JPS58200422A - 磁気記録再生板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は強磁性金属薄膜を有する磁気記録再生板に関す
るもので、特に高密度記録を目的とした磁気記録再生板
を簡易に提供するものである。

一般に、磁気記録再生板は第１図に示すように高分子成
形物基板１の表面に、強磁性の粉末を有機ポリマーのバ
インダー中に分散させた磁性媒体２を塗布した構成とな
っているが、磁性粉の充てん率に限界があり、又、塗布
厚も厚いため高密度記録用としては不向であった。さら
に表面電気抵抗が比較的高い（１×１０７以上）ため静
電気を帯びやすいとともにゴミ等を吸着しやすいもので
あ−・た０これは例えばフロッピーディスク等に用いら
れん場合、エラー発生の原因になっている。この、しう
な欠点を解決する方法として真空蒸着等により連続的に
強磁性金属薄膜を基板に直接形成する方法が提案されて
いる。すなわち強磁性金属薄膜の場合、１００チ強磁性
体であるため膜厚を薄くすることが出来、高密度記録が
可能であり、又表面電気抵抗が塗布タイプのものと比較
して非常に低く、静電気を帯ひにくいだめ、ゴミ等によ
るエラー発生も少ないものであった。

しかシフ、現在の真空蒸着法を用いる磁気記録再生板の
製造方法にもいくつかの問題点がある。

すなわち、真空蒸着で数１０μのプラスチックフィルム
Ｈに直接金属薄膜を形成しようとした場合、フィルムが
溶融金属の輻射熱に負けだけでしまうため、連続的につ
くることはできない。一般にプラスチックフィルム上に
連続的に蒸発するためにはフィルムの表面を十分に冷却
することが必要であり、このためにはフィルムを冷却キ
ャンに密着させて熱伝導をよくすること、さらにフィル
ム自体の熱伝導をよくすることが必要である。しかしフ
ィルム自体の熱伝導率は一定であるだめフィルムの厚み
には限界がある０又、フィルムの冷却キャンへの密着は
フィルムのもつ表面性、静電気さらには電子ビーム加熱
の場合の２次電子によって影響を受ける。従ってフィル
ムの表面性が悪い場合、フィルムの裏面（冷却キャン側
）が既に蒸着されている静電気を帯びにくい場合、さら
に電子ビーム加熱の代りに抵抗加熱等の方法を用い、２
次電子の発生がない場合などはフィルムの冷却キャンへ
の密着が極端に悪くなる。

本発明者の経験ではポリエチレンテレフタレートフィル
ムを用い、フィル：私の表面粗さが中心線平均粗さで０
．０１μ、電子ビーム加熱、フィルムの裏面未蒸着のも
ので厚さ約２０μ以下のものは蒸着可能であるが、裏面
蒸着済のものでは厚さ約えばフロッピーディスク等に用
いるのは機械的強度が弱く不ロ丁能である。

さらに、厚いフィルムは薄いフィルムと比較し−ＣＫ　
１（１１粗さか悪く、高密度記録用には適していないし
、−＝−回当りの長さも知くなるため生産性が低くコン
ト高になる欠点を有する。

以１−．のように、真空蒸着で厚いプラスチックフィル
ム１．に直接金属薄膜を形成する方法には欠点が多く、
実用は不可能である。

本発明は以上のような欠点を解消し、高密度記録が１１
能な磁気記録再生板を安価に、大量に提供することがで
きるものであえ。

本発明は比較的薄い高分子成形物基板の片面に強磁性金
属薄膜を真空蒸着したシートを、この比較的薄い高分子
成形物基板と同材質の比較的厚い高分子成形物基板の少
なくとも片面にその基板側を接着層を介して貼り合わせ
たことを特徴とする磁気記録再生板であり、又、接着層
がその両側の高分子成形物基板と同材質であることを特
徴とする磁気記録再生板である。

次に本発明の一実施例について図面を用いて説明する。

第２図は磁気記録再生板の概略断面図を示すもので、比
較的薄いポリエチレンテレフタレート等からなる高分子
成形物基板３０片面にＣ。

−Ｎｉ合金からなる強磁性金属薄膜４を真空蒸着にて形
成したものを、比較的厚いポリエチレンテレフタレート
等からなる高分子成形物基板６の両面にそれぞ才１接着
層６を介して貼り合わせたものである。比較的薄い高分
子成形物基板３の厚みは２〜２０μ、又比較的厚い高分
子成形物基板５の厚みは２０〜８０μ、又接着層６の厚
みは０．５〜６μが適当であり、強磁性金属薄膜４の厚
みは０．０５−０．５μである。基板３と基板６は全く
同材質であり、接着層６は第１の実施例では基板３゜基
板５と同材質、第２の実施例では基板３，６とは異材質
であるが、温度膨張係数および温度膨張係数が基板３，
６と比較的に近いエポキシ系對脂を使用した。いずれの
場合も温度、湿度の影響は全くめ・はず、変形ｉｔ　ｖ
らねなかった○第３図は本発明に用いる真空蒸嘔装置の
概略断面図であり、真空室（図示せず）内で高分子成形
物基板３は巻出軸７から冷却キャン８を経由し巻取１１
ｑｌ＋　９に４戴瑞ｉ社巻取らｉＬる。ＣｏＮｉ合金か
ら成る強磁性拐の蒸発源１０）；ｌ、基板３をはさんで
冷却キャン８とχ■向する位置に置かれ、電子ビーム１
１により加熱される。必要温度に加熱された蒸発源１ｏ
より発生する蒸獲１２は基板３と蒸発源１ｏの間に設置
されたマスク１３のすき間を通過１−１基板３０表面に
到達してここに薄膜を形成する〇 父、強磁性金属薄膜を蒸着した比較的薄い基板３と比較
的厚い基＆５の貼り合わせは特に図示し−こいないが、
一般に知られる湿式あるいは乾式の連続シミネート処理
により可能である。

以にのように本発明は、高密度記録が可能な磁気記録再
生板を連続して大量に安価に提供するものである。すな
わち、比較的薄く表面性のよい高　゛分子成形物基板の
片面に強磁性金属薄膜を真空蒸着で連続的に形成して高
密肝記録に適した磁気記録媒体をつくり、これを前記比
較的薄い高分子成形物基板と同材質の比較的厚い高分子
成形物基板の少なくとも片面に、その基板側を接着層を
介して連続的に貼９合わせ、これを連続的に打ち抜いて
所定の形状（長形２円形等）に形成するものである。こ
ねにより、機械的特性、耐候性を満足する高密度記録用
の磁気記録再生板を大量に安価ミ安価に提供するもので
あり、その産業的効果は非常に大である。

なお、本発明に用いる高分子成形物基板はポリエチレン
テレフタレートに限定されるものではなく、又基板３と
基板６は全く同材質でなくても温度膨張係数および湿度
膨張係数等が比較的近似しておれば異質のものであって
もよく、さらに接着層も基板３，６と全く同材質でなく
ても温度膨張係数、湿度膨張係数等が比較的近似してお
れば異材質のものでもよい０さらに高分子成形物基板の
機械的強度が」二がれは比較的厚い高分子成形物基板を
省略して、片面に強磁性金属を真空蒸着したもの同志の
基板側を接着層を介して貼り合わせてもよいものである
。

そして、本発明の磁気記録再生板の形状は特に限定さｊ
ｒるもので汀な、長尺のシートから例えばソロピーディ
スク等の円形、磁気カード等の長方形などあらゆる形状
に打ち抜いてつくることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の磁気記録再生板の概略断面図、第２図は
本発明の一実施例の磁気記録再生板の概略断面図、第３
図は本発明に用いる真空蒸着装置の概略構造を示す図で
ある。 ３．６・・・・・・高分子成形物基板、４・・・・・・
強磁性金属薄膜、６・・・・・・接着層。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）　　比較的薄い高分子成形物基板の一方の面に真
   空蒸着により強磁性金属薄膜を形成し、この高分子成形
   物基板の他方の面をこの基板と同材質で比較的厚い高分
   子成形物基板に接着層を介して貼り合わせたことを特徴
   とする磁気記録再生板。 （２接着層がその両側の高分子成形物基板と同材質であ
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記
   録再生板。