JPS58219443A - 表面欠陥検査方法 - Google Patents
表面欠陥検査方法Info
- Publication number
- JPS58219443A JPS58219443A JP10357782A JP10357782A JPS58219443A JP S58219443 A JPS58219443 A JP S58219443A JP 10357782 A JP10357782 A JP 10357782A JP 10357782 A JP10357782 A JP 10357782A JP S58219443 A JPS58219443 A JP S58219443A
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(a) 発明の技術分野
本発明は表面欠陥の検査方法に係り、特にディスク状物
体の表面欠陥の大きさをレーザビームスポットの分解能
で計測する方法に関する。
体の表面欠陥の大きさをレーザビームスポットの分解能
で計測する方法に関する。
(b) 技術の背景
光デづスフ或は磁気ディスクなどの基板は平坦であると
共にピンホール、傷、或は微少な異極物質の析出などが
ないことが必要である。
共にピンホール、傷、或は微少な異極物質の析出などが
ないことが必要である。
例えば磁気ディスクは厚さ約2vnπのディスク状のナ
ルミニラム合金基板上に1〔μm〕以下の厚さの磁気記
録媒体例えばr−Fe=O−([1化鉄)、N1−C。
ルミニラム合金基板上に1〔μm〕以下の厚さの磁気記
録媒体例えばr−Fe=O−([1化鉄)、N1−C。
(ユッヶルーコバル) 、’) 、Co−Cr (コバ
ル)−10−ム)などを、真空蒸着法、メッキ法、スピ
ンコード法などによ多形成したものである。
ル)−10−ム)などを、真空蒸着法、メッキ法、スピ
ンコード法などによ多形成したものである。
また光ディスクは厚さ約1〔朋〕のディスク状のプラス
チック透過基板例えばポリメチル・メタアクリレートや
ポリカーボネートなどの基板上に厚さ約a o O[A
]の記録媒体例えばTe(テルル)、Se(セレン)な
どが真空蒸着法やスバタリング法などにより形成されて
いる。
チック透過基板例えばポリメチル・メタアクリレートや
ポリカーボネートなどの基板上に厚さ約a o O[A
]の記録媒体例えばTe(テルル)、Se(セレン)な
どが真空蒸着法やスバタリング法などにより形成されて
いる。
このように記録媒体の厚さは極めて薄いので、下地基板
は平坦であると共にピンホール、潟、異物の剛着が無い
ことが必要であり、また光ディスクの1合dか\る記録
媒体に対し直径約1〔l1m〕に集束したレーザビーム
を照射して溶融飛散させ微小ビットを形成することによ
って情報を記録するものであるから、記録媒体面もピン
ホール等の欠陥を伴わぬことが必要で製造に先立って表
向欠陥の有無について検査が行われている。
は平坦であると共にピンホール、潟、異物の剛着が無い
ことが必要であり、また光ディスクの1合dか\る記録
媒体に対し直径約1〔l1m〕に集束したレーザビーム
を照射して溶融飛散させ微小ビットを形成することによ
って情報を記録するものであるから、記録媒体面もピン
ホール等の欠陥を伴わぬことが必要で製造に先立って表
向欠陥の有無について検査が行われている。
(c)従来技術と問題点
従来の検査は目視或は投影機などの光学的方法によって
検査が行われていた。
検査が行われていた。
然し2乍ら目視の場合には数100〔μm〕程度の大き
さのものしか検出することができず、また光学的に検出
する場合も1〔μm〕程度の分解能で欠陥の大きさを定
景的に検出することは不可能であったn (d) 発明の目的 本発明の目的はディスク状物体に存在するピンホール、
剥離、傷、異物の耐着などの欠陥の大きさを光学的方法
によシ定量的に測定する方法を提供するにある。
さのものしか検出することができず、また光学的に検出
する場合も1〔μm〕程度の分解能で欠陥の大きさを定
景的に検出することは不可能であったn (d) 発明の目的 本発明の目的はディスク状物体に存在するピンホール、
剥離、傷、異物の耐着などの欠陥の大きさを光学的方法
によシ定量的に測定する方法を提供するにある。
(e) 発明の構成
本発明の目的はレーザビームを用いて表面欠陥を検査す
る検査装置の光学系が焦点ツーボ機構を有すると共にデ
ィスク状物体の測定半径位置に応じて周波数が変化する
パルス発振器を備えており、欠陥信号と発振器出力とを
同期させて論理積をとり、このパルス数を計測すること
によって欠陥部の大きさを計測する表面欠陥検査方法を
用いることにより達成することができる。
る検査装置の光学系が焦点ツーボ機構を有すると共にデ
ィスク状物体の測定半径位置に応じて周波数が変化する
パルス発振器を備えており、欠陥信号と発振器出力とを
同期させて論理積をとり、このパルス数を計測すること
によって欠陥部の大きさを計測する表面欠陥検査方法を
用いることにより達成することができる。
(f) 発明の実施例
第1図は反射光を用いる光学系と本発明に係る焦点サー
ボ回路の説明図、第2図は本発明に係る欠陥を開側する
回路図またシ、3図はこの波形である。まず焦点サーボ
機構について説明する。
ボ回路の説明図、第2図は本発明に係る欠陥を開側する
回路図またシ、3図はこの波形である。まず焦点サーボ
機構について説明する。
第1図において半導体レーザ或はカスレーザなどのレー
ザ光源1からのレーザ光はコリメートレンズ2で平行光
からなるレーザビーム3とされ、偏光ピータ・スプリッ
タ或はハーフミラ−4を経てノ、−ピングコイル型対物
レンズ5で径が約1〔μm〕のスポットにまで巣°束さ
れてディスク状物体6に垂直に投射されている。
ザ光源1からのレーザ光はコリメートレンズ2で平行光
からなるレーザビーム3とされ、偏光ピータ・スプリッ
タ或はハーフミラ−4を経てノ、−ピングコイル型対物
レンズ5で径が約1〔μm〕のスポットにまで巣°束さ
れてディスク状物体6に垂直に投射されている。
こ\で、ディスク状物体6での反射による戻り3−
光7は1/4波長板8と偏光ビームスグリツタ4との組
合わせ或はハーフミラ−4の伺かによって分割され、シ
リンドリカルレンズ9を経て光検知器10へ導かれる。
合わせ或はハーフミラ−4の伺かによって分割され、シ
リンドリカルレンズ9を経て光検知器10へ導かれる。
光検知器10は4分割構成されてお如、この対角を互に
接続したものを差動増幅器11へ入力し、これは位相補
償回路12を経てパワーアンプ13へ入力される。
接続したものを差動増幅器11へ入力し、これは位相補
償回路12を経てパワーアンプ13へ入力される。
次にパワーアンプ13の出力をムービングコイル型対物
レンズ5へ接続することによ如、検査中を通じてレーザ
ビーム3の焦点をディスク状物体6の表面に結ばせるこ
とが可能となる。
レンズ5へ接続することによ如、検査中を通じてレーザ
ビーム3の焦点をディスク状物体6の表面に結ばせるこ
とが可能となる。
以上が焦点サーボ機構である。
次に欠陥の計測機構としては光検出器10を構成する4
分割光検知器の出力線べての加算を加算器14で行い、
これをコンピータシステム15と結合された信号処理部
16へ入力する。
分割光検知器の出力線べての加算を加算器14で行い、
これをコンピータシステム15と結合された信号処理部
16へ入力する。
第2図で2点鎖線で囲まれた部分は信号処理部16の回
路図であって、加算器14からの信号17は低域フィル
タ18を通過して後抵抗器19.204− を用いて出力を2分割され、これはアナログコンパレー
タ21の比較用電圧入力とされる。
路図であって、加算器14からの信号17は低域フィル
タ18を通過して後抵抗器19.204− を用いて出力を2分割され、これはアナログコンパレー
タ21の比較用電圧入力とされる。
一方アナログコンパレータ21の他方の入力には加算器
からの信号がそのま\入る。
からの信号がそのま\入る。
第3し1において図囚は加算器からの信号波形を示すも
のであって、レベルの低下11ii分22は表向に存在
する欠陥によシ垂直反射光が少いことを示しており、こ
の長さは欠陥の大きさに比例している1 次に同図(B)は平均信号値の1/2をしきい値とした
場合のアナログコンパレータ21からの出力で、図囚で
示す欠陥部の大きさに対応したパル幅を有している。
のであって、レベルの低下11ii分22は表向に存在
する欠陥によシ垂直反射光が少いことを示しており、こ
の長さは欠陥の大きさに比例している1 次に同図(B)は平均信号値の1/2をしきい値とした
場合のアナログコンパレータ21からの出力で、図囚で
示す欠陥部の大きさに対応したパル幅を有している。
か\る信号はA N l)ゲート23によりスタート借
上24がHの時に7リツプフロツプ25と単安定マルチ
バイブレータ26に入力される。
上24がHの時に7リツプフロツプ25と単安定マルチ
バイブレータ26に入力される。
こ\でフリップ70ツブ25へはディスク状物体の測定
位置に応じコンピータシステム15に連動して発振周波
数が変化する発振器27の出力がクロックとして人力ば
れている。
位置に応じコンピータシステム15に連動して発振周波
数が変化する発振器27の出力がクロックとして人力ば
れている。
この発振周波数が半径方向の測シセ位置に応じてシフ、
トさせる理由はディスク状物体が等速回転する場合、一
定長の欠陥部を走査するに要する時間がディスク状物体
の半径方向の位置により異るのを自動的に補正する必要
があるだめである。
トさせる理由はディスク状物体が等速回転する場合、一
定長の欠陥部を走査するに要する時間がディスク状物体
の半径方向の位置により異るのを自動的に補正する必要
があるだめである。
第3図の)はか\る発振器からのクロックパルスの波形
をまだα・)はフリップフロップ25からの出力波形を
示すものであり、クロックパルス2Bと同期がとらil
ている。
をまだα・)はフリップフロップ25からの出力波形を
示すものであり、クロックパルス2Bと同期がとらil
ている。
さて午安定マルチバイブレータ26の作用はクリヤパル
スを発生するもので第3図(B)で欠陥部の存在を示す
パルスの立下シエノジ29でトリガーされて同図C)で
示すクリヤパルス30を出力として発生することができ
る。
スを発生するもので第3図(B)で欠陥部の存在を示す
パルスの立下シエノジ29でトリガーされて同図C)で
示すクリヤパルス30を出力として発生することができ
る。
さてフリップフロップ25の出力信号(第3図E)と発
振器27の出力とをANDゲート31に入力することに
より第3図(ト)の信号が得られる。
振器27の出力とをANDゲート31に入力することに
より第3図(ト)の信号が得られる。
次にANDゲート31から出だ第3図(財)の信号と単
安定マルチバイブレータ26から出た第3図C)のクリ
ヤ信号とをカウンタ32に人力しこの出力をティジタル
コンパレータ33の一方の入力Xとする。また他方の入
力には測定する欠陥のサイズを指定したデータをレーザ
ビーム径の整数倍Yとしてコンピュタシステム15から
人力する。
安定マルチバイブレータ26から出た第3図C)のクリ
ヤ信号とをカウンタ32に人力しこの出力をティジタル
コンパレータ33の一方の入力Xとする。また他方の入
力には測定する欠陥のサイズを指定したデータをレーザ
ビーム径の整数倍Yとしてコンピュタシステム15から
人力する。
このようにしてディジタルコン・パレータ33において
XとYの入力値が等しい場合のパルス数をY値を変えて
コンピータシステム15で計数すれば指定サイズ以上の
欠陥数の分布を示すヒストグラムを得ることができる。
XとYの入力値が等しい場合のパルス数をY値を変えて
コンピータシステム15で計数すれば指定サイズ以上の
欠陥数の分布を示すヒストグラムを得ることができる。
例えばクロックパルスの1匈期が1Lμm〕の長さの欠
陥に対応するように作られているとすると、第3図(ト
)に示すように5個のパルスが計測きれた場合はX=5
であ)、この場合Yの値を1,2゜3・・・・・と順次
変えて計測するとY−・5の場合にカウントさね、これ
によシ欠陥の大きが5(−μm〕であることを検出する
ことができる。
陥に対応するように作られているとすると、第3図(ト
)に示すように5個のパルスが計測きれた場合はX=5
であ)、この場合Yの値を1,2゜3・・・・・と順次
変えて計測するとY−・5の場合にカウントさね、これ
によシ欠陥の大きが5(−μm〕であることを検出する
ことができる。
なおこの実施例の場合ディスク状物体の回転数は一定と
したがレーザビームの半径方向の照射位置に応じて回転
数を制御して周速を一定になるようにすねは発振器の周
波数を変える必要はない。
したがレーザビームの半径方向の照射位置に応じて回転
数を制御して周速を一定になるようにすねは発振器の周
波数を変える必要はない。
7−
また実施例は反射光による表面欠陥の検出する場合につ
いて述べだが透過光或は散乱光を用いて検出する場合も
検出器の位置が異るだけで同様な方法によ抄検出が可能
である。
いて述べだが透過光或は散乱光を用いて検出する場合も
検出器の位置が異るだけで同様な方法によ抄検出が可能
である。
8R1図は反射光を用いる検査装置の光学系と焦点ザー
ボ機構の説明図、第2図は本発明に係る欠陥開側回路ま
た第3図はこの各段階の波形である。 図において 1はレーザ、6はディスク状物体、16は信号処理部、
17は加算器からの信号、21はアナログコンパレータ
、23.31はANDゲート、25けフリップフロップ
、26は単安定マルチバイブレータ、27は発振器、3
2はカウンタ、33はティジタルコンパレータ。 −8−・ 第2[¥1 r−−−−−−−−−−−−−4″− : 17
2コ24 31 3□ 3321
XY一
ボ機構の説明図、第2図は本発明に係る欠陥開側回路ま
た第3図はこの各段階の波形である。 図において 1はレーザ、6はディスク状物体、16は信号処理部、
17は加算器からの信号、21はアナログコンパレータ
、23.31はANDゲート、25けフリップフロップ
、26は単安定マルチバイブレータ、27は発振器、3
2はカウンタ、33はティジタルコンパレータ。 −8−・ 第2[¥1 r−−−−−−−−−−−−−4″− : 17
2コ24 31 3□ 3321
XY一
Claims (1)
- 集束したレーザビームを回転するディスク状物体の表面
に照射し、表面からの反射光、透過光、散乱光の何れか
1つを光検知器で検出して基準電圧と比較することによ
って表面欠陥の有無を検出する表面欠陥の検査装置にお
いて、光学系が焦点サーボ機構を有すると共に、ディス
ク状物体の測定半径位置に応じて周波数が変化するパル
ス発振器を備えておシ、欠陥信号と発振器出力とを同期
させて論理積をとり、このパルス数を計測することによ
って欠陥部の大きさを測定することを特徴とする表面欠
陥検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10357782A JPS58219443A (ja) | 1982-06-16 | 1982-06-16 | 表面欠陥検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10357782A JPS58219443A (ja) | 1982-06-16 | 1982-06-16 | 表面欠陥検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58219443A true JPS58219443A (ja) | 1983-12-20 |
Family
ID=14357635
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10357782A Pending JPS58219443A (ja) | 1982-06-16 | 1982-06-16 | 表面欠陥検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58219443A (ja) |
-
1982
- 1982-06-16 JP JP10357782A patent/JPS58219443A/ja active Pending
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