JPS58213079A - 酸硬化性研摩剤組成物の硬化方法 - Google Patents
酸硬化性研摩剤組成物の硬化方法Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 36
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 27
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 53
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 46
- -1 phenyloxy group Chemical group 0.000 claims description 40
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 37
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 35
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 32
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 17
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 claims description 16
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 14
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 13
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 12
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical group [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 claims description 11
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 7
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000229 (C1-C4)alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229920003987 resole Polymers 0.000 claims description 5
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 3
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 3
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 claims description 3
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 3
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001712 tetrahydronaphthyl group Chemical group C1(CCCC2=CC=CC=C12)* 0.000 claims description 3
- 125000005036 alkoxyphenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 claims description 2
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 claims description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 2
- 241000271566 Aves Species 0.000 claims 1
- 241000219112 Cucumis Species 0.000 claims 1
- 235000015510 Cucumis melo subsp melo Nutrition 0.000 claims 1
- FJJCIZWZNKZHII-UHFFFAOYSA-N [4,6-bis(cyanoamino)-1,3,5-triazin-2-yl]cyanamide Chemical compound N#CNC1=NC(NC#N)=NC(NC#N)=N1 FJJCIZWZNKZHII-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000000043 benzamido group Chemical group [H]N([*])C(=O)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims 1
- 125000006297 carbonyl amino group Chemical group [H]N([*:2])C([*:1])=O 0.000 claims 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 18
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 10
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 8
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 5
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 3
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 3
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 3
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N Acrolein Chemical compound C=CC=O HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000005882 aldol condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 2
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- 125000004343 1-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZIHDWZZSOZGDDK-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydroxy-2-phenylpropanoyl)benzenesulfonic acid Chemical compound OCC(C(C=1C(=CC=CC=1)S(=O)(=O)O)=O)(O)C1=CC=CC=C1 ZIHDWZZSOZGDDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- 125000006040 2-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006024 2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003349 3-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000006043 5-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000270728 Alligator Species 0.000 description 1
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000283986 Lepus Species 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 238000003684 Perkin reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 238000007171 acid catalysis Methods 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000000981 basic dye Substances 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006309 butyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000010981 drying operation Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002085 enols Chemical class 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 125000006253 t-butylcarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(C(*)=O)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005931 tert-butyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(OC(*)=O)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003232 water-soluble binding agent Substances 0.000 description 1
- 125000002256 xylenyl group Chemical class C1(C(C=CC=C1)C)(C)* 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
- C08K5/41—Compounds containing sulfur bound to oxygen
- C08K5/42—Sulfonic acids; Derivatives thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D3/00—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
- B24D3/02—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent
- B24D3/20—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially organic
- B24D3/28—Resins or natural or synthetic macromolecular compounds
-
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- B24D3/20—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially organic
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- B24D3/285—Reaction products obtained from aldehydes or ketones
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明Fi辿蔽硬化触媒を含む酸硬化性樹脂を基剤とす
る酸硬仕性研磨剤組成物を硬化するだめの方法に関する
ものである。
る酸硬仕性研磨剤組成物を硬化するだめの方法に関する
ものである。
磨砕用具としては通常硬い果粒状研磨剤、所望により担
体物質または強化剤を含む組成物を意味し、結合剤と一
緒になって独立した複合材料を形成している。
体物質または強化剤を含む組成物を意味し、結合剤と一
緒になって独立した複合材料を形成している。
典型的な構造的特徴により、研磨具は下記の2つの主な
群すなわち研磨剤ホイール、リング、ポイントのような
磨砕ホイールまたはディスク、および平板状またはシー
ト状担体物質上に形成しだ可撓性研磨剤に類別すること
ができる。
群すなわち研磨剤ホイール、リング、ポイントのような
磨砕ホイールまたはディスク、および平板状またはシー
ト状担体物質上に形成しだ可撓性研磨剤に類別すること
ができる。
平板状担体物質−ヒに形成しだ可撓性研磨剤の場合、非
常に多種類の合成樹脂が結合剤とt、 −c使用される
がしかし、多くの場合フェノ−およびアミノブラストぞ
して1だアルキッド−メラミン樹脂が使用される。
常に多種類の合成樹脂が結合剤とt、 −c使用される
がしかし、多くの場合フェノ−およびアミノブラストぞ
して1だアルキッド−メラミン樹脂が使用される。
これらの研磨剤を製造するためには、液状基剤結合剤の
薄膜および研磨剤粒子を担体物質上に塗布17;次いで
結合剤を乾燥]2、そして研磨剤粒子が以後の処理の間
に移動まだは剥離しなくなるように充分固定される程度
1で熱処理により硬化させる。最終的な塗布結合層は通
常炭酸カルシウムにより満たされ、その後使用されるも
のであり、そして1つ1つの熱処理を行うことにより同
様に硬化され、2つの操作は実行するために数時間を用
する。乾燥および硬化のために相当力時間が必要な理由
は、使用される結合剤が大部分の場合において水性懸濁
液の形態であり、その結果乾燥操作においては最初に懸
濁水が除去されるものであり、そして特に結合剤として
フェノール−ホルムアルデヒド樹脂を使用する場合には
より多くの水の放出が起るのでその結果この水もまだ除
去しなければならない。更に、硬化のためには高温が必
要である。
薄膜および研磨剤粒子を担体物質上に塗布17;次いで
結合剤を乾燥]2、そして研磨剤粒子が以後の処理の間
に移動まだは剥離しなくなるように充分固定される程度
1で熱処理により硬化させる。最終的な塗布結合層は通
常炭酸カルシウムにより満たされ、その後使用されるも
のであり、そして1つ1つの熱処理を行うことにより同
様に硬化され、2つの操作は実行するために数時間を用
する。乾燥および硬化のために相当力時間が必要な理由
は、使用される結合剤が大部分の場合において水性懸濁
液の形態であり、その結果乾燥操作においては最初に懸
濁水が除去されるものであり、そして特に結合剤として
フェノール−ホルムアルデヒド樹脂を使用する場合には
より多くの水の放出が起るのでその結果この水もまだ除
去しなければならない。更に、硬化のためには高温が必
要である。
酸硬化性樹脂の硬化を加速するだめの酸性硬化触媒の使
用はすでに公知であり、例えばp−トルエンスルホン酸
〔これについてはホウベンーヴエイル(Houben
−Weyl )共著、有機化学における方法(Meth
oden der organischen Chem
ie)、14/2巻、第4版(1963)、258頁、
または西ドイツ国特許明細書第2406992号を参照
〕のような有機酸が知られている。しかしながら、酸硬
化性結合剤を基剤とする研磨剤組成物の製造においては
、硬化の段階を加速する触媒としてこのような酸を使用
するととけ、この型の酸がすでに乾燥の間に樹脂層の早
すぎる硬化を起すので不可能である。このことは、樹脂
により捕捉される水または縮合生成物に起因する望捷し
くない気泡の発生をもたらす。
用はすでに公知であり、例えばp−トルエンスルホン酸
〔これについてはホウベンーヴエイル(Houben
−Weyl )共著、有機化学における方法(Meth
oden der organischen Chem
ie)、14/2巻、第4版(1963)、258頁、
または西ドイツ国特許明細書第2406992号を参照
〕のような有機酸が知られている。しかしながら、酸硬
化性結合剤を基剤とする研磨剤組成物の製造においては
、硬化の段階を加速する触媒としてこのような酸を使用
するととけ、この型の酸がすでに乾燥の間に樹脂層の早
すぎる硬化を起すので不可能である。このことは、樹脂
により捕捉される水または縮合生成物に起因する望捷し
くない気泡の発生をもたらす。
乾燥またけ硬化の工程を加速するだめ西ドイツ国特許公
開公報第2444525号中においては、極性有機溶媒
中のフェノール−レゾール結合剤を慣用の水溶性結合剤
の代わりに使用する研磨剤組成物の製造方法がすでに提
案されている。
開公報第2444525号中においては、極性有機溶媒
中のフェノール−レゾール結合剤を慣用の水溶性結合剤
の代わりに使用する研磨剤組成物の製造方法がすでに提
案されている。
しかしながら、この方法は総ての点において要求を満し
てはいない。
てはいない。
特定の場合において、いわゆる迩蔽触媒は硬化段階の開
光線照射により急速に分解し遊離のスルホン酸を生成す
るので、硬化工程を相当に加速および短縮することがで
きる。なおその上、硬化を更に低温で行うことができる
。
光線照射により急速に分解し遊離のスルホン酸を生成す
るので、硬化工程を相当に加速および短縮することがで
きる。なおその上、硬化を更に低温で行うことができる
。
上記の型の硬化触媒の本質的な利点け、乾燥段階の聞は
不活性な化合物であるだめ、これらは結合剤の望ましく
ない前硬化を生じさせないということである。この因子
によって、研磨剤組成物の硬化のために酸触媒を第一に
使用することが可能である。
不活性な化合物であるだめ、これらは結合剤の望ましく
ない前硬化を生じさせないということである。この因子
によって、研磨剤組成物の硬化のために酸触媒を第一に
使用することが可能である。
したがって、本発明の目的は酸硬化性結合剤を含む研磨
剤組成物を硬化するための方法および、硬化触媒として
の、乾燥後の研磨剤組成物を光線照射して硬化させる工
程において光線の作用により遊離される有機スルホン酸
である。
剤組成物を硬化するための方法および、硬化触媒として
の、乾燥後の研磨剤組成物を光線照射して硬化させる工
程において光線の作用により遊離される有機スルホン酸
である。
迩蔽硬化触媒として特に興味のあるものとしては次式!
および■: (I)(損 〔式中、 nけ1ないし2であり、 R1け未置換または例えば以下の群ニーCt、−Br、
−CN基、−NO□基、炭素原子数1ないし12のアル
キル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、フェニ
ルオキシ基、トリルオキシ基、フエ子数1ないし4のア
ルキルスルホニル基、フェニルスルホニル基、炭素原子
数2ないし4のアル:+ + 7カルボニル基、炭素原
子数1ないし4のアルキルアミノ基、炭素原子数2ない
し4のジアルキルアミノ基、フェニル−CONH−基ま
たは炭素原子数1ないし4のアルキル−CONH−基ま
たはベンゾイル基よりなる群より選択された基1個、2
個または3個により置換されたフェニルまだはナフチル
基を表わすか、またけR1ケアントリル基、フェナント
リル基、チェニル基、ピリジル基、フリル基、インドリ
ル基またはテトラヒドロナフチル基を表わし、そして 鳥およびルは互いに独立して各々水素原子、まだは未置
換まだは例えば−〇H基、−Ct$、炭素原子数1ない
し4のアルコキシ基、−CN基、炭素原子数2ないし5
のアルコキシカルボニル基、フェニル基、クロロフェニ
ル基、炭素原子数7ないし10のアルキル−フェニル基
tたけ炭素原子数7ないし10のアルコキシフェニル基
によって置換された炭素原子数1ないし8のアルキル基
、まだは更にこれらはベンゾイル基を表わし、 R3け未置換または例えば−Ct、炭素原子数1ないし
4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基
または炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基により置
換されたフェニル基を表わすか、まだは炭素原子数2な
いし8のアルコキシカルボニル基、−CN基、炭素原子
数1ないし4のアルキル−NH−Co−基、フェニル−
NH−Co−基まだは一〇〇NH2基を表わすか、まだ
は 馬および鳥はこれらが結合している炭素原子と一緒にな
って炭素原子数4ないしるのシクロアルキル環を形成し
、 R4けnが1fある場合には、炭素原子数1ないし18
のアルキル基、未置換まだは例えばハロゲン原子・炭素
原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし
4のアルコキシ基、炭素原子数1ないし4のアルキル−
CONH−基、フェ= ルーC0NH基、−NO2Mま
たはベンゾイル基により置換されたフェニル基を表わす
が、まだは未置換または例えばハロゲン原子、炭素原子
数1ないし12のアルキル基まだは炭素原子数1ないし
4のアルコキシ基により置換されたナフチル基を表わす
か、まだは炭素原子数5ないし6のシクロアルキル基、
炭素原子数7ないし9のアルアルキル基、カルボニル基
、−CF3基、−CCt3基、−F某または−NH2基
を表わし、そして R4け、nが2である場合にけ−(CH2)□−基C式
中mけ2ないし8である。)を表わすかまだは各々未置
換捷たは例えば炭素原子数1ないし12のアルキル基に
よって置換されたフェニレンまたはナフチレン基を表わ
し、 R5け、各々未置換または以下の群: −Ct華、−B
r事、炭素原子数1ないし12のアルキル基、フェニル
基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、フェニルオ
キシ基、ベンジルオキシ基、炭素原子数1ないし8のア
ルキルチオ基、フェニルチオ基、−8CH2C)I20
H基、炭素原子数1ないし4のアルキル−C0NH−基
、ベンゾイルアミノ基まだはジメチルアミノ基またはベ
ンゾイル基よりなる群から選択された基1個、2個また
は3個により置換されたフェニルまたはナフチル基を表
わすか、まだけR5はアントリル基またはフェナントリ
ル基を表わし、 也は水素原子、−〇H基、炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基、−O8i (CH3)3基、−〇COCH3
基まだは未置換まだはフェニル基により置換された炭素
原子数1ないし8のアルキル基を表わし、 馬は水素原子、または未置換またはフェニル基によね置
換された炭素原子数1ないし8のアルキル基を表わすか
または馬は一〇N基、ベンゾイル基、炭素原子数1ない
し4のアルキルカルボニル基、炭素原子数2ないし5の
アルコキシカルボニル基またはフェニル基を表わし、八
は水素原子、未置換まだは一〇H基、−Ctまだはフェ
ニル基により置換された炭素原子数1ないし8のアルキ
ル基を表わすか、または未置換まだは一〇H基、−Ct
8、炭素原子数1ないし4のアルキル基または炭素原子
数1ないし4のアルコキシ基により置換されたフェニル
基を表わすか、甘だけ鳥は炭素原子数2ないし6のアル
ケニル基、炭素原子数8ないし9のフェニルアルケニル
基、フリル基、チェニル基または−CC43基を表わす
か、まだけ飽和まだは不飽和の炭素原子数5ないし乙の
シクロアルキル基ヲ表わし、更に 馬とRり、馬と鳥まだは鳥とR7は、これらが結合して
いる炭素構造と一緒になって月下の群ニーCH2−基、
−CH(CH3)−基、−C(CH3)2 M、−〇
−基、−s−基、−so−g、−5o2−基、−CO−
基、個ないし5個を含む5−またけ6−員環を形成する
。〕で表わされる有機化合物である01(、IおよびR
5としてのフェニル基およびナフチル基が炭素原子数1
ないし12のアルキル基により置換された場合は、これ
らは例えばメチル基、エチル基、n−プロヒル基、イン
プロピル基、n−ブチル基、第ニブチル基、第三ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基
、ノニル基、デシル基まだはドデシル基、しかしながら
特に好ましくけメチル基のような直鎖または分岐鎖置換
基を表わす。R+、およびR5としてのフェニル基およ
びナフチル基が炭素原子数1ないし4のアルコキシ基に
より置換サレタ場合は、これらは例えばメトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基まだは第三ブトキシ基を表わす
。
および■: (I)(損 〔式中、 nけ1ないし2であり、 R1け未置換または例えば以下の群ニーCt、−Br、
−CN基、−NO□基、炭素原子数1ないし12のアル
キル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、フェニ
ルオキシ基、トリルオキシ基、フエ子数1ないし4のア
ルキルスルホニル基、フェニルスルホニル基、炭素原子
数2ないし4のアル:+ + 7カルボニル基、炭素原
子数1ないし4のアルキルアミノ基、炭素原子数2ない
し4のジアルキルアミノ基、フェニル−CONH−基ま
たは炭素原子数1ないし4のアルキル−CONH−基ま
たはベンゾイル基よりなる群より選択された基1個、2
個または3個により置換されたフェニルまだはナフチル
基を表わすか、またけR1ケアントリル基、フェナント
リル基、チェニル基、ピリジル基、フリル基、インドリ
ル基またはテトラヒドロナフチル基を表わし、そして 鳥およびルは互いに独立して各々水素原子、まだは未置
換まだは例えば−〇H基、−Ct$、炭素原子数1ない
し4のアルコキシ基、−CN基、炭素原子数2ないし5
のアルコキシカルボニル基、フェニル基、クロロフェニ
ル基、炭素原子数7ないし10のアルキル−フェニル基
tたけ炭素原子数7ないし10のアルコキシフェニル基
によって置換された炭素原子数1ないし8のアルキル基
、まだは更にこれらはベンゾイル基を表わし、 R3け未置換または例えば−Ct、炭素原子数1ないし
4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基
または炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基により置
換されたフェニル基を表わすか、まだは炭素原子数2な
いし8のアルコキシカルボニル基、−CN基、炭素原子
数1ないし4のアルキル−NH−Co−基、フェニル−
NH−Co−基まだは一〇〇NH2基を表わすか、まだ
は 馬および鳥はこれらが結合している炭素原子と一緒にな
って炭素原子数4ないしるのシクロアルキル環を形成し
、 R4けnが1fある場合には、炭素原子数1ないし18
のアルキル基、未置換まだは例えばハロゲン原子・炭素
原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし
4のアルコキシ基、炭素原子数1ないし4のアルキル−
CONH−基、フェ= ルーC0NH基、−NO2Mま
たはベンゾイル基により置換されたフェニル基を表わす
が、まだは未置換または例えばハロゲン原子、炭素原子
数1ないし12のアルキル基まだは炭素原子数1ないし
4のアルコキシ基により置換されたナフチル基を表わす
か、まだは炭素原子数5ないし6のシクロアルキル基、
炭素原子数7ないし9のアルアルキル基、カルボニル基
、−CF3基、−CCt3基、−F某または−NH2基
を表わし、そして R4け、nが2である場合にけ−(CH2)□−基C式
中mけ2ないし8である。)を表わすかまだは各々未置
換捷たは例えば炭素原子数1ないし12のアルキル基に
よって置換されたフェニレンまたはナフチレン基を表わ
し、 R5け、各々未置換または以下の群: −Ct華、−B
r事、炭素原子数1ないし12のアルキル基、フェニル
基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、フェニルオ
キシ基、ベンジルオキシ基、炭素原子数1ないし8のア
ルキルチオ基、フェニルチオ基、−8CH2C)I20
H基、炭素原子数1ないし4のアルキル−C0NH−基
、ベンゾイルアミノ基まだはジメチルアミノ基またはベ
ンゾイル基よりなる群から選択された基1個、2個また
は3個により置換されたフェニルまたはナフチル基を表
わすか、まだけR5はアントリル基またはフェナントリ
ル基を表わし、 也は水素原子、−〇H基、炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基、−O8i (CH3)3基、−〇COCH3
基まだは未置換まだはフェニル基により置換された炭素
原子数1ないし8のアルキル基を表わし、 馬は水素原子、または未置換またはフェニル基によね置
換された炭素原子数1ないし8のアルキル基を表わすか
または馬は一〇N基、ベンゾイル基、炭素原子数1ない
し4のアルキルカルボニル基、炭素原子数2ないし5の
アルコキシカルボニル基またはフェニル基を表わし、八
は水素原子、未置換まだは一〇H基、−Ctまだはフェ
ニル基により置換された炭素原子数1ないし8のアルキ
ル基を表わすか、または未置換まだは一〇H基、−Ct
8、炭素原子数1ないし4のアルキル基または炭素原子
数1ないし4のアルコキシ基により置換されたフェニル
基を表わすか、甘だけ鳥は炭素原子数2ないし6のアル
ケニル基、炭素原子数8ないし9のフェニルアルケニル
基、フリル基、チェニル基または−CC43基を表わす
か、まだけ飽和まだは不飽和の炭素原子数5ないし乙の
シクロアルキル基ヲ表わし、更に 馬とRり、馬と鳥まだは鳥とR7は、これらが結合して
いる炭素構造と一緒になって月下の群ニーCH2−基、
−CH(CH3)−基、−C(CH3)2 M、−〇
−基、−s−基、−so−g、−5o2−基、−CO−
基、個ないし5個を含む5−またけ6−員環を形成する
。〕で表わされる有機化合物である01(、IおよびR
5としてのフェニル基およびナフチル基が炭素原子数1
ないし12のアルキル基により置換された場合は、これ
らは例えばメチル基、エチル基、n−プロヒル基、イン
プロピル基、n−ブチル基、第ニブチル基、第三ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基
、ノニル基、デシル基まだはドデシル基、しかしながら
特に好ましくけメチル基のような直鎖または分岐鎖置換
基を表わす。R+、およびR5としてのフェニル基およ
びナフチル基が炭素原子数1ないし4のアルコキシ基に
より置換サレタ場合は、これらは例えばメトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基まだは第三ブトキシ基を表わす
。
R,およびR5としてのフェニル基およびナフチル基が
炭素原子数1ないし8のアルキルチオ基により置換され
た場合は、これらは例えオクチル基、エチルM% n−
プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、第ニブチ
ル基、第三ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチ
ル基マたはオクチル基、特に好ましくけメチルチオ基の
ような直鎖まだは分岐鎖置換基を表わす。
炭素原子数1ないし8のアルキルチオ基により置換され
た場合は、これらは例えオクチル基、エチルM% n−
プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、第ニブチ
ル基、第三ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチ
ル基マたはオクチル基、特に好ましくけメチルチオ基の
ような直鎖まだは分岐鎖置換基を表わす。
R1が炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基または
炭素原子数2ないし4のジアルキルアミノ基により置換
されたフェニル基、またはナフチル基を表わす場合は、
それは例えばメチル−、エチル−、プロピル−まだけn
−ブチルアミノ基またはジメチル−またはジエチルアミ
ノ置換基を表わす。
炭素原子数2ないし4のジアルキルアミノ基により置換
されたフェニル基、またはナフチル基を表わす場合は、
それは例えばメチル−、エチル−、プロピル−まだけn
−ブチルアミノ基またはジメチル−またはジエチルアミ
ノ置換基を表わす。
塊としてのフェニル基またはナフチル基が炭素原子数1
ないし4のアルキルスルホニル基により置換された場合
は、これは例えばメチル−、エチル−、プロピル−、ブ
チル−1または第三ブチルスルホニル基を表ワス。
ないし4のアルキルスルホニル基により置換された場合
は、これは例えばメチル−、エチル−、プロピル−、ブ
チル−1または第三ブチルスルホニル基を表ワス。
R1として表わされたフェニル基またはナフチル基が炭
素原子数1ないし4のアルキル−CONH−により置換
された場合は、置換基は例えばメチル−、エチル−、プ
ロピル−1kFin−1チル1− C0NH−を表わす
OR4としてのフェニル基が炭素原子数1ないし4のア
ルキル−CONH−基を含む場合は、置換基は例えばメ
チル−、エチル−、プロピル−まだはn−ブチル−〇〇
NH−基を表わす。
素原子数1ないし4のアルキル−CONH−により置換
された場合は、置換基は例えばメチル−、エチル−、プ
ロピル−1kFin−1チル1− C0NH−を表わす
OR4としてのフェニル基が炭素原子数1ないし4のア
ルキル−CONH−基を含む場合は、置換基は例えばメ
チル−、エチル−、プロピル−まだはn−ブチル−〇〇
NH−基を表わす。
FLlがチェニル基、ピリジル基、7リル基、インドリ
ル基ま九はテトラヒドロナフチル基を表わす場合は、総
ての位置異性体が考慮される。
ル基ま九はテトラヒドロナフチル基を表わす場合は、総
ての位置異性体が考慮される。
しかしながら、好ましい位置異性体としては、2−チェ
ニル基、3−ピリジル基、2−フリル基、5−インドリ
ルまたは1.2.5.4 −テトラヒドロ−6−ナフチ
ル基が挙げられる。
ニル基、3−ピリジル基、2−フリル基、5−インドリ
ルまたは1.2.5.4 −テトラヒドロ−6−ナフチ
ル基が挙げられる。
炭素原子数1ないし8のアルキル基として、R,、R,
3,R,およびR畠は直鎖または分岐鎖アルキル基、し
かしながら好ましくは例えばメチル基、エチル基、n−
プロピル基またはn−ブチル基のような炭素原子数1な
いし4の直鎖アルキル基を表わす。
3,R,およびR畠は直鎖または分岐鎖アルキル基、し
かしながら好ましくは例えばメチル基、エチル基、n−
プロピル基またはn−ブチル基のような炭素原子数1な
いし4の直鎖アルキル基を表わす。
R1およびR3が炭素原子数1ないし8のアルキル基の
場合、およびR4が炭素原子数1ないし4のアルコキク
基によシ置換されたフェニル基またはす7チル基の場合
、そしてR@が炭素原子数1ないし4のアルコキシ基の
場合は、これらは例えばメトキシ、エトキシ、プロポキ
シま九は第三ブトキシ置換基を表わす。
場合、およびR4が炭素原子数1ないし4のアルコキク
基によシ置換されたフェニル基またはす7チル基の場合
、そしてR@が炭素原子数1ないし4のアルコキシ基の
場合は、これらは例えばメトキシ、エトキシ、プロポキ
シま九は第三ブトキシ置換基を表わす。
2
R2および■t3としての炭素原子数1ないし8のアル
キル基が炭素原子数7ないし10のアルキルフェニル基
または炭素原子数7ないし10のアルコメジフェニル基
により置換された場合は、置換基は例えばメチル−、メ
トキシ−、エテル−エトキシ−1第三ブチル−または第
三ブトキシフェニル基を表わす。
キル基が炭素原子数7ないし10のアルキルフェニル基
または炭素原子数7ないし10のアルコメジフェニル基
により置換された場合は、置換基は例えばメチル−、メ
トキシ−、エテル−エトキシ−1第三ブチル−または第
三ブトキシフェニル基を表わす。
R8が炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基により置
換されたアルキル基を表わす場合は、置換基は例えばメ
チル−、エチル−、プロピル−および第三ブチルチオ基
金表わす。
換されたアルキル基を表わす場合は、置換基は例えばメ
チル−、エチル−、プロピル−および第三ブチルチオ基
金表わす。
R,およびRsが、これらが結合しているC原子と一緒
になって炭素原子数4ないし6のシクロアルギル環を形
成する場合は、それは例えハシクロペンタン、シクロヘ
キサンマタハシクロヘブタン環、しかしながら特に好ま
しくはシクロヘキサン環を表わす。
になって炭素原子数4ないし6のシクロアルギル環を形
成する場合は、それは例えハシクロペンタン、シクロヘ
キサンマタハシクロヘブタン環、しかしながら特に好ま
しくはシクロヘキサン環を表わす。
nが1であり、几4が炭素原子数1ないし18のアルキ
ル基を表わす場合は、それは例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、イノプロピル2丁( 基、ブチル基、第三ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基
、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、2−
エチルヘキシル基、ウンデシル基、ドデシル基、第三ド
デシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシ
ル基またはオクタデシル基を表わす。
ル基を表わす場合は、それは例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、イノプロピル2丁( 基、ブチル基、第三ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基
、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、2−
エチルヘキシル基、ウンデシル基、ドデシル基、第三ド
デシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシ
ル基またはオクタデシル基を表わす。
R4が炭素原子数1ないし12のアルキル基によ多置換
されたフェニル基またはナフチル基を表わす場合は、そ
れは直鎖または分社蛸アルキル基を表わす。
されたフェニル基またはナフチル基を表わす場合は、そ
れは直鎖または分社蛸アルキル基を表わす。
R4が炭素原子数5ないし6のシクロアルキル基を表わ
す場合は、それはシクロペンチル基およびシクロヘキシ
ル基を表わす。
す場合は、それはシクロペンチル基およびシクロヘキシ
ル基を表わす。
R4が炭素原子数7ないし9のアルアルキル基を表わす
場合は、それは例えば1−フェニルエチル基、2−フェ
ニルエチル基またはベンジル基を表わす。
場合は、それは例えば1−フェニルエチル基、2−フェ
ニルエチル基またはベンジル基を表わす。
R4がカンフェリル基を表わす場合は、それ □は1
0−カンフェリル基を表わす。
0−カンフェリル基を表わす。
nが2であり、R4が−(C)(、)m−基を表4
わす場合は、それは例えばエチレン基、プロピレン基、
ブチレン基、ペンチレン基またはへキサメチレン基を表
わす。
ブチレン基、ペンチレン基またはへキサメチレン基を表
わす。
フェニレン基およびす7タレン基が炭素原子数1表いし
12のアルキル基により置換された場合は、それらは直
鎖または分岐鎖アルキル基を表わす。
12のアルキル基により置換された場合は、それらは直
鎖または分岐鎖アルキル基を表わす。
基R,、R,ないしR,、R,およびR1中の個々のフ
ェニル基が水素原子以外の基によ多置換された場合は、
との置換はオルト−、メタ−またはバラ−位、特にバラ
−位に起る。
ェニル基が水素原子以外の基によ多置換された場合は、
との置換はオルト−、メタ−またはバラ−位、特にバラ
−位に起る。
R,、R7およびR8がフェニル基により置換された炭
素原子数1ないし8のアルキル基を表わす場合は、それ
らは例えばベンジルまたはフェニルエチル基を表わす。
素原子数1ないし8のアルキル基を表わす場合は、それ
らは例えばベンジルまたはフェニルエチル基を表わす。
R7が炭素原子数1ないし4のアルキルカルボニル基を
表わす場合は、置換基は例えばメチル−、エチル−、プ
ロピル−または第三ブチル−カルボニル基を表わす。
表わす場合は、置換基は例えばメチル−、エチル−、プ
ロピル−または第三ブチル−カルボニル基を表わす。
R1が炭素原子数2ないし5のアルコキシ力2ニア)
ルボニル基を表わす場合は、置換基は例えばメトキシ−
、エトキシ−、イソプロポキシ−、ブトキシ−または第
三ブトキシ−カルボニル基ヲ表わす。
、エトキシ−、イソプロポキシ−、ブトキシ−または第
三ブトキシ−カルボニル基ヲ表わす。
R8が炭素原子数1ないし4のアルキル基または炭素原
子数1ないし4のアルコキシ基にょ)g!換されたフェ
ニル基を表わす場合は、置換基はメチル基、エチル基、
n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基または
第三ブチル基またはメトキシ基、エトキシ基、n−プ筒
ポキシ基、イソプロポ中シ基、n−ブトキシ基または第
三ブトキシ基を表わす。
子数1ないし4のアルコキシ基にょ)g!換されたフェ
ニル基を表わす場合は、置換基はメチル基、エチル基、
n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基または
第三ブチル基またはメトキシ基、エトキシ基、n−プ筒
ポキシ基、イソプロポ中シ基、n−ブトキシ基または第
三ブトキシ基を表わす。
几−が炭素原子数2ないし6のフルノニル基を表わす場
合には、それは例えばビニル基、1−プロベニル基、2
−プロペニル&、(ソプロベニル基、2−ブテニル基、
インブテニル基、2−ペンテニル基、2−へキセニル基
まタハ5−へキセニル基、しかしながら特に好ましくは
ビニル基、イソブテニル基ま九は1−プロペニル基を表
わす。
合には、それは例えばビニル基、1−プロベニル基、2
−プロペニル&、(ソプロベニル基、2−ブテニル基、
インブテニル基、2−ペンテニル基、2−へキセニル基
まタハ5−へキセニル基、しかしながら特に好ましくは
ビニル基、イソブテニル基ま九は1−プロペニル基を表
わす。
2(1
Rsが炭素原子数8ないし9のフェニルアルケニル基を
表わす場合には、置換基はスチリル基または5−フェニ
ルプロペニル基、しかしながら特に好ましくはスチリル
基を表わす。
表わす場合には、置換基はスチリル基または5−フェニ
ルプロペニル基、しかしながら特に好ましくはスチリル
基を表わす。
R8がフリル基またはチェニル基を表わす場合は、総て
の位置異性体が考慮される。しかしながら、好ましい位
置異性体は2−フリル基および2−チェニル基でおる。
の位置異性体が考慮される。しかしながら、好ましい位
置異性体は2−フリル基および2−チェニル基でおる。
R1が炭素原子数5ないし6の不飽和シクロアルキル基
である場合は、それは例えば2−シクロペンテン−1−
イル、1−シクロヘキセン−1−(ルtたは3−7クロ
ヘキセンー1−イルを表わす。
である場合は、それは例えば2−シクロペンテン−1−
イル、1−シクロヘキセン−1−(ルtたは3−7クロ
ヘキセンー1−イルを表わす。
式■および式■で表わされる硬化触媒の内、特に好まし
いものとしては、上記式中nが1であシ、そしてR,が
未置換または例えば塩素原子、メチル基、メトキシ基、
メチルチオ基、)工二ルチオ基、−8CH,CH,OH
基”! fr:−ハヘンゾイル基により置換されたフェ
ニル基を表わし、R1が水素原子または炭素原子数1な
いし4の2′し1 アルキル基を表わし、R’mが水素原子または炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表わすかまたはR,および
R3が、これらが結合している炭素原子と一緒になって
シクロヘキサン環を形成し、R4が炭素原子数1ないし
18のアルキル基、各々未置換または炭素原子数1ない
し12のアルキル基によジ置換されたフェニルまたはナ
フチル基を表わすかまたはカンフェリル基を表わし、R
I+が未置換または−Ct考s炭素原子数1ないし4の
アルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、−
8CH,基ま九はフェニル基により置換されたフェニル
基を表わし、R6が一〇H基または炭素原子数1ないし
4のアルキル基を表わし、Rγが炭素原子数1ないし4
のアルキル基またはフェニル基を表わし、そしてR,が
−H蟇、炭素原子数1ないし4のアルキル基、フリル基
または−CCV、基を表わすかまたは、R7とR8が、
それらが結合している炭素原子と一緒になってシクロヘ
キサン環を表わすものが挙げられる。
いものとしては、上記式中nが1であシ、そしてR,が
未置換または例えば塩素原子、メチル基、メトキシ基、
メチルチオ基、)工二ルチオ基、−8CH,CH,OH
基”! fr:−ハヘンゾイル基により置換されたフェ
ニル基を表わし、R1が水素原子または炭素原子数1な
いし4の2′し1 アルキル基を表わし、R’mが水素原子または炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表わすかまたはR,および
R3が、これらが結合している炭素原子と一緒になって
シクロヘキサン環を形成し、R4が炭素原子数1ないし
18のアルキル基、各々未置換または炭素原子数1ない
し12のアルキル基によジ置換されたフェニルまたはナ
フチル基を表わすかまたはカンフェリル基を表わし、R
I+が未置換または−Ct考s炭素原子数1ないし4の
アルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、−
8CH,基ま九はフェニル基により置換されたフェニル
基を表わし、R6が一〇H基または炭素原子数1ないし
4のアルキル基を表わし、Rγが炭素原子数1ないし4
のアルキル基またはフェニル基を表わし、そしてR,が
−H蟇、炭素原子数1ないし4のアルキル基、フリル基
または−CCV、基を表わすかまたは、R7とR8が、
それらが結合している炭素原子と一緒になってシクロヘ
キサン環を表わすものが挙げられる。
2′〈
式Iおよび式■で表わされる硬化触媒の内、更に特別に
好ましいものとしては、上記式中nが1であり%R1お
よびR1,が各々フェニル基、p−トリル基またはp−
メチルチオフェニル基を表わし、R1が水素原子を表わ
し、R3がメチル基、イングロビル基、n−デシル基ま
たはベンジル基を表わし、R4がフェニル基、p−トリ
ル基まだはp −n−ドデシルフェニル基を表わし、R
6が一〇H基を表わし、R7が−CH3基寸たはフェニ
ル基を表わし、そして几、が−H=4;を表わすものが
挙げられる。
好ましいものとしては、上記式中nが1であり%R1お
よびR1,が各々フェニル基、p−トリル基またはp−
メチルチオフェニル基を表わし、R1が水素原子を表わ
し、R3がメチル基、イングロビル基、n−デシル基ま
たはベンジル基を表わし、R4がフェニル基、p−トリ
ル基まだはp −n−ドデシルフェニル基を表わし、R
6が一〇H基を表わし、R7が−CH3基寸たはフェニ
ル基を表わし、そして几、が−H=4;を表わすものが
挙げられる。
式■で表わされる化合物は公知であり、そして公知の方
法、例えば次式間: 瞥 3 で表わされる対応するヒドロキシ化合物を次式(): %式%( )(1 で表わされる対応するモノ−またはジ−スルホン酸クロ
リドと当量または半当量で塩基存在下に反応させること
により〔これに関してはジャーナル オブ ザ ケミカ
ル ソサエティ パーキン1 (Journal of
the Chemical 5ociety Per
kin l ) 。
法、例えば次式間: 瞥 3 で表わされる対応するヒドロキシ化合物を次式(): %式%( )(1 で表わされる対応するモノ−またはジ−スルホン酸クロ
リドと当量または半当量で塩基存在下に反応させること
により〔これに関してはジャーナル オブ ザ ケミカ
ル ソサエティ パーキン1 (Journal of
the Chemical 5ociety Per
kin l ) 。
1981、265頁を参照〕;またけ次式(C):r
で表わされる対応する臭素銹導体を次式(0:%式%(
11) で表わされる対応するモノ−またはジスルホン酸誘導体
の銀塩の1またはい当量と例えばUdS8Rのジャーナ
ル オプ オーガニックケミストリー(Journal
of Organic Chemistry)。
11) で表わされる対応するモノ−またはジスルホン酸誘導体
の銀塩の1またはい当量と例えばUdS8Rのジャーナ
ル オプ オーガニックケミストリー(Journal
of Organic Chemistry)。
8巻、 2166頁(1972)記載の方法に従って
反応させることによシ製造することができる。
反応させることによシ製造することができる。
武人、(B)iQおよび口において、記号R1ない;3
0 しR14およびnは先に本文中において定義されたもの
と同じ意味を表わす。
0 しR14およびnは先に本文中において定義されたもの
と同じ意味を表わす。
式(A)、 (B)、 (Qおよび(Dで表わされる中
間体は公知の方法、例えば式(qで表わされる化合物に
専 ツイテはHouben−Weyl著、 Methode
n der Organi −5chen Che+n
ie 、 Vl 4巻、171ないし189頁;式(B
lで表わされる化合物については同着の■巻。
間体は公知の方法、例えば式(qで表わされる化合物に
専 ツイテはHouben−Weyl著、 Methode
n der Organi −5chen Che+n
ie 、 Vl 4巻、171ないし189頁;式(B
lで表わされる化合物については同着の■巻。
411頁またけ563頁;そして酸量で表わされる化合
物に対しては参照A 、 526 、145164(1
936)、 Am、8oc、R6、4402(1954
) またはZ 、 obsc 、 Ch im 、旦、
3165 (1964)。中に記載された方法により製
造することができる。
物に対しては参照A 、 526 、145164(1
936)、 Am、8oc、R6、4402(1954
) またはZ 、 obsc 、 Ch im 、旦、
3165 (1964)。中に記載された方法により製
造することができる。
式(「)で表わされる化合物は公知でアシ、そして公知
方法例えば次式(匂: H で表わされる対応するエポキシ化合物を次式(0:%式
%( で表わされる対応するモノスルホン酸の1当量と、また
は次式(G): HO3S−R4−80,H(Gl で表わされるジスルホン酸誘導体の1/2当量と例えば
Ber、Deutsch、Chem、Ges、69.
2753(1936)、およびJ、Chem、Soc、
1949. 515中に記載された方法により反応さ
せることによりまたは次式: で表わされる対応するヒドロキシル化合物を次式: %式% の各々で表わされるモノ−またはジスルホン酸 □と
、西ドイツ国特許公開公報第1919678号中に記載
された方法に従って反応させることによ12 シ製造することができる。
方法例えば次式(匂: H で表わされる対応するエポキシ化合物を次式(0:%式
%( で表わされる対応するモノスルホン酸の1当量と、また
は次式(G): HO3S−R4−80,H(Gl で表わされるジスルホン酸誘導体の1/2当量と例えば
Ber、Deutsch、Chem、Ges、69.
2753(1936)、およびJ、Chem、Soc、
1949. 515中に記載された方法により反応さ
せることによりまたは次式: で表わされる対応するヒドロキシル化合物を次式: %式% の各々で表わされるモノ−またはジスルホン酸 □と
、西ドイツ国特許公開公報第1919678号中に記載
された方法に従って反応させることによ12 シ製造することができる。
式(矧、 (′F′Iおよび(Q中の記号R,、R61
R7,R。
R7,R。
およびR4は先に本文中において定義されたものと同じ
意味を表わす。
意味を表わす。
式(匂で表わされる必要なエポキシ化合物は公知方法、
例えば次式日: 1 R,、−C−CH,−4,()1 で表わされる対応する化合物を塩素化して次式(6): %式%() で表わされる対応する塩素誘導体とし、次いで次式(I
J : 1 R,、−C−H(匂 3 で表わされる対応するアルデヒドと縮合反応させて式(
ト)で表わされる対応するエポキシ化合物とするか〔こ
れに関してはChem 、 Soc 、 75.204
2(1955)を参照〕;または式(転)で表わされる
対応する化合物を犬山で表わされる対応するアルデヒド
とアルドール縮合させ次式M: で表わされる対応する化合物とし、次いで例えば過酸化
水素と反応させることにより対応する式(ト)で表わさ
れるエポキシ化合物とすることによシ製造することがで
きる〔これに関しては、アルドール縮合についてはJ、
Chem、Soc、 79 。
例えば次式日: 1 R,、−C−CH,−4,()1 で表わされる対応する化合物を塩素化して次式(6): %式%() で表わされる対応する塩素誘導体とし、次いで次式(I
J : 1 R,、−C−H(匂 3 で表わされる対応するアルデヒドと縮合反応させて式(
ト)で表わされる対応するエポキシ化合物とするか〔こ
れに関してはChem 、 Soc 、 75.204
2(1955)を参照〕;または式(転)で表わされる
対応する化合物を犬山で表わされる対応するアルデヒド
とアルドール縮合させ次式M: で表わされる対応する化合物とし、次いで例えば過酸化
水素と反応させることにより対応する式(ト)で表わさ
れるエポキシ化合物とすることによシ製造することがで
きる〔これに関しては、アルドール縮合についてはJ、
Chem、Soc、 79 。
928 (1901)およびOrg 、 5ynthe
ses 60 、 88(1981) 、そしてエポキ
シ鰐導体の調製についてはJ、Org、Cha′n、2
8.250 (1963) またはOrg、5ynt
hases 55. (1967) を参照〕。
ses 60 、 88(1981) 、そしてエポキ
シ鰐導体の調製についてはJ、Org、Cha′n、2
8.250 (1963) またはOrg、5ynt
hases 55. (1967) を参照〕。
式日、(6)、(匂および割において、記号Rs 、B
ylt、5 およびR8は先に本文中において定義されたものと同じ
意味を表わす。
ylt、5 およびR8は先に本文中において定義されたものと同じ
意味を表わす。
Organischen Chemie 、 D(巻、
547ないし435 頁中に記載された方法によ如製造
することができる。
547ないし435 頁中に記載された方法によ如製造
することができる。
更に本発明の方法においては遮蔽硬化触媒を使用するこ
とができる。この例としては、西ドイツ国特許公開公報
第1919678号中に記載さレタα−メチロールベン
ゾインスルホン酸エステル、西ドイツ国特許公開公報第
2842002号中に記載された4−ベンゾイル−4−
7エエヤー2−オキンー1.3.2−ジオキサチオラン
、および例えばヨーロッパ特許願第5865δ 号中に
記載され九N−スルホニルオキシイオドが挙げられる。
とができる。この例としては、西ドイツ国特許公開公報
第1919678号中に記載さレタα−メチロールベン
ゾインスルホン酸エステル、西ドイツ国特許公開公報第
2842002号中に記載された4−ベンゾイル−4−
7エエヤー2−オキンー1.3.2−ジオキサチオラン
、および例えばヨーロッパ特許願第5865δ 号中に
記載され九N−スルホニルオキシイオドが挙げられる。
本発明において使用可能な硬化触媒は硬化のために充分
な量を樹脂中に加える。必要量は樹脂の型のみに依存す
るのみならず硬化温度およJ(’i び硬化時間にもまた影響される。一般的に使用される硬
化触媒量は溶媒を含まない樹脂に対して0.1ないし1
0重itチ、好ましくは[R5ないし5重量%である。
な量を樹脂中に加える。必要量は樹脂の型のみに依存す
るのみならず硬化温度およJ(’i び硬化時間にもまた影響される。一般的に使用される硬
化触媒量は溶媒を含まない樹脂に対して0.1ないし1
0重itチ、好ましくは[R5ないし5重量%である。
これらの硬化触媒の混合物もまだ使用することができる
。
。
研磨剤に対する好ましい酸硬化性結合剤としては、硬化
を酸触媒によシ加速することができる樹脂が挙げられる
。これらの内特に好ましいものとしては、例えばホルム
アルデヒドとフェノール、レゾルシン、クレゾール、キ
シレノールおよびこれらの混合物、尿素、アニリンまだ
はメラミンの縮合生成物であるフェノ−およびアミノプ
ラストが挙げられる。他のアルデヒドトシて例えばアセ
トアルデヒド、フルフロールおよびアクロレインを使用
することができる。
を酸触媒によシ加速することができる樹脂が挙げられる
。これらの内特に好ましいものとしては、例えばホルム
アルデヒドとフェノール、レゾルシン、クレゾール、キ
シレノールおよびこれらの混合物、尿素、アニリンまだ
はメラミンの縮合生成物であるフェノ−およびアミノプ
ラストが挙げられる。他のアルデヒドトシて例えばアセ
トアルデヒド、フルフロールおよびアクロレインを使用
することができる。
酸硬化性フェノール樹脂およびアミノプラス195ない
し302頁および319ないし400頁中に詳細に記載
されている。
し302頁および319ないし400頁中に詳細に記載
されている。
;((:
更に酸硬化性樹脂としては、改質されたメラミン樹脂、
すなわちエーテル化、エステル化および他の方法により
改質されたメラミン樹脂例えばアルキッドメラミン樹脂
、同様にアクリル酸エステルまたはポリエステルまたは
アルキッド樹脂が挙げられる。結合剤は更にいくつかの
独立したま九は異なる酸硬化性樹脂より形成され得る。
すなわちエーテル化、エステル化および他の方法により
改質されたメラミン樹脂例えばアルキッドメラミン樹脂
、同様にアクリル酸エステルまたはポリエステルまたは
アルキッド樹脂が挙げられる。結合剤は更にいくつかの
独立したま九は異なる酸硬化性樹脂より形成され得る。
例えばヨーロッパ特許願第12409号中に記載されて
いる各種の7エノール樹脂の混合物もまた使用すること
ができる。
いる各種の7エノール樹脂の混合物もまた使用すること
ができる。
フェノール−ホルムアルデヒド樹脂が特に好ましく、最
龜好ましいものとしてはレゾール型の、水溶性−液状で
、弱アルカリないし中性のフェノール−ホルムアルデヒ
ド縮合生成物が挙げられ、これは非常に重要なものであ
る。
龜好ましいものとしてはレゾール型の、水溶性−液状で
、弱アルカリないし中性のフェノール−ホルムアルデヒ
ド縮合生成物が挙げられ、これは非常に重要なものであ
る。
硬化触媒を加える前にこの型の水溶性−液状アルカリ性
樹脂ないし中性樹脂を使用するのが都合が良い。
樹脂ないし中性樹脂を使用するのが都合が良い。
更に中性ないし弱酸性(pH4〜6)を呈する水溶性フ
ェノール−ホルムアルデヒド樹脂(い二(′〕 わゆるレゾール型)は特に興味深いものである。
ェノール−ホルムアルデヒド樹脂(い二(′〕 わゆるレゾール型)は特に興味深いものである。
結合剤は有機溶媒、好ましくは脂肪族アルコールまたは
水に溶かした溶液または分散液として使用することがで
きる。これらは研磨剤および硬化触媒に加えて充填剤お
よび添加剤すなわち研磨剤工業において通常使用される
もの例えば粘度指数改良剤、増粘剤、分散剤、研磨剤の
機械的および化学的特性を改良するための添加剤、そし
て接着促進剤もまた含み得る。
水に溶かした溶液または分散液として使用することがで
きる。これらは研磨剤および硬化触媒に加えて充填剤お
よび添加剤すなわち研磨剤工業において通常使用される
もの例えば粘度指数改良剤、増粘剤、分散剤、研磨剤の
機械的および化学的特性を改良するための添加剤、そし
て接着促進剤もまた含み得る。
研磨剤または研磨剤粒子として、非常に大きな硬度およ
び異なる粒径を有する物質が使用され、これらの物質に
よシチッピングまたはカッティングの仕事が行われる。
び異なる粒径を有する物質が使用され、これらの物質に
よシチッピングまたはカッティングの仕事が行われる。
コランダムおよびシリコンカーバイドが主に使用される
。更に公知の研磨剤粒子として酸化ジルコニウム、炭化
硼素、窒化硼素、水晶、グツネート(grans+te
)tたはガラスおよび各種の金属粉末例えば硅素(8
i)、銅(Cu)、銀(Ag )またはニッケル(N’
)%同様に金属合金が挙げられる。
。更に公知の研磨剤粒子として酸化ジルコニウム、炭化
硼素、窒化硼素、水晶、グツネート(grans+te
)tたはガラスおよび各種の金属粉末例えば硅素(8
i)、銅(Cu)、銀(Ag )またはニッケル(N’
)%同様に金属合金が挙げられる。
充填剤および添加剤の例としてはグラフアイ;3:・〈
ト、二硫化モリブデン、黄鉄欽、硫酸カリウム、硫酸バ
リウム、氷晶石、硫化鉄、塩化ナトリウム、マグネシア
、カオリン、ガラス繊維および各種プジスチック例えば
塩化ビニル/塩化ビニリデン共重合体、ポリ塩化ビニリ
デンおよびpvc tたは各種ハロゲン化物、硫酸塩ま
たは亜硫酸塩またはこれらの混合物または研磨剤工業に
おいて公知の他の充填剤が挙げられる。
リウム、氷晶石、硫化鉄、塩化ナトリウム、マグネシア
、カオリン、ガラス繊維および各種プジスチック例えば
塩化ビニル/塩化ビニリデン共重合体、ポリ塩化ビニリ
デンおよびpvc tたは各種ハロゲン化物、硫酸塩ま
たは亜硫酸塩またはこれらの混合物または研磨剤工業に
おいて公知の他の充填剤が挙げられる。
研磨剤はまた特別な添加剤例えば共開始剤、同様に分光
学的増感剤を含み得る。この例としてベンゾインおよび
その誘導体、ベンジルおよびその誘導体、およびa−ジ
ーおよび三置換されたアセトフェノン、アントラセンま
九はチオキサントンの誘導体、および有機染料もまた挙
げられる。
学的増感剤を含み得る。この例としてベンゾインおよび
その誘導体、ベンジルおよびその誘導体、およびa−ジ
ーおよび三置換されたアセトフェノン、アントラセンま
九はチオキサントンの誘導体、および有機染料もまた挙
げられる。
上述の樹脂および結合剤、研磨剤、充填剤および添加剤
は範囲を限定する亀のではない:これらは単に本発明の
実施例の一手段であるにすぎない。
は範囲を限定する亀のではない:これらは単に本発明の
実施例の一手段であるにすぎない。
好ましい研磨剤組成物としては下記のものが;3r1
挙げられる:被覆結合剤としては:
A)充填剤 30ないし70重量%
レゾール 70ないし50重量%(水に対して80重量
%) 水 1ないし5重量%および 硬化触媒[12ないし2重量%; および基剤結合剤としては: B)充填剤(S)2ないし20重量% レゾール 80ないし98重量%(水に対して80重量
%) 水 1ないし5重量%および 硬化触媒1ないし4重量%: ただし組成物の4成分の合計量は常に10000重量%
る。
%) 水 1ないし5重量%および 硬化触媒[12ないし2重量%; および基剤結合剤としては: B)充填剤(S)2ないし20重量% レゾール 80ないし98重量%(水に対して80重量
%) 水 1ないし5重量%および 硬化触媒1ないし4重量%: ただし組成物の4成分の合計量は常に10000重量%
る。
すでに述べたように、可撓性研磨剤を製造するための方
法においては2工程すなわち研磨剤組成物の乾燥工程お
よびこれに続く硬化工程を通過する。
法においては2工程すなわち研磨剤組成物の乾燥工程お
よびこれに続く硬化工程を通過する。
特に乾燥工程においては、用いられ良溶媒ま九は水は徹
底的に蒸発させて除かれる。
底的に蒸発させて除かれる。
l↓()
続く硬化工程において、研磨剤粒子が次の処理の間適切
に固定され、まったく移動しないようにするために結合
剤を架橋させる。
に固定され、まったく移動しないようにするために結合
剤を架橋させる。
この固定は最終製品の品質に対して決定的な影響を及ぼ
す。予備的な硬化は通常比較的高温例えば150℃およ
びそれ以上で1ないし数時間性われる。
す。予備的な硬化は通常比較的高温例えば150℃およ
びそれ以上で1ないし数時間性われる。
しかしながら、本発明において適用される遮蔽触媒の使
用においては、硬化工程は比較的低い温度および短かい
硬化時間例えば100℃以下の温度好ましくは60°
ないし90℃の間および1ないし200 分以内で行う
ことができる。
用においては、硬化工程は比較的低い温度および短かい
硬化時間例えば100℃以下の温度好ましくは60°
ないし90℃の間および1ないし200 分以内で行う
ことができる。
本発明の方法におけるこれらの比較的低い硬化温度およ
び短かい硬化時間は相当な技術的重要性を有する:例え
ば水含有基剤が可撓性を回復させるために湿度チャンバ
ー中における漸次昇温に使用された場合には、これらの
利点による利得については述べるまでもない。更に重要
なことはエネルギーコストを結果的に節約できることで
ある。
び短かい硬化時間は相当な技術的重要性を有する:例え
ば水含有基剤が可撓性を回復させるために湿度チャンバ
ー中における漸次昇温に使用された場合には、これらの
利点による利得については述べるまでもない。更に重要
なことはエネルギーコストを結果的に節約できることで
ある。
1
本発明の方法における別の利点としては、研磨剤組成物
の貯蔵安定性が硬化触媒を含んでいるにもかかわらず損
なわれてはいないということである。更にその上、硬化
触媒は乾燥工程中は活性とはならないがしかし次ぐ照射
工程において活性となり、次いで遊離スルホン酸の生成
によシ結合剤が硬化すると効果がなくなる。
の貯蔵安定性が硬化触媒を含んでいるにもかかわらず損
なわれてはいないということである。更にその上、硬化
触媒は乾燥工程中は活性とはならないがしかし次ぐ照射
工程において活性となり、次いで遊離スルホン酸の生成
によシ結合剤が硬化すると効果がなくなる。
樹脂に対する光線照射はUV光を用いるのが好ましく、
この目的のためには最近は市販の各種の適切な装置が利
用できる。
この目的のためには最近は市販の各種の適切な装置が利
用できる。
これらの合同媒体圧、高圧または低圧水銀蒸気ランプは
螢光管と同様に、その放射の極太値は250ないし40
0 nmにある。
螢光管と同様に、その放射の極太値は250ないし40
0 nmにある。
必要とされる照射時間は樹脂層の厚み、研磨剤組成物の
充填度、ランプの光強度、ランプと照射される物質との
間の距離に依存している。
充填度、ランプの光強度、ランプと照射される物質との
間の距離に依存している。
通常の層厚みを有する研磨剤組成物は、UV放射装置を
使用する場合には数秒ないし数分の照射時間を必要とす
る。この時間内に、潜触媒は光化学的に変化して遊離の
スルホン酸を生成す112゜ る。
使用する場合には数秒ないし数分の照射時間を必要とす
る。この時間内に、潜触媒は光化学的に変化して遊離の
スルホン酸を生成す112゜ る。
感光剤を樹脂に加えた場合は、照射もまた白熱ランプに
よって行うことができる。公知の感光剤の例としては縮
合芳香族化合物例えばペリレン、芳香族アミン(例えば
アメリカ合衆国特許明細書諮4069054 号中に
記載されている)、または陽イオン性および塩基性染料
(例えばアメリカ合衆国特許明細書第4026705号
中に記載されている)が挙げられる。
よって行うことができる。公知の感光剤の例としては縮
合芳香族化合物例えばペリレン、芳香族アミン(例えば
アメリカ合衆国特許明細書諮4069054 号中に
記載されている)、または陽イオン性および塩基性染料
(例えばアメリカ合衆国特許明細書第4026705号
中に記載されている)が挙げられる。
本発明において用いることのできる硬化触媒は後の処理
においてもまた使用し得るものであシ、通常例えば炭酸
カルシウムのような充填剤によシ満されている被覆結合
層においても用いられ、そして次いで光照射および熱処
理により硬化されるが、この段階において被覆結合剤の
硬化が加速され、そして硬化時間が短縮される。
においてもまた使用し得るものであシ、通常例えば炭酸
カルシウムのような充填剤によシ満されている被覆結合
層においても用いられ、そして次いで光照射および熱処
理により硬化されるが、この段階において被覆結合剤の
硬化が加速され、そして硬化時間が短縮される。
もし必要であれば硬化の操作に続いて、湿度チャンバー
中において調節処理を行うことができる。研磨剤の製造
における更に続く製造工程は実務上の慣用の方法で行わ
れる。
中において調節処理を行うことができる。研磨剤の製造
における更に続く製造工程は実務上の慣用の方法で行わ
れる。
本発明の方法は平板状(シート状)担体物質、例えば加
硫繊維、研磨布または研磨紙のような繊維材、同様に紙
および織物繊維の組合せの上に可撓性研磨剤を製造する
ために特に適している。
硫繊維、研磨布または研磨紙のような繊維材、同様に紙
および織物繊維の組合せの上に可撓性研磨剤を製造する
ために特に適している。
本発明の方法は更に研磨剤ディスク、例えば研磨剤部品
、リング、ポイント、セグメント、シリンダー、または
ヘッドを製造するために適している。
、リング、ポイント、セグメント、シリンダー、または
ヘッドを製造するために適している。
4t′4
下記の実施例において本発明の特定組成物に基づく本発
明の製造方法を更に詳細に説明する。
明の製造方法を更に詳細に説明する。
部およびチは重量基準である。
実施例1: 研磨剤粒子の固定および本発明に用いる硬
化触媒存在下における塩基 性結合剤の硬化試験 10重量%触媒溶液(メチルフェニルケトンに溶解)3
0重量%(フェノール−ホルムアルデヒド樹脂の固形分
含有量に対して)を水溶性フェノール−ホルムアルf
ヒ)” 樹脂MS 7215(*)中に混合する。得ら
れたフェノール−ホルムアルデヒド樹脂を200μコー
テイングナイフを用いてアルミニウムシート上に塗布し
く乾燥膜厚約40〜50μ)1次いでコランダムを塗布
する。
化触媒存在下における塩基 性結合剤の硬化試験 10重量%触媒溶液(メチルフェニルケトンに溶解)3
0重量%(フェノール−ホルムアルデヒド樹脂の固形分
含有量に対して)を水溶性フェノール−ホルムアルf
ヒ)” 樹脂MS 7215(*)中に混合する。得ら
れたフェノール−ホルムアルデヒド樹脂を200μコー
テイングナイフを用いてアルミニウムシート上に塗布し
く乾燥膜厚約40〜50μ)1次いでコランダムを塗布
する。
この目的のためには、コランダムを長めのV−字形漏斗
に入れ、そのスリット形状の開口部を金属ふるいでおお
い1次いで漏斗ヲパイブレークーにつなぐ、コランダム
塗布を行うためにパイプレーク−のスイッチを入れ、樹
脂を塗布したアルミニウムシート上を漏斗を一定速度で
通4:5 遇させる(1W?当)の使用量:コランダム400〜6
00? )。水分を除くために、その後塗布したアルミ
ニウムシートを90℃の循環空気チャンバーに65分間
移し、次いで螢光管(フィリップ社製TLK■40/口
9)からの光線を155+の距離で5,10および15
分間照射すると、これにより本発明に用いる触媒よシ、
結合剤を硬化させる触媒作用を有する有機酸が遊離され
る。
に入れ、そのスリット形状の開口部を金属ふるいでおお
い1次いで漏斗ヲパイブレークーにつなぐ、コランダム
塗布を行うためにパイプレーク−のスイッチを入れ、樹
脂を塗布したアルミニウムシート上を漏斗を一定速度で
通4:5 遇させる(1W?当)の使用量:コランダム400〜6
00? )。水分を除くために、その後塗布したアルミ
ニウムシートを90℃の循環空気チャンバーに65分間
移し、次いで螢光管(フィリップ社製TLK■40/口
9)からの光線を155+の距離で5,10および15
分間照射すると、これにより本発明に用いる触媒よシ、
結合剤を硬化させる触媒作用を有する有機酸が遊離され
る。
次いで90℃で20分間硬化した後に試験片を評価する
。
。
予備的に硬化したフェノール−ホルムアルデヒド樹脂中
の研磨剤粒子(コランダム)の固定度は試験片の表面に
触れることによ勺定性的に評価を行い、そして下記の分
類に従って振9分けた: A−指を触れると動く。
の研磨剤粒子(コランダム)の固定度は試験片の表面に
触れることによ勺定性的に評価を行い、そして下記の分
類に従って振9分けた: A−指を触れると動く。
B=堅固に固定され指を触れても全く動かない。
結合剤の硬化の程度はヌープ測定法(A8TMD 1
474 )に従ってコランダムなしの結合剤塗膜につい
て測定した。結果を表1に示す。
474 )に従ってコランダムなしの結合剤塗膜につい
て測定した。結果を表1に示す。
4に
(*) フェノール−ホルムアルデヒド樹脂M 57
215(チバーガイギー社製):固形分77重量%;水
溶液; pH=4.5 ;粘覆=25℃において25〜
3Pa−s;フェノール:ホルムアルデヒドのモル比=
1:t2゜ 4>べ 表の結果よシ明らかなように、本発明に用いる触媒は乾
燥工程の間の予備硬化にはまったく影響を与えない(未
照射の塗膜はまだ柔かくそして付着性があり、カーボラ
ンダムが堅固に固定されていない)、光線を照射するま
で触媒は活性スルホン酸の生成を行わないので、このこ
とが低温における結合剤の急速な予備硬化を可能とし、
従って硬化工程も同時に短縮される。
215(チバーガイギー社製):固形分77重量%;水
溶液; pH=4.5 ;粘覆=25℃において25〜
3Pa−s;フェノール:ホルムアルデヒドのモル比=
1:t2゜ 4>べ 表の結果よシ明らかなように、本発明に用いる触媒は乾
燥工程の間の予備硬化にはまったく影響を与えない(未
照射の塗膜はまだ柔かくそして付着性があり、カーボラ
ンダムが堅固に固定されていない)、光線を照射するま
で触媒は活性スルホン酸の生成を行わないので、このこ
とが低温における結合剤の急速な予備硬化を可能とし、
従って硬化工程も同時に短縮される。
結合剤の充分な予備硬化は90℃において20分後に起
るので、触媒を使用してい々い対応する試験片は同一硬
化時間の後においてはまだ柔かくそして付着性がある。
るので、触媒を使用してい々い対応する試験片は同一硬
化時間の後においてはまだ柔かくそして付着性がある。
5分間の照射時間経過後は、研磨剤は全く強固に固定さ
れるのに比べて、未照射の試験片においては自由に動く
ことができる。
れるのに比べて、未照射の試験片においては自由に動く
ことができる。
実施例2: 被覆結合剤の硬化試験
実施例1に記載したフェノール−ホルムアルデヒド樹脂
MS7215を10重量%触媒溶液(メチルフェニルケ
トンに俗解)30重量%(フェノール樹脂の固体含有菫
に対して)と混合し、次いで白亜(chalk lを混
合する〔白亜に対する樹脂(100%固形分として)の
比率は2:1〕。得られ次混合物を実施例1と同様の方
法によりアルミニウムシートに対して用いる。
MS7215を10重量%触媒溶液(メチルフェニルケ
トンに俗解)30重量%(フェノール樹脂の固体含有菫
に対して)と混合し、次いで白亜(chalk lを混
合する〔白亜に対する樹脂(100%固形分として)の
比率は2:1〕。得られ次混合物を実施例1と同様の方
法によりアルミニウムシートに対して用いる。
水分を除くため、塗布したアルミニウムシートを90℃
のオープン中に35分間放置し、次いでこれを螢光管(
フィリップス社製TLK■40109)からの光線によ
り15αの距離で、5゜10および15分間照射する。
のオープン中に35分間放置し、次いでこれを螢光管(
フィリップス社製TLK■40109)からの光線によ
り15αの距離で、5゜10および15分間照射する。
次いで、この試験片を90℃で20分間硬化し、試験片
の硬化の程度をヌープ測定法(A8TM D 147
4)に基づいて評価した。
の硬化の程度をヌープ測定法(A8TM D 147
4)に基づいて評価した。
結果を表2にまとめて示す。
表 2
*測定不能;試験片が付着性で柔かい。
表の結果より明らかなように、照射試験片は5分間の照
射時間および90℃における20分間の硬化時間の後に
は全く充分な硬度を有しているのに対して、未照射の試
験片は20分間の硬化時間経過後もまだ柔かくそして付
着性がある。
射時間および90℃における20分間の硬化時間の後に
は全く充分な硬度を有しているのに対して、未照射の試
験片は20分間の硬化時間経過後もまだ柔かくそして付
着性がある。
実施例3:
10重量%触媒溶液(メチルフェニルケトンに溶解)3
0重量%(フェノール−ホルムアルデヒド樹脂の固体含
有量に対して)を水溶性フェノール−ホルムアルデヒド
樹脂M87216←)と混合する。得られた溶液を実施
例1と同様の方法によりアルミニウムシート上に塗布し
、そしてその上にカーボランダムを塗布する:これを続
いて空気−循環オープン中に90℃で35分間放置し、
次いで螢光管の下で5,10および15分間照射する。
0重量%(フェノール−ホルムアルデヒド樹脂の固体含
有量に対して)を水溶性フェノール−ホルムアルデヒド
樹脂M87216←)と混合する。得られた溶液を実施
例1と同様の方法によりアルミニウムシート上に塗布し
、そしてその上にカーボランダムを塗布する:これを続
いて空気−循環オープン中に90℃で35分間放置し、
次いで螢光管の下で5,10および15分間照射する。
その後90℃で20分間硬化し、試験片を実施例1と同
様の方法によシ評価した。結果11にまとめて示す。
様の方法によシ評価した。結果11にまとめて示す。
2
表 6
*測定不能;試験片は付着性で柔かい;A、B:実施例
1の分類参照 ←) フェノール−ホルムアルデヒド樹脂M87216
(テバーガイギー社製):固形分79重量%;水溶液;
pH=4.5 :粘度:25℃において2.5〜5.
.0PaaS;7エノール:ホルムアルデヒドのモル比
=1:t8゜ 特許出願人 テバーガイギー アクチェンゲゼルシャフト代理人 弁
理士 3
1の分類参照 ←) フェノール−ホルムアルデヒド樹脂M87216
(テバーガイギー社製):固形分79重量%;水溶液;
pH=4.5 :粘度:25℃において2.5〜5.
.0PaaS;7エノール:ホルムアルデヒドのモル比
=1:t8゜ 特許出願人 テバーガイギー アクチェンゲゼルシャフト代理人 弁
理士 3
Claims (9)
- (1)酸硬化性結合剤および硬化触媒と[7て光の作用
により遊離される有機スルホン酸を含む研摩剤組成物を
、乾燥後光線照射による作用に曝し、硬化する研摩剤組
成物の硬化方法。 - (2)硬化を60°ないし100℃の間の温度で行う特
許請求の範囲第1項記載の方法。 - (3)光線照射を紫外線により行う特許請求の範囲第1
項記載の方法。 - (4)硬化触媒として次式■および■:(I)(損 〔式中、 nは1ないし2であり、 鳥は未置換まだは例えば以下の群ニーCt。 −Br・−〇N基、−NO2基、炭素原子数1ないし1
2のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基
、フェニルオキシ基、トリルオキシ基、フェニルチオ基
、トリルチオ基、炭キルスルホニル基、フェニルスルホ
ニル基、炭素原子数2ないし4のアルコキシヵルホニル
基、炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基、炭素原
子数2ないし4のジアルキルアミノ基、フェニル−CO
NH−基または炭素原子数1ないし4のアルキル−CO
NH−基まだはベンゾイル基よりなる群より選択された
基1個、2個まだは3個により置換されたフェニルまた
はナフチル基を表わすか、または R,けアントリル基、フェナントリル基、チェニル基、
ピリジル基、フリル基、インドリル基またはテトラヒド
ロナフチル基を表わし、そして R2および曳は互いに独立して各々水素原子、または未
置換または例えば−CN基、−Ct、炭素原子数1ない
し4のアルコキシ基、−CN基・炭素原子数2ないし5
のアルコキシカルボニル基、フェニル基、クロロフェニ
ルJi、炭i原子数7ないし10のアルキル−フェニル
基または炭素原子数7ないし10のアルコキシフェニル
基によって置換された炭素原子数1ないし8のアルキル
基、または更にこれらはベンゾイル基を表わし、 R3け未置換まだは例えば−Ct、炭素原子数1ないし
4のアルキル基、炭素原子数1ない1.24のアルコキ
シ基まだは炭素原子数1ない1、4のアルキルチオ基に
より置換されたフェニル基を表わすか、または炭素原子
数2ないし8のアルコキシカルボニル基、−CN基、炭
素原子数1ないし4のアルキル−NH−CO−基、フェ
ニル−NH−CO−基または−CONH2基を表わすか
、または 鳥およびR3Viこれら・が結合している炭素原子と一
緒になって炭素原子数4ないし6のシクロアルキル環を
形成し、 R4けnが1である場合には、炭素原子数1ないし18
のアルキル基、未置換または例えばハロゲン原子、炭素
原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし
4のアルコキシ基、炭素原子数1ないし4のアルキル−
CONH−基、フェニル−CONH基、−NO2基また
はベンゾイル基により置換されたフェニル基を表わすか
、または未置換または例えばハロゲン原子、炭素原子数
1ないし12のアルキル基または炭素原子数1ないし4
のアルコキシ基により置換されたナフチル基を表わすが
、または炭素原子数5ないし6のシクロアルキル基、炭
素原子数7ないし9のアルアルキル基・カルボニル基、
−CF3基、−CCt3基、−F孝または−NH2基を
表わし、そして R4け、nが2である場合には−(CH2)m−基(式
中mは2ないし8である。ンを表わすかまだは各々未置
換または例えば炭素原子数1ないし12のアルキル基に
よって置換されたフェニレンまたはナフチレン基を表わ
し、曳け、各々未置換または以下の群: −Ct、−B
r・炭素原子数1ないし12のアルキル基、フェニル基
、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、フェニルオキ
シ基、ベンジルオキシ基、炭素原子数1ないし8のアル
キルチオ基、フェニルチオ基、−8CH,CH20H基
、炭素原子数1ないし4のアルキル−CONH−基、ベ
ンゾイルアミノ基またけジメチルアミン基まだはベンゾ
イル基よりなる群から選択された基1個、2個または3
個により置換されたフェニルまたはナフチル基を表わす
か、まだけ鴇はアントリル基またはフェナントリル基t
[わし、 R6は水素原子、−OH基、炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基、−O8i (CHa )s基、−0COC
H3基または未置換またはフェニル基により置換された
炭素原子a1ないし8のアルキル基を表わし、 馬は水素原子、または未置換またはフェニル基により置
換された炭素原子数1ないし8のアルキル基を表わすか
またけ](7け−CN基、ベンゾイル基、炭素原子数1
ないし4のアルキルカルボニル基、炭素原子数2ないし
5のアルコキシカルボニル基まりはフェニル基ヲ表わし
、 馬は水素原子、未置換または一〇H基、−Ctまたけフ
ェニル基により置換された炭素原子数1ない1,8のア
ルキル基を表わすか、または未置換まだは一〇H基、−
Ct、炭素原子数1ないし4のアルキル基または炭素原
子数1ないし4のアルコキシ基により置換された)工二
ル基を表わすか、またtd FLsけ炭素原子数2ない
し6のアルケニル基、炭素原子数8ないし9のフェニル
アルケニル基、フリル基、チェニル基まだは−CC1q
基を表わすか、まだは飽和まだは不飽和の炭素原子数5
ないし6のシクロアルキル基を表わし、更に FLsと馬、馬ともまたは八とR?は、これらが結合1
7ている炭素構造と一緒になって以下の群ニーCH2−
基、−C1−1’(CH3)−基、−C(CH3)2−
基、−〇−基、−8−基、−5O−基、−5O1−基、
−CO−九基1個ないし5個を含む5−またけ6−員環
を形成する。〕で表わされる有機化合物を硬化触媒とし
て使用する特許請求の範囲第1項記載の方法。 - (5)上記式1および式nにおいて、 nが1であわ、 R1が未置換または塩素原子、メチル基、メトキシ基、
メチルチオ基、フェニルチオ基、−8CH2CH20H
またはベンゾイル基により置換されたフェニル基を表わ
し、 鳥が水素原子まだは炭素原子数1ないし4のアルキル基
を表わし、R3が水素原子またけ炭素原子数1ないし4
のアルキル基を表わすかまだは、 −および馬が、これらが結合している炭素原子と一緒に
なってシクロヘキサン環を形成し・ R,が炭素原子数1ないし18のアルキル基、各々未置
換または炭素原子数1ないし12のアルキル基によ怜置
換されたフェニルまだはナフチル基を表わすかまたはカ
ンフヱリル基を表わし、 R5が未置換または以丁の群: −Ct、炭素原子数1
ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基、−8CH3基まだはフェニル基より選択された
基により置換されたフェニル基を表わし、 ′FL6が一〇H基または炭素原子数1ないし4のアル
キル基を表わし、 馬が炭素原子数1ないし4のアルキル基またはフェニル
基を表わし、そして 鳥が−H1炭素原子数1ないし4のアルキル基、フリル
基または−CCt3基を表わすかまたは、 揚と刊8が、これらが結合している炭素原子トー緒にな
ってシクロヘキサン環を特徴する特許請求の範囲第4項
記載の方法0 - (6)上記式■および式■において、nが1であり、R
1およびR5が各々フェニル基・p−)リル基またはp
−メチルチオフェニル基を表わし、瓜が水素原子を表わ
し、R3がメチル基、イソプロピル基、n−デシル基ま
だはベンジル基を表わし、R4がフエニJL−基、p
−) +1 yし基1だはp−n−ドデシルフェニル基
を表わし、也が一〇H基を表わし、馬が−CH3基まだ
はフェニル基を表わし、そしてR8が−H基を表わす特
許請求の範囲第4項記載の方法0 - (7)酸硬化性結合剤がフェノ−まだはアミノブラスト
まだはこれらの混合物である特許請求の範囲第1項記載
の方法。 - (8)酸硬化性結合剤がフェノール−ホルムアルデヒド
樹脂である特許請求の範囲第1項記載の方法。 - (9)酸硬化性結合剤がレゾールである特許請求の範囲
第1項記載の方法O 叫 酸硬化性結合剤が、無溶媒結合剤に対して01ない
し10重量係の硬化触媒を含む特許請求の範囲第1項記
載の方法。 (Iυ 結合剤が塩基性結合剤である特許請求の範囲第
1項記載の方法。 C2結合剤が被覆結合剤である特許請求の範囲第1項記
載の方法。 0鴇 平板またけシート状担体物質上に可撓性研磨剤を
製造する特許請求の範囲第1項記載の方法〇
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH305182 | 1982-05-17 | ||
| CH3051/827 | 1982-05-17 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58213079A true JPS58213079A (ja) | 1983-12-10 |
Family
ID=4247509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58086488A Pending JPS58213079A (ja) | 1982-05-17 | 1983-05-17 | 酸硬化性研摩剤組成物の硬化方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58213079A (ja) |
| CA (1) | CA1216816A (ja) |
| DE (1) | DE3317570A1 (ja) |
| FR (1) | FR2526801B1 (ja) |
| GB (1) | GB2120263B (ja) |
| NO (1) | NO831755L (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7759515B2 (en) | 2001-09-28 | 2010-07-20 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Catalyst comprising N-substituted cyclic imide compound and process for producing organic compounds using the catalyst |
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| US4737426A (en) * | 1985-05-15 | 1988-04-12 | Ciba-Geigy Corporation | Cyclic acetals or ketals of beta-keto esters or amides |
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- 1983-05-16 NO NO831755A patent/NO831755L/no unknown
- 1983-05-17 JP JP58086488A patent/JPS58213079A/ja active Pending
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