JPS5822460B2 - 4−メチルフタル酸の核塩素化物及びそれらの製造法 - Google Patents
4−メチルフタル酸の核塩素化物及びそれらの製造法Info
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- JPS5822460B2 JPS5822460B2 JP52038563A JP3856377A JPS5822460B2 JP S5822460 B2 JPS5822460 B2 JP S5822460B2 JP 52038563 A JP52038563 A JP 52038563A JP 3856377 A JP3856377 A JP 3856377A JP S5822460 B2 JPS5822460 B2 JP S5822460B2
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- methylphthalic
- anhydride
- reaction
- nuclear
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C63/00—Compounds having carboxyl groups bound to a carbon atoms of six-membered aromatic rings
- C07C63/68—Compounds having carboxyl groups bound to a carbon atoms of six-membered aromatic rings containing halogen
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、新規な4−メチルフタル酸の核塩素化物お
よびその製造方法に関する。
よびその製造方法に関する。
4−メチルフタル酸は古くから知られているが、それら
の核塩素化物は従来全く知られていない。
の核塩素化物は従来全く知られていない。
本発明者らは、4−メチルフタル酸無水物の塩素化につ
いて検討した結果、濃硫酸又は発煙硫酸中で容易に塩素
化がおこり、新規な核塩素化物が得られることを見出し
、この発明を完成した。
いて検討した結果、濃硫酸又は発煙硫酸中で容易に塩素
化がおこり、新規な核塩素化物が得られることを見出し
、この発明を完成した。
すなわち、この発明の新規な4−メチルフタル酸の核塩
素化物は、次の一般5E11)で示される化合物である
。
素化物は、次の一般5E11)で示される化合物である
。
(式中、nは1〜3の整数であって、n=1のときは塩
素原子は3又は5位を占める。
素原子は3又は5位を占める。
)前記一般q I)で示される新規な4−メチルフタル
酸の核塩素化物は、4−メチルフタル酸無水物を濃硫酸
又は発煙硫酸中で塩素を用いて塩素化することによって
製造される。
酸の核塩素化物は、4−メチルフタル酸無水物を濃硫酸
又は発煙硫酸中で塩素を用いて塩素化することによって
製造される。
この反応において、原料として用いる4−メチルフタル
酸無水物は、例えば、メチルアントラニル酸から次に示
す径路で得られる。
酸無水物は、例えば、メチルアントラニル酸から次に示
す径路で得られる。
4−メチルフタル酸無水物の代りに、4〜メチルフタル
酸そのものも反応原料として用い得るが、この場合は、
塩素化反応中に4−メチルフタル酸から酸無水物への脱
水反応が同時に起こり、1分子の水を生成するため、こ
れに見合った硫酸濃度の調整が必要である。
酸そのものも反応原料として用い得るが、この場合は、
塩素化反応中に4−メチルフタル酸から酸無水物への脱
水反応が同時に起こり、1分子の水を生成するため、こ
れに見合った硫酸濃度の調整が必要である。
反応に使用する濃硫酸の濃度は、90(重量)%未満で
は反応がほとんど進行しないため90(重量)%以上で
あることが望ましい。
は反応がほとんど進行しないため90(重量)%以上で
あることが望ましい。
また、発煙硫酸を用いる場合は、含有無水硫酸の濃度が
高い程反応の進行が速いが、取扱いを容易にするため、
または反応時に反応混合物を液状に保つために、無水硫
酸含量は30(重量)%以下であることが好ましい。
高い程反応の進行が速いが、取扱いを容易にするため、
または反応時に反応混合物を液状に保つために、無水硫
酸含量は30(重量)%以下であることが好ましい。
濃硫酸又は発煙硫酸の使用量は、反応への影響が少いが
、原料を溶解させ、また反応後目的物を取り出す等の操
作を容易にするうえで、4−メチルフタル酸と同量乃至
10(重量)倍が適当である。
、原料を溶解させ、また反応後目的物を取り出す等の操
作を容易にするうえで、4−メチルフタル酸と同量乃至
10(重量)倍が適当である。
反応を円滑に進行させるために、触媒としてヨウ素を4
−メチルフタル酸に対して0.01〜5(重量)%使用
することが好ましい。
−メチルフタル酸に対して0.01〜5(重量)%使用
することが好ましい。
ヨウ素が存在しないと反応の進行は遅い。
反応温度は、高すぎると副反応が起こり、低すぎると操
作上の面倒が生ずる。
作上の面倒が生ずる。
そのため、−20〜+60℃の範囲が適当である。
しかし、温度の高低は反応速度にはあまり大きい影響が
なく、操作の便宜上は、室温附近で行うのが最も容易で
ある。
なく、操作の便宜上は、室温附近で行うのが最も容易で
ある。
反応をさせるにあたっては、濃硫酸又は発煙硫酸に4−
メチルフタル酸無水物及びヨウ素を加えて溶解させ、上
記の反応温度においてかきまぜながら塩素ガスを通じて
吸収させ、塩素化を行う。
メチルフタル酸無水物及びヨウ素を加えて溶解させ、上
記の反応温度においてかきまぜながら塩素ガスを通じて
吸収させ、塩素化を行う。
塩素の吸収量は得られる核塩素化物の種類に密接に関係
する。
する。
塩素の吸収量が4−メチルフタル酸無水物1モルあたり
約1モルと比較的少ない場合にはモノクロル体(n=1
.)が主として生成し、塩素の吸収量が増すにしたがっ
てジクロル体(n−2)及びトリクロル体(n=3)の
生成量が増し、モノクロル体は次第に減少する。
約1モルと比較的少ない場合にはモノクロル体(n=1
.)が主として生成し、塩素の吸収量が増すにしたがっ
てジクロル体(n−2)及びトリクロル体(n=3)の
生成量が増し、モノクロル体は次第に減少する。
さらに塩素の吸収量を増し約3モル以上になるとトリク
ロル体のみが生成する。
ロル体のみが生成する。
塩素を吸収させた後、例えば次のようにして目的物を反
応混合物からとりだす。
応混合物からとりだす。
すなわち、反応混合物を水に排出して冷却すると、核塩
素化物は難溶性の4−メチルフタル酸核塩素化物となっ
て析出してくるので、これをこしとり、少量の水で洗う
ことによって粗製の4−メチルフタル酸核塩素化物が得
られる。
素化物は難溶性の4−メチルフタル酸核塩素化物となっ
て析出してくるので、これをこしとり、少量の水で洗う
ことによって粗製の4−メチルフタル酸核塩素化物が得
られる。
これをキシレン2〜5(重量)倍量と煮沸すると、水を
放出して次第に溶解する。
放出して次第に溶解する。
水の放出終了後キシレン溶液を放冷することにより4−
メチルフタル酸無水物の核塩素化物が析出する。
メチルフタル酸無水物の核塩素化物が析出する。
これをこし分け、少量のキシレンで洗い、乾燥する。
また、このようにして得られた酸無水物は水と煮沸して
溶解し、少量の塩酸又は硫酸を加えて放冷することによ
りフタル酸体となる。
溶解し、少量の塩酸又は硫酸を加えて放冷することによ
りフタル酸体となる。
このようにして、例えば3−クロル−4−メチルフタル
酸(融点181.5〜1.82.5℃(分解))、5−
クロル−4−メチルフタル酸(融点209.5〜210
.5℃(分解))等のフタル酸体が得られる。
酸(融点181.5〜1.82.5℃(分解))、5−
クロル−4−メチルフタル酸(融点209.5〜210
.5℃(分解))等のフタル酸体が得られる。
4−メチルフタル酸又はその無水物の核塩素化物は、染
料又は顔料の中間体として有用であって、例えば次に示
すような径路をへて有用な染料中間体である1−クロル
−2−メチルアントラキノン(川が得られる。
料又は顔料の中間体として有用であって、例えば次に示
すような径路をへて有用な染料中間体である1−クロル
−2−メチルアントラキノン(川が得られる。
この発明の新規な4−メチルフタル酸の核塩素化物の同
定に最も有利な手段は、ガスクロマトグラフにおける保
持時間である。
定に最も有利な手段は、ガスクロマトグラフにおける保
持時間である。
表1に4−メチルフタル酸無水物の核塩素化物及びその
近縁化合物のガスクロマトグラフにおける保持時間を示
す。
近縁化合物のガスクロマトグラフにおける保持時間を示
す。
ガスクロマトグラフの機器及び条件は、高滓ガスクロマ
トグラフGC−6A、3mmφX3mカラム(充填剤:
セライト525−10%0V−101)カラム温度17
0°C、ヘリウム流速40 ml!/m1yrである。
トグラフGC−6A、3mmφX3mカラム(充填剤:
セライト525−10%0V−101)カラム温度17
0°C、ヘリウム流速40 ml!/m1yrである。
また、この条件において4−メチルフタル酸の核塩素化
物は対応する無水物の核塩素化物と同一の保持時間を示
す。
物は対応する無水物の核塩素化物と同一の保持時間を示
す。
以下実施例により本発明の詳細な説明する。
文中、部とあるは重量部を意味する。
実施例 1
3−クロル−4−メチルフタル酸及び5−クロルー4−
メチルフタル酸の合成 4−メチル無水フタル酸102.5%発煙硫酸50グ、
及びヨウ素0.1′?を混合し、20〜25℃でかきま
せながら、7ml!/minの速度で塩素ガスを9hr
にわたって通じて吸収させた。
メチルフタル酸の合成 4−メチル無水フタル酸102.5%発煙硫酸50グ、
及びヨウ素0.1′?を混合し、20〜25℃でかきま
せながら、7ml!/minの速度で塩素ガスを9hr
にわたって通じて吸収させた。
次いで、反応混合物を水2501中に排出し、冷却し、
析出物をこしとり、小量の水で洗い、70℃で乾燥し、
粗製の4−メチルフタル酸核塩素化物9.21を得た。
析出物をこしとり、小量の水で洗い、70℃で乾燥し、
粗製の4−メチルフタル酸核塩素化物9.21を得た。
このものの組成(重量%)は、ガスクロマトグラフによ
る分析の結果、次のとおりであった。
る分析の結果、次のとおりであった。
5−クロル−4−メチル体:33.1%、3−クロル−
4−メチル体:42.8%、3・5−ジクロル−4−メ
チル体:6,1%、その他:1.6%。
4−メチル体:42.8%、3・5−ジクロル−4−メ
チル体:6,1%、その他:1.6%。
上記の粗製の4−メチルフタル酸核塩素化物から、3−
クロル−4−メチル体及ヒ5−クロルー4−メチル体を
再結晶により、それぞれ次のようにして分離した。
クロル−4−メチル体及ヒ5−クロルー4−メチル体を
再結晶により、それぞれ次のようにして分離した。
粗製の4−メチルフタル酸核塩素化物1部をキシレン5
部中で煮沸し、無水物として溶解した。
部中で煮沸し、無水物として溶解した。
この溶液を速かに室温まで冷却し、析出物をこしとり少
量のキシレンで洗う。
量のキシレンで洗う。
このもののキシレンへの溶解−析出の操作をさらに4〜
5回反復してガスクロマトグラフ上はマ純粋な3−クロ
ル−4−メチル無水フタル酸を得た。
5回反復してガスクロマトグラフ上はマ純粋な3−クロ
ル−4−メチル無水フタル酸を得た。
このものは、無色のプリズム状乃至柱状結晶であり、融
点133〜135℃であった。
点133〜135℃であった。
3−クロル−4−メチル体を分別した母液を蒸発乾固し
て、5−クロル体をわずかに多(含む、3−クロル体と
5−クロル体の混合物が得られた。
て、5−クロル体をわずかに多(含む、3−クロル体と
5−クロル体の混合物が得られた。
この混合物に少量のキシレンを混合し全体が溶融するま
で加熱し、次いで急冷してかゆ状にし、これを速かに圧
搾して母液をとり除いた。
で加熱し、次いで急冷してかゆ状にし、これを速かに圧
搾して母液をとり除いた。
これにより、残留固体中に5−クロル体が濃縮される。
この操作を数回(り返してガスクロマトグラフ的にはマ
純粋な5−クロル−・4−メチル無水フタル酸を得た。
純粋な5−クロル−・4−メチル無水フタル酸を得た。
このものは、無色の六面体乃至厚板状結晶で融点152
〜154°Cであった。
〜154°Cであった。
3−クロル−4−メチル無水フタル酸及び5−クロル−
4−メチル無水フタル酸のメチル基にもとづ<NMRス
ペクトルのτ値は、いずれも7.42 ppm であ
った。
4−メチル無水フタル酸のメチル基にもとづ<NMRス
ペクトルのτ値は、いずれも7.42 ppm であ
った。
コノようにして合成された無水フタル酸を水と煮沸して
溶解し、対応するフタル酸を得た。
溶解し、対応するフタル酸を得た。
実施例 2
3・5−ジクロル−4−メチルフタル酸の合成実施例↑
と同じ条件で塩素ガスを1…じて反応を続けて、ガスク
ロマトグラフの保持時間が23mm(ガスクロマトグラ
フの条件は、前記衣1の場合に同じ。
と同じ条件で塩素ガスを1…じて反応を続けて、ガスク
ロマトグラフの保持時間が23mm(ガスクロマトグラ
フの条件は、前記衣1の場合に同じ。
)である成分の組成が約30(重量)%に達した点で塩
素化をやめた(この点で、この成分が最大収率に達する
)。
素化をやめた(この点で、この成分が最大収率に達する
)。
塩素を通じた時間は約]、 5 hr であった。
実施例1と同様にして反応混合物から粗製の4−メチル
フタル酸核塩素化物をとりだし、これに5倍量のベンゼ
ン−トルエン■:1混合物を加え3011i1t、煮沸
した。
フタル酸核塩素化物をとりだし、これに5倍量のベンゼ
ン−トルエン■:1混合物を加え3011i1t、煮沸
した。
次いでこの混合物をこし、r液と沈殿に分けた。
これにより、大部分のモノクロル体は沈殿中に残り、ジ
クロル体及びl・ジクロル体の大部分はP液中に溶解し
た。
クロル体及びl・ジクロル体の大部分はP液中に溶解し
た。
P液を蒸発乾固してキシレンから再結晶することにより
、トリクロル体に富む固体が析出し、ジクロル体は母液
中にとどまった。
、トリクロル体に富む固体が析出し、ジクロル体は母液
中にとどまった。
さらに、この母液を蒸発乾固して再結晶する操作をくり
返して、母液中のジクロル体の純度を上げ、最後にリグ
ロインから再結晶して、融点125〜127℃、とがっ
た板状晶の3・5−ジクロル−4−メチル無水フタル酸
を得た。
返して、母液中のジクロル体の純度を上げ、最後にリグ
ロインから再結晶して、融点125〜127℃、とがっ
た板状晶の3・5−ジクロル−4−メチル無水フタル酸
を得た。
このもののメチル基のNMRスペクトルのτ値は7、3
ppm であった。
ppm であった。
このようにして合成された無水フタル酸を水と煮沸して
溶解し、対応するフタル酸を得た。
溶解し、対応するフタル酸を得た。
実施例 3
3・5・6−ドリ/’ロルー4−メチルフタル酸の合成
4−メチル無水フタル酸20L?、モノヒドラ−) i
ooy及びヨウ素0.22の混合物に、室温で、20
m1!/minの速度で塩素を37 hr にわたっ
て導入した。
ooy及びヨウ素0.22の混合物に、室温で、20
m1!/minの速度で塩素を37 hr にわたっ
て導入した。
反応の終了時には、l・ジクロル体が一部結晶として析
出していた。
出していた。
反応混合物を冷水500グ中に排出し、実施例1と同様
に処理して粗製の4−メチルフタル酸核塩素化物をはV
定量的収率で得た。
に処理して粗製の4−メチルフタル酸核塩素化物をはV
定量的収率で得た。
このもののガスクロマトグラフによる分析値は、5−ク
ロル−4−メチル体:9.4%、3−クロル−4−メチ
ル体:2.4%、ジクロル体:16.9%、トリクロル
体:69.5%であった。
ロル−4−メチル体:9.4%、3−クロル−4−メチ
ル体:2.4%、ジクロル体:16.9%、トリクロル
体:69.5%であった。
この粗製の4−メチルフタル酸核塩素化物を5回キシレ
ンから再結晶した。
ンから再結晶した。
再結晶中にフタル酸体は酸無水物に変化し、融点219
〜221℃の六角柱状乃至厚板状結晶の3・5・6−ド
リクロルー4−メチル無水フタル酸を得た。
〜221℃の六角柱状乃至厚板状結晶の3・5・6−ド
リクロルー4−メチル無水フタル酸を得た。
この化合物のメチル基のNMRベクトルのτ値は7.3
ppm であった。
ppm であった。
このようにして合成された無水フタル酸を水と煮沸して
溶解し、対応するフタル酸を得た。
溶解し、対応するフタル酸を得た。
実施例 4
実施例1においてヨウ素をのぞき、発煙硫酸の代りにモ
ノヒドラ−)(100%硫酸)を用い他は実施例1と同
じ条件で4−メチル無水フタル酸の塩素化を行った。
ノヒドラ−)(100%硫酸)を用い他は実施例1と同
じ条件で4−メチル無水フタル酸の塩素化を行った。
14.5時間後の反応生成物をガスクロマI・グラフで
分析し、下記の結果を得た。
分析し、下記の結果を得た。
原M:82%、3−クロル−4−メチルフタル19:1
2%、5−クロル−4−メチルフタル酸:6% すなわち反応速度はおそいが塩素化反応が進行している
ことがわかる。
2%、5−クロル−4−メチルフタル酸:6% すなわち反応速度はおそいが塩素化反応が進行している
ことがわかる。
実施例4においてモノヒトラードの代りに発煙硫酸を使
用すれば反応時間が短縮され目的化合物1の収率も向上
する。
用すれば反応時間が短縮され目的化合物1の収率も向上
する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般5勺I) (式中、nは1〜3の整数であって、n=1のときは塩
素原子は3又は5位を占める。 )で示される4−メチルフタル酸の核塩素化物。 24−メチルフタル酸又はその無水物を濃硫酸又は発煙
硫酸と混合し、塩素を反応させることよりなる一般5勺
1) (式中、nは1〜3の整数であって、n=1のときは塩
素原子は3又は5位を占める。 )で示されする4−メチルフタル酸核塩素化物の製造法
。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52038563A JPS5822460B2 (ja) | 1977-04-06 | 1977-04-06 | 4−メチルフタル酸の核塩素化物及びそれらの製造法 |
| CH366478A CH634814A5 (de) | 1977-04-06 | 1978-04-05 | Chlorierte 4-methylphthalsaeure oder deren anhydrid und herstellungsverfahren dafuer. |
| DE19782814947 DE2814947A1 (de) | 1977-04-06 | 1978-04-06 | Chlorierte 4-methylphthalsaeuren und deren anhydride und verfahren zu ihrer herstellung |
| US05/886,563 US4302396A (en) | 1977-04-06 | 1978-04-24 | Chlorinated 4-methylphthalic anhydrides |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52038563A JPS5822460B2 (ja) | 1977-04-06 | 1977-04-06 | 4−メチルフタル酸の核塩素化物及びそれらの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS53124231A JPS53124231A (en) | 1978-10-30 |
| JPS5822460B2 true JPS5822460B2 (ja) | 1983-05-09 |
Family
ID=12528759
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52038563A Expired JPS5822460B2 (ja) | 1977-04-06 | 1977-04-06 | 4−メチルフタル酸の核塩素化物及びそれらの製造法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4302396A (ja) |
| JP (1) | JPS5822460B2 (ja) |
| CH (1) | CH634814A5 (ja) |
| DE (1) | DE2814947A1 (ja) |
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| JPS6042349A (ja) * | 1983-08-19 | 1985-03-06 | Nippon Zeon Co Ltd | 置換フタル酸化合物の製造方法 |
| CA1226870A (en) * | 1984-04-16 | 1987-09-15 | Jeffrey E. Telschow | Process for preparing substituted phthalic anhydrides |
| US4560772A (en) * | 1984-10-22 | 1985-12-24 | Stauffer Chemical Company | Preparation of substituted phthalic anhydrides |
| US4981999A (en) * | 1989-11-20 | 1991-01-01 | Occidental Chemical Corporation | Selective removal of chlorine from chlorophthalic compounds |
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Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US3940419A (en) * | 1973-04-05 | 1976-02-24 | American Cyanamid Company | Phthalimide derivatives and their use as plant growth regulants |
| US3873613A (en) * | 1973-09-20 | 1975-03-25 | Standard Oil Co | Isolation of tetrachloroterephthalic acid |
-
1977
- 1977-04-06 JP JP52038563A patent/JPS5822460B2/ja not_active Expired
-
1978
- 1978-04-05 CH CH366478A patent/CH634814A5/de not_active IP Right Cessation
- 1978-04-06 DE DE19782814947 patent/DE2814947A1/de not_active Withdrawn
- 1978-04-24 US US05/886,563 patent/US4302396A/en not_active Expired - Lifetime
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| DE2814947A1 (de) | 1978-10-12 |
| US4302396A (en) | 1981-11-24 |
| JPS53124231A (en) | 1978-10-30 |
| CH634814A5 (de) | 1983-02-28 |
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