JPS58208300A - ギペノシド類 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、一群の新規なサポニン類、アマチャヅルよ
り単離された新規サポニン並びにこれらの製造法を提供
するものである。

この発明における１アマチヤヅル”はクリ科の植物で学
名ギノステムマ　ペンタフィルルム　マキノ（Ｇｙｎｏ
ｓｔｅｍｎａ　ｐｅｎｔａｐｈｙｌｌｕｍ　Ｍａｋｉｎ
ｏ）並びに植物学的にこれと類縁植物を含む。類縁植物
としては、ギノステムマ　プルマニクム　キンクエクス
　チャクラパーティ（Ｇｙｎｏｓｔｅｍｍａ　ｂ、ｕｒ
ｍ−ａｎｉ、ｃｕｍ　Ｋ、ｉｎ、ｇ　ｅｘ　Ｃｈａｋｒ
ａｖａｒｔｙ）、ギノステムマ　ラクスム　コグン（Ｇ
ｙｎｏｓｔｅｍｍａ　ｌａｘｕｍ（ｏｇ、ｎ　＋、　）
　ｓ　　ギノステムマ、インテグリフオリオラフグン（
Ｇｙｎｏｓｔｅｒｒｒｎａ　Ｉｎｔｅｇｒｉｆｏｌｉｏ
ｌａＣｏｇｎ、）などが挙げられるが、この発明による
サポニン類を多く含有、する総サポニンは兵庫集塵のア
マチャゾルから効率的に得られる。

この発明の発明者らは、先にアマチャヅルから新規なサ
ポニン類を単離し、その構造を解明するとともに、これ
らのサポニン類の加水分解によって一群の新規化合物を
得た。さらに研究を進めた結果、アマチャツルから先の
サポニン類トはこと４る一群の新規なサポニン類を単離
することに成功した。

かくしてこの発明によれば、次の一般式（■）：〔式中
Ｒ１はβ−グルコピラノシル基、β−グルコピラノシル
（１→龜−）−β−グルコピラノシル基またはβ−ゲル
コピ２ノシル（ｌ→２）−ａ〜アラビノピラノシル基；
Ｒ２はヒドロキシメチル基またはホルミル基；Ｒ３はヒ
ドロキシ基または水素原子；Ｒ４はβ−グルコピラノシ
ルオキシ基、ａ−ラムノピラノシル（１→６）−β−グ
ルコピラノシルオキシ基、β−キシロピラノシル（１→
６）−β−グルコピラノシルオキシ基、メチル基または
ヒドロキシ基、　Ｒ５はメチル基、ヒドロキシ基、ヒド
ロキシメチル基またはβ−グルコピラノシルオキシメチ
ル基；但しＲ１がβ−グルコピラノシル基でめる場合Ｒ
２はヒドロキシメチル基でＲ３は水素原子、Ｒ１がβ−
グルうピラノシル（１１→２）−ａ−アラビノピラノシ
ル基である場合Ｒ２はホルミル基でＲ３は水素原子〕 で表される化合物を提供するものである。

一般式（Ｉｌで表される化合物はアマチャゾルより単離
された新規なサポニン類であり、具体名を列挙すると次
のとおりである。

１９．２１−ジヒドロキシ−３β−０−β−グルコピラ
ノシル−２０ξ−０−β−グルコビラノシルーダンマル
ー２４−エン 以下ギペノシドＸＸＸと称する： １９．２０ξ、２１−）ジヒドロキシ−３β−０−〔β
−グルコピラノシル（ｌ→２）−β−グルコヒラノシル
〕−ダンマル−２４−エン以下ギベノシドＸＸＸ　Ｉと
称する； １９．２０ξ−ジヒドロキシ−３β−０−β−グルコピ
ラノシル−２１−０−β−グルコビラノシルーダンマル
ー２４−エン 以下ギベノシドｘｘｘｎと称する； １９−オキソ−２０ξ、２１−ジヒドロキシ−３β−０
−（β−グルコピラノシル（１→２）−β−グルコピラ
ノシル〕−ダンマル−２４−エン以下ギペノシドｘｘｘ
ｎｒと称する； １９−オキソ−２１−ヒドロキシ−３β−〇−〔β−グ
ルコピラノシル（１→２）−β−クルコビラノシル〕−
２０ξ−０−〔ａ−ラムノピラノシル（１→６）−β−
グルコピラノシル〕−ダンマル−２４−エン 以下ギペノシドＸＸＸ■と称する； １９−オキソ−２１−ヒドロキシ−３β−Ｏ−〔β−グ
ルコビラ／シル（１→２）−β−グルフビラノシル〕−
２０ξ−〇−［β−キシロピラノシル（１→６）−β−
グルコピラノシル］−ダンマル−２４−エン 以下ギベノシドｘｘｘｖと称する； １９−オキソ−３β−０’−［β−グルコピラノシル（
１→２）−α−アラビノピラノシル］−２Ｏ８−〇−〔
ａ−ラムノピラノシル（１→６）−β−グルコヒラノシ
ル〕−ダンマル−２４−エン以下ギベノシドｘｘｘｖｉ
と称する； １９〜オキソ−３β−０−［β−グルコピラノ　７− シル（１→２）−ａ−アラビノピラノシル〕−２０５−
０−［β−キシロピラノシル（１→６）−β−グルコピ
ラノシル］−ダンマルー２４−エ以下ギペ／シトｘＸＸ
■と称する； １２β、１９．２Ｏ５−）ジヒドロキシ−３β−０−〔
β−グルコピラノシル（１→２）−β−グルコピラノシ
ル〕−ダンマル−２４−エン以下ギペノシドｘｘｘｖと
称スル； １２β、ｌ□９．２ＯＲ−トリヒドロキシ−３β−〇−
〔β−グルコピラノシル（１→２）−β−グルコピラノ
シル〕−ダンマル−２４−エン以下ギベノシドＸＸＸ■
と称する；・ １９−オキソ−１２β、２０Ｒ−ジヒドロキシ＝３β−
０−〔β−グルコピラノシル（１→２）−β−グルコピ
ラノシル〕−ダンマル□−２４−エン 以下ギペノシドＸＬと５−ｔ−る； １９．２ＯＲ−ジヒドロキシ−３β−０−〔β−グルコ
ビラ／シル（１→２）〜ββ−グルコビラ／シ ルシル〕−ダンマルー２４−エン 以下ギ夫ノシドＸＬＩと称する。

これらは、例えば次の方法によって抽出し、各成分に分
離される。

先ず初めに、アマチャゾルを水または含水低級アルコー
ルで抽出する。含水低級アルコールとしては５０’　ｖ
／ｖ％程度以下の含水メタノール、含水エタノール等が
□例示される。この抽出は加ｍま庭は加熱下に行うのが
好ましい。なお、原料のアマチャヅルは、抽出に先立っ
て予め細切し、あるいは常法により脱脂したものを用い
てもよい。また抽出溶媒として含水低級アルコールを用
いた場合には抽出液を濃縮してアルコール分を除去した
のち、適量の水を加えて次の非イオン性吸着樹脂での処
理に付すのが好ましい。

非イオン性＠看樹脂としては、スチレン−ジビニルベン
ゼン共重合体からなるハイポーラス”なものが好ましく
、具体的にはアンバーライトＸＡＤ−２（米−・−′ム
アンド・・−ス社製）などが用−られる。この処理は、
吸着樹脂を充填したカラムに上記で得られた抽出液を通
液して行うのが便利である。この操作によりサポニンが
樹脂に吸着される。

次いで樹脂に＠看されたサポニンを低級アルコールで溶
出する。溶出だ媒として用いられる低級アルコールとし
てはメタノール（９８％以上）、エタノール（９５％以
上）等が好ましい。なお、溶出に先立って予めカラムを
水あるいは２０　ｖ／ｖ％程度の含水低級アルコールで
洗浄するのが好ましい。

上記で得らｔた低級アルコール溶出液を次いでアルミナ
で処理する。この処理も、アルミナを充填したカラムを
用いて行えば簡便である。この処理により、サポニンは
アルミナに吸着される。なお、このアルミナでの処理に
先立って上記の低級アルコール溶出液を予め適宜濃縮し
ておいてもよい。

アルミナに吸着されたサポニンを次いで低級アルコール
筐たは含水低級アルコールで、好ましくは５０　ｖ／ｖ
％程度の含水低級アルコールで溶出する。この溶出液を
濃縮することにより、ギペノシド類の混合物（総サポニ
ン）が得られる。

上記のようにして得られる総サポニンは今までに知られ
ていない新規なサポニン類を含有し、これらの各成分は
例えば次の方法により分離精製される。

すなわち、総サポニンを水に溶解し、この水溶液をスチ
レン系吸着樹脂、例えばサーバクロム（Ｓｅｒｖａｃｈ
ｒｏｍ）ＸＡＤ−２［サーバ（Ｓｅｒｖａ　）社製〕で
処理し、被吸着物質をメタノールで溶出する。

溶出液を濃縮後シリカゲルカラムで処理する。

シリカゲルに吸着されたサポニンを次いでクロロホルム
・低級アルコール・水で好ましくはクロロホルム・メタ
ノール・水（６５：３５：１０）の下層で溶出し、薄層
クロマトグラフィ（ＴＬＣ）を指標とし、溶出液をフラ
クション１〜６に分画する。

７２クシヨン１〜６をそれぞれシリカゲルカラムで処理
し、次いでシリカゲルに吸ＩＪれたサポニンをクロロホ
ルム・低級アルコール・酢酸エチル・水で好捷しくはク
ロロホルム・メタノール・酢酸エチル・水（２：２：４
：ｌ）の下層で分画に出する。

上記で得られた各分ｌＩｉ溶出液を濃縮し、さらにＴＬ
Ｃの結果を指標にして前記のシリカゲルカラムクロマト
グラフィまたは高速液体クロマトグラフィを行い、これ
らのギペノシド類を各個別に分離精製すると、先にこの
発明の発明者らが見出したギベノシド類が得られる。す
なわちフラクション１からギペノシドＸＸ■及びｘｘｉ
ｘがフラクション２からギペノシドｘｘｖｎが、７ラク
シヨン３からギペノシドＸＸ■及びＸＸＶＩが、フラク
ション４からギベノシドＸＸＩＶが、クラクション５か
らギペノシドＸＸ■が、フラクション６からギペノシド
ＸＸ■　がそれぞれ得られる。

次に上記の７ラクシヨン２．３．４．６の各残液を濃縮
し、これらをそれぞれヌクレオシル３０Ｃ＋　１８　（
ｎｕｃｌｅｏｃｉｌ　３０Ｃ，８＊　３０±４μ、西独
。

エム・ナーゲル社製）カラム７ａＸ６１ｃｓ＋Ｘ２本で
処理し、次いでカラムに吸着されたサポニンを１８− ３５〜４５％エタノールで溶離することによってこの発
明のギペノシド類を得た。すなわちフラクション２から
ギペノシドＸＸＸ、ＸＸＸ１．ＸＬおよびＸＬｌ’ｉ、
７ラクシヨン３からギベノシドＸＸＸ１．ＸＸＸｌ１．
ＸＸＸＶＩ［ｌ　おＬＵＸＸＸＩＸ’ｔ、）−ｙクレヨ
ン４からギペノシドｘｘｘｖｉおよびｘｘｘｖｎを、フ
ラクション６からギベノシドｘｘｘｉｖおよびｘｘｘｖ
が得られた。

またこの発明のギペノシドが、公知のギペノシドを酵素
加水分解反応に付して得られることが見出された。すな
わちギペノシドｘｘｍ、ｘｘｎおよびＸＸ■をセルラー
ゼ酵素で加水分解することによって、それぞれからこの
発明のギペノシドＸＸＸＩ。

ＸＸＸおよびｘｘｘｍ　が得られた。

かくして得られた一般式中の化合物を酵素と接触させる
ことによって加水分解を行いその３０位、２０位および
２１位の糖の置換分から少なくとも１個の糖分子を脱離
さすことができる。これを３位の置換分を例にして説明
すると、グルコピラノシル−グルコピラノシル基又はグ
ルコビラノシル−アラビノピラノシル基をグルコピラノ
シル基、アラビノピラノシル基又は水素原子にそれぞれ
加水分解することができる。２０位及び２１位について
も同様である。使用する＃素は、０−グルコシド結合を
切断し得る能力を有する加水分解酵素から選択利用され
る。好ましい例としては、ヘスペリジナーゼ、マルター
ゼ、セルラーゼ、タカジアスターゼなどが挙げられる。

更にナリンギナーゼ、ペクチナーゼ、アミラーゼ、エム
ルシン等を挙げることができる。こ扛らの酵素は、精製
品である必要はなく、粗製でおってもよい。

酵素の使用量は、酵素の種類によって異なるが、例えば
セルラーゼを用いる場合、式（１）の化合物１ｙ当り約
６００〜１．０００単位を使用すればよい。

反応は酸性条件下で行うことが好筐しく、例えばｐＨ４
程度の緩衝液中で行うと効果的である。

この酸性条件は、酵素の種類によって多少変えることが
好ましい場合がある。

反応温度は、室温ないし若干高められた温度で行うのが
好ましい。一般に３０〜４０℃で行われる。しかしなが
ら、特に限定はない。反応時開は、酵素の種類と精製度
合、反応温度、所望する加水分解の程度等によって異な
る。一般には２．３時間から１週間位の反応時開が用い
らｊる。

この発明によれば適宜条件を選定することにより、１個
の糖分子を選択的に脱離さすことができる。勿論１個以
上の糖分子が残存するように加水分解を止めるのが好ま
しい。

なお、加水分解生成物が複数得られた場合は、前述のア
マチャヅルの抽出物を精製、分離する際に用いらｊたと
同様の技法を採用すれば各生成物に分離することができ
る。

更にこの発明では、場合により一般式（１）の化合物を
混合物として使用してもよい。

この発明における一般式（Ｉ）の化合物は抗潰瘍作用、
殊に消化器系潰瘍に対する作用を有し、医薬として有望
な新規物質である。

次に実施例にてこの発明を説明する。

１５一 実施例１ 総サポニン画分の製造 兵庫県三原郡で採集したアマチャヅル（地上部）１．２
ｆを４倍量の水で熱時２回抽出した。再抽出液を合しく
約９．６ｔ）、適当量まで濃縮後、噴霧乾燥して約２５
Ｋｆの淡黄褐色粉末エキスを得た。

これの２００ｙを水２１に溶解し、スチレン系吸着樹脂
サーバクロムＸＡＤ−２（１００〜２００μｍ１サーバ
社製＞　５００７を充填したカラムに通導した。吸着部
を水４／、次いで２０９６メタノール４１で洗浄したの
ち、メタノール２１で溶出し、メタノール溶出液を減圧
下に濃縮乾固して黄褐色粉末１８．５ｙを得た。この方
法を繰り返して得られた黄褐色粉末８０ｙをメタノール
１１に溶かし、アルミナ〔７０〜２９０メツシユ、中性
、ウオルム（Ｗｏｅｌｍ）社製）５００　？を充填した
カラムに通導した。吸着部を５０％メタノール約２０／
で溶出した。溶出液を減圧下に濃縮乾固し、淡黄色粉末
として総サポニン画分１４．２ｙを得た。得られた総サ
ポニンの一般性状は次の通りであった。

１６− （１）　　黄白色から褐色のやや苦味を有する無臭の粉
末で、メタノール及び希メタノールに易溶、水及びエタ
ノールに可溶、ベンゼン、クロロホルム、エーテル、ヘ
キサン及び石油エーテルに不溶、 （ｉｔ）Ｉ９６水溶液は中性、 （ｉｎ）　　赤外線吸収スペクトル（ＩＲ（ＫＢｒ　）
　ｖｍａｘ）　テは８８７０．１６５０．１０７０及び
１０４０ｃＩｎの波数、 （Ｖ）　　核Ｍ＆気共鳴スペク）ル（ＰＭＲ，Ｃ３Ｄ５
Ｎ）では４．０（ブロード）、１．６（ブロード）、１
．２（ブロード）及び０．９（ブロード）　ｐｐｍのシ
グナル、 （Ｖ）　　水に添加して振盪すると持続性の小泡を発生
、■　リーベルマン反応及びザルコラスキー反応が陽性
及び （ロ）〉　下記条件下で薄層クロマトグラフィに付すと
き第１図のような紅紫色のスポットを発現する。

プレート：シリカゲル６０Ｆ２５４（厚さ０．２５關、
メルク社製） 展開溶媒：クロロホルム・メタノール・水（容量比６５
：８５：１０）下層 展開距ｌ！ＩＩ：１０ｃｌｎ 検　　出＝１％硫酸セリウム／１０９６硫酸混合溶液を
噴霧後１０５℃で５分間 加熱 総サポニン画分３０ｙを最小量のメタノールに溶解し、
シリカゲル６０ｙとよく混和し、溶剤を減圧下に蒸発乾
固したのちシリカゲル（２８０〜４００メツシュＡＳＴ
Ｍ、メルク社製）５００ｙを乾式で充填したカラム上に
層積し、クロロホルム・メタノール・水（６５：８５：
１０）の下層を用いて展開溶出した。溶出液を適時ＴＬ
Ｃ（吸着剤ニジリカゲル、溶媒系：クロロホルム・メタ
ノール・水（６５：８５：１０）下層、検出＝３０％硫
酸〕で検討を行い、フラクション１〜６に分画し、それ
ぞれ減圧下に濃縮乾固し、収量はフラクション１が８．
６ｙ、フラクション２が５．６ｙ。

フラクション８が５．１ｙ、フラクション４が５．４２
、フラクション５が２．８ｙ及びフラクション６が２．
２ｙであった。

各フラクションは再度、上記シリカゲルカラムクロマト
グラフに準じて、それぞれ最少量のメタノールに溶解し
、倍量のシリカゲルとよく混和し、溶剤を減圧下に蒸発
乾固したのち、５０倍量のシリカゲルを乾式充填したカ
ラムに層積した。クロロホルム・メタノール・水（７０
：８０：１０）の下層で展開溶出し、溶出物をさらに同
様の操作ヲ行い、クロロホルム・メタノール・酢酸エチ
ル・水（２：２：４：１）の下層で展開溶出した。

このシリカゲルカラムクロマトグラフィによる精製操作
を各フラクション毎に再度繰り返し、フラクション１か
らギペノシドＸＸＨ１２０ｑと粗ギペノシドＩＩＶｉｌ
ｌ　１．５　ｙ、フラクション２からギペノシドＩＸＶ
ｎ　１．２ｙ、フラクション８からギペノシドＸＸＶ１
８０ｆＩＶＩとギヘノシトｘｘｖ８５０ｒｎｇ、フラク
ション４からギベノシドＸＩＩＶ　８５０　ｆｎｇ、フ
ラクション５からギペノシドＩＩＩＩＩ　２５０ｒｎｇ
、フラクション６から粗ギペノシド１１１８００ｔｎｌ
Ｉをそれぞ一１９＝ れ得た。

次に上記のフラクション２．３．４．６の各溶液を蒸発
乾固し、得られた固体のそれぞれ０．５〜１．０ｙを３
０％エタノールに溶解し、この溶液をヌクレオシル８０
Ｃｔｓ（８０±４μ）カラム７０×６１ｃｍＸ２本に注
入し３５〜４５９６エタノールで展開溶出した。その結
果フラクション２の残液からギペノシドＩＩＩ、　ＸＸ
Ｘｆｆ１．　ＸＩＪｆヨびｘＬ■カソレぞれ４０ｆｎｇ
、４０　ｎ１ｇ、４５　ｆｎｇ、８０　ｆｌｌｆ得られ
、フラクション８の残液からギペノシドＸＸＩＬ　ＸＸ
Ｘｎ、ＩＩＩＶＩＩＩおよびＸＸＸＩＸｂｉソれぞし４
５ｒｎｇ、３０ｒｎＪ１１２５■、８０＊ｗ得られ、フ
ラクション４の残液からはギペノシドＸＸＸＶＩおよび
ｒｎｖｎがそれぞれ８０〜．８５ｖｇ得られ、フラクシ
ョン６の残液からはギペノシドＸＸＸＩＶおよびｎｃｖ
をそれぞれ４０ｍｇ、３５巧得た。

得られたギペノシド類の物性を表１、表２ａ％表２ｂに
示した。

２０− 実施例２ ギペノシドＸｘ■の酵素加水分解 ギヘ／　シＦ　ＸＸｍ　２００　”ｆ　ヲ０．００５Ｍ
−ＮａＨ２Ｐ　０４液（ｐＨ４，０）８０＋ｆに溶かし
セルラーゼ（ｐｒａｃｔｉｃａｌｇｒａｄｅ　ｔｙｐｅ
　Ｌ　シグマ社製）２００４を加え３７〜８８℃で２時
間撹拌した。次いで反応液をサーバクロムＸＡＤ−２（
８０ｍ１）カラムに通導し、水５ＱＯｄ次いで２０％メ
タノール１１で洗浄後メタノール２００ｄで溶出した。

溶出液を減圧濃縮し約１６０１ｎｇの加水分解物を得た
。これを最少量のメタノールに溶かし、シリカゲル３０
０〜とよく混和し、溶剤を減圧下に蒸発乾固したのち、
シリカゲル１０ｙを乾式充填したカラムに層積し、クロ
ロホルム・メタノール俸酢酸エチル°水（２：２：４：
１’）の下層で展開溶出した。溶出液を適時ＴＬＣで検
討し、ギペノシドｍＩ画分を分画し、それぞれ減圧濃縮
乾固し、ギベノシドＸｌＸｌ３５　ｍｇを得た。

実施例３ ギベノシドＨ１ｌよびＫＸＩＹの酵素加水分解ギヘ／　
シＦ　ＩＨＩＩオヨびＸＸＩＶそれぞれ２００１ｎｇを
実施例２と同様に処理してギペノシドＸＸＩＩからギペ
ノシＦＨＸ２５ｑを、ギペノシドＸＨＶからギペノシド
ＸＨＩＩＩ　４５■を得た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ５ 〔式中Ｒ１はβ−グルコピラノシル基、β−グルコピラ
   ノシル（１→２）−β−グルコピラノシル基またはβ−
   グルコピラノシル（１→２）−α−アラビノピラノシル
   基、　Ｒ２はヒドロキシメチル基またはホルミル基；Ｒ
   ３はヒドロキシ基または水素原子、　Ｒ４はβ−グルコ
   ピラノシルオキシ基、α−ラムノピラノシル（１→６）
   −β−グルコピラノシルオキシ基、β−キシロピラノシ
   ル（ｌ→６）−β−グルコピラノシルオキシ基、メチル
   基またはヒドロキシ基、　Ｒ５はメチル基、ヒドロキシ
   基、ヒドロキシメチル基またはβ−グルコピラノシルオ
   キシメチル基；但ＬＲ’がβ−グルコピラノシル基であ
   る場合Ｒ２はヒドロキシメチル基でＲ３は水素原子＋　
   Ｒ”がβ−グルコピラノシル（ｌ→２）−〇−アラビノ
   ピラノシル基である場合Ｒ２はホルミル基でＲ３は水素
   原子〕 で表される化合物。 ２、一般式（Ｉ）で表される化合物が１９．２１−ジヒ
   ドロキシ−３β−０−β−グルコピラノシル−２０ξ−
   ０−β−グルコビラノシルーダンマルー２４−エン、１
   ９．２０ξ、２１−トリヒドロキシ−３β−０−［β−
   グルコピラノシル（１→２）−β−グルコヒラノシル］
   −ダンマル−２４−エン、１９．２０ξ−ジヒドロキシ
   −３β−０−β−グルコピラノシル−２１−〇−β−グ
   ルコビラノシルーダンマル−２４−エン；１９−オキソ
   −２０ξ、２１−ジヒドロキシ−３β−０−〔β−グル
   コピラノシル（１→２）−β−ゲルコピ２ノシル〕−ダ
   ンマル−２４−エン；１９−オキソ−２１−ヒドロキシ
   −３β−〇−〔β−グルコピラノシル（１→２）−ρ−
   グルコピラノシル］−２０ξ−ｏ−〔α−ラムノピラノ
   シル（１→６）−β−グルコピラノシル〕−ダンマル−
   ２４−エン；１９−オキソ−２１−ヒドロキシ−３β−
   ｏ−（β−グルコピラノシル（１→２）〜β−グルコピ
   ラノシル〕−２０ξ−０−〔β−キシロ　ピラノシル（
   ｌ→６）−β−グルコピラノシル〕−ダンマル−２４−
   エン；１９−オキ゛ソー３β−０−〔β−グルコピラノ
   シル（１→２＞−〇−アラビノピラノシル）−２Ｏ８−
   ０−〔ａ−ラムノピラノシル（１→６）−β−グルコピ
   ラノシル〕−グンマルー２４−エン；１９−オキソ−３
   β−〇−〔β−グルコピラノシル（１→２）−ａ−アラ
   ビノピラノシル］　−２Ｏ８−（１−［β−キシロピラ
   ノシル（ｌ→６）−β−グルコピラノシル］−ダンマル
   ー２４−エン；１２β。 １９．２Ｏ８−トリヒドロキシ−３β−０−〔β−グル
   コピラノシル（１→２）−β−グルコヒラノシノ四、−
   グンマルー２４−エン；１２β。 １９．２ＯＲ−トリヒドロキシ−３β−〇−〔β−グル
   コピラノシル（１→２）−β−グルコピラノシル〕−ダ
   ンマル−２４−エン；１９−オキソ−１２β、２０Ｒ−
   ジヒドロキシ−３β−〇−〔β−グルコピラノシル（１
   →２）−β−クルコヒラノシル〕−ダンマル−２４−エ
   ン；１９．２ＯＲ−ジヒドロキシ−３β−０−〔β−グ
   ルコピラノシル（１→２）−β−グルフビ２ノシル〕−
   ダンマルー２４−エンのいずれかである特許請求の範囲
   第１項に記載の化合物。