JPS5820708A - 主としてβ型結晶よりなる超微細炭化珪素粉末の製造方法 - Google Patents

主としてβ型結晶よりなる超微細炭化珪素粉末の製造方法

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JPS5820708A
JPS5820708A JP56113615A JP11361581A JPS5820708A JP S5820708 A JPS5820708 A JP S5820708A JP 56113615 A JP56113615 A JP 56113615A JP 11361581 A JP11361581 A JP 11361581A JP S5820708 A JPS5820708 A JP S5820708A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、シリカと炭素を出発原料として主としてβ型
結晶よりなる超微細炭化珪素粉本の製造方法に関し、詩
に本発明は、平均粒径が/ lltm以下の超微細炭化
珪素粉末の製造方法に関するものである。
従来、炭化珪素を連続的に製造する方法が数多く提案さ
れ、例えば西ドイツ国特許第八itb 、ダダ7′号に
α型炭化珪素を用いてβ型炭化珪素を連続製造する方法
が開示されている。該方法は連続化のために珪砂を炭材
で被覆する原料処理に特徴があるが、後述するように、
SiOガスの挙動に対する適切な対応がなされていない
ので、原料収率と熱効率が低くなり、さらにSiOガス
の析出反応により排ガス通路が閉塞されるため安定した
連続操業は困難であった。
本発明者等は先に特開昭!II−J3t99号により、
シリカと炭素を0/SiO2′%ル比で3.2〜j、。
の範囲内に配合した原料を予熱帯と加熱帯と冷却帯を有
する反応容器内で連続的〜あるいは間歇的に自重降下さ
せつつ、ibgo〜コlθ0 ’Cの温度に間接電気加
熱してSiO化反応を行なわせる、主としてβ型結晶よ
りなる炭化珪素の製造方法において前記配合原料の嵩比
重を0.4’j〜0.90の範囲内となしまた前記予熱
帯における原料光てん層の高さを0゜−〜0.9 mの
範囲内に維持しながら操業することを特徴とする主とし
てβ型結晶よりなる炭化珪素の製造方法。
および特公昭s;z−41osコク号により、シリカと
炭素とを0/SiO2モル比で3.−〜3.0の範囲内
に配合した原料を予熱帯、加熱帯および冷却帯を有する
反応容器の上部より予熱帯に装入し、前記装入された原
料を前記反応容器の予熱帯内を連続的あるいは間歇的に
自重降下させつつ加熱帯に至らせ、前記加熱帯内で水平
方向に間接電気加熱して/b!IO−コ100”Cの温
度範囲内で加熱帯における充填幅(lew)を70〜M
cmの範囲内となし、かつ加熱帯における装入物の降下
速度(UVhr)を充填幅の下記関係式で示す範囲内で
降下させて、SiO化反応を行なわせ、次いで反応生成
物を冷却帯に降下させ非酸化性雰囲気下で冷却後、前記
反応容器の冷却帯下部より連続的あるいは間歇的に生成
物を排出することにより、得られた生成物中の炭化珪素
をα型炭化珪素の含有率が10%以下のβ型炭化珪素と
なし、当該β型炭化珪素の平均粒径を15μ以下となし
、更に生成物中の炭化珪素、シリカ、遊離炭素の成分比
を重量%で、炭化珪素、シリカ、遊離I#系の組成1e
Jを示す図の点ム(SiO64,0%、 SiO/’1
.!f  %、 FOI4.!r  % )、点B(s
la s/、z%、Sin2g、0%、FO410,!
r%)、点C(SzOrq、z %、810.2.0%
、FO3g、に%)、点D  (SiOft、!r  
%、 5in2 J、j  %、 FC9,0% )テ
題まれた範囲内にしたことを特徴とする主としてβ型結
晶よりなる炭化珪素の製造方法。
3.9X 10−’j” −0,217+3.1<U≦
5.1 x 10−’j”−0,317+6.0を提案
し、世界において初めて工業的なβ型結晶よりなる炭化
珪素の製造方法を確立した。
ところで、β型結晶よりなる炭化珪素は最近無加圧焼結
体製造用原料としての用途において極めて優れた特性を
有していることが認められ、ががる用途によれば微細な
ものほど焼結性あるいは均一収縮性に優れるため、特に
微細なものが要求されている。しかしながら、がかる要
求を満足するような微細なβ型結晶よりなる炭化珪素の
工業的な製造方法は確立していなかった。このような要
求に基づき、本発明者は極めて−細なβ型結晶よりなる
炭化珪素の製造方法に係る研究を種々性なった結果、次
に示す如き方法により極めて微細なβ型結晶よりなる炭
化珪素を工業的にかつ安定して製造する方法を発明する
に至ったものである。
本発明は、極めて微細なβ型結晶よりなる炭化珪素の工
業的な製造方法を提供することを目的とするものであり
、本発明によれば、シリカと炭素をO/S io  モ
ル比で3.コ〜3.0′の範囲内に配合しま た原料を、予熱帯と加熱帯と冷却帯を有する反応容器内
に装入し、反応温度を163θ〜:1100”Cの範囲
内に制御してSiO化反応を行なわせる主としてβ型結
晶よりなる炭化珪素の製造方法において、前記配合原料
を造粒し、粒状物の気孔率が。〜51%、粒状物嵩密度
が0.4IO〜0.’?09101の範囲内の粒状原料
となし、ついで前記粒状原料を反応容器の上部より装入
して加熱帯における装入物の充填幅を0.10−0.3
!r mの範囲内として、前記加熱帯における装入物の
降下速度(17117hr )を前記充填幅(Wll)
と加熱帯の高さくHlm)の下記関係式(1)で示され
る範囲内とすることを特徴とする主としてβ型結晶より
なる超微細炭化珪素粉末の製造方法によって前記目的を
達成することができる0 1v、9H(W−o、3i)” +o、gs≦U≦ss
、xH(W−o、31)”+x、u・(1)なお、前記
粒状物の気孔率は単位嵩容積当りに気孔の占める容積比
率であり二嵩容積というのは粒状物中に占める固体と内
部空隙を含んだ容積である。前記粒状物嵩密度は粒状物
の一定容積の重量、すなわち固体、゛内部空隙および外
部空隙を合計 んだ単位容積当りの重量である。前記装入物の充填幅は
反応容器の側壁から水平方向に最も遠くに存在する装入
物迄の距離の一倍である。加熱帯の高さは装入物を間接
加熱する手段、すなわち発熱体の発熱部における高さ方
向の長さである。
次に本発明の詳細な説明する0 シリカと炭素とから生成される炭化珪素の反応は一般に
下記式(2)によって示されている。
S10+30−一うSiO+ 200  ・・・・・(
2)しかしながら実際に主体となる生成機構は下記(8
)によってf310ガスが生成し、該S10ガスと炭素
が下記式(4)にしたがって反応して炭化珪素が生成す
ることが知られている。
SiO+G−一部SiO+00・・・・・・・(3)S
iO+ 20−一部SiO+00 ・・・・・・e(4
)ところで、本発明によれば、不純物の少ない極めて高
純度の炭化珪素粉末を得ることが重要であり、炭素材は
灰分の少ない例えば石油コークスミピッチコークスル無
煙炭あるいは熱分解炭素等より選択される少なくとも1
種を使用することが有利であるが、前記炭素材は嵩比重
が高く、反応性に劣るため微粉砕することにより表面積
と表面のffi![を高くシ、5102およびSiOガ
スとの両反応性を改善して使用される。またシリカは例
えば珪石あるいは珪砂等より選択される少なくとも7種
からなる粉末を使用することが有利である。
本発明によれば、シリカと炭素とを配合し、造粒した原
料が使用される。シリカと炭素とを粉体のまま造粒せず
に使用すると、反応時に生成する00ガスのガス抜けが
悪化し反応が進み難くなる欠点を有するからであり、前
記粒状物の平均粒径は3〜/に−とすることが有利であ
る。その理由は、前記粒状物の平均粒径が3雪より小さ
いと粒状物とした効果が殆どなく、一方izmより大き
いと粒状物内における反応速度が遅(なり、経済的でな
いからである。
また、本発明によれば、前記式($)によって生成した
S10ガスは前記式(4)に従って速やかに810化反
応せしめ、反応容器内の810ガス分圧をそれ程上昇さ
せないことが望ましい。なぜならば、本発明において反
応容器内のSiOガス分圧が上昇するとSiOガス分圧
の上昇に伴って前記式(4)に従う反応速度が相対的に
速くなるが、この場合の前記式(4)に従う反応に伴っ
てSiO結晶の成長が生起するので、このよりなSiO
ガス分圧の高い条件下では、微細な810粒子を得るこ
とが困難になり、さらに甚しい場合にはSiOガスの一
部が予熱帯へ上昇して下記式(り) e (e) a 
<7)に示す反応を生起し、予熱帯においでSt、、、
Sl、5iO1C等が混合した状態で薪出する。前記析
出物は粘着性を有するため、原料が、互いに凝結し、炭
化珪素を連続的に製造する上で最も重要な原料の円滑な
移動降下が着しく阻害され、長期間にわたる安定した連
続操業が困難になる。
!SiOSin、 + Si・・・・・(5)810 
+ 00−一÷810  十〇 ・・・・・(6)38
10÷CO−÷2510g + StO・・・(γ)し
たがって、本発明によれば、原料中の炭素量を増加させ
て前記式(4)の生起する箇所を増加させることが有効
であり、前記配合原料の0/5t02モル比を3.−〜
!、0の範囲内とすることが必要である。
前記配合原料のo/sio、モル比を3.2〜z、oの
範囲内に限定する理由は、前記o/s 10J!モル比
が3、−より小さいと、前記式(4)に従う反応を充分
に行なわせ、S10ガス分圧を低く維持することが困難
であり、他方S、Oより大きいと反応に寄与しない過剰
の炭素を高温に加熱するために熱効率が低くなるし、炭
素原料に要する費用が増加するので経済的にβ型炭化珪
素を製造するには好ましくないからである。
本発明者は、本発明の出発原料として使用されるシリカ
と炭素および反応条件について種々研究した結果、シリ
カの平均粒径が7j NJ!。μmの範囲内でかつシリ
カと炭素とからなる粒状原料を用いて操業するに当り、
それぞれの平均粒径、反応温度およびシリカと炭素との
078102モル比が下記の関係式(8)を満足する場
合に極めて良好な結果を得ることができることを知見し
た。
なお、上記式中Xはシリカの平均粒径(μm)、Yは炭
素の平均粒径(μml)、Tは反応温度(0K)、Rは
出発原料中のシリカと炭素のC/5102モル比Tある
。
前記シリカの平均粒径をりj −討Op甑の範囲内に限
定する理由は、前記平均粒径が73μ藁より小さいと前
記式(8)に従う反応が極めて速< SiOガス分圧を
低く維持することが困難であるし、一方2SOμmより
大きいと前記式(8)に従う反応が極めて遅く効率的に
炭化珪素を製造することが困難であるからである。また
、シリカの平均粒径と炭素の平均粒径とが前記式(8)
を満足することが好ましい理由は、前記式(8)の範囲
外では前記式(8)と前記式(4)に従うそれぞれの反
応速度の均衡を保つことが    ゛著しく困難であり
、反応容器中のS10ガス分圧を低く維持することが不
可能となるからである。
また、本発明によれば、原料内の通気性を向上させて反
応容器内のS10ガス分圧を均一にすることが有効であ
り、前記配合原料を造粒し、粒状物の気孔率がり〜jj
%、粒状物嵩密度がo、IIo〜早−,909βの範囲
内の粒状原料となすことが必要である。
前記配合原料を造粒し、粒状物の気孔率をり〜55%の
範囲内に限定する理由はζ前記気孔率がダ襲より低いと
粒状物中における通気性が悪く一反応生成ガスが放出さ
れ難く、粒状物内で局部的にS10ガス分圧が高くなり
、前述の如く結晶粒の粗大化が発生し易いからであり、
他方前記気孔率は反応生成ガスの放出性の点を考慮すれ
ばなるべく高い方が好ましいが、J−5%より高いと粒
状物の強度が極めて低く、反応容器中で潰れ通気性が著
しく悪化するからである。
前記配合原料の粒状物嵩密度をθ、’IO−0,909
//c讐の範囲内に限定する理由は、嵩密度は低い方が
通気性その他の点で好ましいが、o、+o gβより低
い粒状原料となすためには、前記粒状物の気孔率を著し
く高めるか、あるいは粒状物の粒径を極めて均一に揃え
なければならず、前記気孔率は余り高くすると前述の如
く粒状物の強度が著しく低下するし、また粒状物の粒径
を均一に揃えることは原料コスFの著しい増大につなが
るからであり、他方0.909Aiより高いと反応生成
ガスの通気性が悪く予熱帯における高温ガスの流れが不
均一になり、原料と高温ガスとの熱交換が不充分になる
からであり、さらにまた前記SiOガスよりの析出物の
影響を敏感に受は易くなり原料の円滑な自重降下が阻害
され長期間の安定した操業を維持することが困難になる
からである。前記粒状物嵩密度は0.50〜0.110
9Δの範囲内において最も良い結果が得られる◇ 本発明において、前記配合原料の粒状物は高温にさらさ
れても初期の形状を維持していることが重要であり、原
料の成形時に用いる結合剤としては、高温域でも結合力
を維持する炭素系の結合剤を使用することによって粒状
物は、反応域においても圧潰強度が強く、崩壊して再粉
化することなく、一定の形状を保ち得るし、かつこの粒
状物が加熱されて反応生成物になるときも、結合剤中の
炭素はガス化することなく反応SiOガスと反応して炭
化珪素となり形状を保つ、したがって中間生成物である
SiOガスの成形体からの飛散が少なくなり、成形体中
でSiO化されるSiOガス量が増加するので有利であ
る。
本発明における炭素系の結合剤として例えばコー ルタ
ー ル、石油タール、木タール、コールタールピッチ、
石油ピッチ、木タールピッチ、アスファルト、糖蜜、フ
ェノール樹脂、パルプ廃液、リグニン、リグニンスルホ
ン醗塩およびこれらと同等の効果を有するものが有利に
使用できる。
また、前記粒状物の成形時にはOMO等の粘着性溶液を
使用することが有利である。上記の粘着性溶液は粒状物
の常温における圧潰強度を高くして粒状物を炉内に投入
するまでの取扱い時における崩壊を防止する効果がある
。前記の粘着性溶液としてはOMOの他に例えば澱粉、
pvi、酢酸ビニール等が有利に使用できる。
本発明によれば、粒状原料を反応容器の上部より装入し
て加熱帯における装入物の充填幅を0.10〜0631
 mlの範囲内として、前記加熱帯における装入物の降
下速度(U 嘗/hr )を前記充填幅(ill)と加
熱帯の高さくH濶】の関係式(1)で示される範囲内と
することが8斐である。
前記加熱帯における装入物の充填幅を0.10〜0.3
!r w、の範囲内とする理由は、反応容器内の水平方
向における温度差をなるべく小さくシ、均一で微細な結
晶粒よりなる炭化珪素を製造することにあり、前記充填
幅は狭い程反応容器内の水平方向における温度差を小さ
くでき好ましいが、0./σ禦より狭いと装入物が架橋
し易く、反応容器内を円滑に自重降下させることが困難
であるし、また生産量が極めて少なく工業的な製造方法
とはなり得す、一方0.3!r msより広いと加熱帯
における装入物の水平方向における温度差を小さくする
ことが困難であり、反応率を向上させようとすると炉壁
付近の装入物は長時間高温に曝されるため、結晶粒が粗
大化し、甚しい場合には生成物が相互に。
塊状化するため長期間の連続操業が困難となるからであ
る。
また、装入物の降下速度を前記式(1)で示す範囲内と
する理由は、装入物の降下速度が前記式(1)で示され
る範囲より速いと反応容器の中心部まで充分に反応を生
起させることが困難で生成物の品位が低下するし、一方
前記式(1)で示す範囲より遅いと、加勢帯の途中で炭
化珪素生成反応が完了し、反応容器内の熱平衡がくずれ
るため温度制御が著しく困難になり、均一で微細な炭化
珪素を製造することが困難になるからである。
本発明によれば、前記粒状物嵩密度(D g/cd )
は加熱帯における装入物の充填幅(Wlm)と粒状物の
気孔率(五%)で示される下記関係式(9)を満足する
ことが好ましい。
−0,0146A(W−0,82)”+0.3≦D≦−
2,521(W−O40)”+1.0・・・・・(9) その理由は、前記粒状物嵩密度が前記式(9)で示され
る範囲より高い場合には、装入物中の熱伝導が不充分と
なり、炉壁付近部と中心部との間に大きな熱勾配が生じ
易く、均一で微細な炭化珪素を効率的に製造することが
困難であるからであり、一方前記式(9)で示される範
囲より低い原料は極めて好ましいと考えられるが、この
ような原料となすためには粒状原料の粒径分布を極めて
狭い範囲内に揃えなければならず、経済的に原料を調製
することができないからである。
次に、本発明の方法の実施に直接使用する製造装置の1
例を図面を参照しながら説明する。
本発明の方法の実施に直接使用する装置は、第1図に示
す如く原料装入口lと予熱帯コと加熱帯3と冷却帯ダと
密閉自在の生成物排出口3とを有し、それらが縦方向に
それぞれ連接されてなる反応容器6であって、前記加熱
帯を形成する筒7は黒鉛製であり、加熱帯の装入物を間
接電気加熱する手段t、デを具備し、少なくとも前記加
熱帯の外側に炭素あるいは黒鉛質微粉よりなる断熱層1
0を有するものである。
前記反応容器6は装置の中心部に設置され、間接加熱手
段t、qは黒鉛製発熱体lと前記発熱体の外側に近接し
て設けられた黒鉛製反射筒tからなる。前記加熱帯を形
成する筒と黒鉛製反射筒に囲まれた空間内には非酸化性
ガス装入口1/より例えばアルゴン、ヘリウム、窒素、
−酸化炭素、水素1その他の非酸化性ガスが封入され、
空気の侵入による黒鉛製発熱体の酸化消耗が防止される
。
以下、本発明を実施例について説明する。
実施例1 平均粒径がlj3μ諺のシリカ粉末(St、2= tt
、7重量%) 100重量部、平均粒径が29μ露の石
油コークス粉(y、o、 = qt、7重量%)76重
量部および平均粒径が4!Jpvsの高ピッチ粉(F、
0. W zo、41重量灼7重量部を配合し、縦型ス
クリュー混合機にて10分間混合した。前記配合原料に
OMOO,!t %水溶液をスプレーしながらパン型造
粒機を用いて成形し、篩とバーグリズリ−で整粒した後
、バンド型通気乾燥機に入れて130℃の熱風で90分
間乾燥して平均粒径が7QJwm、粒状物の気孔率がダ
7襲、粒状物嵩密度が05コh−10/SiO2モル比
がダ、0の粒状原料を得た。
この粒状原料を第1図に示した如き縦型の間接加熱炉の
上部より装入し、前記加熱炉内を連続的に自重降下させ
て、黒鉛製部の外壁温度がJizo℃に制御された加熱
帯に至らせ、加熱帯における装入物を0640vm/h
rで自重降下させつつ水平方向に間接加熱してSiO生
成反応を行なわせた後、冷却帯に自重降下させ、排出口
より反応生成物を連続的に排出させた。
使用した間接加熱炉の仕様は第1表に示した如くであり
、加熱帯における装入物の充填幅は0.241霧である
◇ 第  1  表 得られた反応生成物から遊離炭素を除宍した後、内径コ
gQvmφのボールミルを用いて回転数1711; r
pmでjhr湿式解砕し、さらにIO%IIIF水溶液
に3 hr浸漬して遊離シリカを除央精製した。前記精
製して得られた炭化珪素中のβ型結晶よりなる炭化珪素
の含有率はX線′回折によって測定したところ10、−
%であり、光透過式粒度分布測定器でもって測定した粒
度分布は第一図に示した如く比較的粗     ゛度分
布範囲の狭い均一な粒径よりなる炭化珪素微粉であり、
その平均粒径は0.30μmであった。
なお、前記粒度分布の測定に光透過式粒度分布測定器を
使用する理由は、本発明方法によって得られる炭化珪素
微粉は極めて微細であり、しかも凝集性の強い粉末であ
るため、前記測定器の如く比較的短時間のうちに測定で
きる測定器でないと、測定中に微粉が相互に凝集し、正
確な測定値を得難いからである。
実施例2.比較例1 実施例1で使用したと同様の原料であるが、粒状物嵩密
度の異なった粒状原料を使用し、加熱帯における装入物
の降下速度を変えて実施例1と同様の操作を行ない反応
生成物の物性は実施例1と同様の方法で測定した。結果
は第2表に示した。
なお、本発明による条件の限定範凹を外れたものについ
ては下線を施して示した。
第2表に示した結果よりわかるように、実施例2−1は
、炭化珪素の反応生成率は高かったが、炭化珪素の平均
粒径が0.39 pmと若干粗くなった。
また、実施例2−2は、平均粒径が0.コブμ禦と極め
て微細な炭化珪素を得ることができたが、炭化珪素の生
成反応率が若干低下した。これに対し、比較例1−1は
、炭化珪素の生成反応率が殆ど100%に近く、時々加
熱帯の途中で反応が終了するため、反応温度の制御が困
難となる場合が生じ、操業中に時々反応生成物の排出に
支障をきたすことがあった。反応生成物を観察したとこ
ろで邪にα型化した粗大結晶の存在が確認された。また
、比較例1−2は、予熱帯においてSiOガスからの析
出物が多量に生成し、装入物を円滑に自重降下させるこ
とが著しく困難であった。さらにまた、反応生成物中に
は未反応のシリカが多量に残存しており、反応率が低か
った。
実施例3.比較例2 実施例1と同様の方法であるが、第2表に示した如き平
均粒径の異なったシリカおよび炭素を使用し、第2表に
示した如き物性の粒状物原料を得た。
前記粒状物原料を実施例1で使用した間接加熱炉に装入
し、第2表に示した如く降下速度を変えて操業を行い反
応生成物を得た。
得られた反応生成物の物性は実施例1と同様の方法で測
定した。結果は第2表に示した。
第2表に示した結果よりわかるように、実施例3−1は
、炭化珪素の平均粒径が0.コダμ■、生成物中遊離シ
リカ含有率が0.9重量−1実施例3−′2は、炭化珪
素の平均粒径が0.341pm 、生成物中遊離シリカ
含有率がコ、1重量襲、実施例3−3は、炭化珪素の平
均粒径が0.Jjμ讃、生成物中遊離シリカ含有率が1
.4重量%、実施例3−4は、炭化珪素の平均粒径が0
.コ9μ箇、生成物中遊離シリカ含有率が八を重量%、
実施例3−5は、炭化珪素の平均粒径が0.4Iコμ諷
、生成物中遊離シリカ含有率が6.3重量%であった。
前記実施例はいずれも長期間安定して連続操業すること
ができた。これに対し、比較例と−1は、シリカおよび
炭素の粒度が細かすぎるため、予熱帯においてSiOガ
スからの析出物が多量に生成し、装入物を円滑に自重降
下させることが困難であるばかりでなく、時々反応温度
の制御が困難になることがあった。また、比較例2−2
は、装入物の自重降下も順調で長期間安定して連続操業
することができたが、シリカおよび炭素の粒度が粗すぎ
るため、生成物中遊離シリカ含有率がl007重量憾と
未反応シリカが多量に残留していた。
なお、第2表中の比較例2−1および2−2においてシ
リカの平均粒径の数値に下線を施したがこれは本発明の
限定条件を外れていることを示すものである〇 実施側番 実施例1と同様の原料および間接加熱炉を使用し、加熱
帯における装入物の降下速度を実施例1の場合より速く
した場合と遅くした場合について反応生成物を得た。
得られた反応生成物の物性は実施例1と同様の方法で測
定した。結果は第2表に示す如く、いずれも平均粒径0
.コtpva、0.コロμ箇と非常に微細なβ型結晶よ
りなる炭化珪素微粉を得ることができた。
実施例6 実施例1と同様の原料を、実施例1で使用したと同様で
あるが、有効伝熱幅が0.1ダ諷の間接加熱炉を使用し
、加熱帯における装入物の充填幅を0、/II冒となし
、実施例1と同様の操作を行ない反応生成物を得た。
得られた反応生成物の物性を実施例1と同様の方法で測
定したところ、β型結晶よりなる炭化珪素の含有率は9
2.8%、平均粒径は0.3コルmであった0 なお、上述の実施例は、いずれも長期間にわたって安定
した連続操業を行うことがてきた。
以上、本発明によれば、平均粒径がlμ■以下の超微細
炭化珪素粉末を高収率に製造することができ、この粉末
を用いることにより、従来の炭化珪素粉末を用いて造っ
た無加圧焼結法による炭化珪素焼結体に比較して極めて
高強度で、かつ耐熱衝撃性に優れ、しかも信頼性の高い
炭化珪素焼結体を製造することができるものであって産
業上極めて有用なものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例および比較例において使用し
た脛型連続製造装置の縦断面図、第一図は、本発明の実
施例1によって得られたβ型結晶よりなる炭化珪素の粒
度分布を重量基準積算で示す図である。 /・・・原料装入口、コ・・・予熱帯、3・・・加熱帯
、ダ・・・冷却帯、S・・・生成物排出口、6・・・反
応容器、7・・・加熱帯を形成する筒、1−・・黒鉛製
発熱体、デ・・・黒鉛製反射筒、10・・・断熱層、l
l・・・非酸化性ガス装入口、/コ・・・案内電極、1
3・・・可とう導体、/り・・・ブスバー、/S・・・
測温パイプ、16・・・外殻、17・・・耐火煉瓦/1
・・・排気ダクト、/9・・・原料ホッパー。 特許出願人 揖斐川電気工業株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 L シリカと炭素をO/SiO□モル比で3.2〜j、
    Oの範囲内に配合した原料を、予熱帯と加熱帯と冷却帯
    を有する反応容器内に装入し、反応温度を1tzo〜コ
    100℃の範囲内に制御してSiO化反応を行なわせる
    主としてβ型結晶よりなる炭化珪素の製造方法において
    、 前記配合原料を造粒し、粒状物の気孔率がダ0〜jj%
    、粒状物嵩密度が0.4IO〜0.デ09/cdの範囲
    内の粒状原料となし、ついで前記粒状原料を反応容器の
    上部より装入して加熱帯における装入物の充填幅を0.
    lO〜O,aS *の範囲内として、前記加熱帯におけ
    る装入物の降下速度(Us/hr )を前記充填幅(W
    m)と加熱帯の高さくHa)の下記関係式で示される範
    囲内とすることを特徴とする主としてβ型結晶よりなる
    超微細炭化珪素粉末の製造方法。 17.9H(W−0,31)”+0.23≦U≦53.
    11EI(W−0,31)”+1.24a 前記粒状物
    嵩密度(D 9/c、? )は加熱帯における装入物の
    充填幅(1m)と粒状物の気孔率(ム%)で示される下
    記関係式を満足する特許請求の範題第1項記載の主とし
    てβ型結晶よりなる超微細炭化珪素粉末の製造方法。 −0,0146A(W−0,82)”+0.3≦D≦−
    4、521(W−0,22)”+1.0
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6096517A (ja) * 1983-10-27 1985-05-30 Shin Etsu Chem Co Ltd 超微粒子状炭化けい素

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