JPS58201A - 弗素化塩素化炭化水素類を用いた蒸気乾燥槽 - Google Patents
弗素化塩素化炭化水素類を用いた蒸気乾燥槽Info
- Publication number
- JPS58201A JPS58201A JP9675281A JP9675281A JPS58201A JP S58201 A JPS58201 A JP S58201A JP 9675281 A JP9675281 A JP 9675281A JP 9675281 A JP9675281 A JP 9675281A JP S58201 A JPS58201 A JP S58201A
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- JP
- Japan
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- liquid
- flon
- water
- fluorocarbon
- vapor
- Prior art date
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- Granted
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この兜明はフロン蒸気乾燥槽に関するものである。フロ
ン蒸気乾燥ｍＦｉ超音波洗浄した精密す５・ 部品の乾燥の為多く使用されているが、フロン液中に水
、アルコール等が混入し、これにょっ― て被洗浄物にシミが付くことがあった。 〜第１図は従
来の代表的なフロン蒸気乾燥槽であり、槽本体１の下部
にはフロン液２が溜められており、この槽本体１の下面
に配設されたヒーター３によって、このフロン液２が加
温され蒸気を発生させる様になっていた。そして乾燥を
行うべき被洗浄物４は槽本体１の内部中央に位置される
様になっており、この被洗浄物４のる様になっていた。
ン蒸気乾燥ｍＦｉ超音波洗浄した精密す５・ 部品の乾燥の為多く使用されているが、フロン液中に水
、アルコール等が混入し、これにょっ― て被洗浄物にシミが付くことがあった。 〜第１図は従
来の代表的なフロン蒸気乾燥槽であり、槽本体１の下部
にはフロン液２が溜められており、この槽本体１の下面
に配設されたヒーター３によって、このフロン液２が加
温され蒸気を発生させる様になっていた。そして乾燥を
行うべき被洗浄物４は槽本体１の内部中央に位置される
様になっており、この被洗浄物４のる様になっていた。
更に槽本体１の上部側壁には冷却水を通した凝縮バイブ
ロが配役されてお様になっていた。そして前記受皿５、
及び７１でフロン液とそれ以外のものに比重差により分
離され、フロン液のみが槽内に還流されｆ様になってい
た。
ロが配役されてお様になっていた。そして前記受皿５、
及び７１でフロン液とそれ以外のものに比重差により分
離され、フロン液のみが槽内に還流されｆ様になってい
た。
し−ｉ−Ｌこの従来σ５０ン蒸気洗浄槽では−被洗浄物
４、及び凝縮コイル乙に凝縮した水分や被洗浄５勿４に
付着していたアルコール等の洗浄液が受皿５，７に滴下
する除その飛沫が構内のフロン液２中に落下したり、槽
の側壁に結露した水分が構内のフロン液２中に混入する
ことは避けられず、この槽内のフロン液２から水や洗浄
液を分離する手段も存在していなかった為、時間の経過
と共に構内のフロン液２中に次第にこれらが蓄積されそ
の量が増加することとなっていた。
４、及び凝縮コイル乙に凝縮した水分や被洗浄５勿４に
付着していたアルコール等の洗浄液が受皿５，７に滴下
する除その飛沫が構内のフロン液２中に落下したり、槽
の側壁に結露した水分が構内のフロン液２中に混入する
ことは避けられず、この槽内のフロン液２から水や洗浄
液を分離する手段も存在していなかった為、時間の経過
と共に構内のフロン液２中に次第にこれらが蓄積されそ
の量が増加することとなっていた。
従って、この従来の装・直ではヒーター５の力０熱によ
ってフロン液中に混入した水や洗浄液も蒸発し、これら
が被洗浄′切４にシミを付ける原因となっていた。
ってフロン液中に混入した水や洗浄液も蒸発し、これら
が被洗浄′切４にシミを付ける原因となっていた。
この祐明はフロン蒸気乾燥槽に関する上記欠点金除去し
たものであり、フロン液をポンプ循環によりオーバーフ
ローさせて水分離器に強制に送り込み、フロン液中の水
分及び洗浄液を水分離器で除き、フロン蒸気のみを発生
させる様にしたものであり、被洗浄物にシミを付けるこ
となく乾燥を行うことができるすぐれたフロン蒸気乾燥
槽を提供することを目的とする。・以下第２図に示すこ
の発明の一実施例に基づいてその構成を詳細に説明する
。
たものであり、フロン液をポンプ循環によりオーバーフ
ローさせて水分離器に強制に送り込み、フロン液中の水
分及び洗浄液を水分離器で除き、フロン蒸気のみを発生
させる様にしたものであり、被洗浄物にシミを付けるこ
となく乾燥を行うことができるすぐれたフロン蒸気乾燥
槽を提供することを目的とする。・以下第２図に示すこ
の発明の一実施例に基づいてその構成を詳細に説明する
。
凝縮コイル６の下方に位置する受皿７をパイプ９で水分
離器１０に連通させ、被乾燥物４下方の受皿５はパイプ
１１で水分離器１０に連通液面と同じ高式に取水部１２
を設けてオーバーフローしたフロン液を受入れるように
なっており、この取水部１２は・くイブ１２′で水分離
器１０と連通させている０又、取水部１２と対向した側
壁には液面に開口した吐出孔１３が設けられており、そ
してこの吐出孔１３はフィルター１４及び加圧用ポンプ
１５を介して前配水分離器１０の排出孔１６に接続され
ている。
離器１０に連通させ、被乾燥物４下方の受皿５はパイプ
１１で水分離器１０に連通液面と同じ高式に取水部１２
を設けてオーバーフローしたフロン液を受入れるように
なっており、この取水部１２は・くイブ１２′で水分離
器１０と連通させている０又、取水部１２と対向した側
壁には液面に開口した吐出孔１３が設けられており、そ
してこの吐出孔１３はフィルター１４及び加圧用ポンプ
１５を介して前配水分離器１０の排出孔１６に接続され
ている。
なお、前記水分離器１０はフロンと他の液体の比重差を
利用して分離を行なう比重差式水分離器であり、１７．
１８は入水側と排出側を分ける隔壁である。他は従来と
同様なので、同一符号を付し説明を省略する。
利用して分離を行なう比重差式水分離器であり、１７．
１８は入水側と排出側を分ける隔壁である。他は従来と
同様なので、同一符号を付し説明を省略する。
この発明は紙上の襟な構成を再するものであり、従来の
ものと同様槽本体１下部のフロン液２ｆｃヒーター３で
加温してフロン蒸気を発生きせこの蒸気によって洗浄工
程を終えた被洗浄物４を乾燥でせる。そして凝縮コイル
６及び被洗浄＃４に触れて凝縮したフロン液及び水分は
受皿５，７で捕収され、水分離器１０に送られフロン液
と水、洗浄液が分離されるフロン液のみがポンプ１５に
よって加圧され、フィルター１４によって濾過され吐出
孔１６から槽１内のフロン液面に吐出される。
ものと同様槽本体１下部のフロン液２ｆｃヒーター３で
加温してフロン蒸気を発生きせこの蒸気によって洗浄工
程を終えた被洗浄物４を乾燥でせる。そして凝縮コイル
６及び被洗浄＃４に触れて凝縮したフロン液及び水分は
受皿５，７で捕収され、水分離器１０に送られフロン液
と水、洗浄液が分離されるフロン液のみがポンプ１５に
よって加圧され、フィルター１４によって濾過され吐出
孔１６から槽１内のフロン液面に吐出される。
一方、フロンは水や洗浄液より比重が極めて大きく、水
や洗浄液が混入（７ている場合はこれらはフロン液の上
部に浮んで鷹をなしているので、明記のように圧送され
たフロン液を吐出孔１３から吐出させるとフロン液面上
に浮上している水と洗浄液はフロン液の上面を取水部１
２の方向へ押し流され、この取水部１２で捕収され、水
分離器１０に送られ分離が行われ、フロン液のみが槽本
体１へ還流される。
や洗浄液が混入（７ている場合はこれらはフロン液の上
部に浮んで鷹をなしているので、明記のように圧送され
たフロン液を吐出孔１３から吐出させるとフロン液面上
に浮上している水と洗浄液はフロン液の上面を取水部１
２の方向へ押し流され、この取水部１２で捕収され、水
分離器１０に送られ分離が行われ、フロン液のみが槽本
体１へ還流される。
従って被洗浄物に付着した洗浄液や凝縮した水分が受皿
に衝突して飛沫となって槽本体のフロン液中に落下し７
たり、凝縮コイルや槽本体の側壁に水分が凝縮してフロ
ン液中に滴下してフロン液中に水や洗浄液等の不純物が
混入してもこれらの不純物は絶えずフロン液から分離は
れる為、極めて純度の高いフロン蒸気を発生させること
ができ、従来の゛フロン蒸気乾燥槽の様に被洗浄物にシ
ミを付けることなく乾燥を行うことができるすぐれた効
果を有するものである・
に衝突して飛沫となって槽本体のフロン液中に落下し７
たり、凝縮コイルや槽本体の側壁に水分が凝縮してフロ
ン液中に滴下してフロン液中に水や洗浄液等の不純物が
混入してもこれらの不純物は絶えずフロン液から分離は
れる為、極めて純度の高いフロン蒸気を発生させること
ができ、従来の゛フロン蒸気乾燥槽の様に被洗浄物にシ
ミを付けることなく乾燥を行うことができるすぐれた効
果を有するものである・
第１図は従来のフロン蒸気乾燥槽の断面図、第２図はこ
の発明の一実施例の断面図である。 父、図中１は乾燥槽本体、２はフロン液、３はヒーター
′、４は被洗浄物、５は受皿、６は凝縮コイル、７は受
皿、８は水分離器、９はパイプ、１０は水分離器、１１
はパイプ、１２は取水部、１３は吐出孔、１４はフィル
ター、１５は加圧用ポンプ、−１６は排出孔、１７は隔
壁を夫々表わす。 特許出願人 島田理化工業株式会社 第１図 第２図
の発明の一実施例の断面図である。 父、図中１は乾燥槽本体、２はフロン液、３はヒーター
′、４は被洗浄物、５は受皿、６は凝縮コイル、７は受
皿、８は水分離器、９はパイプ、１０は水分離器、１１
はパイプ、１２は取水部、１３は吐出孔、１４はフィル
ター、１５は加圧用ポンプ、−１６は排出孔、１７は隔
壁を夫々表わす。 特許出願人 島田理化工業株式会社 第１図 第２図
Claims (1)
- 槽本体１の下部にフロン液２を溜め、これを加温してフ
ロン蒸気を発生させ、槽内の被洗浄物４を乾燥させ、被
洗浄物４の下方に位ｔｉシた受皿５及び上部の凝縮コイ
ル６の下方に位置し九受皿７を水分離器１０に連通させ
たフロン蒸気乾燥槽において、フロン液２の液面と同じ
高ざの一側にオーバーフローしたフロン液を受は加圧ポ
ンプ１５を介して連通ずる吐出孔１３を開口したことを
特徴とするフロン蒸気乾燥槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9675281A JPS595326B2 (ja) | 1981-06-24 | 1981-06-24 | 弗素化塩素化炭化水素類を用いた蒸気乾燥槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9675281A JPS595326B2 (ja) | 1981-06-24 | 1981-06-24 | 弗素化塩素化炭化水素類を用いた蒸気乾燥槽 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58201A true JPS58201A (ja) | 1983-01-05 |
| JPS595326B2 JPS595326B2 (ja) | 1984-02-03 |
Family
ID=14173393
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9675281A Expired JPS595326B2 (ja) | 1981-06-24 | 1981-06-24 | 弗素化塩素化炭化水素類を用いた蒸気乾燥槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS595326B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07222902A (ja) * | 1994-02-15 | 1995-08-22 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
| JPH11285601A (ja) * | 1999-02-05 | 1999-10-19 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
-
1981
- 1981-06-24 JP JP9675281A patent/JPS595326B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07222902A (ja) * | 1994-02-15 | 1995-08-22 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
| JPH11285601A (ja) * | 1999-02-05 | 1999-10-19 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS595326B2 (ja) | 1984-02-03 |
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