JPS625675B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電子部品、機械部品等の洗浄方法に関
する。

従来、電子部品、機械部品等の洗浄には汚染の
種類、例えばフラツクス、油、研摩粉など、に応
じて適当な溶剤を使用し、被洗浄物を溶剤に浸漬
したり又は溶剤の蒸気、スプレーにあてることに
より実施していた。例えば、回路基板半田付後の
フラツクスの溶剤による洗浄においては、蒸気洗
浄又は浸漬洗浄による一槽式洗浄、これらを組合
せた二槽式洗浄が大部分であつた。しかし、一槽
式洗浄では洗浄液の汚れが早く、従つてまた洗浄
時間の管理が難しい、及び被洗浄物の汚れが落ち
にくいなどの欠点があつた。また二槽式洗浄にお
いても最初に浸漬洗浄を行なう場合には浸漬洗浄
槽の洗浄液の汚れが激しく、処理量の増加ととも
に洗浄能力が著しく低下する。他方、最初に蒸気
洗蒸を行なう場合には蒸気洗浄槽の洗浄液の汚れ
が激しいが、常に清浄な蒸気が被洗浄物に当る。
しかしこの場合も、蒸気洗浄のみで完全に汚れを
落すことはできないので、次の浸漬槽に徐々に汚
れが蓄積し処理量の増加とともに洗浄能力が低下
する。

このように従来の洗浄方法にはいずれも洗浄液
が汚れるという問題点があり、従つて被洗浄物の
汚れ落ちが完全ではなく、また洗浄液の交換に多
くの時間をついやすなど能率的ではなかつた。

本発明の目的は従来のかかる欠点に鑑みて洗浄
液の交換が最も少なく、能率的に完全な洗浄が行
なえる洗浄方法を提供することである。

即ち、本発明の洗浄方法は第１及び第２蒸気洗
浄槽並びに浸漬超音波洗浄槽に同種洗浄液を入
れ；該洗浄液を両蒸気洗浄槽で蒸気とし且つその
槽上部で凝縮させて浸漬超音波洗浄槽にもどし、
少なくとも第１蒸気洗浄槽下部から洗浄液を浄化
装置に送つて蒸留することにより清浄化された洗
浄液を浸漬超音波洗浄槽にもどし、並びに浸漬超
音波洗浄槽から洗浄液を少なくとも片方の蒸気洗
浄槽にオーバーフローさせながら；被洗浄物を第
１蒸気洗浄槽、浸漬超音波洗浄槽及び第２蒸気洗
浄槽の順序にて洗浄することを特徴とする。

次に図面により本方法を詳しく説明する。添付
図面は本方法を実施するための洗浄装置の一具体
例を示す。この洗浄装置は第１蒸気洗浄槽１０、
浸漬超音波洗浄槽２０及び第２蒸気洗浄槽３０を
含む。それぞれの槽には同種洗浄液、例えばフレ
オンが適当量入れられている。第１蒸気洗浄槽１
０の洗浄液１１はヒーター１２で加熱されて蒸気
となる。この蒸気の洗浄に寄与しなかつた部分は
槽上部のコンデンサコイル１３に当つて凝縮さ
れ、清浄な洗浄液が環流路１４を通つて浸漬超音
波洗浄槽２０に送られる。同様の洗浄液の移動が
第２蒸気洗浄槽３０においてもヒーター３２、コ
ンデンサコイル３３及び環流路３４によつて行な
われる。

被洗浄物（図示せず）はコンベア１に取り付け
たハンガー２に取り入れ装置３により自動的に装
着され第１蒸気洗浄槽１０、浸漬超音波洗浄槽２
０及び第２蒸気洗浄槽３０の順に送られ、取り出
し装置４で自動的にハンガー２からはずされる。
この取り入れ装置３及び取り出し装置４は当分野
で公知である。第１蒸気洗浄槽１０では、常温の
被洗浄物に高温の洗浄液蒸気が当つて凝縮し、し
ずくとなつて落下するとき表面の汚れを洗い落
す。従つて、被洗浄物が蒸気温度に達するまで洗
浄能力があり、しかも蒸気は常に汚れを含まない
清浄な状態である。この第１蒸気洗浄槽１０で約
80〜90％の汚れが落ちる。被洗浄物は次に浸漬超
音波洗浄槽２０に入り、超音波発振器２２の作用
で残つている汚れが除去される。浸漬超音波洗浄
槽２０で再びほぼ常温まで冷やされた被洗浄物は
最後に第２蒸気洗浄槽３０で仕上げ洗浄される。
各槽での保持時間は被洗浄物の種類、汚れの程度
等により異なるが通常は順に２分、１分及び２分
である。

上記の洗浄工程により最も洗浄液が汚れるのは
第１蒸気洗浄槽１０である。そこで、少なくとも
第１蒸気洗浄槽１０の洗浄液１１は槽下部の管１
５から浄化装置（図示せず）に送られ、ここで蒸
留により清浄化される。第２蒸気洗浄槽３０の洗
浄液３１及び更には浸漬超音波洗浄槽２０の洗浄
液２１も同じ浄化装置に送つて清浄化してもよ
い。このようにして清浄化された洗浄液は全て浸
漬超音波洗浄槽２０に送られる。従つて上記環流
路１４，３４及び浄化装置から常に清浄な洗浄液
が浸漬超音波洗浄槽２０に供給される。故に、本
方法では浸漬超音波洗浄槽２０はほとんど清浄に
保つことが出来る。常に清浄な洗浄液が供給され
ている浸漬超音波洗浄槽２０の洗浄液２１は第１
及び第２蒸気洗浄槽１０及び３０の両方又は片方
にオーバーフローされる。片方のみにオーバーフ
ローさせる場合には、第２蒸気洗浄槽３０にオー
バーフローさせ、この槽から管３５を通して洗浄
液３１を第１蒸気洗浄槽１０に送るのが好まし
い。この好ましい具体例において、全洗浄液量を
約500とすれば洗浄液の一般的流量は例えば、
第１蒸気洗浄槽１０から浄化槽に約50／Hr、
浄化槽から浸漬超音波洗浄槽２０に約50／
Hr、第１及び第２蒸気洗浄槽１０，３０から凝
縮により浸漬超音波洗浄槽２０にそれぞれ約40
／Hr、浸漬超音波洗浄槽２０から第２蒸気洗
浄槽３０に約130／Hr、及び第２蒸気洗浄槽３
０から第１蒸気洗浄槽に約90／Hrである。

以上具体例の説明はハンガー付タクトコンベア
を設置した装置で行なつたが、ハンガーのないネ
ツトコンベアあるいはクランクモーシヨン方式の
被処理物搬送手段を装備したものでもよい。この
ような搬送手段を装備した自動洗浄方法は洗浄液
の人体に対する影響がないため好ましいが、無論
手作業洗浄であつてもよい。

また、本方法はプリント基板の半田付け作業後
におけるフラツクス除去のための洗浄に好適であ
る。

本発明によれば短時間で完全な洗浄が出来、洗
浄液の管理も容易であり、従つて生産性及び信頼
性を向上させることができる。本発明では洗浄液
の汚れが少なく、従つて液交換の頻度が従来より
も極めて少ない。具体的には第１蒸気洗浄槽及び
浄化槽で洗浄液交換が必要であり、プリント基板
の洗浄実験の結果として洗浄面積約３m²／、プ
リント基枚数にして約14000枚の洗浄まで洗浄液
交換をしなくても何ら支障なく良好な洗浄効果が
得られた。

【図面の簡単な説明】

図面は本方法を実施するための洗浄装置の一具
体例を示す概略断面図である。 １０……第１蒸気洗浄槽、２０……浸漬超音波
洗浄槽、３０……第２蒸気洗浄槽。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 同種洗浄液を入れた第１蒸気洗浄槽、浸漬超
   音波洗浄槽及び第２蒸気洗浄槽をこの順序に設置
   し；第１及び第２蒸気洗浄槽から蒸発する洗浄液
   をその洗浄槽上で凝縮させて中央の浸漬超音波洗
   浄槽に戻し；浸漬超音波洗浄槽から洗浄液を第２
   蒸気洗浄槽にのみオーバーフローさせ；第２蒸気
   洗浄槽から洗浄液を第１蒸気洗浄槽に供給し；第
   １蒸気洗浄槽の下部から汚れた洗浄液を浄化装置
   に送つて蒸留し、清浄化された洗浄液を中央の浸
   漬超音波洗浄槽に戻し；及び、このように洗浄液
   を循環させながら、被洗浄物を第１蒸気洗浄槽、
   浸漬超音波洗浄槽及び第２蒸気洗浄槽の順序にて
   洗浄することを特徴とする洗浄方法。