JPS58215426A - 可溶性ポリシラスチレンの架橋法 - Google Patents

可溶性ポリシラスチレンの架橋法

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JPS58215426A
JPS58215426A JP9558582A JP9558582A JPS58215426A JP S58215426 A JPS58215426 A JP S58215426A JP 9558582 A JP9558582 A JP 9558582A JP 9558582 A JP9558582 A JP 9558582A JP S58215426 A JPS58215426 A JP S58215426A
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JP
Japan
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irradiation
polymer
polysilastyrene
soluble
crosslinking
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JP9558582A
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JPS6154329B2 (ja
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ロバート、シー、ウエスト
ローレンス、デイー、デイビツト
ピーター、デイー、ジユロビツチ
キンバーリー、エル、ステアリー
ケー、エス、ビー、スリミバサン
ヒユク、ユー
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Wisconsin Alumni Research Foundation
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、可溶性ポリシラスチレンに、盪た架橋による
その改質法に、関する。
発明の背景 米国特許第、2. j J 3.00 j 、同11.
.220.t00゜同K 、2 A O,7f Oおよ
び同41.3.2 +、り0/号明細書にはポリマーの
製造法が記載されていて、その方法では種々のモル比の
フェニルメチルジクロロシランとジメチルジクロロシラ
ンとを、ナトリウム、カリウムまたはナトリウムカリウ
ム合金からなる還元性触媒の存在下に、溶媒溶液の形で
、反応させている。製造されるフェニルメチルポリシラ
ンポリマーのあるものは、熱可塑性があること、また可
溶性であってフィルム、被覆その他をつくるための溶液
となること、という性質があり、また昇温下に加熱して
架橋(キュア)することが行なわれてきた。
発明の目的 本発明の目的は、ポリシラスチレンポリマー材料を被覆
、繊維、フィルムに賦形し、また種々の形状に含浸およ
び成型したのち、該ポリマー材料の化学抵抗性、溶解性
′b・よび強jすを改変するための便利な手段を411
1供することである。ここで、この手段とは、ポリシラ
スチレンのポリマーを電子ビーム照射またけ可″f見元
より涙量の短かい電磁スペクトル中の照射に付すことか
らなるものである。
発明の概要 本発明の実h6Aによれt、L′、フェニル基を含有す
るポリシラスチレンポリマーを照射に付して架橋を促進
させて、このポリマーの物理的および化学的性質を改質
しあるいし」架橋を行なわぜる。
す1.Cわち、庫発明によれば、ポリシラスチレンの可
溶性ポリマ・−を、このポリマーの架橋を生じさせるの
に必要な光111合を訪発させるのに十分な址の、電子
ビーム照射および可視光の波長より短かい波長の電値ス
ペクトル中の照射からなる照射にさらすことを特徴とす
るポリシラスチレンの可溶性ポリマーの架橋法が提供さ
れる。この場合の照射の好ましい具体例は、紫外線照射
、ガンマ照射、X−線照射および電子ビーム照射である
特に有益であることが判ったのは、ポリシラスチレンポ
リマーの融解物から曳糸した繊維に波長3オOnmの紫
外線を照射してこの繊維の強度を高めて、その後にこれ
を約/200℃の温度で炭化ケイ素繊維に変換させるの
に便利なようにすることである。どの架橋反応の効率は
高くて、紫外線源に短時間さらすだけで繊維の強化に十
分である。
同様に、ポリシラスチレンポリマーの溶媒溶液から析出
させたフィルムを紫外光照射によって改質して、リソグ
ラフィーでのフォトレジストなどとして使用するのに適
した化学抵抗性ないし溶解性のものとすることができる
本発明の広い概念を述べたので、下記の実施例によって
本発明の具体例を示す。
本発明による照射に適したポリマーは、本発明者らの発
明にかかる米国特許第% 、2 A O,7ff 0号
および同II、32IA90/号明細書に詳記された方
法によって製造される。
ポリマーは真空蒸留その他によって乾燥することができ
、また残ったポリマーは水で洗って塩分を除く。常に、
有偵層は光が当たらないようにする。
生成ポリマーは収率約VO%またはそれ以上で得られる
が、とJUはキシレンによる溶媒分離等による分別にイ
ス1シて、炭化水素溶媒に、特にテトラヒドロンランに
、可溶のポリシラスチレンが残るようにすることがでへ
る。ポリシラスチレンは、テトラヒドロンラン−イソプ
ロパノール系から分別して、分子量が3jθ、000程
度と高いフラクションと粘稠油分としてのオリゴマーと
を得ることができる。
本発明の実施によつでつくられるポリシラスチレンポリ
マーC」、中東j戊型1吻、フィルム、または繊維に賦
形することがで〜、あるいはこのポリマーは熱間融解物
−止たt、1イーの溶液から成型、鋳造または紡糸する
ことができる。このポリマーの特に適した用途はケイ素
質物質の被覆に使うことであって、その場合にはケイ素
質物質の表面の酸化ケイ素基との間で強固な結合を実現
するととができる。セラミックにこのポリマーを塗布な
いし含浸させてから焼成してこのポリマーを炭化ケイ素
に変換させろということによって、セラミックの強度を
高めることができる。
本発明のポリシラスチレンポリマーから加圧成型または
溶液からの鋳造等によってつくることのできるフィルム
は、良好な絶縁拐(σ< to−120−1cIn−1
導電度)であるけれども、その導電性は五フク化アンチ
モン(SbF、)またd゛五フッ化ヒ素(Aa F5 
)でドーピングを行なうことによって有意に増大させる
ことができる。
このポリマーを特徴づけるものは、330nm附近での
強い紫外吸収(ε=rooo/ケイ素原子)である。こ
のポリマーはまた、紫外において光活性である。溶液中
では、3jOnmまたはそれよりルバーミエーションク
ロマI・グラフィーニヨル)ことによって示される〕。
しかし、塊状の試料では、照射によってポリマーiJ不
溶性ではあるが膨潤可能な形となり、モジュラス↓・よ
び弾性回復が犬きくなって、架橋が起ったことが示され
る(本発明者らによるJ、 A、 C,S、第103巻
、第24を号、第7362−7334’頁参照)。
他のポリシランと同(ポに、このフェニルメチルシラン
ポリマーe」高温に加熱すると炭化ケイ素に変化する。
光架橋t」、この焼成中の構造強度を維持するのに止要
である。すなわち、このポリマーの架橋した繊維を垂直
に保持してアルゴン中で/100″Cに加熱したところ
、SICへの変換の過程に>いてその形状Q」保持され
た。
このポリマーt1ま1.−、シート捷たは塊状形に賦形
してから不活作条fl下に約/、200℃の温間で熱分
解して、このポリマーを繊維、シート、塊状形その仙の
形状の炭化ケイ素に変換させることができる。
一一−)lNo−、、、、=1.1 なお、ポリシラスチレン自身は公知のポリマーであって
、これはケイ素−ケイ素結合にフェニル側鎖を持ってい
て、ポリスチレンの炭素質の構造と類似したものである
。このポリマーは前記の米国特許I第11,2tO,7
10号および同’1,3.211.りO/号明細曹およ
びJ、 Am、Chem、S oc、第103巻、第2
を号(/りf4)第7312−73311頁に開示され
た方法によって製造することができる。具体的には、た
とえば、フェニルメチル/ジクロルシランとジメチルジ
クロルシランとの適当比率の混合物乞たとえばナトリウ
ム金属とトルエン中で90− /1 ℃の温度で反応さ
せると塩化す) IIウムの副成を伴なって共縮合が行
なわれて、目的ポリマーが得られる。
架橋のための照射操作そのものもそれ自身公知である。
たとえば、繊維(たとえば、フェニルメチルジクロルシ
ランとジメチルジクロルシッフ801モル対1モル比混
合物からつくられたポリマーから溶融紡糸して得たもの
)を弱い紫外線に/!i秒間さらせばよい(架橋が直ち
に起ることは、柔軟であった繊維が剛直になることによ
って明らかである)。断面積の大きいものには照射時間
を長くすればよく、また必gK応じて浸透性の大きい照
射線たとえばガンマmまたはX−線を使用することがで
きる。
本発明の精神な逸脱することなしに、組成、操作その他
の1細について改変が可能であることはいうまでもない
出願人代理人  猪  股     清第1頁の続き 0発 明 者 ピータ−・ディー・ジュロピッチ アメリカ合衆国ライスコンシン 州マジソン・ウェスト・オリン 14 0発 明 者 キンバーリー・エル・ステアリアメリカ
合衆国ライスコンシン 州マジソン・サウス・フェア・ オークス2 0発 明 者 ケー・ニス・ビー・スリミバサン インド国マドラスー600020アジ ャール・セントラル・レザー・ リサーチ・インスチチュート内 (番地なし) (7多発 明 者 ヒュク・ニー アメリカ合衆国ライスコンシン 州マジソン・ユマ・ドライブ41

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 /、ポリシラスチレンの可溶性ポリマーを、このポリマ
    ーの架橋を生じさせるのに必要な光重合を誘発させるの
    に十分な量の、電子ビーム照射および可視光の波長より
    短い波長の電磁スペクトル中の照射からなる照射にさら
    すことを特徴とする、ポリシラスチレンの可溶性ポリマ
    ーの架橋法。 2照射が紫外線照射である、特許請求の範囲第1項記載
    の方法。 3 照射がガンマ照射である、特許請求の範囲第1項記
    載の方法。 久照射がX−線照射である、特許請求の範11!]第7
    項記載の方法。 j照射が電子ビーム照射である、特許請求の範囲第1項
    記載の方法。
JP9558582A 1982-06-03 1982-06-03 可溶性ポリシラスチレンの架橋法 Granted JPS58215426A (ja)

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JPS6154329B2 JPS6154329B2 (ja) 1986-11-21

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6246963A (ja) * 1985-08-27 1987-02-28 帝人株式会社 シリコンカ−バイド焼結体の製造方法
JPS62256710A (ja) * 1985-08-16 1987-11-09 Teijin Ltd シリコンカ−バイド繊維,フイルムの製造方法
JPS63234069A (ja) * 1987-03-20 1988-09-29 Showa Electric Wire & Cable Co Ltd 耐熱性塗料
JPS643073A (en) * 1987-02-24 1989-01-06 Teijin Ltd Production of molded article of silicon carbide
US4897229A (en) * 1988-10-12 1990-01-30 Teijin Limited Process for producing a shaped silicon carbide-based ceramic article
US11760842B2 (en) * 2019-04-08 2023-09-19 Merck Patent Gmbh Composition comprising block copolymer, and method for producing siliceous film using the same

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