JPS58210912A - 光架橋性、水溶性ポリマ−、その製造方法及びその用途 - Google Patents

光架橋性、水溶性ポリマ−、その製造方法及びその用途

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JPS58210912A
JPS58210912A JP58088345A JP8834583A JPS58210912A JP S58210912 A JPS58210912 A JP S58210912A JP 58088345 A JP58088345 A JP 58088345A JP 8834583 A JP8834583 A JP 8834583A JP S58210912 A JPS58210912 A JP S58210912A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、マレイミジル基および第４級アンモニウム基
を含有する光架橋性、水溶性ポリマーおよびコポリマー
、並びにそれらの写真記録物質としての用途に関する。
感光性ポリマーは、現像液として有機溶媒および水性塩
基または酸を使用する写真記録物質として使用されてい
る。この種の感光性ポリマーの処理は、排気装置を使用
しなければならないこと、および現像の仕方が技術的に
非常に複雑であるという欠点を有している。
米国物、ｖ−Ｆ第４２２９５１９号明細書および欧州特
許出願第２９４５８号明細書には、第４級アンモニウム
基およびエチレン性不飽和基を含有する感光性ポリマー
からなる水溶性で、水−現像６ｆ能の光架橋性組成物が
開示されている。これらの感光性ボ１１．７−は、非経
済的な２段階（重合段階および４級化段階）の方法によ
ってのみ製造されている。それに加えて、充分な光感受
性をイ！Ｉるために特別の光重合開始システムの使用が
必要とされている。更に、この種の物質（ま暗所におけ
る充分な貯蔵安定性を得るために重合禁止剤を必要とし
ている。
本発明の目的は、光感受性が公知の光重合開始剤で増大
させるＣとができ、そして一段階の方法で製造すること
ができる水−現像可能の感光性ポリマーを提供すること
にある。
したがって、本発明は、マレイミジル基お上び第４級ア
ンモニウム塩を含有し、そして少くとも１０００の分子
量を有する、次式１〔式中、 ｌ＜は水素原子ま１こはメチル基を表わし、Ｙは酸素原
子または−ＮＨ基を表わし、Ａは直鎖または枝分れの炭
素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、 Ｒ’およびｌり２は互いに独立して炭素原子数１ｔ６Ｌ
いし４のアルキル基を表わすか、−緒になりてテトラメ
チレン基、ペンタメチレン基ま１こは６−オキ甘ベンチ
レン基を表わし、ｌ）は炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基または次式 （式中、１（３はアルキレン基、メキサアルキレン基ま
たはベンシレン基を表わし　ｌ（４は水素原子または炭
素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、Ｒ５は炭素
原子数１８までの２価の脂肪族、環式脂肪族または芳香
族炭化水素基もしくは２価の脂肪族または芳香族複素環
式基を表わし、Ｒ”は１（５で定義した意味を有するか
ま１こは次式＝ （式中、ｘ（ｊｌないし２９の値を弄わし、Ｒ４は水素
原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす
）で表わされる基を表わし、′Ｉ゛１および１゛２は互
いに独立して炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わ
すか、−緒になって未置換もしくは炭素原子数１ないし
４のアルキル基置換のトリメチ１／ンまたはテトラメチ
レン基を表わＴ）の基を表わし、 ｚｅはアニオンを表わす。〕 で表わされる構造単位を含有するが、ただしＤが炭素原
子数１ないし４のアルキル基の場合、次式。
Ｉ（ （式中、Ｔ２は前記の意味を表わす）のマレイミジル基
を所有する少くとも１個のエチレン性不飽和七ツマ−の
構造単位、ならびにマレイミド基を含有しないエチレン
性不飽和コ七ツマ−から誘導された別の構造単位をまた
存在させることができる、 ポモポリマーまたはコポリマーに関するものである。
分子量は、１．０００ないし２００．０００　、奸才し
くは１０．０００ないし１００，０００、最も好ましく
は１ｆＪ、０００ないしｓｏ、ｏｏｏであり得る。コポ
リマーが好ましい。
１１鎖または枝分れアルキレン基としてのＡは好ましく
は炭素原子２ないし４個を含有するもので、例えば１．
６−．１．５−．１．４−．１．３−または１．２−ヘ
キシレン、１．５−　　または１．６−もしくは１，２
−へキシレン、１．５−または１．３−ベンチレン、１
．４−．１．３−または１．２−プロピレンおよびエチ
レンであり得る。
Ａは好ましくはプロピレン基であり、最も好ましくはエ
チレン基である。
アルキル基としてのＲ１およびＲ２は、直鎖または枝分
れであって、好ましくは１個または２個の炭素原子を含
有するものであり得る。例示としてはｎ〜ブチル、イン
ブチル、第３ブチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、エ
チルおよびメチル基である。ｌ（ｌおよびＲ２はまた未
置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基置換、
特にメチル基置換テトラメチレン、ペソタメチレ７まｆ
ｃ（−ｉ６−オキサペンチレン基であっても良い。
炭素原子数１ないし４のアルキル基としてのＤは、Ｒム
およびＲ′で選択した意味をもつものであり得、好まし
くはメチルまだはエチル基である。
アルキレン基としてのＲ３は、直鎖才たは枝分れの、炭
素原子数２ないし１８、好ましくは２ないし１２そして
最も好ましくは２ないし６を含有するものであり得、そ
してオキサアルキレン基としては炭素原子数２ないし６
、好ましく（’ｌ　２　ｆｊいし４を含有１−るもので
あってよい。例示としては、エチレン、１．２−または
１．３−プロピレン、１．４−または１．６−ブチレン
、ベンチレン、ヘキシレン、メクチレン、デシレン、ド
デンレン、オクタデシレン、デシルエチレン、テトラデ
シルエチレン、ヘキサデシルエチレンおよび６−オキサ
ペンナレン基である。
アルキル基としてのＲ４は直鎖または枝分れであっても
よい。Ｒ４は好ましくは水素原子である。
基Ｒ５は、好ましくは炭素原子数１２までを含有する。
脂肪族基としてのＲ５は、好ましくは直鎖または枝分れ
アルキレン基で、このものは、例えばＵ　、　８および
ＮＲ４のようなヘテロ原子で中断されていてもよい。こ
の場合におけるＲ５の好ましい意味は、炭素原子数１な
いし１２を含有するアルキレンおよびオキサアルキレン
基である。環式脂肪族基としてのＲ５は、好ましくは５
もしくは６員環炭素原子を含有し、特に未置換もしくは
１ないし４個の炭素原子数１ないし４のアルキル基、例
えばメチル基でＩｆｍされたシクロペン千しンおよびシ
クロヘキシレン基である。１，５−シクロヘキシレンお
よび１．４−シクロヘキシレン基が特に好ましい。
芳香族炭化水素基としてのＲ’は、例えば好ましくは炭
素原子数６ないし１６を含有するカルボン酸芳香族基、
または好ましくは炭素原子数７ないし１６を含有する芳
香−脂肪族基であり得る。例示としては、’＋２−１１
１５−および１．４−フェニレン、１．３−トルイレン
、１．７−〔式中、Ｑはｉｋ接結合、−Ｕ−、−８−、
−８Ｕ−。
記の意味を表わす）、炭素原子数１ないし６のアルキレ
ン基、炭素原子数２ないし６のアルキリデン基または５
もしくは６負環炭素原子を含自する環式アルキリデン基
を表わす〕の基である。４，４′−位に結合がないもの
が好ましい。
複素環式−脂肪族または複素環式−芳香族基としてのｉ
＜ｂは炭素原子数４ないし１２を含有するものであって
よい。このような基は、好ましくは、例えばへもしくは
Ｏのようなヘテロ原子を１個もしくは２個含有する５−
もしくは６−員環である。
ポリオキサアルキレン基ＲＪＣおいて、Ｘは好ましくは
１ないし１２の値、最も好ましくは１ないし６の値であ
り、Ｒ４がｌ素原子もしくはメチル基である。
Ｉｌｌ　、およびＩｌｌ　、は好ましくはメチル基およ
びテトラメイレン基である。
Ｚｏは、好ましくは、例えばＦ　、　ＣＩ　、　Ｂｒ　
、　８０４゜炭素原子数１ないし４のアルキル−０ＳＵ
３　　お工びスルホネートのような４級化試柴のアニオ
ンである。スルボネートアニオンは、例えば脂肪族、環
式脂肪族および芳香族スルホン酸、即ちメチルスルホン
酸、エチルスルホン酸、プロピルスルホン酸、ブチルス
ルホン酸、ペンチルスルホン酸、ヘキシルスルホン酸、
シクロヘキシルスルホン酸、フェニルスルホン酸、ベン
ジルスルホン酸、トルイルスルホン酸またはナフチルス
ルホン酸から誘導することができる。
式Ｉの構造単位の好ましいサブグループは、式中Ｙが＃
ｌ素原子であり、Ａが直鎖の炭素原子数２ないし４のア
ルキレン基、好ましくはエチレン基であり、Ｒ１および
Ｒ２が炭素原子数１または炭素原子数２のアルキル基、
特にメチル基であり、Ｄが次式： （式中、Ｒｂはエチレン基、６−オキサベンチレン基ま
たは１．５−プロピレン基を表わし、′ｌ′１はメチル
基を表わす。）で表わされる基であり、そしてＺθが・
・ライドアニオン、好ましくは塩素アニオンのものであ
る。
若し本発明のポリマーがコポリマーである場合、コポリ
マーはマレイミド基を所有する鎖部分に加えて、マレイ
ミド基を含有しない以下のコモノマーから誘導される鎖
部分を好ましく含有する。コモノマー：α−オレフィン
、ビニル・・ライド、例えば臭化ビニル、塩化ビニルお
よびフッ化ビニル；ビニリデン、例えば塩化ビニリデン
：α、β−不飽和酸のニトリル、例えばフクリロニトリ
ルまたはメタクリロニトリル：α、β−不飽和酸、それ
らのエステルまたはノ・ロゲン銹導体２例えばアクリル
酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、メチルメ
タクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレ
ート、ブチルアクリレート、オクチルアクリレート、２
−エチル−ヘキシルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、インプロピルメタクリレート、ジメチルアミノエチ
ルメタクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート
、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート
まタハクロルメチルメタクリレート；α、β−不飽和力
ルホキ甘せミドおよびそれらの誘導体、例えばアクリル
アミド、メタクリルアミド；芳香族ビニル化合物、例え
ばスチレン、メチルスチレン、ビニルトルエンマタはα
−クロルスチレン、ビニルケトソ、例えばメチルビニル
ケトン：ビニルエステル、例、ｔはビニルアセテート：
複素環式ビニル化合物、例えばビニルビ＋１ジン、ビニ
ルピロリドン：およびビニルエーテル。
上記したマレイミド基を含有するエチレン性不飽和コモ
ノマーがまた適切である。このコモノマーはまたＤが炭
素原子数１ないし４のアルキル基でない場合に使用する
ことができる。この種のコモノマーは、例えばドイツ公
開特許第２６２６７６９号明細書および欧州特許出願第
２１０１９号明細書中に記載されている。これらは実質
的にアクリレートおよびメタクリレート、アクリルアば
ドおよびメタクリルアミド、同様にビニルエーテルであ
り、それぞれエステル、アミドまたはエーテル基に結合
Ｔるマレイミド基を含有するものである。好ましいコモ
ノマーは次式のものである。
（） （上記各式中、Ｒ、Ｒ４、Ｈ＆　、　ｌ＜”　、　Ｔ鳳
お工びＴ２は前記の意味を表わし、Ｒ７はＲ＆と同一の
意味を表わすかまたは一〇〇−Ｒ６−を表わし、ｙは１
または２である） 本発明のポリマーは次式： （式中、ＴＩおよびＴ２は前記の意味を表わす）で表わ
されるマレイミジル基を含有する構造単位を好ましくは
１０ないし１００モルチ、最も好ましくは４０ないし１
００モル慢を含有する。
ポリマーは、式Ｉの構造単位を好ましくは５ないし９０
モル％、最も好ましくは１０な□いし６０モル％含有す
る。
異なったコモノマーの使用は、本発明のポリマーに所望
の特性、例えば光感受性、ガラス転移温度、親水性、疎
水性、染料親和性および溶＋Ｗ　ｊｔ＋を与えることを
５Ｊ能にする。
本発明の特性は楠々の公知方法により製造することがで
きることである。
本発明の１つの具体例においては、Ｄが炭素原子ａ　１
　ｆＡいし４のアルキル基のためにマレイミジル基を含
有する少くとも１個のエチレン性不飽和コ七ツマ−を含
有し、そして次式ｌまたはＩＩＩ。
＼Ｒ２＼Ｒ１ （Ｉｌｌ　　　　　　　　　　　　（２）の構造単位を
含有するホモポｌ　？−およびコポリマーは、式１）Ｚ
もしくはＲ２Ｚの４級化試楽と有機溶媒中Ｅ「望により
約１００Ｔ：、ｔで加熱することにより反応される。出
発物質のポリマーは、例えばドイツ公開特許ＩＥ２６２
６７６９号明細書に記載されるように相当するモノマー
、および必曹とすればコモノマーから公知の取合方法に
よって得られるものである。
４級化試桑１）Ｚは新規であり、また本発明の目的を構
成する。これらは公知の方法、例えば次式： ％式％ の化合物とハロゲン化酢酸またはそれらのエステルもし
くは−ｒミド形成誘導体とのエステ化またはアミド化に
よって製造される。ヒドロキシ酢酸との反応は相当する
ヒドロキシ誘導体を与え、同様に式： の化合物は公知の方法によりハロゲン化誘導体、スルホ
ネートおよびスルフェートに変換することができる。
本発明のポリマーの製造のだめの、更に別の具体例にお
いては、次式■： （１−１２＝（’Ｒｌ＜’ １ Ｕ　＝（’−Ｙ−Ａ−Ｎｅ−ＪＪ　　　　　　　　　７
ｅ　　　　　　　　（ＩＶ）２ の不飽和上ツマ−は、所望に工りＤが炭素原子数１ない
し４のアルキル基のだめにマレイミジル基を含有する少
くとも１−個のエチレン性不飽和コ（＝ツマーと共に、
有機溶媒中、自体公知の方法で、？！Ｉえば−Ｙゾピス
インフチロニトリルであるうソカル開始剤の存在下、約
４０ないし１２０℃の温度範囲で重合することができる
。
式中りが炭素原子数１ないし４のアルキル基でなく、次
式： で表わされる化合物は新規であり、同様に本発明の目的
を構成する。
％に有利な具体例においては、本発明のポリマーは新規
な方法により製造することができ、また本発明の目的を
構成する。この方法は、次式■または■。
（Ｖ）　　　　　　　　　　　　（ＶＤの不飽和モノマ
ーそれ自体を、あるいはＤが炭素原子数１ないし４のア
ルキル基のためマレイミジル基を含有する少くとも１個
のエチレン性不飽和コモノマーと一緒に、有機溶媒中に
おいてラジカル開始剤および４級化試薬ＤＺもしくはｌ
＜２Ｚの存在下重合するＣとからなるものである。Ｃの
ように、ポリマーは重合および４級化を同時に行うこと
による簡易な方法で、架橋反応がなんら認められず、経
済的に製造することができるものである。反応を実施す
るために、反応物はアゾビスイノブチロニトリルのよう
なラジカル開始剤と、有機溶媒中で加熱される。
温Ｊｕは使用するラジカル開始剤に実質的に依存し、例
えば４０℃から１２０℃の範囲であって良い。
製造のだめの適切な溶媒の例としては、メタノール　エ
タノールおよびメチルセルノルブのようなア刀２コール
、同様に極性中性溶媒である。
溶媒は１柚もしくは少なくとも２種の溶媒の混合として
便用することができる。例としてはニジエチルエーテル
、シフ千ルエーテル、テトラヒドロフラ゛ノ、ジオキサ
ン、メチルエ千レンゲリコール、シメチルエチし・ング
リコール、ジメチルジエチレングリコール、ジエチルジ
エチレングリコール、ジメチルトリエチレングリコール
のようなエーテル：メチレンクロライド、クロロホルム
、四塩化炭素、１，２−ジクロルエタン、１，１．２−
　　トリクロルエタン、１．１，２．２−テトラクロル
エタンのようなハロゲン化炭化水素；エチルアセテート
、メチルブロヒオ不一ト、エチルベンゾエート、２−メ
トキシエチルアセテート、γ−ブチロラクトン、γ−バ
レロラクトンおよびメバロラクトンのようなカルボキシ
レートおよびラクトン、ホルムアミド、アセトアミド、
ヘーメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム゛Ｙ
ミド、へ、ヘージエチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアセト了ばド、Ｎ、Ｎ−シ。
エチルアセトアミド、γ−ブチロラクタム、γ−カプロ
ラクタム、Ｎ−メチルピロリドン、ヘーメチルカブロラ
クタム、テトラメチルウレア、ヘキサメチルホスホリッ
クアミドのようなカルボキサミドおよびラクタム：ジメ
チルスルホキシド、テトラメチルスルホキッドのような
スルホキシドニジメチルスルホン、ジエチルスルポン、
トリメチレンスルホン、テトラメチレンスルホンのよウ
ナスルホン、メチルアミン、１チルアミン、クロビルア
ミン、ピロリジン、ピペリジン、七ルホリン、ジメチル
アミン、ジメチルアミン、メチルエチルアミン、トリメ
チルアミン、トリメチルアミン、Ｎ−メーｆ−ルヒロリ
ジン、ヘーメチルピベリジン、ヘーメチルモルホリンの
ような第１級、第２級および第３級アミン：クロルベン
ゼン、ニトロベンゼンおよびクレゾールのような置換ベ
ンゼン。
ポリマー浴液は、所望により希釈および慣用される絵加
剤の離別の後に、光−感受性塗料組成物として使用する
ことができる。しかしながら、ポリ７−はまた溶液より
慣用の方法、例えば無−溶媒による沈殿、凍結濃縮もし
くは溶媒の留去によって単離することもできる。ポリマ
ーおよびそれらの溶液は貯蔵安定である。
マレイミド基の存在のゆえに、本発明のポリマーは電磁
波の作用下の架橋のために特に好適なものである。架橋
の結果不溶性生成物を形成する。レリーフ像を、像形成
露光そして続いて現像（未架橋および非露光ボ１１マー
成分の溶出）することにより得ることができる。写真物
質としての用途に加えて、ポリマーはまたプラスチック
、金属、ガラス、木材およびセラミｌクズのような棟々
の基質の表面保護のために便用することができる。ボ１
；マーは基質に良く付着す　　。
る。
光感受性に悪影響を及ぼさない慣用的添加剤をポリマー
または相当する塗料組成物に混和することができる。こ
の種の添加剤の例は、艶消剤。
架橋剤および均染剤、充填剤、染料または顔料。
難燃剤、光安定剤および抗酸化剤である。
増感剤なしに、本発明のポリマーは２００ないし３２０
μｍの範囲において最大の光感受性をもっている。光感
受性は増感剤の選択によシかなシ増加させることができ
、そして１種々商業的に入手し得るコピーランプ、例え
ば金属ハライドランプの光を最適の状況で応用すること
ができる。
適切な増感剤がドイツ公開特許第２６２６７６９号明細
書中に記載されている。好ましい増感剤は例えばドイツ
公開特許第５０１８８９１号明細書中に開示されている
置換チオキサントンで１例えば３ニカルポキシ−７−メ
チルチオキサントンのアルキルエステルである。増感剤
は、ポリマーを基礎として［１５ないし１０重量％が好
ましく使用される。種々の増感剤の混合物もまた使用す
ることができる。
本発明はまた１本発明のポリマーより得られた光−感受
性物質にも関連する。このような物質は、例えば印刷工
業のための写真記録物質、フオーム、特殊オフセットフ
オーム、同様に電子工学における印刷工業分野のための
物質、例えばプリント回路の製造のための感光性耐蝕膜
である。
このために、ポリマーは有機溶媒中に溶解され１種々の
補助剤を添加後、支持体に適用される。支持体はそれぞ
れの適用領域で慣用的に使用されるものである。写真記
録物質のためには支持体は例えばポリエステルもしくは
セルロースアセテートシートまたはプラスチック被覆紙
：オフセットフオームのためには特殊処理アルミニウム
が使用されニブリント回路の作成の丸めには銅張りラミ
ネートが使用される。塗布は慣用される公知の方法、例
えば浸漬、ナイフ塗布、流し塗、はけ塗、スプレーおよ
びリバースロール塗布である。
塗布適用後、溶媒は乾燥により除かれ、支持体上に不粘
着性の光−感受性ポリマーの固形層を与える。光マスク
を通して物質を慣用される像形成露光した後、ポリマー
の非露光領域が現像液中で溶解することによシ取シ除か
れ、架橋したポリマーからなるポリマーレリーフが表わ
れて来る。
好ましい現像液は通常上として水である。しかしながら
、水の＃１かに、水−混和性有機溶媒（アルコール、ケ
トン、エステル）と水の混合物の使用もまた可能であシ
、ある種の場合は、例、ｔ　ハエチルアルコールのよう
な有機溶媒の使用も可能である。現像溶液の温度は＋５
℃から約９０℃、好ましくは１５℃から６０℃まで変化
することができる。ｍｓ待時間１層の厚さおよびポリマ
ーの組成に依存し、約１０秒から約１０分であって良い
。付着性の良い１品質の優れた像が得られる。
以下の実施例によυ本発明を更に詳細に説明する。
Ａ）中間体の製造法 実施例１：Ｎ−（クロルメチルカルボニルオキシエチル
）ジメチルマレイミド 攪拌しながら、１６９．２　ｆ　（１モル）のＮ−（２
−ヒドロキシエチル）ジメチルマレイミド。
１１１４ｔ（１２モル）のクロル酢酸おヨヒ１ｔ８１Ｆ
の濃硫酸を１０００１Ｒｔのトルエン中ウォーターセパ
レーターを用いながら還流まで加熱する。約２時間後に
水の形成が終了し、１８−が分離された。反応溶液を飽
和炭酸水素ナトリウム溶液および水にて洗浄する。有機
相を硫酸マグネシウムにて乾燥し、ロータリーエノくボ
レータ中４０℃にて濃縮する。残渣を２時間６０℃／　
０．１　ｍにて乾燥すれば％２０６ｔの無色液状物を与
える。
元素分析：０１゜Ｈ１２ＣＩＮＯ，（２４ｓ、　ｂ　７
　）計算値：　Ｃ４８，８９１−１４，９２Ｎ　５．７
０実験値：　０４Ｂ、８８　　Ｈ５，０５Ｎ　５．５８
実施例２：Ｎ−（クロルメチルカルボニルオキシ−２，
２−ジメチルクロビル）ジ メチルマレイミド １０５、６９　（α５モル）のＮ−（２，２−ジメチル
−３−ヒドロキシプロピル）ジメチルマレイミド、５４
７ｆ（［１６モル）のクロル酢酸、５．９ｆの濃硫酸お
よび４００−のトルエン混合物を実施例１に記載のよう
に、水の生成（９−）が終了するまで加熱する。反応溶
液を実施例１と同様処理すれば、１２１２の無色液状物
を与える。
元素分析：　Ｃ１３Ｈ１，ＣｌＮ０４（２８７，７５）
計算値：　Ｃ５４，２７Ｈ６３１Ｎ　　４．８７Ｃ１１
２，３２ 実験値：　Ｃ５４，２４Ｈ６，１３Ｎ　　４．９２Ｃ１
１２，１３ 実施例５：Ｎ−（クロルメチルカルボニルオキシ−３−
オキサペンチル）ジメチル マレイミド ９０、６　ｆ　（０，４１モル）のＮ−（５−ヒドロキ
シ−５−オキサペンチル）ジメチルマレイミド、４＆６
ｔのクロル酢酸、４．８２の濃硫酸および４００−のト
ルエン混合物を実施例１と同様反応し、処理すれば、１
１２ｆの淡黄色液状物を与える。
元素分析：　Ｃ，２Ｈ１，ＣｌＮ０．　（２ａ　ｑ、　
７２　）計算値：Ｃ４９，７５Ｈ５，５７Ｎ　　４．８
４Ｃ１１２，２４ 実験値：　Ｃ５０，０Ｄ　　Ｈ５，５８Ｎ　　５．０１
ＣＩ　　１　２．１　５ 実施例４：Ｎ−（クロルメチルカルボニルオキシヘキシ
ル）ジメチルマレイミド ａ）　マグネテックスターラーおよび還流冷却器を取シ
付けた５００−のガラス丸底フラスコ中にテ１０４．７
　ｆ　（（１８５モル）の無水ジメチルマレイン酸、９
６．７１Ｆ（（１８１モル）の６−アミノ−１−ヘキサ
ノールおよび１ｏ。
−のトルエン混合物を４時間還流温度にて攪拌する。反
応溶液から最初に揮発性成分を水流減圧下（浴温は１０
０℃まで）で除き、次いで溶液をオイルポンプ減圧下に
ショートカラムにて分留する。主留分は１７６ｆのＮ−
（６−ヒドロキシヘキシル）ジメチルマレイミドで、沸
点１３ｏ０ないし１４１℃／　０．０５簡の無色油状物
である。
ｂ）　　６７６９　（０，３０モル）のＮ−（６−ヒド
ロキシヘキシル）ジメチルマレイミド、３４０ｙ（０，
３６モル）のクロル酢酸、３．５Ｆの濃硫酸および５０
０−のトルエン混合物を実施例１と同様反応し、処理す
る。残渣は８６６２の無色油状物である。
元素分析：　Ｃ，４Ｈ２０ＣＩＮＯ４（５０ｔ　７７　
）ｇ［３′Ｅ値：　Ｃ５５，７２Ｈ６６Ｂ　　Ｎ　　４
．６４１１ｔ７５ 一実験値：　Ｃ５６，８０Ｈ，６，７９Ｎ　　４．５４
ｚｔ５ｓ 実施例５： ａ）メチルメタクリレート（ＭＭＡ）およびジメチルア
ミノエチルメタクリレ−）　（ＤＭＡＥＭＡ）のコポリ
マー（モノマーのモル比：ＭＭＡ／ＤＭＡＥＭＡ＝ｔａ
：ｔｏｌ 攪拌器、温度計、減圧連結および窒素導入口を取り付け
た定温調節可能のダブル−ジャケット反応器を次の混合
物で満たす： ＭＭＡ　　　　　　　　　　　　ｓａｏｒＤＭＡＥＭＡ
　　　　　　　　　５　ｔ　４タエタノール　　　２７
０．Ｏｆ アゾビスインブチロ ニトリル（ＡＩＢＮ）　　　　　α５３７を酸素を、純
粋窒素ガスによる排出および充填の繰り返しによシ除く
。フラスコ内で、重合が６０℃±１℃の温度までに加熱
することによシ開始され、同温にて２４時間行なう、粘
稠性ポリマー溶液が、全ｊｌｓ　ｓ　ｏ　ｏ−の水を混
合することによシ沈殿し、そして固形無色ポリマー粉末
を５日間減圧乾燥だな中で５０℃／Ｉ　Ｄ　Ｏｔｏｏｒ
にて乾燥させる。
収量：　２．６８　ｖａｌ　７ｋｇ　（理論値：２．９
４ｖａｊ／　ｋｆ）のアミン含有値を有するポリマー、
５９２゜ ｂ）ポリマーの４級化 上記ポリマー　　　　　　　１α０２ ペンチル）ジメチルマレイミ）”　　　　　８．６　Ｆ
ジメチルホルムアミド　　　　　　　９５０２からなる
混合物をＳマクネチックスクーラーを取り付けたガラス
フラスコ中で１時間６０℃にて加熱し１次いで８０℃に
て２４時間加熱する。黄色粘稠性ポリマー溶液が、２０
００ｍの酢酸エチル中に激しく攪拌することにより沈殿
し、沈殿物を減圧乾燥だな中で遮光しながら４０℃にて
乾燥させる。
収量：１ａｓｒのポリマー粉末、このものは分析の結果
４３％のＣ１ｔ含有す る。これは４級アンモニウム基の １２１ｖａｌ　／ｋｙ　（理論値：ｔ５１ｖａｌ／　ｋ
ｙ　）に相当する。このポリマーは水に溶解する。
実施例６　：　１．８　：　１の比率によるＭＭＡ／Ｄ
ＭＡＥＭＡのコポリマー、実施例１ の化合物との４級化。
実施例５ａのポリマー　　　　　１αＯｔ実施列１のＮ
−（クロルメチルカルボニルオキシエチル）−ジメチル
マレイミド　　　７．３１シミチルホルムアミド　　　
　　　　　　　９５．０ｍ／を実施例５　ｂｌのように
反応させる。
収量：１４．２ｆの固形ポリマー、分析の結果４．５−
のＣＩを含有する。これは４級アンモニウム基の１２７
　ｖａｌ　／　ｋｑ（理論値：　１．６２　ｖａｌ　／
ｋｇｌに相当する・固有粘度（メチルセルンルプ中α５
チ、２５℃＞＝ｔ０４ｄｌ／ｆ。
実施例７：重合化および４級化 次からなるポリマー： （ＣＨ３）ｚＮｃＨ２ｃＨ２０１Ｊｃ−ｃ（ｃＨ３１＝
ｃＨ，（１）ＭＡＥＮＬＡＩマグネテツクスターラーを
取シ付けｆＣｓ　ｏ　。
−ガラスアンプルを以下にリストした混合物でｆｉたし
、酸素を純粋窒素ガスの排出および充填の繰り返しによ
り除いた。アンプルを６５℃の一定温度に保った加熱浴
中で２４時間加熱し、次いで冷却し、内容物を２０００
−のエーテル中に注ぐ。ポリマーをゴム弾性物質として
得た。
エーテルをデカンテーションにより除き、次いで新しい
エーテルを加えポリマーを減圧乾燥だな中で４０℃／　
１００　ｍｍにて乾燥させる。併せたエーテル相をロー
タリーエバポレーターにて濃縮し、残渣を秤量し、それ
から収率を計算した・ ７、１　　：　　　ＤＭＩ−ｏ−ＭＡ　　　　　　　２
８．１　ｔＤＭＡ　ＥＭＡ　　　　　　　　　　４．７
　を実施例３の化合物　　　　　　　　８．７１アゾビ
スイ／ブチロニトリル　　　０．１６ｆジメチルホルム
アミド　　　　　７６５ｆ収率＝９６％、ポリマーは水
に溶解する。
７、２　：　　ＤＭＩ−ｏ　−ＭＡ　　　　　　２Ｂ、
１ｆ１）ＭＡＥＭＡ　　　　　　　　五１２実施例３の
化合物　　　　　　　　５．８２アゾビスインブチロニ
トリル　　　［Ｌ１６ｆシミチルホルムアミド　　　　
　７２．Ｏｆ収率＝９６チ、ポリマーは水に溶解する。
７、５　：　　ＤＭＩ−ｏ−ＭＡ　　　　　　２８．１
　ＦＤＭＡＨＭＡ　　　　　　　　３．９？実施例３の
化合物　　　　　　　　７．２９アゾビスインブチロニ
トリル　　　［Ｌ１６ｆジメチルホルムアミド　　　　
　７４．７　ｆＺｌおよび７．２と対照して、ポリマー
７．６はエーテル中で沈殿しない。その代りに、反応浴
液は更に光−感受性物質の製造のために直接使用される
。
実施例８：重合化および４級化 次からなるポリマー： （ＣＨｓｈＮＣＨ２ＣＨ２０ＵＣ−（：（ＣＨ３１＝Ｃ
Ｈ２（ＤＦＪＡＥＡ４Ａ）θ 次の混合物を実施例７と同様重合化した。
８、Ｉ　　ＤＭＩ−ＭＡ　　　　　　　２３．７ｔＤＭ
ＡＢＭＡ　　　　　　　　７．８６を実施例１の化合物
　　　　　　　１２．２８２アゾビスインブチロニトリ
ル　　　０１６２ジメチルホルムアミド　　　　７３．
７ＦＣＩ含有量（分析後）　＝　４．９チ、４級アンモ
ニウム基のｔ　３８　ｖａｌ　７ｋｇ　（理論値：ｔ　
１４　ｖａｌ　／ｋｆ）に相当する。
８．２　　ＤＭＩ−ＭＡ　　　　　　　２五７ｔＤＭＡ
ＥＭＡ　　　　　　　　４３ｆ 実施例１の化合物　　　　　　　　９８３ｔアゾビスイ
ンブチロニトリル　　　α２０？ジメチルホルムアミド
　　　　　９！ＬＯｆ収率＝９３チ 実施例９二重合化および４級化 次からなるポリマー： （ＣＩ−１，）、ＮＣＨ２（、’）Ｉ、α）Ｃ−Ｃ（Ｃ
Ｈｓ）＝ＣＩ（２（ＤＭＡＨＭＡ）（ＣＨ，０）、８０
．　　　　　　　　（ジメチルスルフェート）次の混合
物を実施例７と同様重合させる。
ＤＭＩ−ＭＡ　　　　　　　２ｓ、１ｔＤＭＡＨＭＡ　
　　　　　　　５．１ｆジメチルスルフエート　　　　
　　２５２ｆアゾビスインブチロニトリル　　　０．１
６ｆジメチルホルムアミド　　　　　７２．８？収率＝
９７％、、ポリマーは水に溶解する。
適用例 以下の実施例中では感光剤を使用し、ＣＭＴＸと略記す
る３−カルボエトキシ−７−メチルチオキサントンは次
の構造式である。
全ての試験は黄色光線下行った。
実施例１０：次の塗布溶液を調整した：実施例４０４級
化ポリマー　　　　　　　　　４．Ｏｆエチレングリコ
ールモノメチルエーテル　　１６０１ＣＭＴＸ　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　０．２００ｆワイヤー
フイルムアプリケーターを用い、この溶液を二重延伸し
た１００縄のポリエステルシート上に２０μｍの湿潤フ
ィルムとなるよう塗布し、８５℃にて２５分間乾燥した
・均一の淡黄色光−感受性層な約３〜４μｍの厚さを有
する。
フィルムを複写機〔オキセ　ヘリオプリント（ＯＣ５Ｈ
ｅ１ｉｏｐｒｉｎｔ　）　３６　％５５　ｔｙｎの距離
を有する１０００Ｗ金属ハライドランプ〕上で試験くさ
びと接触させ露光した。
露光したストリップを、微温水（３５℃）中で３０秒間
、次いで次式： の桑科の２チ水溶液中で３分間浸漬することにより現像
した。
次いでス）　ＩＪツブを流水中で１５分間洗浄し、乾燥
した。４６５μｍにおいて１．７の光学濃度を有する強
烈なオレンジ色の像が得られた。
実施例１１：次の塗布溶液： 実施例６の４級化ポリマー　　　　　　　　４．Ｏｆエ
チレングリコールモノメチルエーテル　１６．ＯｆＣＭ
ＴＸ　　　　　　　　　　　　　　　　　Ｏ，２００ｆ
を実施例１０に記載のようにポリエステル上に塗布し、
露光し、３０℃の水で３０秒間現像、着色した。４６５
μｍにおいて五１の光学濃度を有する強烈なオレンジ像
が得られた。
実施例１２：次の塗布溶液を調整する：実施例Ｚ１のポ
リマー　　　　　　　　　　３．０ｔＣＭＴ、）（［Ｌ
Ｏ６０ｔ この溶液を、ワイヤーフィルムアプリケーターを用い、
プリント回路ボードの製造のために使用される銅張リラ
ミネート上に１２０μｍの厚さの湿潤フィルムとなるよ
う塗布し、４０℃にて２０分間乾燥した。この塗布され
たプリント回路ボードの感光性ポリマ一層の厚さは約３
５μＩｎである。ボードを実施例１０に記載の複写機中
、部分ウェッジを通し２分間露光させ、３０℃の流水中
２分間洗浄することによシ現像した０次いで擦魂箸感光
性耐蝕膜が攻撃されることなく、亜鉛浴中で銅の付着に
よる公知の方法でこのボード上に導線の系列を補強する
ことができる。続いて、感光性耐蝕膜は加塩した５チ水
酸化ナトリウム溶液で処理することによシ取り除くこと
ができる。
実施例１５二次の塗布溶液を調整する：実施例１２のポ
リマー　　　　　　　　　　４．０ｔエチレングリコー
ルモノメチルエーテル　１＆ＯｆＣＭＴＸ　　　　　　
　　　　　　　　　　［Ｌ５２０ｆワイヤーフィルムア
プリケーターを用い、この溶液をプリント回路ボードの
製造に使用する銅張シラミネート上に２０μｍの湿潤厚
さとなるよう塗布し、８５℃にて３分間乾燥した。回路
ボードを実施例１０と同様に６０秒露光し３５℃の水中
にて２分間現像した０次いでプリント導線原型を公知の
方法で塩化鉄（Ｍｌ）を焼付けることにより製造した。
感光性耐蝕膜は苛性アルカリ溶液により攻撃されなかっ
た。これは所望により、加温水酸化す）　ＩＪウム水溶
液で処理することによ−シ取シ除くことができる。
実施例１４：次の塗布溶液を調整する；実施例３で製造
したジメチルホルムア ミド中のポリマー溶液　　　　　　　　　２００ｔＣＭ
ＴＸ　　　　　　　　　　　　　　　　ｏ１４ｏｒクエ
ン酸　　　　　　　　　　　α４２０ｔワイヤーフイル
ムアプリケーターを使用し、−この溶液をプリント回路
ボードの製造のために使用する銅張りラミネート上に１
２０μｍの湿潤フィルム厚さとなるよう塗布し、８５℃
にて２５分間乾燥した。ボードを実施例１０に記載のよ
うに３分間露光し、そしてノ・ンドスプレーを用い３５
℃の水にて２分間現像した。現像した感光性耐蝕膜は次
いで実施例１２のように電流耐蝕膜として使用すること
ができる。これは強酸性亜鉛浴の攻撃によく抵抗し、高
品質プリント導線原型を与える。
特許出願人 チバーガイギー　アクチェンゲゼルシャフト代理人

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 （υ　マレイミジル基および第４級アンモニウム塩を含
    有し、そして少くとも１００００分子量を有する、次式
    ｌ： ■ ２ 〔式中、 Ｒは水素原子またはメチル基を表わし、Ｙは酸累原子ま
    たは−Ｎｌ−１基を表わし、Ａは直鎮または枝分れの炭
    素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、 ［（′および酪は互いに独立して炭素原子数１ないし４
    のアルキル基を表わすか、−緒になってテトラメチレン
    基、ペンタメチレン基または３−オキサペンチレノ基を
    表わし、 Ｄは炭素原子数１ないし４のアルキル基または次式 （式中、ル３はアルキレン基、オキサアルキレン基また
    はベンジレン基を表わし、Ｒ４は水素原子または炭素原
    子数１ないし４のアルキル基を表わし、ル５は炭素原子
    数１８までの２価の脂肪族、環式脂肪族または芳香原炭
    化水素基もしくは２価の脂肪族または芳香族複素瑣式基
    を表わし、Ｒ６はＲ５で定義した意味を有するかまたは
    次式： （式中、Ｘは１ないし２９の値を表わし、Ｒ４は水素原
    子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす）
    で衣、わされる基を表わし、ＴＩお上び′Ｉ′２は互い
    に独立して炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす
    か、−緒になって未置換もしくは炭素原子数１ないし４
    のアルキル基置換のトリメチレンまたはテトラメチレン
    基を表わす）の基を表わし、 Ｚ　けアニオンを表わす〕 で表わされる構造単位を含有するが、ただしＤが炭素原
    子数１ないし４のアルキル基の場合、次式： （式中、Ｔ２は前記の意味を表わす）のマレイミジル基
    を所有する少くとも１個のエチレン性不飽和モノマーの
    構造単位、ならびにマレイミド基を含有しないエチレン
    性不飽和モノマーから誘導された別の構造単位をまた存
    在させることができる、 ホモポリマーまたはコポリマー。 （２）　　ポリマーを基礎として式１の構造単位５ない
    し９０モル％を含有する特許請求の範囲第１項記載のポ
    リマー。 （３）ホリマーを基礎として次式： （式中、′■゛１および１゛２は前記の意味を表わす）
    のマレイミジル基を含有する構造単位１ｏないし１００
    モル％を含有する特ｉｔ′ＦＭ求の範囲第１項記載のポ
    リマー。 （４）　　コモノマーの構造単位として次式：（式中、
    ル　−（４，１（６，［（６およびＴ、は前記の意味を
    表わし、【モアはＲ５で定義した意味を有するかまたは
    −Ｃ−１（，５を表わし、ｙは１または２で１ ある。） で表わされるマレイミジル基を所有するものを含有する
    特許請求の範囲第１項記載のポリマー。 （５）　　α−オレフィン、ビニルハライド、芳香族ビ
    ニル化合物、複素環式ビニル化合物、ビニルケトン、ビ
    ニルエステル、ヒニルエーテルオヨびα、Ｉ−不飽和二
    トリル、カルボン酸エステルおよびカルボ／酌アミドか
    らなるグループから選択されるコモノマーの構造単位を
    特徴とする特許請求の範囲第１項記載のポリマー （６）　脂肪族基としての［（５が炭素原子数１ないし
    １２のアルキレンもしくはオキサアルキレン基、環式脂
    肪族基としてのＨ，５が５または６員環原子を含有し、
    炭素環式芳香族基としてのｉｔｓが炭素原子数６ないし
    １６個を含有し、芳香脂肪族基としてのル５が炭素原子
    ７ないし１６個を含有し、そして複素環式−芳香族基ま
    たは複素環式−脂肪族基としてのＨ，ｓが炭素原子４な
    いし１２個全含有するものである特許請求の範囲第１項
    記載のポリマー。 （７）　　マレイミジル基および第４級アンモニウム塩
    を含有し、そして少くとも１０００の分子層を有する、
    次式ｌ： ■ Ｌ２ 〔式中、 Ｒは水素原子またはメチル基を表わし、Ｙは酸素原子ま
    たは−Ｎｉｌ基を表オフシ、Ａは直鎖または枝分れの炭
    素原子数２ないし６のアルキレ／基を表わし、 Ｒ１およびＰは互いに独立して炭素原子数１ないし４の
    アルキル基を−表わすか、−緒になってテトラメチレン
    基、ぺ／タメチレン基または５−オキサペ／チレ／基を
    表わし、Ｄは炭素原子数１ないし４のアルキｎ−基また
    は次式 （式中、Ｒ３はアルキレ／基、オキサアルキレフ基また
    はべ／ジレン基を表わし、ｌ（，４は水素原子または炭
    素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、師は炭素原
    子数１８までの２価の脂肪族、環式脂肪族または芳香族
    炭化水素基もしくは２価の脂肪族または芳香族複素環式
    基を表わし、ｌ（６は師で定義した意味を有するかまた
    は次式： （式中、Ｘは１ないし２９の値を表わし、１４４は水素
    原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす
    ）で表わされる基を表わし、１゛１およびＴ２は互いに
    独立して炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わすか
    、−緒になって未置換もしくは炭素原子数１ないし４の
    アルキル基置換のトリメチレンまたはテトラメチレン基
    を表わす）の基を表わし、 ｚ、０はアニオンを表わす。〕 で表わされる構造単位を含有するが、ただしＤが炭素原
    子数１ないし４のアルキル基の場合、次式： （式中、′１゛２はｎＩＪ記の意味を表わす）のマレイ
    ミジル基を所有する少くとも１個のエチレン性不飽和モ
    ノマーの構造単位、ならびにマレイミド基を含有しない
    エチレン性不飽和モノマーから誘導された別の構造単位
    をまた存在させることができる、 ホモポリマーまたはコポリマーの＠造において・ ａ）次式■または■： （式中、Ｒ、１−Ｌｌ、　１３，２．　Ｙ　、Ａおよび
    Ｄは前記の意味を表わす） の構造単位を含有するホモポリマーまたはコポリマーを
    、次式： ％式％（２ （式中、Ｒ２，ＤおよびＺは前記の意味を表わす） の４級化試薬と有機溶媒中で反応させるか、ｂ）次式■ ２ （式中、Ｒ，ＦＬＩ、ル２．　Ｙ、Ａ、Ｉ）およびＺは
    前記の意味を表わす） のモノマーを、有機溶媒中ラジカル開始剤の存在下、そ
    れ自体を重合させるかまたはエチレン性不飽和コモノマ
    ーと共に重合させるか、 Ｃ）次式■または■： （式中、Ｒ、）Ｌｌ、Ｒ２，Ｙ　、　ＡおよびＤは前記
    の意味を表わす） のモノマーを、有機溶媒中ラジカル開始剤および式：Ｄ
    Ｚまたはル２Ｚ　（式中、Ｒ，２，ＤおよびＺは前記の
    意味を表わす）の４級化試薬の存在下、それ自体を重合
    させるかまたはエチレン性不飽和コモノマーと共に重合
    させる、 ことからなる製造法。 （８）次式■： ２ 〔式中、 ルは水素原子またはメチル基を表わし、Ｙは酸素原子ま
    たは−Ｎｌ（基を表わし、Ａは直鎖または枝分れの炭素
    原子数２ないし６のアルキレフ基を表わし、 Ｗおよびル′は互いに独立して直鎖または枝分れのアル
    キル基を表わすか、−緒になってテトラメチレン基、ぺ
    ／タメチレン基または５−オキサペンチレノ基を表わし
    、 ＺＯは４級化試薬のアーオ／を表わし、Ｄは炭素原子数
    １ないし４のアルキル基または次式 ％式％ （式中、ＦＬ３はアルキレフ基、オキサアルキレン基ま
    たはベンジレン基を表わし、ル４は水素原子または炭素
    原子数１ないし４のアルキル基を表わし、Ｒ５は炭素原
    子数１８までの２価の脂肪族、環式脂肪族または芳香族
    炭化水素基もしくは２価の脂肪族または芳香族複素環式
    基を表わし、ル６はＲ６で定義した意味を有するかまた
    は次式： （式中、Ｘは１ないし２９の値を表わし、Ｒ，４は水素
    原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす
    ）で表わされる基を表わし、ＴＩおよびＴ２は互いに独
    立して炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わすか、
    −緒になって未置換もしくは炭素原子数１ないし４のア
    ルキル基置換のトリメチレンまたはテトラメチレン基を
    表わす）で表わされるマレイミジル基を表わす。〕 で表わされる化合物。 （９）　　次式■： Ｄ　−Ｚ　　　　　　（ＶＩ９ 〔式中、 Ｚはハロゲン原子、スルホネートまたはスルフェート基
    を表わし、 Ｄは次式： （式中、ル３はアルキレ／基、オキサアルキレフ基また
    はべ／ジレン基を表わし、Ｒ４は水素原子または炭素原
    子数１ないし４のアルキル基を表わし、Ｈ，ｓは炭素原
    子数１８までの２価の脂肪族、環式脂肪族または芳香族
    炭化水素基、もしくは２価の脂肪族または芳香族複葉環
    式基を表わし、此６Ｆｉル５で定義した意味を有するか
    または次式： （式中、Ｘは１ないし２９の値を表わし、Ｒ４は水素原
    子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす）
    で表わされる基を表ｖし、ＴｌおよびＴ２は互いに独立
    して炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わすか、−
    緒になって未置換もしくは炭素原子数１ないし４のアル
    キル基置換のトリメチレンまたはテトラメチレン基を表
    わす）で表わされる基を表わす。〕 で表わされる化合物。 叫　マレイミジル基および第４級アンモニウム塩を含有
    し、そして少くとも１００００分子坦を有する、次式ｌ
    ： ■ ２ 〔式中、 Ｒは水素原子またはメチル基を表わし、Ｙは酸素原子ま
    たは−Ｎｌ（基を表わし、Ａけ直鎖または枝分れの炭素
    原子数２ないし６のアルキレフ基を表わし、 ルーおよび＋ｔＦは互いに独立して炭素原子数１ないし
    ４のアルキル基を表わすか、−緒になってテトラメチレ
    フ基、ペンタメチレン基または５−オキサペ／チレン基
    を表わし、ＤＦｉ炭素原子数１ないし４のアルキル基ま
    ｋは次式 （式中　Ｒ３はアルキレフ基、オキサアルキレフ基また
    はべ／ジレン基を表わし、Ｒ４は水素原子または炭素原
    子数１ないし４のアルキル基を表わし、Ｉ（ｓは炭素原
    子数１８までの２価の脂肪族、環式脂肪族または芳香族
    炭化水素基もしくは２価の脂肪族または一芳香族複素環
    式基を表わし、ル６はＩｔｓで定義した意味を有するか
    または次式： （式中、Ｘは１ないし２９の値を表わし、Ｒ４は水素原
    子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす）
    で表わされる基を表わし、ＴＩおよびＴ、は互いに独立
    して炭素原子数１ないし４つアルキル基を表わすか、−
    緒になって未「（換もしくＶま炭素原子数１ないし４の
    アルキル基置換のトリメチレンまたはテトラメチレン基
    を表わす）の基を表わし、 ＺＯはアニオンを表わす。〕 で表わされる構造単位を含有するが、ただし１〕か炭素
    原子数１ないし４のアルキル基の場合、次式： （式中、Ｔ２は前記の意味を表わす）のマレイミジル基
    を所有する少くとも１個のエチレン性不飽和七ツマ−の
    構造単位、ならびにマレイミド基を含有しないエチレン
    性不飽和コモノマーから誘導された別■構造単位をまた
    存在させることができる、 ホモポリマーまたはコポリマーを、写真記録物質、特に
    グラフィックフィルム、印刷版、印刷回路および１髪も
    度集梢開閉回路のために使用する方法。 αυ　ホモポリマーまたはコポリマーおよび所望により
    慣用される添加剤の層を、直接支持体に施用した写真記
    録物質として使用する特許請求の範囲第１０項記載の方
    法。
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