JPS58215426A - 可溶性ポリシラスチレンの架橋法 - Google Patents
可溶性ポリシラスチレンの架橋法Info
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- JPS58215426A JPS58215426A JP9558582A JP9558582A JPS58215426A JP S58215426 A JPS58215426 A JP S58215426A JP 9558582 A JP9558582 A JP 9558582A JP 9558582 A JP9558582 A JP 9558582A JP S58215426 A JPS58215426 A JP S58215426A
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Landscapes
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、可溶性ポリシラスチレンに、盪た架橋による
その改質法に、関する。
その改質法に、関する。
発明の背景
米国特許第、2. j J 3.00 j 、同11.
.220.t00゜同K 、2 A O,7f Oおよ
び同41.3.2 +、り0/号明細書にはポリマーの
製造法が記載されていて、その方法では種々のモル比の
フェニルメチルジクロロシランとジメチルジクロロシラ
ンとを、ナトリウム、カリウムまたはナトリウムカリウ
ム合金からなる還元性触媒の存在下に、溶媒溶液の形で
、反応させている。製造されるフェニルメチルポリシラ
ンポリマーのあるものは、熱可塑性があること、また可
溶性であってフィルム、被覆その他をつくるための溶液
となること、という性質があり、また昇温下に加熱して
架橋(キュア)することが行なわれてきた。
.220.t00゜同K 、2 A O,7f Oおよ
び同41.3.2 +、り0/号明細書にはポリマーの
製造法が記載されていて、その方法では種々のモル比の
フェニルメチルジクロロシランとジメチルジクロロシラ
ンとを、ナトリウム、カリウムまたはナトリウムカリウ
ム合金からなる還元性触媒の存在下に、溶媒溶液の形で
、反応させている。製造されるフェニルメチルポリシラ
ンポリマーのあるものは、熱可塑性があること、また可
溶性であってフィルム、被覆その他をつくるための溶液
となること、という性質があり、また昇温下に加熱して
架橋(キュア)することが行なわれてきた。
発明の目的
本発明の目的は、ポリシラスチレンポリマー材料を被覆
、繊維、フィルムに賦形し、また種々の形状に含浸およ
び成型したのち、該ポリマー材料の化学抵抗性、溶解性
′b・よび強jすを改変するための便利な手段を411
1供することである。ここで、この手段とは、ポリシラ
スチレンのポリマーを電子ビーム照射またけ可″f見元
より涙量の短かい電磁スペクトル中の照射に付すことか
らなるものである。
、繊維、フィルムに賦形し、また種々の形状に含浸およ
び成型したのち、該ポリマー材料の化学抵抗性、溶解性
′b・よび強jすを改変するための便利な手段を411
1供することである。ここで、この手段とは、ポリシラ
スチレンのポリマーを電子ビーム照射またけ可″f見元
より涙量の短かい電磁スペクトル中の照射に付すことか
らなるものである。
発明の概要
本発明の実h6Aによれt、L′、フェニル基を含有す
るポリシラスチレンポリマーを照射に付して架橋を促進
させて、このポリマーの物理的および化学的性質を改質
しあるいし」架橋を行なわぜる。
るポリシラスチレンポリマーを照射に付して架橋を促進
させて、このポリマーの物理的および化学的性質を改質
しあるいし」架橋を行なわぜる。
す1.Cわち、庫発明によれば、ポリシラスチレンの可
溶性ポリマ・−を、このポリマーの架橋を生じさせるの
に必要な光111合を訪発させるのに十分な址の、電子
ビーム照射および可視光の波長より短かい波長の電値ス
ペクトル中の照射からなる照射にさらすことを特徴とす
るポリシラスチレンの可溶性ポリマーの架橋法が提供さ
れる。この場合の照射の好ましい具体例は、紫外線照射
、ガンマ照射、X−線照射および電子ビーム照射である
。
溶性ポリマ・−を、このポリマーの架橋を生じさせるの
に必要な光111合を訪発させるのに十分な址の、電子
ビーム照射および可視光の波長より短かい波長の電値ス
ペクトル中の照射からなる照射にさらすことを特徴とす
るポリシラスチレンの可溶性ポリマーの架橋法が提供さ
れる。この場合の照射の好ましい具体例は、紫外線照射
、ガンマ照射、X−線照射および電子ビーム照射である
。
特に有益であることが判ったのは、ポリシラスチレンポ
リマーの融解物から曳糸した繊維に波長3オOnmの紫
外線を照射してこの繊維の強度を高めて、その後にこれ
を約/200℃の温度で炭化ケイ素繊維に変換させるの
に便利なようにすることである。どの架橋反応の効率は
高くて、紫外線源に短時間さらすだけで繊維の強化に十
分である。
リマーの融解物から曳糸した繊維に波長3オOnmの紫
外線を照射してこの繊維の強度を高めて、その後にこれ
を約/200℃の温度で炭化ケイ素繊維に変換させるの
に便利なようにすることである。どの架橋反応の効率は
高くて、紫外線源に短時間さらすだけで繊維の強化に十
分である。
同様に、ポリシラスチレンポリマーの溶媒溶液から析出
させたフィルムを紫外光照射によって改質して、リソグ
ラフィーでのフォトレジストなどとして使用するのに適
した化学抵抗性ないし溶解性のものとすることができる
。
させたフィルムを紫外光照射によって改質して、リソグ
ラフィーでのフォトレジストなどとして使用するのに適
した化学抵抗性ないし溶解性のものとすることができる
。
本発明の広い概念を述べたので、下記の実施例によって
本発明の具体例を示す。
本発明の具体例を示す。
本発明による照射に適したポリマーは、本発明者らの発
明にかかる米国特許第% 、2 A O,7ff 0号
および同II、32IA90/号明細書に詳記された方
法によって製造される。
明にかかる米国特許第% 、2 A O,7ff 0号
および同II、32IA90/号明細書に詳記された方
法によって製造される。
ポリマーは真空蒸留その他によって乾燥することができ
、また残ったポリマーは水で洗って塩分を除く。常に、
有偵層は光が当たらないようにする。
、また残ったポリマーは水で洗って塩分を除く。常に、
有偵層は光が当たらないようにする。
生成ポリマーは収率約VO%またはそれ以上で得られる
が、とJUはキシレンによる溶媒分離等による分別にイ
ス1シて、炭化水素溶媒に、特にテトラヒドロンランに
、可溶のポリシラスチレンが残るようにすることがでへ
る。ポリシラスチレンは、テトラヒドロンラン−イソプ
ロパノール系から分別して、分子量が3jθ、000程
度と高いフラクションと粘稠油分としてのオリゴマーと
を得ることができる。
が、とJUはキシレンによる溶媒分離等による分別にイ
ス1シて、炭化水素溶媒に、特にテトラヒドロンランに
、可溶のポリシラスチレンが残るようにすることがでへ
る。ポリシラスチレンは、テトラヒドロンラン−イソプ
ロパノール系から分別して、分子量が3jθ、000程
度と高いフラクションと粘稠油分としてのオリゴマーと
を得ることができる。
本発明の実施によつでつくられるポリシラスチレンポリ
マーC」、中東j戊型1吻、フィルム、または繊維に賦
形することがで〜、あるいはこのポリマーは熱間融解物
−止たt、1イーの溶液から成型、鋳造または紡糸する
ことができる。このポリマーの特に適した用途はケイ素
質物質の被覆に使うことであって、その場合にはケイ素
質物質の表面の酸化ケイ素基との間で強固な結合を実現
するととができる。セラミックにこのポリマーを塗布な
いし含浸させてから焼成してこのポリマーを炭化ケイ素
に変換させろということによって、セラミックの強度を
高めることができる。
マーC」、中東j戊型1吻、フィルム、または繊維に賦
形することがで〜、あるいはこのポリマーは熱間融解物
−止たt、1イーの溶液から成型、鋳造または紡糸する
ことができる。このポリマーの特に適した用途はケイ素
質物質の被覆に使うことであって、その場合にはケイ素
質物質の表面の酸化ケイ素基との間で強固な結合を実現
するととができる。セラミックにこのポリマーを塗布な
いし含浸させてから焼成してこのポリマーを炭化ケイ素
に変換させろということによって、セラミックの強度を
高めることができる。
本発明のポリシラスチレンポリマーから加圧成型または
溶液からの鋳造等によってつくることのできるフィルム
は、良好な絶縁拐(σ< to−120−1cIn−1
導電度)であるけれども、その導電性は五フク化アンチ
モン(SbF、)またd゛五フッ化ヒ素(Aa F5
)でドーピングを行なうことによって有意に増大させる
ことができる。
溶液からの鋳造等によってつくることのできるフィルム
は、良好な絶縁拐(σ< to−120−1cIn−1
導電度)であるけれども、その導電性は五フク化アンチ
モン(SbF、)またd゛五フッ化ヒ素(Aa F5
)でドーピングを行なうことによって有意に増大させる
ことができる。
このポリマーを特徴づけるものは、330nm附近での
強い紫外吸収(ε=rooo/ケイ素原子)である。こ
のポリマーはまた、紫外において光活性である。溶液中
では、3jOnmまたはそれよりルバーミエーションク
ロマI・グラフィーニヨル)ことによって示される〕。
強い紫外吸収(ε=rooo/ケイ素原子)である。こ
のポリマーはまた、紫外において光活性である。溶液中
では、3jOnmまたはそれよりルバーミエーションク
ロマI・グラフィーニヨル)ことによって示される〕。
しかし、塊状の試料では、照射によってポリマーiJ不
溶性ではあるが膨潤可能な形となり、モジュラス↓・よ
び弾性回復が犬きくなって、架橋が起ったことが示され
る(本発明者らによるJ、 A、 C,S、第103巻
、第24を号、第7362−7334’頁参照)。
溶性ではあるが膨潤可能な形となり、モジュラス↓・よ
び弾性回復が犬きくなって、架橋が起ったことが示され
る(本発明者らによるJ、 A、 C,S、第103巻
、第24を号、第7362−7334’頁参照)。
他のポリシランと同(ポに、このフェニルメチルシラン
ポリマーe」高温に加熱すると炭化ケイ素に変化する。
ポリマーe」高温に加熱すると炭化ケイ素に変化する。
光架橋t」、この焼成中の構造強度を維持するのに止要
である。すなわち、このポリマーの架橋した繊維を垂直
に保持してアルゴン中で/100″Cに加熱したところ
、SICへの変換の過程に>いてその形状Q」保持され
た。
である。すなわち、このポリマーの架橋した繊維を垂直
に保持してアルゴン中で/100″Cに加熱したところ
、SICへの変換の過程に>いてその形状Q」保持され
た。
このポリマーt1ま1.−、シート捷たは塊状形に賦形
してから不活作条fl下に約/、200℃の温間で熱分
解して、このポリマーを繊維、シート、塊状形その仙の
形状の炭化ケイ素に変換させることができる。
してから不活作条fl下に約/、200℃の温間で熱分
解して、このポリマーを繊維、シート、塊状形その仙の
形状の炭化ケイ素に変換させることができる。
一一−)lNo−、、、、=1.1
なお、ポリシラスチレン自身は公知のポリマーであって
、これはケイ素−ケイ素結合にフェニル側鎖を持ってい
て、ポリスチレンの炭素質の構造と類似したものである
。このポリマーは前記の米国特許I第11,2tO,7
10号および同’1,3.211.りO/号明細曹およ
びJ、 Am、Chem、S oc、第103巻、第2
を号(/りf4)第7312−73311頁に開示され
た方法によって製造することができる。具体的には、た
とえば、フェニルメチル/ジクロルシランとジメチルジ
クロルシランとの適当比率の混合物乞たとえばナトリウ
ム金属とトルエン中で90− /1 ℃の温度で反応さ
せると塩化す) IIウムの副成を伴なって共縮合が行
なわれて、目的ポリマーが得られる。
、これはケイ素−ケイ素結合にフェニル側鎖を持ってい
て、ポリスチレンの炭素質の構造と類似したものである
。このポリマーは前記の米国特許I第11,2tO,7
10号および同’1,3.211.りO/号明細曹およ
びJ、 Am、Chem、S oc、第103巻、第2
を号(/りf4)第7312−73311頁に開示され
た方法によって製造することができる。具体的には、た
とえば、フェニルメチル/ジクロルシランとジメチルジ
クロルシランとの適当比率の混合物乞たとえばナトリウ
ム金属とトルエン中で90− /1 ℃の温度で反応さ
せると塩化す) IIウムの副成を伴なって共縮合が行
なわれて、目的ポリマーが得られる。
架橋のための照射操作そのものもそれ自身公知である。
たとえば、繊維(たとえば、フェニルメチルジクロルシ
ランとジメチルジクロルシッフ801モル対1モル比混
合物からつくられたポリマーから溶融紡糸して得たもの
)を弱い紫外線に/!i秒間さらせばよい(架橋が直ち
に起ることは、柔軟であった繊維が剛直になることによ
って明らかである)。断面積の大きいものには照射時間
を長くすればよく、また必gK応じて浸透性の大きい照
射線たとえばガンマmまたはX−線を使用することがで
きる。
ランとジメチルジクロルシッフ801モル対1モル比混
合物からつくられたポリマーから溶融紡糸して得たもの
)を弱い紫外線に/!i秒間さらせばよい(架橋が直ち
に起ることは、柔軟であった繊維が剛直になることによ
って明らかである)。断面積の大きいものには照射時間
を長くすればよく、また必gK応じて浸透性の大きい照
射線たとえばガンマmまたはX−線を使用することがで
きる。
本発明の精神な逸脱することなしに、組成、操作その他
の1細について改変が可能であることはいうまでもない
。
の1細について改変が可能であることはいうまでもない
。
出願人代理人 猪 股 清第1頁の続き
0発 明 者 ピータ−・ディー・ジュロピッチ
アメリカ合衆国ライスコンシン
州マジソン・ウェスト・オリン
14
0発 明 者 キンバーリー・エル・ステアリアメリカ
合衆国ライスコンシン 州マジソン・サウス・フェア・ オークス2 0発 明 者 ケー・ニス・ビー・スリミバサン インド国マドラスー600020アジ ャール・セントラル・レザー・ リサーチ・インスチチュート内 (番地なし) (7多発 明 者 ヒュク・ニー アメリカ合衆国ライスコンシン 州マジソン・ユマ・ドライブ41
合衆国ライスコンシン 州マジソン・サウス・フェア・ オークス2 0発 明 者 ケー・ニス・ビー・スリミバサン インド国マドラスー600020アジ ャール・セントラル・レザー・ リサーチ・インスチチュート内 (番地なし) (7多発 明 者 ヒュク・ニー アメリカ合衆国ライスコンシン 州マジソン・ユマ・ドライブ41
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 /、ポリシラスチレンの可溶性ポリマーを、このポリマ
ーの架橋を生じさせるのに必要な光重合を誘発させるの
に十分な量の、電子ビーム照射および可視光の波長より
短い波長の電磁スペクトル中の照射からなる照射にさら
すことを特徴とする、ポリシラスチレンの可溶性ポリマ
ーの架橋法。 2照射が紫外線照射である、特許請求の範囲第1項記載
の方法。 3 照射がガンマ照射である、特許請求の範囲第1項記
載の方法。 久照射がX−線照射である、特許請求の範11!]第7
項記載の方法。 j照射が電子ビーム照射である、特許請求の範囲第1項
記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9558582A JPS58215426A (ja) | 1982-06-03 | 1982-06-03 | 可溶性ポリシラスチレンの架橋法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9558582A JPS58215426A (ja) | 1982-06-03 | 1982-06-03 | 可溶性ポリシラスチレンの架橋法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58215426A true JPS58215426A (ja) | 1983-12-14 |
| JPS6154329B2 JPS6154329B2 (ja) | 1986-11-21 |
Family
ID=14141654
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9558582A Granted JPS58215426A (ja) | 1982-06-03 | 1982-06-03 | 可溶性ポリシラスチレンの架橋法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58215426A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6246963A (ja) * | 1985-08-27 | 1987-02-28 | 帝人株式会社 | シリコンカ−バイド焼結体の製造方法 |
| JPS62256710A (ja) * | 1985-08-16 | 1987-11-09 | Teijin Ltd | シリコンカ−バイド繊維,フイルムの製造方法 |
| JPS63234069A (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-29 | Showa Electric Wire & Cable Co Ltd | 耐熱性塗料 |
| JPS643073A (en) * | 1987-02-24 | 1989-01-06 | Teijin Ltd | Production of molded article of silicon carbide |
| US4897229A (en) * | 1988-10-12 | 1990-01-30 | Teijin Limited | Process for producing a shaped silicon carbide-based ceramic article |
| US11760842B2 (en) * | 2019-04-08 | 2023-09-19 | Merck Patent Gmbh | Composition comprising block copolymer, and method for producing siliceous film using the same |
-
1982
- 1982-06-03 JP JP9558582A patent/JPS58215426A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62256710A (ja) * | 1985-08-16 | 1987-11-09 | Teijin Ltd | シリコンカ−バイド繊維,フイルムの製造方法 |
| JPS6246963A (ja) * | 1985-08-27 | 1987-02-28 | 帝人株式会社 | シリコンカ−バイド焼結体の製造方法 |
| JPS643073A (en) * | 1987-02-24 | 1989-01-06 | Teijin Ltd | Production of molded article of silicon carbide |
| JPS63234069A (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-29 | Showa Electric Wire & Cable Co Ltd | 耐熱性塗料 |
| US4897229A (en) * | 1988-10-12 | 1990-01-30 | Teijin Limited | Process for producing a shaped silicon carbide-based ceramic article |
| US11760842B2 (en) * | 2019-04-08 | 2023-09-19 | Merck Patent Gmbh | Composition comprising block copolymer, and method for producing siliceous film using the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6154329B2 (ja) | 1986-11-21 |
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