JPH04127955A - 物品表面の清浄化方法 - Google Patents
物品表面の清浄化方法Info
- Publication number
- JPH04127955A JPH04127955A JP25268890A JP25268890A JPH04127955A JP H04127955 A JPH04127955 A JP H04127955A JP 25268890 A JP25268890 A JP 25268890A JP 25268890 A JP25268890 A JP 25268890A JP H04127955 A JPH04127955 A JP H04127955A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- article
- alcohol
- rinsing
- fluorine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
Landscapes
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、物品表面の清浄化方法に関し、さらに詳しく
は、プリント配線基板のはんだ付けに使用されるロジン
フラックスの洗浄に特に適した清浄化方法に関する。本
発明方法は、さらにまた、油類、ワックス類、グリース
類、油脂性研磨剤などの汚染物質の洗浄除去にも、有用
である。
は、プリント配線基板のはんだ付けに使用されるロジン
フラックスの洗浄に特に適した清浄化方法に関する。本
発明方法は、さらにまた、油類、ワックス類、グリース
類、油脂性研磨剤などの汚染物質の洗浄除去にも、有用
である。
従来技術とその問題点
プリント配線基板に対するＩＣ部品およびその他の部品
類の装着は、ハンダ付けによって行なわれており、ハン
ダ付は性の改善のために、フラックスが使用されている
。
類の装着は、ハンダ付けによって行なわれており、ハン
ダ付は性の改善のために、フラックスが使用されている
。
フラックスは、ロジン系フラックスと非ロジン系或いは
水溶性フラックスとに大別される。これらの中、ロジン
系フラックスは、電子工業分野でプリント配線基板に対
するＩＣ部品およびその他の部品類の装着に広く使用さ
れている。ハンダ付は後にロジン系フラックスが残存し
ている場合には、配線基板の抵抗が低下して、回路破壊
の原因などとなるので、好ましくない。
水溶性フラックスとに大別される。これらの中、ロジン
系フラックスは、電子工業分野でプリント配線基板に対
するＩＣ部品およびその他の部品類の装着に広く使用さ
れている。ハンダ付は後にロジン系フラックスが残存し
ている場合には、配線基板の抵抗が低下して、回路破壊
の原因などとなるので、好ましくない。
従って、ロジンフラックスの洗浄除去は、１゜１．１−
）ジクロロエタン、トリクロロエチレン、ジクロロエタ
ンなどの塩化炭化水素、トリクロロトリフルオロエタン
（フロン１１３）、ジクロロテトラフルオロエタンなど
の塩化フッ化炭化水素、これらの混合物或いはこれらと
他の有機溶剤との共沸混合物などを使用して行なわれて
きた。
）ジクロロエタン、トリクロロエチレン、ジクロロエタ
ンなどの塩化炭化水素、トリクロロトリフルオロエタン
（フロン１１３）、ジクロロテトラフルオロエタンなど
の塩化フッ化炭化水素、これらの混合物或いはこれらと
他の有機溶剤との共沸混合物などを使用して行なわれて
きた。
特に、フロン１１３は、不燃性且つ低毒性で、化学的安
定性にも優れており、金属、プラスチックス、エラスト
マーなどの部品を装着したプリント配線基板を浸食せず
、汚染物質のみを選択的に除去するという優れた性質を
有しているため、広く利用されてきた。
定性にも優れており、金属、プラスチックス、エラスト
マーなどの部品を装着したプリント配線基板を浸食せず
、汚染物質のみを選択的に除去するという優れた性質を
有しているため、広く利用されてきた。
また、水溶性フラックスの洗浄除去には、一部で水も使
用されている。
用されている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、近年、大気中に放出されたある種の塩化
フッ化炭化水素（フロン）、塩化炭化水素などが、成層
圏のオゾン層を破壊し、その結果、人類を含む地球上の
生態系に重大な悪影響を及ぼすことが指摘されており、
オゾン層破壊の可能性の高い塩化フッ化炭化水素、塩化
炭化水素など使用および生産が制限されるに至っている
。
フッ化炭化水素（フロン）、塩化炭化水素などが、成層
圏のオゾン層を破壊し、その結果、人類を含む地球上の
生態系に重大な悪影響を及ぼすことが指摘されており、
オゾン層破壊の可能性の高い塩化フッ化炭化水素、塩化
炭化水素など使用および生産が制限されるに至っている
。
一方、水による水溶性フラックスの洗浄除去においては
、水の表面張力が大きいために、微細な部分の洗浄が不
十分となったり、洗浄除去後に物品の表面に残留した水
を乾燥する際に“シミ”が残り、電気的なトラブルの原
因となることかしばしばある。また、洗浄除去に使用す
る水の精製処理或いは使用後の廃水処理などに高価な設
備を必要とするので、水によるフラックスの洗浄除去は
、あまり広くは行なわれていない。
、水の表面張力が大きいために、微細な部分の洗浄が不
十分となったり、洗浄除去後に物品の表面に残留した水
を乾燥する際に“シミ”が残り、電気的なトラブルの原
因となることかしばしばある。また、洗浄除去に使用す
る水の精製処理或いは使用後の廃水処理などに高価な設
備を必要とするので、水によるフラックスの洗浄除去は
、あまり広くは行なわれていない。
テルペンアルコールは、ロジンフラックスの溶剤として
は公知である（特開昭５８−６６３２３号）が、ハンダ
付は後のフラックス洗浄剤としては使用されてはいない
。これは、粘度が高いこと、沸点が２００℃以上である
ことなどから、フラックス洗浄後に、テルペンアルコー
ルが物品表面に残留して、その除去が極めて困難である
などの理由によるものである。例えば、テルペンアルコ
ールは、水に不溶性であるため、水ですすいでその除去
を行なうことは、できない。
は公知である（特開昭５８−６６３２３号）が、ハンダ
付は後のフラックス洗浄剤としては使用されてはいない
。これは、粘度が高いこと、沸点が２００℃以上である
ことなどから、フラックス洗浄後に、テルペンアルコー
ルが物品表面に残留して、その除去が極めて困難である
などの理由によるものである。例えば、テルペンアルコ
ールは、水に不溶性であるため、水ですすいでその除去
を行なうことは、できない。
課題を解決するための手段
本発明者は、上記の如き技術の現状に鑑みて研究を重ね
た結果、テルペンアルコールによる洗浄と含フッ素アル
コールによるすすぎとを併用する場合には、従来技術の
問題点が大幅に軽減乃至実質的に解消されることを見出
した。
た結果、テルペンアルコールによる洗浄と含フッ素アル
コールによるすすぎとを併用する場合には、従来技術の
問題点が大幅に軽減乃至実質的に解消されることを見出
した。
すなわち、本発明は、下記の物品表面の清浄化方法を提
供するものである： ■汚染物質が付着した物品にテルペンアルコールを接触
させて汚染物質を溶解除去した後、物品を含フッ素、ア
ルコールによりすすぐことを特徴とする物品表面の清浄
化方法。
供するものである： ■汚染物質が付着した物品にテルペンアルコールを接触
させて汚染物質を溶解除去した後、物品を含フッ素、ア
ルコールによりすすぐことを特徴とする物品表面の清浄
化方法。
■含フッ素アルコールが、炭素数２〜５の一価の含フッ
素アルコールである上記項（１）に記載の物品表面の清
浄化方法。
素アルコールである上記項（１）に記載の物品表面の清
浄化方法。
本発明で使用するテルペンアルコールとしては、天然お
よび合成のものがあり、より具体的には、下記のものが
例示される。
よび合成のものがあり、より具体的には、下記のものが
例示される。
（ａ）鎖状テルペンアルコール；
＊リナロール（Ｃ１ｏＨ１８０）、沸点＝１９７〜１９
９℃ ＊ゲラニオール（Ｃ＋ｏＨ＋ｇＯ） 、沸点＝２２９〜
２３０°Ｃ ＊シトロネロール（Ｃ１０Ｈ２００） 、沸点＝２２５
２６９Ｃ （ｂ）単環式テルペンアルコール； ＊α−テルピネオール（Ｃ１ｏＨ１８０）、沸点＝２１
７〜２１８℃ ＊β−テルピネオール（Ｃ１ｏＨ１８０）、沸点＝２０
９〜２１０℃ ＊γ−テルピネオール（Ｃ１ｏＨ工ＳＯ）＊メントール
（Ｃ１ｏＨ１８０）、沸点＝２１６℃＊シネオール（Ｃ
工。Ｈ工、０）、沸点＝１７６℃これらのテルペンアル
コールは、単独で若しくは２種以上の混合物として使用
することができる。
９℃ ＊ゲラニオール（Ｃ＋ｏＨ＋ｇＯ） 、沸点＝２２９〜
２３０°Ｃ ＊シトロネロール（Ｃ１０Ｈ２００） 、沸点＝２２５
２６９Ｃ （ｂ）単環式テルペンアルコール； ＊α−テルピネオール（Ｃ１ｏＨ１８０）、沸点＝２１
７〜２１８℃ ＊β−テルピネオール（Ｃ１ｏＨ１８０）、沸点＝２０
９〜２１０℃ ＊γ−テルピネオール（Ｃ１ｏＨ工ＳＯ）＊メントール
（Ｃ１ｏＨ１８０）、沸点＝２１６℃＊シネオール（Ｃ
工。Ｈ工、０）、沸点＝１７６℃これらのテルペンアル
コールは、単独で若しくは２種以上の混合物として使用
することができる。
また、テルペンアルコールには、その重量の１０％を超
えない範囲で、テルペン炭化水素、有機溶媒、防腐剤、
安定化剤などを添加しても良い。テルペン炭化水素また
は有機溶媒を添加する場合には、粘度低下、凝固点降下
などの効果が達成される。
えない範囲で、テルペン炭化水素、有機溶媒、防腐剤、
安定化剤などを添加しても良い。テルペン炭化水素また
は有機溶媒を添加する場合には、粘度低下、凝固点降下
などの効果が達成される。
本発明方法でテルペンアルコールによる洗浄後にすすぎ
液として使用する含フッ素アルコールとしては、下記の
ものが例示される。
液として使用する含フッ素アルコールとしては、下記の
ものが例示される。
＊ペンタフルオロフロパノール（ＣＦ３ ＣＦ２ ＣＨ
２０Ｈ）沸点＝８１℃ ＊トリフルオロエタノール（ＣＦ３ ＣＨ２０Ｈ） 、
沸点＝７７°Ｃ ＊テトラフルオロプロパツール （ＣＩＩＦ２ＣＦ２ ＣＨ２０Ｈ） 、沸点＝１０９℃
＊へキサフルオロイソプロパツール ［（ＣＦ３ ） ２ Ｃ）（ＯＨ）コ、沸点＝５９℃＊
オクタフルオロペンタノール （Ｃ肛２ ＣＦ２ ＣＦ２ ＣＦ２ ＣＨ２０Ｈ） 、
沸点−１４０℃これらの含フッ素アルコールは、単独で
若しくは２種以上の混合物として使用することができる
。
２０Ｈ）沸点＝８１℃ ＊トリフルオロエタノール（ＣＦ３ ＣＨ２０Ｈ） 、
沸点＝７７°Ｃ ＊テトラフルオロプロパツール （ＣＩＩＦ２ＣＦ２ ＣＨ２０Ｈ） 、沸点＝１０９℃
＊へキサフルオロイソプロパツール ［（ＣＦ３ ） ２ Ｃ）（ＯＨ）コ、沸点＝５９℃＊
オクタフルオロペンタノール （Ｃ肛２ ＣＦ２ ＣＦ２ ＣＦ２ ＣＨ２０Ｈ） 、
沸点−１４０℃これらの含フッ素アルコールは、単独で
若しくは２種以上の混合物として使用することができる
。
マタ、含フッ素アルコールには、その重量の１０％を超
えない範囲で、水、有機溶媒、防腐剤、安定化剤などを
添加しても良い。添加物は、共沸混合物を形成するもの
が好ましい。水または有機溶媒を添加する場合には、す
すぎ性の向上などの効果が達成される。
えない範囲で、水、有機溶媒、防腐剤、安定化剤などを
添加しても良い。添加物は、共沸混合物を形成するもの
が好ましい。水または有機溶媒を添加する場合には、す
すぎ性の向上などの効果が達成される。
本発明方法により、各種の汚染物質の洗浄除去を行なう
場合には、まず汚染物質が付着した物品にテルペンアル
コールを接触させる。物品とテルペンアルコールとの接
触は、特に制限されず、物品をテルペンアルコール中に
浸漬する方法、物品にテルペンアルコールをスプレー式
に吹き付ける方法などの任意の手段により、行なうこと
ができる。物品との接触時のテルペンアルコールの温度
は、室温から引火点未満の温度範囲内とすることができ
るが、汚染物質の除去促進のためには、５０〜８０℃程
度に加温することが好ましい。また、浸漬による処理に
際しては、汚染物質の溶解除去を促進するために、超音
波振動、攪拌、ブラッシングなどの機械力の付与などの
手段を併用してモ良い。物品とテルペンアルコールとの
接触は、汚染物質が所望の程度まで除去されるに必要な
時間とすれば良い。
場合には、まず汚染物質が付着した物品にテルペンアル
コールを接触させる。物品とテルペンアルコールとの接
触は、特に制限されず、物品をテルペンアルコール中に
浸漬する方法、物品にテルペンアルコールをスプレー式
に吹き付ける方法などの任意の手段により、行なうこと
ができる。物品との接触時のテルペンアルコールの温度
は、室温から引火点未満の温度範囲内とすることができ
るが、汚染物質の除去促進のためには、５０〜８０℃程
度に加温することが好ましい。また、浸漬による処理に
際しては、汚染物質の溶解除去を促進するために、超音
波振動、攪拌、ブラッシングなどの機械力の付与などの
手段を併用してモ良い。物品とテルペンアルコールとの
接触は、汚染物質が所望の程度まで除去されるに必要な
時間とすれば良い。
次いで、テルペンアルコールとの接触による洗浄を終え
た物品を含フッ素アルコールと接触させて、すすぎを行
なう。物品と含フッ素アルコールとの接触方法も、特に
制限されず、物品を含フッ素アルコール中に浸漬する方
法、物品に含フッ素アルコールをスプレー式に吹き付け
る方法、物品を含フッ素アルコールの蒸気により洗浄す
る方法などにより、行なうことができる。また、すすぎ
効果を高めるためには、同一のすすぎ方法を繰り返し行
なったり、異なるすすぎ方法を組み合わせて行なっても
良い。特に、浸漬方法または吹き付は方法と蒸気洗浄と
を組み合わせる場合には、すすぎ効果を高め、乾燥を促
進するのみならず、すすぎ液の再生および再使用が行な
えるので、すすぎ液曾の大幅な削減および洗浄工程の著
しい簡素化が達成され、さらに安定した洗浄品質の物品
が得られる。すすぎ時の温度および時間は、汚染物質の
種類、汚染の程度、テルペンアルコールによる洗浄の程
度、すすぎ方法などにより異なるが、通常室温乃至８０
℃で１５秒乃至３分間程度である。
た物品を含フッ素アルコールと接触させて、すすぎを行
なう。物品と含フッ素アルコールとの接触方法も、特に
制限されず、物品を含フッ素アルコール中に浸漬する方
法、物品に含フッ素アルコールをスプレー式に吹き付け
る方法、物品を含フッ素アルコールの蒸気により洗浄す
る方法などにより、行なうことができる。また、すすぎ
効果を高めるためには、同一のすすぎ方法を繰り返し行
なったり、異なるすすぎ方法を組み合わせて行なっても
良い。特に、浸漬方法または吹き付は方法と蒸気洗浄と
を組み合わせる場合には、すすぎ効果を高め、乾燥を促
進するのみならず、すすぎ液の再生および再使用が行な
えるので、すすぎ液曾の大幅な削減および洗浄工程の著
しい簡素化が達成され、さらに安定した洗浄品質の物品
が得られる。すすぎ時の温度および時間は、汚染物質の
種類、汚染の程度、テルペンアルコールによる洗浄の程
度、すすぎ方法などにより異なるが、通常室温乃至８０
℃で１５秒乃至３分間程度である。
本発明による清浄化方法は、プリンート基板のはんだ付
けに使用されるロジンワックスの除去、接着テープの残
留物の除去などに特に優れた効果を発揮する。本発明の
洗浄剤組成物は、さらに油類、ワックス類、グリース類
、油脂性研磨剤などの各種の他の汚染物質の洗浄除去に
も、優れた効果を発揮する。
けに使用されるロジンワックスの除去、接着テープの残
留物の除去などに特に優れた効果を発揮する。本発明の
洗浄剤組成物は、さらに油類、ワックス類、グリース類
、油脂性研磨剤などの各種の他の汚染物質の洗浄除去に
も、優れた効果を発揮する。
発明の効果
本発明方法によれば、下記のような効果か達成される。
（１）使用する洗浄液およびすすぎ液は、塩素原子を含
まないので、環境汚染或いはオゾン層の破壊などのいわ
ゆる環境問題を引起こすことなく、各種物品の洗浄を行
なうことができる。
まないので、環境汚染或いはオゾン層の破壊などのいわ
ゆる環境問題を引起こすことなく、各種物品の洗浄を行
なうことができる。
（２）洗浄工程およびすすぎ工程のいずれにおいても、
水を使用しないので、工程および設備が簡素化される。
水を使用しないので、工程および設備が簡素化される。
すなわち、水の精製処理および使用後の廃水処理を必要
としないので、これらに必要とされる多くの設備および
その用地、運転費などが不要である。
としないので、これらに必要とされる多くの設備および
その用地、運転費などが不要である。
また、水を使用する場合に必要な熱風乾燥、高周波加熱
などの付着水の乾燥処理工程も不必要となる。
などの付着水の乾燥処理工程も不必要となる。
（３）すすぎ処理に使用する含フッ素アルコールは、沸
点が比較的低いので、蒸留による汚染物質の分離除去が
容易であり、再生による繰り返し使用か可能である。し
たかって、すすぎ液の使用量か、大幅に削減される。
点が比較的低いので、蒸留による汚染物質の分離除去が
容易であり、再生による繰り返し使用か可能である。し
たかって、すすぎ液の使用量か、大幅に削減される。
（４）従来塩化フッ化炭化水素、塩化炭化水素などを使
用していた洗浄設備では、設備の大きな改造を行なうこ
となく、洗浄液をテルペンアルコールに代え、すすぎ液
を含フッ素アルコールに代えるだけで良い。
用していた洗浄設備では、設備の大きな改造を行なうこ
となく、洗浄液をテルペンアルコールに代え、すすぎ液
を含フッ素アルコールに代えるだけで良い。
（５）特に、すすぎ液として不燃性の２． ２． ３゜
３．３−ペンタフルオロプロパツールを使用する場合に
は、洗浄工程がテルペンアルコールの引火点未満て行な
われることと併せて、清浄化処理全体を引火・爆発の危
険性なく、行なうことかできる。
３．３−ペンタフルオロプロパツールを使用する場合に
は、洗浄工程がテルペンアルコールの引火点未満て行な
われることと併せて、清浄化処理全体を引火・爆発の危
険性なく、行なうことかできる。
（６）テルペンアルコールおよび含フッ素アルコールは
、ともに生体への毒性が少なく、安全である。
、ともに生体への毒性が少なく、安全である。
（７）テルペンアルコールおよび含フッ素アルコールは
、ともに化学的安定性に優れ、またテルペンアルコール
は、金属、プラスチックス、エラストマーなどの各種材
料への影響が少ないので、これらの材料を複合して含む
被洗浄物をそのまま洗浄することができる。
、ともに化学的安定性に優れ、またテルペンアルコール
は、金属、プラスチックス、エラストマーなどの各種材
料への影響が少ないので、これらの材料を複合して含む
被洗浄物をそのまま洗浄することができる。
実施例
以下に実施例および比較例を示し、本発明の特徴とする
ところをより一層明確にする。
ところをより一層明確にする。
実施例１〜２および比較例１〜２
１０ｃｍＸ１０ｃｍのプリント基板にロジン系フラック
ス（商標“ＡＧＦ−２００Ｊ″、アサヒ化学研究所（製
））を自動はんだ付装置ではんだ付け（２６０℃）を行
ない、試験片とした。
ス（商標“ＡＧＦ−２００Ｊ″、アサヒ化学研究所（製
））を自動はんだ付装置ではんだ付け（２６０℃）を行
ない、試験片とした。
次いで、下記第１表に示す条件下に洗浄剤およびすすぎ
液を使用して、試験片の洗浄およびすすぎを行ない、ロ
ジン系フラックスに対する除去効果を判定した。
液を使用して、試験片の洗浄およびすすぎを行ない、ロ
ジン系フラックスに対する除去効果を判定した。
床
１表
実施例
比較例
洗浄
（浸漬）
α−テルピネオール
６０°Ｃ１３０秒
α−テルピネオール
超音波印加
６０℃、３０秒
ａ−テルピネオール
６０．３０秒
α−テルピネオール
６０℃、３０秒
すすき
（浸漬）
ＦＰ
５０℃、３０秒
ＦＰ
５０°Ｃ１３０秒
α−テルピネオール
６０°０１３０秒
水
６０°０１３０秒
蒸気すすぎ
ＦＰ
３０秒
ＦＰ
５０°Ｃ１３０秒
なし
なし
洗浄およびすすぎ処理後の試験片の外観およびイオン性
残渣の量を第２表に示す。
残渣の量を第２表に示す。
外
観
未
２表
イオン性残渣
（μｇ−ＮａＣ１／ｃＪ）
実施例
１ 表面清浄 ０．４以下２ 表面清
浄 ０．４以下比較例 １ 未乾燥 １．８ ２ 白色残渣 ２．５ 第２表に示す結果から、本発明方法の優れたロジン系フ
ラックスの除去効果が明らかである。
浄 ０．４以下比較例 １ 未乾燥 １．８ ２ 白色残渣 ２．５ 第２表に示す結果から、本発明方法の優れたロジン系フ
ラックスの除去効果が明らかである。
実施例３〜４
５ｃｍＸ５ｃｍの１００メツシユ金網にプレス工作油（
商標“ＰＧ−３０８０”、日本工作油製）を塗布し、試
験片とした。
商標“ＰＧ−３０８０”、日本工作油製）を塗布し、試
験片とした。
次いで、前記第１表に示す条件下に洗浄剤およびすすぎ
液を使用して、試験片の洗浄およびすすぎをそれぞれ行
ない、工作油に対する除去効果を判定した。
液を使用して、試験片の洗浄およびすすぎをそれぞれ行
ない、工作油に対する除去効果を判定した。
洗浄およびすすぎ処理後の試験片の外観および残留油分
の量を第３表に示す。残留油分量は、洗浄前後の試験片
の重量測定により洗浄率を算出した。
の量を第３表に示す。残留油分量は、洗浄前後の試験片
の重量測定により洗浄率を算出した。
第３表
外 観 洗浄率
（％）
実施例
比較例
表面清浄
表面清浄
未乾燥
未乾燥
９９゜
９９゜
５０゜
８０゜
（以
上）
Claims (1)
- （１）汚染物質が付着した物品にテルペンアルコールを
接触させて汚染物質を溶解除去した後、物品を含フッ素
アルコールによりすすぐことを特徴とする物品表面の清
浄化方法。（２）含フッ素アルコールが、炭素数２〜５
の一価の含フッ素アルコールである請求項（１）に記載
の物品表面の清浄化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25268890A JPH04127955A (ja) | 1990-09-20 | 1990-09-20 | 物品表面の清浄化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25268890A JPH04127955A (ja) | 1990-09-20 | 1990-09-20 | 物品表面の清浄化方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04127955A true JPH04127955A (ja) | 1992-04-28 |
Family
ID=17240860
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25268890A Pending JPH04127955A (ja) | 1990-09-20 | 1990-09-20 | 物品表面の清浄化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04127955A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06346096A (ja) * | 1993-05-07 | 1994-12-20 | Agency Of Ind Science & Technol | フッ素化アルコール系洗浄剤 |
| CN103014739A (zh) * | 2012-12-08 | 2013-04-03 | 中国航天科技集团公司第六研究院第十一研究所 | 一种金属表面的研磨膏清洗方法 |
-
1990
- 1990-09-20 JP JP25268890A patent/JPH04127955A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06346096A (ja) * | 1993-05-07 | 1994-12-20 | Agency Of Ind Science & Technol | フッ素化アルコール系洗浄剤 |
| CN103014739A (zh) * | 2012-12-08 | 2013-04-03 | 中国航天科技集团公司第六研究院第十一研究所 | 一种金属表面的研磨膏清洗方法 |
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