部１７の上方Ｃ：は、真空チャ
ック１ｊ上の被処理体３１の表面Ｃ；レジストを吹き付
けるノズル１８が設６すられている・カップ本体１０の
下部外周１ｉ１１ユは。
被処理体収容部を形成したカップ本体である・カップ本
体１０は、その床部な形成する床板１２−一ベヤリング
１１を介して回転自在区ユ取付けられている・床板１２
１；は、カップ本体１１内を図示しない排気機構口接続
する排気管１４が形成されている・まだ、床板ＳＸの略
中央部（二は、先端部−二被処理体１１ＣＩＪ向書部を
有する真空チャックｊｊが貫挿されている。裏口ｓ１１
か形成されている・開口部１７の上方Ｃ：は、真空チャ
ック１ｊ上の被処理体３１の表面Ｃ；レジストを吹き付
けるノズル１８が設６すられている・カップ本体１０の
下部外周１ｉ１１ユは。
周−一一沿ってギヤ１＃か形成されている・このギヤ１
りには、カップ本体回転用モーター０の回転輪４０畠１
ユ取付けられたギヤ４１が歯合し。
りには、カップ本体回転用モーター０の回転輪４０畠１
ユ取付けられたギヤ４１が歯合し。
ており、カップ本体１−の回転機構を構成している・
而して、このよう６二構成されたカップ回転機構付レジ
スト塗布ｉｉ置ａＯＩ’ニーよれば、真空チャック３ｊ
の先端８Ｂ６−被処理体Ｊ Ｊ ’ｆある半導体ウェハ
を固着し、これな回転モータ１６≦二より所定回転数で
回転しながら、同時区；カップ本体１０ｖギヤ１９．４
１を介してカップ本体回転用モータ４０で回転させ、ノ
ズル３８から被処理体ＭｉｆＪＪ表［ｉ［１４ニレジス
トを吹き付ける・カップ本体ｓＯの回転方間は、真空チ
ャック３ｊの１転万同と聞方であっても逆方向であって
も艮い―被処理体８１上６；付暑したレジストは、興空
チャック１ｓ（／Ｊ自Ｐｉ、ｃ伴う遠心力でカップ本体
１０の内壁向３ｏａｌｌで飛散すると、カップ本体１０
も１転しているので、カップ本体Ｊ０の回転Ｃ：伴う遠
心力暮；より内壁面１０で反射しても内４１面１０≦二
沿ってはね返えるーその結果。
スト塗布ｉｉ置ａＯＩ’ニーよれば、真空チャック３ｊ
の先端８Ｂ６−被処理体Ｊ Ｊ ’ｆある半導体ウェハ
を固着し、これな回転モータ１６≦二より所定回転数で
回転しながら、同時区；カップ本体１０ｖギヤ１９．４
１を介してカップ本体回転用モータ４０で回転させ、ノ
ズル３８から被処理体ＭｉｆＪＪ表［ｉ［１４ニレジス
トを吹き付ける・カップ本体ｓＯの回転方間は、真空チ
ャック３ｊの１転万同と聞方であっても逆方向であって
も艮い―被処理体８１上６；付暑したレジストは、興空
チャック１ｓ（／Ｊ自Ｐｉ、ｃ伴う遠心力でカップ本体
１０の内壁向３ｏａｌｌで飛散すると、カップ本体１０
も１転しているので、カップ本体Ｊ０の回転Ｃ：伴う遠
心力暮；より内壁面１０で反射しても内４１面１０≦二
沿ってはね返えるーその結果。
被処理体１１ｇ上Ｃ二形成されたレジスト膜上Ｃ。
はね返りのレジストが局部的Ｃ；付看する所鋼照り返し
現傘が起きるのを阻止できる・また、上述のようにして
レジスト塗布処理属ユ長期間使用しても、処理の際には
カップ本体ｊＯが回転しているので、カップ本体Ｊ０の
内壁１ｉｏｓ ｏ ａにレジストの薄膜が形成されるの
を阻止できる・その結果、被処理体３１の表面に極めて
高品質のレジストａを容易碩；形成することができる。
現傘が起きるのを阻止できる・また、上述のようにして
レジスト塗布処理属ユ長期間使用しても、処理の際には
カップ本体ｊＯが回転しているので、カップ本体Ｊ０の
内壁１ｉｏｓ ｏ ａにレジストの薄膜が形成されるの
を阻止できる・その結果、被処理体３１の表面に極めて
高品質のレジストａを容易碩；形成することができる。
尚、カップ本体３０の回転数は、真空チャック１５の１
転数、レジストの種類、性状等に応じて適宜設定するの
が望ましい・まだ、床扱３１とカップ本体３０の接触部
であるベヤリング３１ｃ／Ｊ部分Ｃ；は、カップ、本体
３０内の減圧状態な所だ値に保持するため、及び、ごみ
等の不純物がカップ本体３０内区−侵入するのを防止す
るために、適当なシール部材Ｖ用いて気密処理な施ζし
Ｃおくのが望ましい・ Ｃ発明の効果〕 以上説明した如く１本発明Ｃ二係るカップ回転機構付レ
ジスト塗布＊１ｌ１１（：よれば、カップ内でのレジス
トの照り返し現龜の発生を阻止できると共電ユ、カップ
内の空間１；４膜が形成され′るＱ）を阻止して極めて
高品質のレジスト膜を被処理体上−ＨＩｊＡｔ−形成す
ることができるものである。
転数、レジストの種類、性状等に応じて適宜設定するの
が望ましい・まだ、床扱３１とカップ本体３０の接触部
であるベヤリング３１ｃ／Ｊ部分Ｃ；は、カップ、本体
３０内の減圧状態な所だ値に保持するため、及び、ごみ
等の不純物がカップ本体３０内区−侵入するのを防止す
るために、適当なシール部材Ｖ用いて気密処理な施ζし
Ｃおくのが望ましい・ Ｃ発明の効果〕 以上説明した如く１本発明Ｃ二係るカップ回転機構付レ
ジスト塗布＊１ｌ１１（：よれば、カップ内でのレジス
トの照り返し現龜の発生を阻止できると共電ユ、カップ
内の空間１；４膜が形成され′るＱ）を阻止して極めて
高品質のレジスト膜を被処理体上−ＨＩｊＡｔ−形成す
ることができるものである。
１１４ｘ因は、レジスト塗布装＊ ｖ’設けたレジスト
塗布架台の正面図、＠２図（２））は、レジスト膜形成
罰の半導体ウェハのＩｌｒＥＭ１図、同図（鳩は、レジ
スト膜形成後の半導体ウニへのｉｌｒ面図、ｗＩ＆３図
は、従来のレジスト瞼布装歇の一部破断断面図、第４図
は、Ｎり返し現職（二よりレジストの盛り上がり部示形
成された半導体ウニへの断面図、襖５図は１羽根ｔ−有
する従来のレジスト塗布装置の要部を示す断ＩＬ弔６図
は、カップ内≦−レジストの＃膜が形成される状態を示
す一部破ｌ１ｒｌｔｈ曲因、第７図は１本発明の一実施
例の１ｈｄＤ醜である・ 、＃ ｊ ＃ 用カップ本体、１１・・・被処理体、３
２・・・床板、１３…ベヤリング、３４・・・排気管、
３６・・・真空チャック、Ｊ ６−・・回転モータ、Ｊ
２・・・細口ＷＡＩ、１９．４１・・・ギヤ、４０・・
・カップ本体回転用モータ、（０・・・カップｂ転機構
付レジスト塗布ＷＩｋ。 出軸人代理人 弁理士 輪 江 武 彦第１図 第２図
塗布架台の正面図、＠２図（２））は、レジスト膜形成
罰の半導体ウェハのＩｌｒＥＭ１図、同図（鳩は、レジ
スト膜形成後の半導体ウニへのｉｌｒ面図、ｗＩ＆３図
は、従来のレジスト瞼布装歇の一部破断断面図、第４図
は、Ｎり返し現職（二よりレジストの盛り上がり部示形
成された半導体ウニへの断面図、襖５図は１羽根ｔ−有
する従来のレジスト塗布装置の要部を示す断ＩＬ弔６図
は、カップ内≦−レジストの＃膜が形成される状態を示
す一部破ｌ１ｒｌｔｈ曲因、第７図は１本発明の一実施
例の１ｈｄＤ醜である・ 、＃ ｊ ＃ 用カップ本体、１１・・・被処理体、３
２・・・床板、１３…ベヤリング、３４・・・排気管、
３６・・・真空チャック、Ｊ ６−・・回転モータ、Ｊ
２・・・細口ＷＡＩ、１９．４１・・・ギヤ、４０・・
・カップ本体回転用モータ、（０・・・カップｂ転機構
付レジスト塗布ＷＩｋ。 出軸人代理人 弁理士 輪 江 武 彦第１図 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 被処理体が固着される真空チャックを回転自在亀ユ取付
けた床板と、１記真空チャックを収容するようにして該
床板Ｃ−回転目在１ユ取付けられ。 かつ、前記被処理体Ｉ；対回する開口部を有するカップ
本体と、前記開口！ＩＢＶ介して前記被処理体４二対回
するようＣ；設けられたレジスト吹付用ノズルと、前記
カップ本体ζユ取付けられた該カップ本体の回転機構と
、自程記カップ本体と約紀床板で形成された被処理体収
容部憾ユ連通した排気機構とを外債することな特徴とす
るカップ回転機構付レジスト塗布ｉｕｉ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57079436A JPS58197732A (ja) | 1982-05-12 | 1982-05-12 | カツプ回転機構付レジスト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57079436A JPS58197732A (ja) | 1982-05-12 | 1982-05-12 | カツプ回転機構付レジスト塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58197732A true JPS58197732A (ja) | 1983-11-17 |
| JPH0435897B2 JPH0435897B2 (ja) | 1992-06-12 |
Family
ID=13689823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57079436A Granted JPS58197732A (ja) | 1982-05-12 | 1982-05-12 | カツプ回転機構付レジスト塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58197732A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5264040A (en) * | 1991-07-11 | 1993-11-23 | Sematech, Inc. | Rapid-switching rotating disk reactor |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5717768U (ja) * | 1980-07-01 | 1982-01-29 |
-
1982
- 1982-05-12 JP JP57079436A patent/JPS58197732A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5717768U (ja) * | 1980-07-01 | 1982-01-29 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5264040A (en) * | 1991-07-11 | 1993-11-23 | Sematech, Inc. | Rapid-switching rotating disk reactor |
| US5284805A (en) * | 1991-07-11 | 1994-02-08 | Sematech, Inc. | Rapid-switching rotating disk reactor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0435897B2 (ja) | 1992-06-12 |
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