JPS58200567A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

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Publication number
JPS58200567A
JPS58200567A JP57083098A JP8309882A JPS58200567A JP S58200567 A JPS58200567 A JP S58200567A JP 57083098 A JP57083098 A JP 57083098A JP 8309882 A JP8309882 A JP 8309882A JP S58200567 A JPS58200567 A JP S58200567A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bonding pad
output
region
integrated circuit
semiconductor integrated
Prior art date
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Pending
Application number
JP57083098A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiwa Yanagiya
柳屋 喜和
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Microcomputer System Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Microcomputer Engineering Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Microcomputer Engineering Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP57083098A priority Critical patent/JPS58200567A/ja
Publication of JPS58200567A publication Critical patent/JPS58200567A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/90Bond pads, in general
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D84/00Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)
  • Bipolar Integrated Circuits (AREA)
  • Bipolar Transistors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (8)発明の利用分野 本発明は、半導体集積回路装置、特に′TT L(Tr
ans is ter−Transister−Log
ic)を構成する半導体集積回路装置(以下TTL−I
Cと呼ぶ)に関するものである。
(bl従来技術 従来、第1図のような出力回路を有するTTしICに於
て、出力段として用いるトランジスタ素子Q、は、第2
図および第3図に示すように、その素子上をグランド配
線(GND)や電源配線(vco)等を通過させるため
、出力トランジスタQ。
の上段にあるダーリントン回路(DC)のエミッタ端子
に接続するためのコレクタ端子1と、出方用ポンデイン
グパツド5に接続するためのコレクタ端子402つの同
電位コレクタ端子が必rとなる。しかも、第3図から明
らかなように、出力ボンディングパッドのための領域6
と、出方トランジスタの領域7とが各々別位置に存在す
る構造となりている。
このようなこれまでのTTL−ICでは半導体ペレット
上での素子Q1が占有する領域が大きくなる構造である
ため、ペレットサイズが大きくなることが欠点である。
本発明はこのような欠点をなくすため、不必要なスペー
スとなる部分をQIJ除することによってチップサイズ
を小さくできるTTL−ICの提供を目的とする。
本発明の要旨とするところは、半導体表面に形成された
出力トランジスタのコレクタ端子とポンデイングパツド
を一つの島領域内に形成することにより、半導体チップ
サイズの低減をはがることにある。
以下、本発明を実施例に従って、その内容を具体的に説
明する。
第4図、第5図に示すように、ポンディングパッドとな
る部分の直下に出力トランジスタ素子Q。
内部のN+ m込層8を延長し、ポンディングパッドと
トランジスタ素子の外周にアイソレージ■ン用P+拡散
層9を形成し、同電位の一つの島領域を構成する。
この場合N+塊込層8と同様、ポンディングパッド直下
までN+拡散領域10を広げ、r厘込層8に接触させ、
素子内部抵抗分を減少させる。
また、コレクタ電極取り出し用虻拡散領域11も同範囲
内に形成し、SiQ、l[12により絶縁させた状態で
ポンディングパッド配線を行なう位置にコンタクトホー
ルなあけてコレクタ端子とポンディングパッドとを共有
:したトランジスタ素子を形成する。
以上、実施例で述べた本発明によるTTL−ICにおい
て、出力用ポンディングパッドは、トランジスタ素子の
コレクタ端子に生じる電圧を外部へ取り出すためのもの
であり、トランジスタ素子とポンディングパッドの電位
は常に等しい。
故に、ポンディングパッドとトランジスタ素子を別個の
島領域とする必要性は全くなく、これまでの半導体装置
で用いたレイプラトルールはこの発明の素子の場合には
不要となり、そのためペレットサイズを低減することが
可能となる。という効果が得られる。
本発明はこれ以外に変形例・応用例として、出力インパ
ークトランシスタ素子の面積が大きい素子を使用したバ
ッファ系や、出力趨子数が多いTTL−LSI等に有効
である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、TTL−1cの出力回路図である。 #!2図は、第1図の出力回路中の出力トランジンタQ
、を構成する従来の半導体集積回路装置の一部を示す部
分平面図である。 第3図は、第2図に示した半導体集積回路装置のh−A
切断断面図である。 第4図は、出力トランジスタQ1を構成する本発明の半
導体集積回路装置の一部を示す部分平面図である。 第5図は、第4図に示した半導体集積回路装置のB −
B’切断断面図である。 1・・・コレクタ端子、2・・・ベース端子、3・・・
エミッタ端子、4・・・コレクタ端子、5・・・出力用
ポンディングパッド、6・・・出力用ポンディングパッ
ドのための領域、7・・・出力トランジスタ領域、8・
・・N+埋込層、9・・・アイソレージlン用P+拡散
層、lO・・・虻拡散領域、11・・・コレクタ電極取
り出し用N+拡散層、12・・・SiO意属。 代理人 弁理士  薄 1)利 幸 第  1  図 L−−0,−」

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体基体表面に形成された一つの島(領域)内に出力
    用トランジスタが構成され、その島(領域)上にそのト
    ランジスタの所定領域に電気的に接続される出力用ポン
    デイングパツドが設けられていることを特徴とする半導
    体集積回路装置。
JP57083098A 1982-05-19 1982-05-19 半導体集積回路装置 Pending JPS58200567A (ja)

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