JPH0580983B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、ガラス原盤やレジスト原盤等の情報
記録原盤の欠陥検査装置に関する。

背景技術 映像や音声情報等をデイスク（円盤）状の記録
媒体に記録する方式として光学方式がある。この
光学方式は、基板となるガラス原盤の盤面上にフ
オトレジストを塗布しレジスト膜を形成すること
によつてレジスト原盤を作成し、このレジスト原
盤のレジスト膜に微小な点に集光したレーザビー
ムを映像や音声情報等に応じて明滅させるいわゆ
るビツトバイビツト方式で照射感光させ、しかる
後これを現象して得られるピツト（へこみ）の長
さ及びその繰返し周期により情報を記録するもの
である。

ところで、光デイスクの場合、通常ドロツプア
ウトと称される信号の欠陥は難敵であり、このた
めジレスト原盤の作成段階において、ドロツプア
ウトの要因となる原盤の盤面上におけるホコリや
傷等の欠陥の有無を検査しておく必要がある。

この欠陥検査は、原盤を回転駆動しつつその半
径方向において移動自在な検出手段により盤面上
の欠陥を検出すると共に、該検出手段の半径位置
Ｒ情報及び原盤の角度θ情報を得、これら情報に
基づいて欠陥検出位置の原盤上の位置情報を得る
ことにより行なわれる。この際、検出された原盤
上の欠陥部分のＲ−θ分布と実際の原盤上の分布
との反応をとる必要があり、そのためには周方向
の原点を一致させなければならない。

従来は、例えば原盤に付されている識別番号等
を基準位置とすることにより、周方向の原点を一
致させる方法が採られていたが、この方法では、
検出された原盤上の欠陥部分のＲ−θ分布と実際
の原盤上の分布とを正確に対応させることは困難
であつた。

発明の概要 本発明は、上記のような従来のものの欠点を除
去すべくなされたもので、検出された原盤上の欠
陥部分のＲ−θ分布と実際の原盤上の分布とを正
確に対応させ得る情報記録原盤の欠陥検査装置を
提供することを目的とする。

本発明による情報記録原盤の欠陥検査装置は、
欠陥検査に先立つて原盤上の情報記録領域外の部
分に、基準位置マークを付与する手段を備え、原
盤の盤面上の欠陥を検出する検出手段は、基準位
置マークを基準として原盤に対して線速度一定で
走査されて欠陥を検出する構成となつている。

実施例 以下、本発明の実施例を図に基づいて詳細に説
明する。

第１図は、本発明の一実施例を示す構成図であ
る。図において、情報記録原盤である例えばレジ
スト原盤１はターンテーブル２によつて担持さ
れ、スピンドルモータ３によつて回転駆動され
る。レジスト原盤１の上方には、当該原盤の盤面
上の欠陥の検査を例えば光学的に行なう光学ヘツ
ド４が設けられている。この光学ヘツド４はレジ
スト原盤１の半径方向に延在する螺旋軸５に図示
せぬ部材を介して螺合しており、当該軸が回転す
ることによりその回転方向に応じた方向に移動す
る。螺旋軸４は送りモータ６によって回転駆動さ
れる。光学ヘツド４の移動半径位置を検出する半
径位置検出器７が設けられており、当該検出器は
光学ヘツド４の移動半径位置に応じた半径位置情
報をモータ制御回路８に供給する。この半径位置
検出器７としては、例えば光学ヘツド４の移動に
伴つて抵抗値が変化する可変抵抗器等の周知の手
段を用い得る。

スピンドルモータ３の回転に同期して一定間隔
で連続してパルスを発生するパルス発生器９が設
けられており、このパルス発生器９はスピンドル
モータ３の１回転に例えば1000パルスを発生す
る。このパルス発生器９としては、例えば、周方
向に一定のピツチで配列された1000個のスリツト
及びこのスリツトと対向配置されたフオトセンサ
からなる光学的手段等を用い得る。また、スピン
ドルモータ３が１回転する毎にパルスを発生する
１回転センサ１０が設けられており、この１回転
センサ１０としては光フアイバーセンサ等を用い
得る。モータ制御回路８は送りモータ６の回転速
度及び回転方向を制御することにより光学ヘツド
４の移動位置を制御すると共に、半径位置検出器
７からの半径位置情報に基づいて光学ヘツド４の
各移動位置におけるレジスト原盤１の線速度が一
定となるようにスピンドルモータ３をCLV
（Constant Linear Velocity）制御する。

スピンドルモータ３をCLV制御するのは、以
下に説明する理由による。すなわち、第２図に示
すように、レジスト原盤１の原盤上に内周から外
周に亘つて半径方向に一定幅ｔ（mm）の引つ掻き
傷Ａがあるものと仮定し、原盤の回転数をｆ
（回／sec）、検査半径（光学ヘツド４の移動位置
半径）をＲ（mm）とすると、光学ヘツド４による
検査によつて得られる検出パルス幅Ｗは、 Ｗ＝ｔ／2πR・ｆ （sec） となり、原盤の回転数ｆが一定では、検査半径Ｒ
により検査パルス幅Ｗは変化することになる。検
査による欠陥の大きさの基準としてこの検出パル
ス幅Ｗを使用するためには、一定幅ｔに対して検
出パルス幅Ｗも一定で出力されなければならな
い。よつて、2πR・ｆ＝Ｖ（線速度）を一定とし
て検査する必要がある。CLV制御で検査すると
は、 ｆ＝Ｋ／Ｒ （Ｋ：ある定数） とすることで、これにより Ｗ＝ｔ／2πK となり、傷の幅ｔと検出パルス幅Ｗとは検査半径
Ｒに関係なく比例することになる。

次に、レジスト原盤１の盤面上の欠陥検査を光
学的に行なう光学ヘツド４の具体的な構成につい
て第３図に基づいて説明するに、レーザ光源１１
から発せられるレーザ光はミラー１２で反射さ
れ、ダイバージングレンズ１３、ビームスプリツ
タ１４及びλ／４板１５を経て対物レンズ１６に
入射し、この対物レンズ１６によつて収束されて
微小スポツトとしてレジスト原盤１の盤面上に垂
直に照射される。対物レンズ１６はフオーカスア
クチユエータ１７によつてその光軸方向に駆動さ
れる構成となつている。このフオーカスアクチユ
エータ１７の摺動動作によつて発生する塵埃がレ
ジスト原盤１の上に落下して盤面上を汚染しない
ように対物レンズ１６とレジスト原盤１との間に
ガラスプレート１８が設けられている。

レジスト原盤１の盤面で反射したレーザ光はガ
ラスプレート１８、対物レンズ１６及びλ／４板
１５を経てビームスプリツタ１４に入射し、この
ビームスプリツタ１４によつて垂直に反射され
る。この反射されたレーザ光はλ／２板１９を介
してビームスプリツタ２０に入射し、このビーム
スプリツタ２０によつてフオーカスエラー検出用
のレーザ光と欠陥検出用のレーザ光とに分離され
る。フオーカスエラー検出用のレーザ光はシリン
ドリカルレンズ２１を経て受光面が４分割された
いわゆる４分割フオトデイテクタ２２に入射す
る。この４分割フオトデイテクタ２２は各受光面
の受光量に応じたレベルの出力を発生し、フオー
カス制御回路２３に供給する。フオーカス制御回
路２３は４分割デイテクタ２２の４つの出力に基
づいてフオーカスエラー信号を生成し、このエラ
ー信号が常に零になるようにレジスト原盤１に対
する対物レンズ１６の高さ位置を制御する。この
フオーカスエラー信号の検出方法はいわゆる非点
収差法によるものであり、光学式デイスク再生装
置の分野では周知の検出方法である。

ビームスプリツタ２０で分離された欠陥検出用
のレーザ光は例えばPINフオトダイオード２４に
入射し、このフオトダイオード２４でその光量に
応じた電気信号に変換されて欠陥検出回路２５に
供給される。PINフオトダイオード２４の出力信
号はレジスト原盤１の盤面上に傷等の欠陥が存在
すると第４図ａに示すように部分的に信号レベル
が低下するので、欠陥検出回路２５において所定
のスレツシヨールドレベルVthを設定することに
より、第４図ｂに示す如き欠陥検出パルスを得る
ことができる。この検出パルスのパルス幅Ｗは先
述したように欠陥部分の幅ｔに対応しており、こ
のパルス幅から欠陥部分の大きさを判別できるこ
とになる。

再び第１図において、スピンドルモータ３の回
転に同期してパルス発生器９から連続して発生さ
れるパルスはカウンタ２６でカウントされる。こ
のカウンタ２６はスピンドルモータ３が１回転す
る毎に１回転センサ１０から発生される１回転パ
ルスでリセツトされる。カウンタ２６のカウント
値はＤ／Ａ（デイジタル／アナログ）変換器２７
でのこぎり波信号に変換される。こののこぎり波
信号はその信号レベルが１回転するレジスト原盤
１の基準位置からの周方向における位置対応した
角度θ情報として１回転毎にオシロスコープ２８
のＸ軸に印加される。オシロスコープ２８のＹ軸
には半径位置検出器７からの半径位置Ｒ情報が印
加され、更にそのＺ軸には欠陥検出回路２５から
の欠陥検出パルスが輝度情報として印加される。
これにより、オシロスコープ２８のブラウン管上
には、レジスト原盤１の盤面上に欠陥部分があつ
た場合、原盤１の１回転毎にその欠陥部分の原盤
１上の位置が角度をＸ軸、半径位置をＹ軸とし、
欠陥検出パルスのパルス幅で表わされる欠陥部分
の大きさを輝度変化とするＲ−θ分布として表示
される。

また、検出された原盤１上の欠陥部分のＲ−θ
分布と実際の原盤１上の分布との対応をとるため
に、欠陥検査に先立つて１回転センサ１０から発
生される１回転パルスに応答してレジスト原盤１
上に単一のを付与するマーキング装置２９が設け
られている。この基準位置マークは記録情報に影
響を及ぼさないように情報記録領域外の部分、例
えば情報が記録されていないレジスト原盤１の最
外周領域、または内周方向から欠陥検査が行なわ
れる場合には情報記録領域よりも、すなわちレジ
スト原盤１の最内周領域に付与される。また、基
準位置マークは、最外側端面に付与することもで
きる。マーキング装置２９によるマーキング方法
としては、例えば、フオトレジストの感光域内の
波長を含んだレーザ光をレジスト原盤１の盤面上
に照射して潜像マークを付与する方法が考えられ
る。この潜像マークは現像して初めて視認可能な
マークである。また、他のマーキング方法として
は、光の熱エネルギーによるバブル形成、メカニ
カルによる凹凸形成等、フオトレジストの幾何学
的形状を変化させる方法等が考えられる。

このように、欠陥検査に先立つてレジスト原盤
１の盤面に１回転パルスに応答して単一の基準位
置マークを付与し、この基準位置マークを基準と
して欠陥を検出することにより、検出されるＲ−
θ分布の例えば原点をレジスト原盤上の所定の一
点に一致させることができるので、検出された原
盤１上の欠陥部分のＲ−θ分布と実際の原盤１上
の分布とを正確に対応させることができるのであ
る。付された基準位置マークは、欠陥検査の他、
各工程における汚染管理や検査の基準点として有
効に利用することができる。

なお、上記実施例では、レジスト原盤の欠陥検
査に適用した場合について説明したが、これに限
定されるものではなく、ガラス原盤の欠陥検査に
も適用し得るものである。この場合、マーキング
装置２９によるマーキング方法としては、潜像マ
ークの付与やバルブ形成の方法は採用できないの
で、メカニカルによる凹凸形成等ガラス原盤の盤
面の幾何学的形状を変化させる方法が主として採
られることになる。

発明の効果 以上説明したように、本発明による情報記録原
盤の欠陥検査装置においては、原盤の盤面の情報
記録領域外に基準位置マークを付与し、この位置
を基準にして欠陥検査を行う構成となつているの
で、検出された原盤上の欠陥部分のＲ−θ分布と
実際の原盤上の分布とを正確に対応させることが
できる。さらに、検出手段は原盤の盤面上の走査
方向に対して線速度一定で移動するので、検出手
段による検出信号のパルス幅からこの盤面上の欠
陥の種類及び大きさを容易に知ることができる。
また、検査前に基準位置マークを付与して検査を
開始するので、予めマークを原盤に付与する場合
に比較すると、装置にローデイングされた原盤の
マークを検索する時間が不要となるので検査を短
時間で行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２
図はレジスト原盤の盤面上に引つ掻き傷がある場
合を示す図、第３図は第１図における光学ヘツド
の内部構成の具体例を示す構成図、第４図は第３
図におけるPINフオトダイオード２４の出力信号
ａ及び欠陥検出回路２５の検出パルスｂの波形図
である。 主要部分の符号の説明、１……レジスト原盤、
３……スピンドルモータ、４……光学ヘツド、７
……半径位置検出器、９……パルス発生器、１０
……１回転センサ、１１……レーザ光源、１４，
２０……ビームスプリツタ、１５……λ／４板、
１９……λ／２板、２２……４分割フオトデイテ
クタ、２４……PINフオトダイオード、２５……
欠陥検出回路、２８……オシロスコープ、２９…
…マーキング装置。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 情報記録原盤を回転駆動するスピンドルモー
   タと、前記原盤の半径方向において移動しつつ前
   記原盤の盤面上の欠陥を検出する検出手段と、前
   記検出手段の前記原盤の半径方向における移動位
   置を検出して半径位置情報を出力する手段と、前
   記スピンドルモータが１回転する毎に１回転パル
   スを発生する手段と、前記１回転パルスに同期し
   て前記原盤の周方向における位置情報を前記原盤
   の１回転毎の角度情報として出力する手段とを含
   み、前記半径位置情報及び前記角度情報に基づい
   て前記検出手段による欠陥検出位置の前記原盤上
   の位置情報を得る情報記録原盤の欠陥検査装置で
   あつて、欠陥検査の開始前に前記原盤上の情報記
   録領域外の部分に基準位置マークを付与する手段
   を備え、前記スピンドルモータは前記原盤が前記
   検出手段によつて線速度一定で走査されるように
   回転駆動し、前記検出手段は前記基準位置マーク
   を基準として前記欠陥を検出することを特徴とす
   る情報記録原盤の欠陥検査装置。