JPS58214844A - ウエフアの欠落又は破損を検出する装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の背景〕 本発明は、カセット型ウェファホルダーとウェファ処理
室との間の半導体ウェファの自動移送に関する。よシ詳
細には、ウェファ移送機構内のウェファの欠落又は破損
を感知するだめの装置に関する。

〔発明の分野〕

イオン注入は、半導体ウェファ中に制御された急速な方
法で不純物を導入するための技術として、標準的なもの
になっている。イオ箋源で発生されたイオンビームは、
種々の加速度をもっ゛て半導体ウェファへと方向づけら
れる。イオンの運動量を用いることによシ、半導体ウェ
ファのバルク中へ不純物が導入され、それらが半導体材
料の結晶格子中へと打ち込まれる。

産業上の半導体処理における主要目的の１つに、単位時
間当シに処理するウェファの処理量を上げることがある
。高い処理量を達成するための１っの要因は、処理チェ
ンバに出入するウェファの移動速度を急速にすることで
ある。しかしながら半導体ウェファは、とても脆く、容
易に損傷し易い。

その理由は、その薄さく１０〜２ｏミルの程度）（１ミ
ル＝千分の１インチ）及び大きな直径（２〜５インチ）
にある。そしてさらに表面が非常に良く磨かれていて、
どんな種類の汚染、摩耗又は損傷があっても使いものに
ならなくなる。かくして、極めて注意深い操作が必要と
され、手によるウェファ操作は望ましくない。

シリアルイオン注入装置においては、１時に１つのウェ
ファが処理され、ウェファ表面上にイオンビームが静電
的に走査され、所望の不純物注入量が達成される。そう
いう装置は、・ぐツチ処理装置よシも通常小型で安価で
ある。しかしながら、ウェファ移送時間は、ウェファ処
理毎に起こるので、処理量にとって重要である。

高い処理量を達成するのを助けるために、自動ウェファ
移送装置が開発された。これらの装置は代表的に、ウニ
７アキヤリア又はウェファカセットからウェファ処理チ
ェンバへ゛とウェファを移送し、そしてカセットへと戻
す。一連の動作には、操作者は介在しない。ある型の自
動装置においては、カセットが鉛直に取付けられ、ウェ
ファが水平に配向される。真空ピツクス、エアトランク
。

可動ベルト及び重力などの組合せによって、ウェファは
処理チェンバへと又はそこから移送される。

そういう装置は大体満足のいく動作をするが、水平方向
のウェファ上に粒子が降ちて、汚染を引起す傾向がある
。

処理室に対する移送中にカセット内のウェファが鉛直方
向に維持されている自動ウェファ移送装置が、米国特許
出願第１３８１，０８５号及び米国特許第４，３１１，
４２７号に開示されている。昇降グレードの縁部が下方
からウェファをカセットの外へと持ち上げ、処理室のド
アに位置された真空チャックへとウェファを上昇させる
。鉛直ウェファ操作装置は、粒子の汚染を減少し、又ウ
ェファの緑を扱うので摩耗や損傷を減少する。

ウェファの先の段階での破損又は操作者のミスによって
、時々、カセット内のスロットが１つ又はそれ以上窓に
なっていてウェファが入っていないことがある。さらに
、カセットがウェファ移送装置へと進行してきたときに
、１枚又はそれ以上のウェファが破損していることがあ
る。他にも、ウェファ操作を注意深くしたとしても、ウ
ェファ移送装置自身によってウェファの偶発的破損が起
こシうる。そういう状況においては、装置を停止して破
損ウェファを取り除くか、或いは欠落ウェファ部位を飛
び越してその処理をしないようにするかの何れかの方策
をとらねばならない。欠落又は破損したウェファを処理
する装置動作は、貴重な運転時間を浪費するだけでなく
、機械又は他のウェファへの損傷の危険をも生み出す。

ウェファなしでイオン注入装置が稼動されるものとする
と、イオンビームは金属プラテン又は熱伝導ラバーパッ
ドを衝撃して損傷を与え、金属プラテンの場合にはそれ
をス／４′ツタしてしまう。故に、ウェファ移送装置に
おけるウェファの欠落又は破損を検出するために、セン
サ装置が望まれる。

〔本発明の目的〕

本発明の目的は、以下の通りである。

ウェファ移送装置においてウェファの欠落又は破損を検
出する新規な装置を提供すること。

ウェファ移送装置において、機械的接触なしにウェファ
の欠落又は破損を検出する装置を提供すること。

ウェファ移送装置において、種々の寸法のウェファの欠
落又は破損を検出する、グロダラム可能な装置を提供す
ること。

〔発明の概要〕

ウェファ移送装置においてウェファの欠落又は破損を検
出する、本発明に従りた装置によって、上記目的が達成
される。

本発明に係る装置は、ウェファ移送機構を第１の位置か
ら所定の径路に沿って移動させるための移動手段、第１
の感知手段及び第２の感知手段を含る。本装置はさらｒ
、発振器手段、及び該発振器手段の出力に接続したカウ
ント入力を有するカウンタ手段を含む。第１の感知手段
は、第１０位置からのウェファ移送機構の移動を感知し
て、カウンタ手段の動作を可能にするよう動作する。第
２の感知手段は、前記所定の径路に沿った第２の位置に
おいてウェファの存在を感知して、カウンタ手段の動作
を禁止するよう動作する。本装置はさらに、ウェファ移
送機構による正常ウェファの第２の位置への移動紀要す
る時間に相当する所定カウントと、カウンタ手段内の実
際のカウントとの比較をするよう動作する比較器手段を
含む。比較器手段は、実際カウントと所定カウントとが
等しいときには１の状態にあり、それらが等しくないと
きには他の状態にあるような出力信号をもたらす。他の
状態というのは、ウェファの欠落又は破損を示している
。

〔好適実施例の説明〕

本発明のセンサ装置は、代表的にはイオン注入装置にお
いて用いられる。イオン注入装置の一例を第１図に示す
。高電圧ターミナル２が、高電圧電源（図示せず）によ
ってアース電位に比して高電位に支持されている。ター
ミナル２は、所望のイオン種のビームを形成する装置を
包囲する。普通、所望イオン種の気体供給ストックが使
用される。ガス操作系６から生成された原ガスが、イオ
ン源８へと方向づけられる。イオン源８は、電源１０に
より電力供給され、高電流イオンビーム１８をもたらす
。イオン源の技術は、当技術分野において良く知られて
いる。イオン源８から波射したイオンビーム１８は、分
析磁石２０によって質量分析され収束される。分析され
たビームは、分解開口２２及び可変スリット２４を通過
し、次に加速管２６を通過する。加速管２６においてイ
オンビームは、ターミナル２の高電圧からアース電位へ
と慎重に設計された電場勾配に出会う。４重極レンズ２
８などの光学素子が動作して、ターダット平面上に空間
エネルギの収束をもたらす。Ｙ偏向プレート４０及びＸ
偏向ブレ−ト４２が静電偏向をもたらし、ビーム１８を
ターダット平面領域に方向づける。走査系４４によって
、各偏向グレートに電圧波形が印加され、所望の走査パ
ターンが形成される。

２　重ター１’ット室４６が、ハウジング、ビーム画成
マスク４８．４９及びビーム監視のためのファラデーケ
ージ５０，５１を含む。自動ウェファ移送装置５２．５
４が、それぞれ真空系内のターグツト位置５６．５８へ
と、半導体ウェファを１つずつ導入する。自動ウェファ
移送装置５２．５４はさらに、ターグツト平面に対して
ウェファをアラインさせ、注入中のウェファの冷却をも
たらし、そして注入完了後に真空系からウェファを取出
す。

ターグツト位置５６．５８は代表的には、以下に述べる
ように、エアロツク内部に配置され、非偏向ビーム１８
の縦方向軸線６ｏの水平両側に配置される。そのため、
ビーム走査のためには、軸線から約±７°のビーム偏向
を要する。ターゲツト室４６内の軸線６０上にビームダ
ンプ（ａｕｍｐ）６２が配置され、イオンビーム１８の
うちの中性部分を遮断する。

第１図の移送装置５２．５４に対応する自動ウェファ移
送装置を、第２図に簡略的に示す。その装置は、はぼ円
形の複数の半導体ウェファ１１２を保持するカセッ）１
１０，１１１とウェファ処理室１１４との間でウェファ
を１つずつ自動的に移送する。カセット１１０，１１１
はそれぞれ、各ウェファ１１２を直立・平行位置に保持
するための複数の平行スロットを含み、ウェファ１１２
を輸送して一時的にストアするために使用される。

カセット１１０．１１１は代表的には、グラスチック材
料である。第２図の装置のカセットの場合には、下方か
らのウェファ１１２へのアクセスを可能にするために底
が開いていなければならない。

ウェファ処理室１１４は、真空室であり、本実施例の場
合にはウェファの直列イオン注入のための端部ステーシ
ョンである。

第２図に示すウェファ移送装置は、処理室１１４への入
口に設けられたウェファ操作手段１２０を含む。操作手
段１２０は、ウェファを受は取り、処理室１１４へとウ
ェファを移動させる。ウェファ移送装置はさらに、移送
手段１２４及びカセット搬送手段１２６を含む。移送手
段１２４は、カセット１１０．１１１とウェファ処理手
段１２０との間で、ウェファを輸送する。カセット搬送
手段１２６は、カセット１１０．１１１を移送手段１２
４に対して位置づける。ウェファ移送装置はさらに、カ
セッ）１１０，１１１内の複数のウェファ１１２の各々
にあるガイドフラットを予備的に整合させるだめの手段
１２８を含む。

ウェファ操作手段１２０は、チェンバドア１３４、ドア
移動手段１３６、及びウェファ係合手段を含む。ドア移
動手段１３６は、第２図に示す開いた位置と密閉位置と
の間でチェンバドア１３４を移動させる。ウェファ係合
手段は、ウェファに係合して、所定の角度変位だけ回転
させる。ウェファ係合手段は、回転可能な真空チャック
１３８、真空チャック移動手段及び真空チャック回転手
段を含む。真空チャック移動手段は、・・ウノング１４
０内部に包囲され、真空チャック１３８をウェファ受取
位置（第２図の破線で指示したような位置）と後退位置
との間で移動させる。真空チャック回転手段は、所定の
角度変位だけ真空チャック１３８を回転させる。チェン
バドア１３４は代表的には、ウェファ受取表面又は、グ
ラテン１４６．及びプラテン冷却手段（図示せず）を含
む。処理中のウェファはプラテンに対して支持される。

移送手段１２４は、昇降ブレード１５０、駆動手段１５
２及びクランク手段１５４を含む。クランク手段１５４
は、駆動手段１５２を昇降ブレード１５０へと連結し、
駆動手段１５２０回転運動をブレード１５０の直線運動
へと変換する。駆動手段１５２は、代表的にはモータ及
び機械的ステラ・り−ヲ含む。昇降ブレード１５０は、
ウェファの縁に係合するような溝を設けた弧状の前縁（
ｌｅａｄｉｎｇ　ｅｄｇｅ　）を有する。弧状前縁はカ
セット１１０．１１１内のウェファの縁に保合して、ウ
ェファをウェファ操作手段１２０へと上昇させる。

カセット搬送手段１２６は、カセットホルダー１６０を
含む。カセットホルダー１６０は、一方の側に位置した
ゴールリバーサ（ｂａｌｌ　　ｒｅｖｅｒ、５ｅｒ）１
６２及びホルダーの他方の側に位置したがイドシャフト
１６３へと連結している。搬送手段１２６はさらＫ、駆
動手段１６４を含む。駆動手段１６４は、ざ−ルリパー
サ１６２を作動させ、ホルダー１６０を直線経路に沿っ
て連続的に又はステップごとに移動させる。駆動手段１
６４は代表的に、モータ、スリラグクラッチ及び機械的
ステッパーを含む。

昇降ブレード１５０の経路に沿った位置にあるカセット
搬送手段１２６の上方には、センサ２２０が取付けられ
ている。センサ２２０は、昇降ブレード１５０の経路を
横切ってビーム２２２を放射する。センサ２２０からの
ビーム２２２は代表的には、赤外放射又は可視光である
。センサ２２０はさらに、通過するウェファ又は昇降ブ
レード１５０からのビーム２２２の反射を受信するよう
動作し、その反射ビーム２２２に応答して出力信号を生
成する。センサ２２０は、何れの方法で取付けても良く
、本実施例においては処理室１１４の下側に取付けてい
る。昇降ブレード１５０の下方位置の下側には、スイッ
チ２２４が取付けられているっスイッチ２２４は、昇降
ブレード１５０の下方位置からの移動を感知するよう動
作するウスイッチ２２４は、昇降ブレードが下方位置に
あるときに１の状態になっていて、昇降ブレード１５０
が下方位置から移動したときに他の状態へと作動される
、ように取付けられる。

第２図のウェファ移送機構において半導体ウェファの欠
落又は破損を検出するだめの装置を第３図に概略図で示
す。昇降ブレード１５０は、ウェファ２′２６の縁部に
係合し、ウェファを鉛直に上昇させる。センサ２２０及
びスイッチ２２４は、センサ回路２２８に接続した出力
を有する。さらにセンサ回路２２８は、「所定カウント
」を受取る。「所定カウント」は、以下に述べるように
処理されるウェファの寸法に従い変化する。センサ回路
２２８の「ウェファ存在」出力が、昇降ブレード１５０
内に破損のないウェファが存在していることを示す。

糧々の条件下におけるセンサ２２０の動作を第４ａ〜４
ｄ図に示す。第４ａ図において、昇降ブレード１５０に
係合するウェファ２２６が下方位置にあるところを示す
。センサ２２０はウェファ２２６の頂部上方の距離ｄの
ところにあって、ビーム２２２は反射されない。以下に
述べるように、センサ回路２２８は、昇降ブレード１５
０の上昇中所定の時刻に反射ビームを表す信号を受信す
るべく待機している。第４ｂ図は、昇降ブレード１５０
によってウェファ２２６が上昇するところの正常な装置
動作を示す。ここでは、ウェファ２２６の頂部がセンサ
２２０に近接している。ウェファ２２６によってビーム
２２２が反射され、センサ２２０が出力信号をもたらす
。そしてその出力信号は、センサ回路２２８によって処
理される。第４ｃ図は、ウェファが欠落している場合を
表す。昇降ブレード１５０は、普通なら反射が起こるべ
き位置まで上昇している。しかし、ウェファが存在しな
いために反射が起こらず、センサ２２０は出力信号を生
じさせない。第４ｄ図は、破損ウェファ２３０の場合を
示す。ウェア　７２３０の上方部分が破損しているとす
る。昇降グレード１５０は、普通なら反射が起こるべき
位置まで上昇している。しかし、ウェファ２３０に破損
した箇所があるために反射が起こらず、センサ２２０は
センサ回路２２８へと出力信号を供給しない。

第５図に、センサ回路２２８、センサ２２０及びスイッ
チ２２４のブロック図を示す。センサ２２０は代表的に
は、電流制限用の抵抗器２４２を通じて電圧源＋Ｖに接
続した発光ダイオード（ＬＥＤ）２４０、及びセンサ回
路２２８にコレクタ接続したフォトトランジスタ２４４
を含む。１つの好適なセンサは、Ｓｋａｎ−Ａ−Ｍａｔ
ｉｃ　Ｃｏｒｐ、で製造されている８１３２２４型のも
のである。ダイオード２４０により発射された光がウェ
ファによって反射され、フォトトランジスタ２４４に受
信されて、出力電流がもたらされる。センサ回路２２８
は、増幅器２４８を含む。増幅器２４８は、フォトトラ
ンジスタ２４４の出力を受信して、それを論理比較可能
な信号へと変換する。そういう増幅器は当分野で良く知
られている。増幅器２４８の出力は、ディ・ゾタルカウ
ンタ２５０の「禁止」入力に接続される。このカウンタ
は、１又は２以上の７４１６１型の２進法カウンタであ
って良い。上に述べた、昇降ブレード１５０の移動を感
知するスイッチ２２４は、カウンタ２５０の「可能」人
力及び「リセット」入力へと接続されている。周波数Ｆ
で動作する自走発振器２５２が、カウンタ２５０の「カ
ウント」又は「クロック」入力に接続する出力を有する
。カウンタ２５０はこうして、可能状態のときに周波ａ
Ｆで前進する。カウンタ２５０の出力は、ディジタル比
較器２５４の１組の入力に接続されている。この比較器
２５４は、例えばｌ又は２以上の７４８５型比較器であ
って良い。「所定カウント」信号が、比較器２５４の他
の組の入力に接続されている。比較器２５４は、２組の
入力を比較して、等しい殊或いは何れが大きいかを決定
する。

ここで述べたウェファ移送装置の自動動作艇、システム
コントローラ（図示せず）により制御される。コントロ
ーラは、所定の時刻に所定の時間間隔だけ各機構を作動
させる―コントローラは、専用電子コントローラであっ
て良く、或いは適切なインターフェース回路を通じて動
作する計算機であって良い。

先ず最初に操作者ｉ、カセット搬送手段１２６の右端に
位置したカセットホルダー１６０内にカセット１１０．
１１１を置き、そして装置の動作を開始する。デールリ
パーサ１６２及び駆動手段１６４によりホルダー１６０
が移動する。先ず予備的アラインメントのための手段１
２８の上方に位置し、次にホルダーは、昇降ブレード１
５０の真上にウェファの１つがくるような位置へと動く
。

駆動手段１５２及びクランク手段１５４の動作によって
、ブレード１５０が上昇して、ウェファの下方に接触す
る。ブレード１５０は、カセット１１０を貫いて上方に
移動し、開、いたチェンバドア１３４に隣接した位置へ
ウェファを上昇させる。

真空チャック１３８は、チェンバドア１３４からウェフ
ァ受取位置へと外方に伸び、ウェファ後面に真空吸引力
を作用させてウェファを保持する。

その後に、昇降プ゛レード１５０が下降する。ウェファ
は所望の向きへと回転され、ドア１３４がウェファ処理
のため閉じられる。ウェファの処理が完了すると、チェ
ンバドア１３４が開けられ、真空チャックが伸び、昇降
ブレード１５０がウェファに係合するように上昇する。

そして、真空チャック１３８がウェファを開放して、゛
昇降ブレード１５０がウェファを降下させてカセットへ
と戻す。

この操作が、カセット１１０．１１１内のウェファの各
々に対して反復される。

昇降ブレード１５０が下方位置にある場合においては、
スイッチ２２４は閉鎖状態にあってカウンタ２５０を禁
止している。そして、センサ２２０に受信される反射ビ
ームはない。昇降ブレード１５０が上昇を始めると、ス
イッチ２２４が作動されて開位置になシ、同時にカウン
タ２５０をリセットし「可能」にする。発振器２５２は
、その周波数Ｆの速度でカウンタ２５０の状態を前進さ
せる。昇降ブレード１５０及びウェファが上昇する間に
、カウンタは前進を続ける。このカウンタ前進は、第４
ｂ図に示すようにウェファの上方縁部がビーム２２２を
遮断するまで、続く。このときに、フォトトランジスタ
２２４がウェファ２２６からの反射ビーム２２２を受信
し、増幅器２４８への出力を生ずる。次に増幅器２４８
は、カウンタ２５０のカウンティング（前進）を禁止す
る信　　　□号を生ずる。このようにして、昇降ブレー
ド１５０の移動開始からウェファ２２６のビーム２２２
の遮断までの間に、カウンタが前進する。カウンタ２５
０のカウントの数Ｎは、Ｎ＝ＦＴで与えられる。ここに
Ｔは、ウェファがセンサ２２０の高さにまで上昇するの
に要する時間間隔でおる。もし゛ウェファが存在しない
（第４Ｃ図参照）とすると、昇１４ブレード１５０自身
がセンサ２２０の高さにまで上昇してビーム２２２を遮
断するまで、センサ２２０は反射ビーム２２２を受信し
ない。もしウェファが破損（第４ｄ図参照）していると
すると、破損ウェファ２３０の残っている部分がセンサ
２２０の高さにまで上昇して初めて、反射ビーム２２２
が受信される。何れの場合も、カウンタ２５０が禁止さ
れるまでに多くの時間を費し、カウンタ内のカウント数
は大きくなる。

カウンタ２５０が増゛幅器２４８によシ禁止された後、
カウンタ２５０内のカウントＮが比較器２５４によって
評価され、カウントＮがウェファの欠落又は破損を示し
ているか否かを決定する。

昇降ブレード１５０の速度ｖ１ウェファ２２６とセンサ
２２０との距離ｄ、及び発振器２５２の周波数Ｆが知れ
ている。それにより所定の（期待される）カウンタＰＣ
を決定でき、それが比較器２５４に供給される。カウン
タ２５０内の実際のカウントＮが所定カウントＰＣに二
数するときに、比較器２５４は、１の状態にある「ウェ
ファ存在」信号を生ずる。このような論理信号「１」は
、破損していないウェファの存在を表す。実際のカウン
トＮと所定カウントＰＣとが等しくないときには、「ウ
ェファ存在」信号は他の状態になる。すなわち、論理信
号「０」が発せられ、ウェファの欠落又は破損を表す。

そして適切な補償作動が採られる。センサ回路２２８は
、所定カウント人力を変化させることによってプログラ
ム可能である。

それにより、速度ｖ１距離ｄ１周波数Ｆの変化に対応で
きる。ウェファ２２６の頂部とビーム２２２との間の距
離ｄがウェファ寸法に従って異なるので、それに対応し
て所定カラン）ＰＣが変化し得ることを理解されたい。

パネルスイッチから又はコンピュータから、所定カウン
ト信号を供給可能である。

カウンタ２５０の開始点及び停止点が任意に選択可能で
あることを理解されたい。例えば、ウェファ２２６の上
方の任意の都合良い距離ｄのところにセンサ２２０を設
定可能でｓｂ、またスイッチ２２４は昇降ブレード１５
０の中間位置を感知しても良い。発振器２５２０周波数
Ｆは、破損ウェファを検出するに要する分解能をもたら
すのに十分なほど高くなければならない。また、昇降ブ
レード１５０及びウェファにおける寸法偏差に応答して
誤った「ウェファ存在」信号を生ずることのないように
、あまシ高くてもいけない。本発明の一実施例において
は、周波数Ｆは約１００ｆｌｚである。第２図のウェフ
ァ移送装置で用いるクランク手段１５４は、昇降ブレー
ド１５００種々の昇降速度Ｖをもたらす。昇降ブレード
１５０を距離ｄだけ上昇させるのに要する時間Ｔは、以
下の式により決定される。

Ｖ＝昇降ブレード１５０の瞬間速度 ｙ＝昇降ブレード１５０の鉛直位置 （ｙ＝０で最下位置） ／ そして所定カラン）ＰＣは以下の式で与えられる。

速度Ｖが一定の場合には、ＰＣは以下のようになる。

ｄ ｐｃ＝− ■ ウェファが破損している場合に、本装置はそれを検出す
るけれども、ウェファの中央上方部分の破損のみを検出
する。こうして例えば、ウェファの左側又は右側が破」
している場合には、そのことは中央に配置された単一の
センサ２２０のみでは検出されない。第３図に示すよう
にウェファに関して種々の位置に補足的センサ２５６を
追加することによって、検出装置の有用性を改良するこ
とができる。補足的センサ２５６の各々は、ウェファ上
の点の上方に位置され、別々のセンサ回路に接続されて
いる。何れか１つの「ウェファ存在」信号が欠けていれ
ば、ウェファが欠落又は破損していることになる。セン
サ２５６の各々が距離ｄだけウェファの上方に位置して
いるとすると、破損していないウェファによって全セン
サ２５６が同時に反応する。

本発明に従ったセンサ装置としてウェファ反射方式のセ
ンサを説明してきたけれども、ウェファの両側に放射器
とセンサとを位置しても良いと七は明白である。その場
合に、放射器からのビームは通常、センナに受信される
。ウェファが放射器とセンサとの間を通過すると、ビー
ムが遮られて、センサ回路へと信号が供給される。この
型のセンサは、半透明のＳＯＳウェファに対しては、信
頼性が悪い。

上述のように、ウェファ移送装置におけるウェファの欠
落又は破損を感知するための装置が本発明によってもた
らされ、それは簡単で低費用であり、且つ種々のウェフ
ァ寸法及び種々のウェファ移送速度に対応できるようプ
ログラム可能である。

これまで、本発明の実施例について説明してきたけれど
も、種々の変化が可能であることは当業者には明白であ
ろう。

【図面の簡単な説明】

第１図は、イオン注入装置を上から見た概略図である。 第２図は、自動ウェファ移送装置の簡略側面図であり、
昇降ブレードは下方位置にある。 第３図は、本発明に従ったセンサ装置のブロック図であ
る。 第４ａ〜４ｄ図は、ウェファ移送機構内のウェファの存
在を検出するセンサの動作を示しているう第５図は、本
発明に従ったセンサ装置のブロック図である。 〔主要符号の説明〕 ２・・・ターミナル　　　　　６・・・ガス操作系８・
・・イオン源　　　　　　１０・・・電源１８・・・イ
オンビーム　　　２０・・・分析磁石２２・・・分解開
口　　　　　２４・−・可変スリット２６・・・加速管
　　　　　　２８・・・４電極レンズ４０・・・Ｙ偏向
プレート　　４２・・・Ｘ偏向プレート４４・・・走査
系　　　　　　４６・・・２重ターｒット室４８．４９
・・・ビーム画成マスク ５０．５１・・・ファラデーケージ ５２．５４・・・自動ウェファ移送装置５６、．５８・
・・ターダット位置 ６０・・・ビーム軸線　　　　６２・・・ビームダンプ
１１０．１１１・・・カセット １１２・・・ウェファ　　　　１１４・・・ウェファ処
理室１２０・・・ウェファ操作手段 １２４・・・移送手段　　　　１２６・・・カセット搬
送手段１３４・・・チェンバドア　　１３６・・・ドア
移動手段１３８・・・真空チャック　　１４０・・・ハ
ウジング１５０・・・昇降ブレード　　１５２・・・駆
動手段１５４・・・クランク手段　　１６０・・・カセ
ットホルダー１６２・・・？−ルリパーサ　１６３・・
・ガイドシャフト２２０・・・センサ　　　　　２２２
・・・ビーム２２４・・・スイッチ　　　　２２６・・
・ウェファ２２８・・・センサ回路　　　２３０・・・
破損ウェファ２４０・・・発光ダイオード　２４２・・
・抵抗器２４４・・・フォトトランジスタ ２４８・・・増幅器　　　　　２５０・・・デイノタル
ヵウンタ２５２・・・発振器　　　　　２５４・・・比
較器特許出願人　　・々リアン・アソシェイッ・インコ
ーポレイテッド 手続補正書（方側 昭和５８年　６月＞０日 特許庁長官　若　杉和　夫　殿 １、事件の表示　　昭和５８年特許願第７９４７４号２
、発明の名称　ウェファ欽１虐請洟村硼３、補正をする
者 事件との関係　　特許出願人 住　所（居所） 氏　名（名称）　　　パリアン・アソシエイツーインコ
ーポレイテッド４、代理人 ６、補正の対象　図面（企図）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　ウェファ移送機構における半導体ウェファの欠落
   又は破損を検出するための装置であって、以下の手段ａ
   ）〜ｆ）から構成され、ｇ）の特徴を有する装置： ＆）前記ウェファ移送機構を第１の位置から所定の径路
   に沿って移動させるだめの移動手段： ｂ）発振器手段； Ｃ）該発振器の出力に接続したカウント入力を有するカ
   ウンタ手段： ｄ）前記第１の位置からの前記ウェファ移送機構の移動
   を感知して、前記カウンタ手段の動作を可能にするよう
   動作する第１の感知手段； ｅ）前記径路に沿った第２の位置においてウェファの存
   在を感知して、−前記カウンタ手段の動作を禁止するよ
   う動作する第２の感知手段： ｆ）前記カウンタ手段内の実際のカウントと、破損して
   いないウェファの前記第２の位置への移動に要する時間
   に対応する所定のカウントとを比較するよう動作する比
   較器手段であって、実際のカウントと所定カウントとが
   等しいときには１の状態の出力信号をもたらし、それら
   が等しくないときには他の状態の出力信号をもたらすと
   ころの比較器手段；並びに ｇ）前記他の状態の出力信号がウェファ移送機構内のウ
   ェファの欠落又は破損を表すこと。 ２、特許請求の範囲第１項に記載された装置であって： 前記移動手段が、 ウェファの縁に係合するだめの溝を設けた弧状前縁を有
   する昇降ブレード、及び 該昇降グレードを上昇下降させるための昇降手段、 を含むところの装置。 ３、特許請求の範囲第２項に記載された装置であって 前記第１の感知手段が、 前記第１の位置からの前記昇降ブレードの移動時に作動
   するよう位置されたスイッチ、を含むところの装置。 ４、特許請求の範囲第１項に記載された装置であって： 前記第２の感知手段が、 方向性ビームをもたらす発光ダイオード、及び 前記ビームを感知するよう動作するフォトトランジスタ
   、 を含むところの装置。 ５、特許請求の範囲第４項に記載された装置であって 前記フォトトランジスタが前記ウェファで反射されたビ
   ームを受信するべく位置づけられている、ところの装置
   。