JPS58204100A - 表面清浄化用組成物 - Google Patents
表面清浄化用組成物Info
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- JPS58204100A JPS58204100A JP57088692A JP8869282A JPS58204100A JP S58204100 A JPS58204100 A JP S58204100A JP 57088692 A JP57088692 A JP 57088692A JP 8869282 A JP8869282 A JP 8869282A JP S58204100 A JPS58204100 A JP S58204100A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/42—Stripping or agents therefor
- G03F7/422—Stripping or agents therefor using liquids only
- G03F7/426—Stripping or agents therefor using liquids only containing organic halogen compounds; containing organic sulfonic acids or salts thereof; containing sulfoxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D9/00—Chemical paint or ink removers
- C09D9/005—Chemical paint or ink removers containing organic solvents
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/34—Organic compounds containing sulfur
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- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
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- C11D7/5004—Organic solvents
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- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/264—Aldehydes; Ketones; Acetals or ketals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/28—Organic compounds containing halogen
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- Y10T156/1111—Using solvent during delaminating [e.g., water dissolving adhesive at bonding face during delamination, etc.]
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
さらに詳しくは、ハロゲン化炭化水素系溶剤、含フツ素
アルコールおよび有機酸を主成分として含有する表面清
浄化用組成物に関する０本発明の目的とするところは、
とくに樹脂被膜やその他樹脂質を主体とする汚れを除去
するための表面清浄化用組成物を提供するにある。
アルコールおよび有機酸を主成分として含有する表面清
浄化用組成物に関する０本発明の目的とするところは、
とくに樹脂被膜やその他樹脂質を主体とする汚れを除去
するための表面清浄化用組成物を提供するにある。
塗料、印刷インキ、研磨剤、焼付は後の７ラツクスなど
の樹脂被膜やその他樹脂質を主体とする汚れは溶剤には
溶解し難いため、通常は基材表面を溶剤をしみ込せた布
などで拭き取る方法とか、あるいは無機性の強力な酸、
アルカリなどに浸漬して溶解、剥離する方法がとられて
いた。しかしながら、このように物理的に拭き取る方法
では労力と時間とを要する欠点があり、一方無機性の強
力な酸、アルカリなどでは被処理物をいためたり、また
取扱上きわめて危険であるなどの不都合があった。
の樹脂被膜やその他樹脂質を主体とする汚れは溶剤には
溶解し難いため、通常は基材表面を溶剤をしみ込せた布
などで拭き取る方法とか、あるいは無機性の強力な酸、
アルカリなどに浸漬して溶解、剥離する方法がとられて
いた。しかしながら、このように物理的に拭き取る方法
では労力と時間とを要する欠点があり、一方無機性の強
力な酸、アルカリなどでは被処理物をいためたり、また
取扱上きわめて危険であるなどの不都合があった。
また電子工業においては、レジスト被膜を除去するため
に芳香族スルホン酸やハロゲン化炭化水素、必要により
フェノールなどを含む組成物が使用されているが、被膜
の剥離はできてもその速度が遅く、シかも倣鉗１なパタ
ーンのばあい細部において剥離が完全に行なわれないと
いう問題を有しており、微細なパターンについても迅速
かつ完全なレジスト被膜の除去を行なえる表面清浄化用
組成物の出現が望まれている。
に芳香族スルホン酸やハロゲン化炭化水素、必要により
フェノールなどを含む組成物が使用されているが、被膜
の剥離はできてもその速度が遅く、シかも倣鉗１なパタ
ーンのばあい細部において剥離が完全に行なわれないと
いう問題を有しており、微細なパターンについても迅速
かつ完全なレジスト被膜の除去を行なえる表面清浄化用
組成物の出現が望まれている。
本発明者らは値上の欠点を排除し、改良された表面清浄
化用組成物を提供するべく一々検討を重ねた結果、（Ｉ
Ｌ）ハロゲン化炭化水素系溶剤、（ｂ）含フツ素アルコ
ールおよび（Ｑ）有機酸を主成分として含有してなる溶
剤組成物が前記の樹脂被膜やその他の樹脂質を主体とす
る汚れに対し、良好な清浄化力を発押し、これら汚れや
被膜を短時間で容易にかつ完全に取り除きうろことを見
出し、本発明を完成するにいたった。
化用組成物を提供するべく一々検討を重ねた結果、（Ｉ
Ｌ）ハロゲン化炭化水素系溶剤、（ｂ）含フツ素アルコ
ールおよび（Ｑ）有機酸を主成分として含有してなる溶
剤組成物が前記の樹脂被膜やその他の樹脂質を主体とす
る汚れに対し、良好な清浄化力を発押し、これら汚れや
被膜を短時間で容易にかつ完全に取り除きうろことを見
出し、本発明を完成するにいたった。
本発明の表面清浄化用組成物は、これを用いて前記の被
処理物品を浸漬および（または）超音波洗浄することに
より、値上の欠点が完全に排除され、物品表面に固着す
る樹脂被膜やその他の樹脂質を主体とする汚れが短時間
のうちに簡単に剥離ないし溶解除去され、物品表面を清
浄にすることができるというきわめて顕著な効果が奏さ
れうる。なかでも、微細レジストパターンを有する電子
部品のばあいとくに、すぐれており、迅速かつ完全にレ
ジスト被膜を除去することができる。
処理物品を浸漬および（または）超音波洗浄することに
より、値上の欠点が完全に排除され、物品表面に固着す
る樹脂被膜やその他の樹脂質を主体とする汚れが短時間
のうちに簡単に剥離ないし溶解除去され、物品表面を清
浄にすることができるというきわめて顕著な効果が奏さ
れうる。なかでも、微細レジストパターンを有する電子
部品のばあいとくに、すぐれており、迅速かつ完全にレ
ジスト被膜を除去することができる。
本発明の組成物で用いる（ａ） Ｊａ分、すなわちハロ
ゲン化炭化水素系溶剤としては、少なくとも１個の塩素
、フッ素または臭素で置換された脂肪族または芳香族炭
化水素であって、ノ１０ゲン化脂肪族炭化水素としては
たとえば通常炭素数１〜４のものが用いられる。かかる
ハロゲン化炭化水素系溶剤の具体例を示せばメチレンク
ロライド１．クロロホルム、１．１−ジクロロエタン、
１．２−ジクロロエタン、１，１．１−トリクロロエタ
ン、トリク四ロエチレン、パークロロエチレン、トリク
ロロモノフルオロメタン、テトラクロロジフルオロエタ
ン、トリクロロトリフルオロエタン、ジブロモテトラフ
ルオロエタン、１．６−ジクロロプロパン、２，２−ジ
クロロプロパン、１，３−ジクロロタン、１．４−ジク
ロロブタンなどのハロゲン化脂肪族炭化水素やオルトジ
クロロベンゼン、メタジクロロベンゼン、トリクロロエ
ンゼ ：ン、クロロトルエン、ペンシトリフルオ
ライド、オルトクロロベンシトリフルオライドなどのハ
ロゲン化芳香族炭化水素があげられ、これらの単独また
は２種以上を混合して使用される。
ゲン化炭化水素系溶剤としては、少なくとも１個の塩素
、フッ素または臭素で置換された脂肪族または芳香族炭
化水素であって、ノ１０ゲン化脂肪族炭化水素としては
たとえば通常炭素数１〜４のものが用いられる。かかる
ハロゲン化炭化水素系溶剤の具体例を示せばメチレンク
ロライド１．クロロホルム、１．１−ジクロロエタン、
１．２−ジクロロエタン、１，１．１−トリクロロエタ
ン、トリク四ロエチレン、パークロロエチレン、トリク
ロロモノフルオロメタン、テトラクロロジフルオロエタ
ン、トリクロロトリフルオロエタン、ジブロモテトラフ
ルオロエタン、１．６−ジクロロプロパン、２，２−ジ
クロロプロパン、１，３−ジクロロタン、１．４−ジク
ロロブタンなどのハロゲン化脂肪族炭化水素やオルトジ
クロロベンゼン、メタジクロロベンゼン、トリクロロエ
ンゼ ：ン、クロロトルエン、ペンシトリフルオ
ライド、オルトクロロベンシトリフルオライドなどのハ
ロゲン化芳香族炭化水素があげられ、これらの単独また
は２種以上を混合して使用される。
本発明の組成物で用いる（ｂ）成分としては、飽和ある
いは不飽和の含フツ素アルコールであり、分岐鎖やエー
テル結合を有していてもよい。含フツ素アルコールの具
体的な化合物としては、式： ％式％ ） ） ） （２０ （式中、ａｓｏｓｏｓｇおよび１は１〜５の整数、ｂ、
（ＬＳｆ、ｈおよびｊ−ｔは１〜６の整数である）など
が例示でき、これらの１種または２種以上が用いられる
。
いは不飽和の含フツ素アルコールであり、分岐鎖やエー
テル結合を有していてもよい。含フツ素アルコールの具
体的な化合物としては、式： ％式％ ） ） ） （２０ （式中、ａｓｏｓｏｓｇおよび１は１〜５の整数、ｂ、
（ＬＳｆ、ｈおよびｊ−ｔは１〜６の整数である）など
が例示でき、これらの１種または２種以上が用いられる
。
本発明の組成物に用いる（０） ｆｉＪ分、すなわち有
機酸としては、種々の脂肪族もしくは芳香族スルホン酸
、脂肪族もしくは芳香族のエステルまたは脂肪族もしく
は芳香族カルボン酸などかあげられる。それらの具体例
としては、たとえばデカンスルホン酸、ドデカンスルホ
ン酸、ジー２−エチルへキシルスルホコハク酸ナトノ脂
肪族スルホン酸；ベンゼンスルホン酸、ヘプチルベンゼ
ンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、デシルベ
ンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン帛、クメ
ンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ナフタリンスルホ
ン酸、キシレンスルホン酸、メチルベンゼンスルホン酸
、ナフトールスルホン酸、フェノールスルホン酸、メチ
ルナフトールスルホン酸、クレゾールスルホン酸、クロ
ロナフトールスルホン酸、クロロフェノールスルホン酸
、クロロベンゼンスルホン酸、フェノール−２，４−ジ
スルホン酸、ｐ−アミノベンゼンスルホン酸、ビフェニ
ルジスルホン酸などの芳香族スルホン酸；ドデシルスル
ホン′酸エステル、ドデカンスルホン＋１１エステルナ
トの脂ｌ１ｔｉ族スルホン酸エステルフトルエンスルホ
ン酸エステル、ドデシルベンゼンスルホン酸エステルな
どの芳香族スルホン酸エステル；酢酸、プロピオン酸、
ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、アジピン酸、マ
レイン酸、ヒドロキシ酢酸、アセト酢酸、アミノ酢酸、
ヒドロキシフェニル酢酸、モノクロロ酢酸、トリクロロ
酢酸などのクロロカルボン酸ｉ Ｈ（ＯＩＦ２０Ｆ２）
Ｃ！ＯＯＨ。
機酸としては、種々の脂肪族もしくは芳香族スルホン酸
、脂肪族もしくは芳香族のエステルまたは脂肪族もしく
は芳香族カルボン酸などかあげられる。それらの具体例
としては、たとえばデカンスルホン酸、ドデカンスルホ
ン酸、ジー２−エチルへキシルスルホコハク酸ナトノ脂
肪族スルホン酸；ベンゼンスルホン酸、ヘプチルベンゼ
ンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、デシルベ
ンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン帛、クメ
ンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ナフタリンスルホ
ン酸、キシレンスルホン酸、メチルベンゼンスルホン酸
、ナフトールスルホン酸、フェノールスルホン酸、メチ
ルナフトールスルホン酸、クレゾールスルホン酸、クロ
ロナフトールスルホン酸、クロロフェノールスルホン酸
、クロロベンゼンスルホン酸、フェノール−２，４−ジ
スルホン酸、ｐ−アミノベンゼンスルホン酸、ビフェニ
ルジスルホン酸などの芳香族スルホン酸；ドデシルスル
ホン′酸エステル、ドデカンスルホン＋１１エステルナ
トの脂ｌ１ｔｉ族スルホン酸エステルフトルエンスルホ
ン酸エステル、ドデシルベンゼンスルホン酸エステルな
どの芳香族スルホン酸エステル；酢酸、プロピオン酸、
ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、アジピン酸、マ
レイン酸、ヒドロキシ酢酸、アセト酢酸、アミノ酢酸、
ヒドロキシフェニル酢酸、モノクロロ酢酸、トリクロロ
酢酸などのクロロカルボン酸ｉ Ｈ（ＯＩＦ２０Ｆ２）
Ｃ！ＯＯＨ。
Ｈ（０Ｆ２（！Ｆ２）３ｃｏ ＯＨＳＨ（ＯＦ２０ Ｆ
２）４ｃ ＯＯＨ、Ｆ（ａｙ２ｃＦ２）３ｃｏｏＨ。
２）４ｃ ＯＯＨ、Ｆ（ａｙ２ｃＦ２）３ｃｏｏＨ。
ｏｒ３ａｙ２ｏａｒ２ａＰ（ＯＦ３）ＯＯＯＨなどのフ
ルオロカルボン酸；安息香酸、７タル酸、ヒドロキシ安
息香酸、スルホ安息香酸、２−ヒドロキシ−５−スルホ
安息香−、ナフタレンカルボン酸、クロロフタル酸など
の芳香族カルボン酸などが例示でき、これらの１種また
は２種以上が用いられる。
ルオロカルボン酸；安息香酸、７タル酸、ヒドロキシ安
息香酸、スルホ安息香酸、２−ヒドロキシ−５−スルホ
安息香−、ナフタレンカルボン酸、クロロフタル酸など
の芳香族カルボン酸などが例示でき、これらの１種また
は２種以上が用いられる。
また前記（＆）成分と（ｂ）成分と（Ｑ）成分との組成
割合としては、これら成分が相互に溶解する範囲内で配
合して用いられるが、通常（ａ） ／ （ｂ） ／ （
ｃ）が重量比で２０〜７０１５〜４０１５〜８０の割合
で配合して用いられ、この範囲にあるときとくに塗布ま
たは付着された樹脂質の種類にかかわらず剥離ないし溶
解除去効果が大となり、表面清浄上きわめて顕著な効果
が奏される。（ＩＬ）成分と（ｂ）成分と（ｃ）成分と
の組成割合はとくに制限されないが前記範囲外のときは
樹脂質の種類や付着状態により除去可能な範囲が限定さ
れることがある。
割合としては、これら成分が相互に溶解する範囲内で配
合して用いられるが、通常（ａ） ／ （ｂ） ／ （
ｃ）が重量比で２０〜７０１５〜４０１５〜８０の割合
で配合して用いられ、この範囲にあるときとくに塗布ま
たは付着された樹脂質の種類にかかわらず剥離ないし溶
解除去効果が大となり、表面清浄上きわめて顕著な効果
が奏される。（ＩＬ）成分と（ｂ）成分と（ｃ）成分と
の組成割合はとくに制限されないが前記範囲外のときは
樹脂質の種類や付着状態により除去可能な範囲が限定さ
れることがある。
本発明の表面清浄化用組成物においては、（＆）成分と
（１））成分、ないしはこれらと（０）成分とが共佛混
合物を形成するばあいには当該組成物の回収、再使用が
容を、となり、さらに望ましく使用されうる。
（１））成分、ないしはこれらと（０）成分とが共佛混
合物を形成するばあいには当該組成物の回収、再使用が
容を、となり、さらに望ましく使用されうる。
本発明の表面ｔ？Ｊ ７４’化用組成物を適用する被処
理物品の処理方法左しては、たとえば被処理物品やレジ
ス） ｆｆｌｓ品を該組成物液中に浸漬するか、あるい
は被処理物品に該組成物液を噴務、塗布または散布し、
たのち拭き取るなどにより容易に清浄化されるが、望ま
しくは前記組成物液中に被処理物品を浸漬するか、また
は超音波を用いる方法が採用される。またこの処理は室
温または高温（通常、溶剤の沸点まで）において行なう
ことができる。
理物品の処理方法左しては、たとえば被処理物品やレジ
ス） ｆｆｌｓ品を該組成物液中に浸漬するか、あるい
は被処理物品に該組成物液を噴務、塗布または散布し、
たのち拭き取るなどにより容易に清浄化されるが、望ま
しくは前記組成物液中に被処理物品を浸漬するか、また
は超音波を用いる方法が採用される。またこの処理は室
温または高温（通常、溶剤の沸点まで）において行なう
ことができる。
本発明の表面清浄化用組成物には、必要に応じさらに他
の溶剤や界面活性剤、安定剤などを配合することもでき
る。これら他の溶剤としてはベンゼン、トルエン、キシ
レン、トリメチルベンゼン、エチルベンゼン、ジエチル
ベンゼムトリエチルベンゼン、オクチルベンゼン、デシ
ルベンゼン、ドデシルベンゼン、トリデシルベンゼン、
クメン、トリデシルトルエン、フェノール、クレゾール
、レゾルシノール、ペンタン、ヘキサン、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エトキシ
エタノール、エチレングリコールモノアルキルエーテル
、テトラヒドロフラン、ニトロメタン、ホルムアミ豐 ド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ
−メチルピロリドン、アセトニトリル、プロピオニトリ
ル、マロニトリル、サクシニトリル、ゲルタロニトリル
、アジポニトリル、テトラメチレンスルホンなどがあげ
られ、これらの１棺または２棟以上が使用される０ 界面活性剤としては、一般に洗剤用に使用される陽イオ
ン界面活性剤、陰イオン界面活性剤などが適宜用いられ
る。これら界面活性剤の好ましいものを例示すれば、た
とえばアルキルベンゼンスルホン酸塩煩、ジアルキルス
ルホコハク酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルトリメ
チル第４級アンモニウム塩類、ジまたはモノアルキルア
ミン有機酸塩類、アルキルベタイン類、アルキルイミダ
シリン類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオ
キシエチレンソルビタンエステル頑、ポリオキシエチレ
ン脂肪酸エーテル類などがあげられる。
の溶剤や界面活性剤、安定剤などを配合することもでき
る。これら他の溶剤としてはベンゼン、トルエン、キシ
レン、トリメチルベンゼン、エチルベンゼン、ジエチル
ベンゼムトリエチルベンゼン、オクチルベンゼン、デシ
ルベンゼン、ドデシルベンゼン、トリデシルベンゼン、
クメン、トリデシルトルエン、フェノール、クレゾール
、レゾルシノール、ペンタン、ヘキサン、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エトキシ
エタノール、エチレングリコールモノアルキルエーテル
、テトラヒドロフラン、ニトロメタン、ホルムアミ豐 ド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ
−メチルピロリドン、アセトニトリル、プロピオニトリ
ル、マロニトリル、サクシニトリル、ゲルタロニトリル
、アジポニトリル、テトラメチレンスルホンなどがあげ
られ、これらの１棺または２棟以上が使用される０ 界面活性剤としては、一般に洗剤用に使用される陽イオ
ン界面活性剤、陰イオン界面活性剤などが適宜用いられ
る。これら界面活性剤の好ましいものを例示すれば、た
とえばアルキルベンゼンスルホン酸塩煩、ジアルキルス
ルホコハク酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルトリメ
チル第４級アンモニウム塩類、ジまたはモノアルキルア
ミン有機酸塩類、アルキルベタイン類、アルキルイミダ
シリン類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオ
キシエチレンソルビタンエステル頑、ポリオキシエチレ
ン脂肪酸エーテル類などがあげられる。
前記溶剤、界面活性剤または安定剤の配合量としては（
ａ）成分と（ｂ）成分と（０）成分との混合物１００部
（重曖部、以下同様）に対してそれぞれ通常４０部以下
が用いられる。
ａ）成分と（ｂ）成分と（０）成分との混合物１００部
（重曖部、以下同様）に対してそれぞれ通常４０部以下
が用いられる。
本発明の表面清浄化用組成物は、前記のごとく樹脂被膜
やその他の樹脂質を主体とした汚れを効果的にかつ迅速
、完全に剥離ないし溶解、清ｒ″ｐ化できるほか、カー
ボン（油性ないしタール状を含む）などの通常の洗浄剤
によっては容易に除去することができない頑固な同形状
ないし油状の汚れ物質をも容易に剥離または溶解除去す
ることができ、きわめて有用なものである。
やその他の樹脂質を主体とした汚れを効果的にかつ迅速
、完全に剥離ないし溶解、清ｒ″ｐ化できるほか、カー
ボン（油性ないしタール状を含む）などの通常の洗浄剤
によっては容易に除去することができない頑固な同形状
ないし油状の汚れ物質をも容易に剥離または溶解除去す
ることができ、きわめて有用なものである。
つぎに実施例をあげて本発明の表面清浄化用組成物を具
体的に説明する。
体的に説明する。
実施例１
フロン−１１３、塩化メチレン、Ｈ（ＯＦ２ＣＦ２）Ｏ
Ｈ２０Ｈおよびドデシルベンゼンスルホン酸（以下、Ｄ
ＢＳという）を重量比３５ ： ５５ ： １０ ：
２０で混合して本発明の組成物をえた。
Ｈ２０Ｈおよびドデシルベンゼンスルホン酸（以下、Ｄ
ＢＳという）を重量比３５ ： ５５ ： １０ ：
２０で混合して本発明の組成物をえた。
ついでアルキッド樹脂系塗料「アルキス＋２ｏｏＪ（神
東塗料■製）でコーティングされた２０ｍｍＸ５０ｍｍ
の鉄板を本発明の組成物１００ｍ１中に浸漬し、室温下
に塗膜が完全に剥屏するまでに要する時間を測定した。
東塗料■製）でコーティングされた２０ｍｍＸ５０ｍｍ
の鉄板を本発明の組成物１００ｍ１中に浸漬し、室温下
に塗膜が完全に剥屏するまでに要する時間を測定した。
結果を第１表に示す。
実施例２および比較例１〜６
第１表に示す組成の表面清浄化用組成物を調製し、実施
例１と同様にしてそれぞれの完全剥離時間を測定した。
例１と同様にしてそれぞれの完全剥離時間を測定した。
結果を第１表に示す。
実施例３
ポリイソプレンを含む感光液（ネガティブレジスト）を
二酸化ケイ素支持体に塗布乾燥してレジスト被覆を形成
させ、２２０°Ｃで４０分間ベーキングした。
二酸化ケイ素支持体に塗布乾燥してレジスト被覆を形成
させ、２２０°Ｃで４０分間ベーキングした。
ついでレジスト被覆が形成された支持体をパークロロエ
チレン、Ｈ（ＣＦ２０Ｆ２）ＣＨ２０ＨおよびＤＢＳを
重量比６０二１０：３０で屏合してえられた本発明の表
面清浄化用組成物中に１０°Ｃで５分間浸漬したノチ、
イソプロパツールで洗浄し、さらにトリクロロトリフル
オロエタンですすぎ洗浄した。
チレン、Ｈ（ＣＦ２０Ｆ２）ＣＨ２０ＨおよびＤＢＳを
重量比６０二１０：３０で屏合してえられた本発明の表
面清浄化用組成物中に１０°Ｃで５分間浸漬したノチ、
イソプロパツールで洗浄し、さらにトリクロロトリフル
オロエタンですすぎ洗浄した。
洗浄後の支持体の剥離状絆を顕微鏡で観察した。第１図
にその′ａ倣鏡写真（倍率１０００倍）を示す。
にその′ａ倣鏡写真（倍率１０００倍）を示す。
実施例４〜５および比較例４〜５
第２表に示す組成の表面清浄化用組成物を調製し、実施
例３と同様にしてレジスト被膜の剥４および； 図にそれぞれ実施例４および５ならびに比較例５の顕微
鏡写真（倍率１００Ｇ倍）を示す。
例３と同様にしてレジスト被膜の剥４および； 図にそれぞれ実施例４および５ならびに比較例５の顕微
鏡写真（倍率１００Ｇ倍）を示す。
第 ２ 表
第１〜３図に示すように本発明の表面清浄化用組成物で
剥喘したものはレジストパターンのθ細部まで完全にレ
ジスト被膜が剥爪されているが、第４〜５図に示すよう
に比較用の組成物で剥渾したものは微細パターン部で剥
離が不充分であることがわかる。 ：、− 実ＴＲ６１列 ６ アクリル階エステルを主体とした共重合体からなるドラ
イフィルムレジストを使用し、画像レジストをｆ形成さ
せたフレキシブルプリント基板を用い、実施例１と同じ
基板を用い、実施例１と同じ組成の本発明の表面清浄化
用組成物中に該基板を室温（２５°Ｃ）にて浸漬し、そ
の完全剥離時間を測定した。
剥喘したものはレジストパターンのθ細部まで完全にレ
ジスト被膜が剥爪されているが、第４〜５図に示すよう
に比較用の組成物で剥渾したものは微細パターン部で剥
離が不充分であることがわかる。 ：、− 実ＴＲ６１列 ６ アクリル階エステルを主体とした共重合体からなるドラ
イフィルムレジストを使用し、画像レジストをｆ形成さ
せたフレキシブルプリント基板を用い、実施例１と同じ
基板を用い、実施例１と同じ組成の本発明の表面清浄化
用組成物中に該基板を室温（２５°Ｃ）にて浸漬し、そ
の完全剥離時間を測定した。
結果を第３表に示す。
実施例７および比較例６〜８
第３表に示すｆＸ４Ｆ＃、の表面清浄化用組成物を調製
し、実ｆＭｊ 伜１６と請１様にしてそれぞれの完全剥
離時間時間を測定した。
し、実ｆＭｊ 伜１６と請１様にしてそれぞれの完全剥
離時間時間を測定した。
結果を第６者に示す。
第６表から明らかなように、本弁明の表面清浄化用組成
物を用いるときはきわめて迅速に剥離を行なうことがで
きる。
物を用いるときはきわめて迅速に剥離を行なうことがで
きる。
また剥離後の各プリント基板を）１頃イ遂紳俵察したと
ころ、本発明の組成物を用いたけあいはｂ次細部まで完
全にφ１、艇が完了していたが、比較例の組成物１のば
あいけ来慴（絣の卯Ｃ分が攬存していた０
ころ、本発明の組成物を用いたけあいはｂ次細部まで完
全にφ１、艇が完了していたが、比較例の組成物１のば
あいけ来慴（絣の卯Ｃ分が攬存していた０
第１〜５図はそれぞれ実か７．ｉｌ；ｉｉ ３〜５およ
び比較例４〜５で調製した表面：音浄化用組成りり全ｈ
’４いて剥離したレジスト＠壇支持体のｍｌ ’ｆＦｉ
Ｎｐ ８真（倍率１０ＤＤ倍）である。 特許出願人 ダイキン工業株式会社 代理人弁理士 、ｇｉｉ 日 奈 宗 太
讐 １ ′ ′１、 ；ａ壮° ・−、 第 ２ 図 第 ６ 図 （−患゛ １ ° ′ 手続補正書（方式） ％式％ 事件の表示 昭和５７年特許願第 ８８６９２ 号発明の名称 表囲涜浄化用組成物 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住げｆ 大阪市北ｉ５７梅田１丁目１２番６９号新阪急
ビル代理人〒５４０ °−′ ５補正命令の日付 昭和５７年８月３１日 ６補正の対象 （１） 明ｍｉＩの「発明の詳細な説明」の欄（２）
明細書の「図面の簡単な説明」の欄（８） 図
面 ７補正の内容 （１）明細書１４頁１′５行の１１０００倍）」を１１
０００倍）のスケッチ図」と補正する。 （２） 同１５頁１行の「１０００倍）Ｊを「１００
０倍）のスケッチ図」と補正する。 （８）同１８頁１６行の１１０００倍）」を１１０００
倍）のスケッチ図」と補正する。 （４）図面（第１〜５図）を別紙補正図面（第１〜５図
）のとおり補正する、。 （５）参考写真を補充する。 ８添付書類の目録 （１） 補正図面（第１〜５図） １通（
２）参考写真（第Ａ〜１図） １通第１図 第３図 第５図 手続補正書（自発） 昭和５８年６月１３日 １事件の表示 昭和５７年特許願第 ８８６９２ 号２発明の名称 住 所 大阪市北区摘出１丁目１２番６９号新阪急ビ
ル名称 （２８５）ダイキン工業株式会社代表者 山
１） 稔 ４代理人〒５４０ ５補正の対象 （１） 明細書の「発明の詳細な説明」の欄６補正の
内容 （１）明細書６頁下から８行の［＆、ｏ、ｏ、Ｊを「＆
、０、ｅ」と補正する。 （２）同８阪４〜５行の「トリクロａｉｔｌ：ｒｓ・・
−・−・・カルボン漠；」を「トリク９口酢酸、」と補
正する。 （８） 同８頁７行の「フルオＵカルボン酸」を「脂
肪族カルボン酸」と補正する。 （４） 同？貞１２行の「噴務」を「噴霧」と補正する
。 （６） 同１０頁１４〜１５行の「サクシこトリル」
を「サクシノニトリル」と補正する。 （６） 同１４ｊｒ９行＋７） １１０”ＯＪ ヲｒ
１００’ＯＪ 、！：補正する。 以上
び比較例４〜５で調製した表面：音浄化用組成りり全ｈ
’４いて剥離したレジスト＠壇支持体のｍｌ ’ｆＦｉ
Ｎｐ ８真（倍率１０ＤＤ倍）である。 特許出願人 ダイキン工業株式会社 代理人弁理士 、ｇｉｉ 日 奈 宗 太
讐 １ ′ ′１、 ；ａ壮° ・−、 第 ２ 図 第 ６ 図 （−患゛ １ ° ′ 手続補正書（方式） ％式％ 事件の表示 昭和５７年特許願第 ８８６９２ 号発明の名称 表囲涜浄化用組成物 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住げｆ 大阪市北ｉ５７梅田１丁目１２番６９号新阪急
ビル代理人〒５４０ °−′ ５補正命令の日付 昭和５７年８月３１日 ６補正の対象 （１） 明ｍｉＩの「発明の詳細な説明」の欄（２）
明細書の「図面の簡単な説明」の欄（８） 図
面 ７補正の内容 （１）明細書１４頁１′５行の１１０００倍）」を１１
０００倍）のスケッチ図」と補正する。 （２） 同１５頁１行の「１０００倍）Ｊを「１００
０倍）のスケッチ図」と補正する。 （８）同１８頁１６行の１１０００倍）」を１１０００
倍）のスケッチ図」と補正する。 （４）図面（第１〜５図）を別紙補正図面（第１〜５図
）のとおり補正する、。 （５）参考写真を補充する。 ８添付書類の目録 （１） 補正図面（第１〜５図） １通（
２）参考写真（第Ａ〜１図） １通第１図 第３図 第５図 手続補正書（自発） 昭和５８年６月１３日 １事件の表示 昭和５７年特許願第 ８８６９２ 号２発明の名称 住 所 大阪市北区摘出１丁目１２番６９号新阪急ビ
ル名称 （２８５）ダイキン工業株式会社代表者 山
１） 稔 ４代理人〒５４０ ５補正の対象 （１） 明細書の「発明の詳細な説明」の欄６補正の
内容 （１）明細書６頁下から８行の［＆、ｏ、ｏ、Ｊを「＆
、０、ｅ」と補正する。 （２）同８阪４〜５行の「トリクロａｉｔｌ：ｒｓ・・
−・−・・カルボン漠；」を「トリク９口酢酸、」と補
正する。 （８） 同８頁７行の「フルオＵカルボン酸」を「脂
肪族カルボン酸」と補正する。 （４） 同？貞１２行の「噴務」を「噴霧」と補正する
。 （６） 同１０頁１４〜１５行の「サクシこトリル」
を「サクシノニトリル」と補正する。 （６） 同１４ｊｒ９行＋７） １１０”ＯＪ ヲｒ
１００’ＯＪ 、！：補正する。 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １（ａ）ハロゲン化炭化水素系溶剤、 （ｂ）含フツ素アルコールおよび （ｃ）有機酸 を主成分として含有することを特徴とする表面清浄化用
組成物。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57088692A JPS58204100A (ja) | 1982-05-24 | 1982-05-24 | 表面清浄化用組成物 |
| DE8383105047T DE3373561D1 (en) | 1982-05-24 | 1983-05-21 | Composition for cleaning surface of substrate |
| EP83105047A EP0095171B1 (en) | 1982-05-24 | 1983-05-21 | Composition for cleaning surface of substrate |
| US06/703,456 US4578209A (en) | 1982-05-24 | 1985-02-20 | Composition for cleaning surface of substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57088692A JPS58204100A (ja) | 1982-05-24 | 1982-05-24 | 表面清浄化用組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58204100A true JPS58204100A (ja) | 1983-11-28 |
Family
ID=13949889
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57088692A Pending JPS58204100A (ja) | 1982-05-24 | 1982-05-24 | 表面清浄化用組成物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4578209A (ja) |
| EP (1) | EP0095171B1 (ja) |
| JP (1) | JPS58204100A (ja) |
| DE (1) | DE3373561D1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59157196A (ja) * | 1983-02-28 | 1984-09-06 | ダイキン工業株式会社 | 固定用ワックスの除去方法 |
| JPH02261900A (ja) * | 1989-03-27 | 1990-10-24 | Pcr Inc | 半導体ウエファ等のクリーニング用溶剤組成物およびそのクリーニング方法 |
| JP2021143332A (ja) * | 2020-03-11 | 2021-09-24 | セントラル硝子株式会社 | 溶剤組成物、該溶剤組成物を含む洗浄剤、及び物品の洗浄方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US4711256A (en) * | 1985-04-19 | 1987-12-08 | Robert Kaiser | Method and apparatus for removal of small particles from a surface |
| JPS61264099A (ja) * | 1985-05-17 | 1986-11-21 | 花王株式会社 | 染色機器用洗浄剤 |
| DE3609426C2 (de) * | 1986-03-20 | 1997-04-24 | Kali Chemie Ag | Lösungsmittelgemische |
| US4810411A (en) * | 1986-04-16 | 1989-03-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Solvent-based fabric protector |
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| JPH0321688A (ja) * | 1989-06-19 | 1991-01-30 | Daikin Ind Ltd | 含フッ素アルコール系脱水剤および物品の脱水乾燥方法 |
| DE4017492A1 (de) * | 1989-11-06 | 1991-12-05 | Kali Chemie Ag | Reinigungszusammensetzungen aus wasserstoffhaltigen fluorchlorkohlenwasserstoffen und partiell fluorierten alkanolen |
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-
1982
- 1982-05-24 JP JP57088692A patent/JPS58204100A/ja active Pending
-
1983
- 1983-05-21 DE DE8383105047T patent/DE3373561D1/de not_active Expired
- 1983-05-21 EP EP83105047A patent/EP0095171B1/en not_active Expired
-
1985
- 1985-02-20 US US06/703,456 patent/US4578209A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0095171A2 (en) | 1983-11-30 |
| DE3373561D1 (en) | 1987-10-15 |
| EP0095171B1 (en) | 1987-09-09 |
| US4578209A (en) | 1986-03-25 |
| EP0095171A3 (en) | 1984-02-22 |
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