JPS5822736B2 - ゲンゾウエキソセイブツ - Google Patents
ゲンゾウエキソセイブツInfo
- Publication number
- JPS5822736B2 JPS5822736B2 JP50004860A JP486075A JPS5822736B2 JP S5822736 B2 JPS5822736 B2 JP S5822736B2 JP 50004860 A JP50004860 A JP 50004860A JP 486075 A JP486075 A JP 486075A JP S5822736 B2 JPS5822736 B2 JP S5822736B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ammonium
- developer
- acid
- group
- photosensitive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、感光性シートの現像液組成物に関するもので
、とくに平版印刷材の現像液組成物に関するものである
。
、とくに平版印刷材の現像液組成物に関するものである
。
詳しく述べると、露光された感光性シート(平版印刷材
)を現像して非画像部を除き、レリーフ像を形成させる
ための現像液組成物に関するものである。
)を現像して非画像部を除き、レリーフ像を形成させる
ための現像液組成物に関するものである。
平版印刷とは、親水性表面を有する支持体上に親油性画
像が形成された版材を用いて、水と油脂性インキを用い
て印刷する方法である。
像が形成された版材を用いて、水と油脂性インキを用い
て印刷する方法である。
すなわち、その非画像部は親水性であるため、水は受け
つけるが油脂性インキは受けつけず、一方、画像部は親
油性であるので、油脂性インキは受けつけるが水は受け
つけないのである。
つけるが油脂性インキは受けつけず、一方、画像部は親
油性であるので、油脂性インキは受けつけるが水は受け
つけないのである。
したがって、これをブランケットに転写して、その後紙
に転写すると印刷物かえられるのである。
に転写すると印刷物かえられるのである。
このように、平版印刷版をつくるには、適当な親水性支
持体に感光性物質を導く塗布しく塗布重量05〜59/
m′)、その上から写真のネガフィルムを透して露光す
ると、光の当った部分だけが硬化して現像液に不溶とな
るので、該印刷版を現像すれば非露光部分は除去されて
ポジ画像が形成される。
持体に感光性物質を導く塗布しく塗布重量05〜59/
m′)、その上から写真のネガフィルムを透して露光す
ると、光の当った部分だけが硬化して現像液に不溶とな
るので、該印刷版を現像すれば非露光部分は除去されて
ポジ画像が形成される。
このとき使用される現像液は、平版印刷版をつくるため
には重要な働きをし、非画像部を完全に除去し、しかも
、画像部を保護するものが望ましい。
には重要な働きをし、非画像部を完全に除去し、しかも
、画像部を保護するものが望ましい。
本発明者らは、酸価10〜300を有し、且つ側鎖にヒ
ドロキシ基およびシアノ基を有するアクリル酸系または
メタクリル酸系の高分子重合体およびジアゾ化合物から
なる感光性組成物を塗布した感光性シートの未露光部分
を除去するための現像液として、ホウ酸アンモニウム、
五ホウ酸アンモニウム、炭酸アンモニウム、ケイ酸アン
モニウム、リン酸第三アンモニウムおよびリン酸第三ア
ンモニウムよりなる群から選ばれた少なくとも1種の弱
酸のアンモニウム塩水溶液を使用することにより、画像
部の感脂性を低下させることなく耐刷性の画像が形成さ
れ、しかも、低公害性であることを見出し、本発明を完
成したものである。
ドロキシ基およびシアノ基を有するアクリル酸系または
メタクリル酸系の高分子重合体およびジアゾ化合物から
なる感光性組成物を塗布した感光性シートの未露光部分
を除去するための現像液として、ホウ酸アンモニウム、
五ホウ酸アンモニウム、炭酸アンモニウム、ケイ酸アン
モニウム、リン酸第三アンモニウムおよびリン酸第三ア
ンモニウムよりなる群から選ばれた少なくとも1種の弱
酸のアンモニウム塩水溶液を使用することにより、画像
部の感脂性を低下させることなく耐刷性の画像が形成さ
れ、しかも、低公害性であることを見出し、本発明を完
成したものである。
本出願人の出願に係わる特開昭50−3292附公報に
は、酸価10〜300を有する有機高分子重合体として
シス−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボキシレー
ト基を側鎖に含有する重合体と、感光性化合物としてジ
アゾ樹脂と芳香族アジド化合物からなる感光性組成物の
現像液として、ケイ酸すl−IJウム水溶液を用いるこ
とが記載されており、また本出願人の出願に係わる特開
昭50−118802号公報には、酸価10〜100を
有するヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート−(メ
タ)アクリロニトル共重合体とジアゾ化合物からなる感
光性組成物の現像液として、同じくケイ酸すl−IJウ
ム水溶液を使用することが記載されているが、現像時間
が過剰になったり、現像温度が高ければ印刷時における
耐刷性の劣化を引き起すという欠点を有していた。
は、酸価10〜300を有する有機高分子重合体として
シス−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボキシレー
ト基を側鎖に含有する重合体と、感光性化合物としてジ
アゾ樹脂と芳香族アジド化合物からなる感光性組成物の
現像液として、ケイ酸すl−IJウム水溶液を用いるこ
とが記載されており、また本出願人の出願に係わる特開
昭50−118802号公報には、酸価10〜100を
有するヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート−(メ
タ)アクリロニトル共重合体とジアゾ化合物からなる感
光性組成物の現像液として、同じくケイ酸すl−IJウ
ム水溶液を使用することが記載されているが、現像時間
が過剰になったり、現像温度が高ければ印刷時における
耐刷性の劣化を引き起すという欠点を有していた。
これに対して、本発明に従って、酸価10〜300を有
し且つ側鎖にヒドロキシ基およびシアン基を有するアク
リル酸系またはメタクリル酸系の高分子重合体およびジ
アゾ化合物を含む感光性組成物を設けた感光性シートの
未露光部分を除去するための現像液として、前述の如き
特定の化合物群から選ばれた少なくとも1種の弱酸のア
ンモニウム塩水溶液からなる現像液を用いた場合には、
上述のような欠点が解消される。
し且つ側鎖にヒドロキシ基およびシアン基を有するアク
リル酸系またはメタクリル酸系の高分子重合体およびジ
アゾ化合物を含む感光性組成物を設けた感光性シートの
未露光部分を除去するための現像液として、前述の如き
特定の化合物群から選ばれた少なくとも1種の弱酸のア
ンモニウム塩水溶液からなる現像液を用いた場合には、
上述のような欠点が解消される。
本発明において、特に好ましい結果が得られる感光性組
成物は、特開昭50−118802号公報に記載されて
いる、一般式CI) (ただし、式中、R1は水素原子またはメチル基、R2
は水素原子、メチル基、エチル基またはクロロメチル基
を示し、かつ、nは1〜10の整数である。
成物は、特開昭50−118802号公報に記載されて
いる、一般式CI) (ただし、式中、R1は水素原子またはメチル基、R2
は水素原子、メチル基、エチル基またはクロロメチル基
を示し、かつ、nは1〜10の整数である。
)で示される構造単位およびつぎの一般式(II)
(ただし、式中、R3は水素原子またはメチル基である
。
。
)で示される構造単位を含み、かつ、酸価が10〜10
0である重合体およびジアゾ化合物からなる感光性組成
物である。
0である重合体およびジアゾ化合物からなる感光性組成
物である。
上記の重合体の酸価を10〜300とするために側鎖に
カルボキシ基などの酸基が導入されるが、そのためには
、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタ
コン酸などを共重合体させる方法など公知の方法が利用
できる。
カルボキシ基などの酸基が導入されるが、そのためには
、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタ
コン酸などを共重合体させる方法など公知の方法が利用
できる。
他方、具体的なジアゾ化合物としては、前記のような重
合体と相溶性を有するものが好ましい。
合体と相溶性を有するものが好ましい。
とくに好ましいジアゾ化合物としては、P−ジアゾジフ
ェニルアミンとホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒ
ドとの縮合物の塩、たとえば、フェノール塩、フルオロ
カプリン酸塩およびトリイソプロピルナフタレンスルホ
ン酸、4,4−ビフェニルジスルホン酸、5−ニトロオ
ルト−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2
,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼ
ンスルホン酸、3−り四ロベンゼンスルホン酸、3−ブ
ロモベンゼンスルホン酸、2−クロロ−5−二トロベン
ゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
ー4−ヒドロオキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸およびパラトルエンスルホン酸などのスルホン酸の
塩などのように一分子中に2個以上のジアゾ基を有する
化合物である。
ェニルアミンとホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒ
ドとの縮合物の塩、たとえば、フェノール塩、フルオロ
カプリン酸塩およびトリイソプロピルナフタレンスルホ
ン酸、4,4−ビフェニルジスルホン酸、5−ニトロオ
ルト−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2
,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼ
ンスルホン酸、3−り四ロベンゼンスルホン酸、3−ブ
ロモベンゼンスルホン酸、2−クロロ−5−二トロベン
ゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
ー4−ヒドロオキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸およびパラトルエンスルホン酸などのスルホン酸の
塩などのように一分子中に2個以上のジアゾ基を有する
化合物である。
この他望ましいジアゾ化合物としては上記の塩を含む2
.5−ジメトキシ−4−P−トリルメルカプトンベンゼ
ンジアゾニウムとホルムアルデヒドの縮合物、2,5−
ジメトキシ−4−モルホリノベンゼンジアゾニウムとホ
ルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドの縮合物、およ
び特開昭48−33907号公報に記載されているよう
な下記一般式で示される化合物が含まれる。
.5−ジメトキシ−4−P−トリルメルカプトンベンゼ
ンジアゾニウムとホルムアルデヒドの縮合物、2,5−
ジメトキシ−4−モルホリノベンゼンジアゾニウムとホ
ルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドの縮合物、およ
び特開昭48−33907号公報に記載されているよう
な下記一般式で示される化合物が含まれる。
式中、R1,R2,R3およびR4は各々炭素数1〜4
アルキル基、たとえば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基などを示し、Xは置換アミ7基、たとえば
、N−(β−ヒドロキシエチル)アミノ基、N、N−ジ
(β−ヒドロキシエチル〕アミノ基などのヒドロキシア
ルキルアミノ基を示し、Yは前記のような酸のアニオン
を示す。
アルキル基、たとえば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基などを示し、Xは置換アミ7基、たとえば
、N−(β−ヒドロキシエチル)アミノ基、N、N−ジ
(β−ヒドロキシエチル〕アミノ基などのヒドロキシア
ルキルアミノ基を示し、Yは前記のような酸のアニオン
を示す。
具体的には、たとえば、2,6−ビス(4−ジアゾ二2
.5−ジメトキシフェニルアミノ)−4−N、N−(シ
ーβ−ヒドロキシエチル)アミノ−1,3,5−トリア
ジンの2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル
ベンゼンスルホン酸塩、2,6−ビス(4−ジアゾ二2
,5−ジメトキシフェニルアミノ)−4−N−(β−ヒ
ドロキシエチル)アミノ−1,3,5−トリアジンの2
−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベンゼン
スルホン酸塩、2.6−ビス(4−ジアゾ二2.5−ジ
ェトキシフェニルアミン)−4−N−(β−ヒドロキシ
エチルアミノ−1,3,5−1−リアジンの2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン
酸塩などがある。
.5−ジメトキシフェニルアミノ)−4−N、N−(シ
ーβ−ヒドロキシエチル)アミノ−1,3,5−トリア
ジンの2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル
ベンゼンスルホン酸塩、2,6−ビス(4−ジアゾ二2
,5−ジメトキシフェニルアミノ)−4−N−(β−ヒ
ドロキシエチル)アミノ−1,3,5−トリアジンの2
−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベンゼン
スルホン酸塩、2.6−ビス(4−ジアゾ二2.5−ジ
ェトキシフェニルアミン)−4−N−(β−ヒドロキシ
エチルアミノ−1,3,5−1−リアジンの2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン
酸塩などがある。
さらに、他の有用なジアゾ化合物は、米国特許、′第2
,649,373号明細書に記載されているような化合
物を含む。
,649,373号明細書に記載されているような化合
物を含む。
ジアゾ化合物の配合量は、前記重合体にたいして2〜4
00重量係、好ましくは8〜100重量係である。
00重量係、好ましくは8〜100重量係である。
本発明において用いられる弱酸のアンモニウム塩として
は、その1重量係の水溶液でpI]が7.5〜10.0
を示すものから選ばれる。
は、その1重量係の水溶液でpI]が7.5〜10.0
を示すものから選ばれる。
その代表例として、ホウ酸アンモニウム、五ホウ酸アン
モニウム、炭酸アンモニウム、ケイ酸アンモニウム、リ
ン酸。
モニウム、炭酸アンモニウム、ケイ酸アンモニウム、リ
ン酸。
第二アンモニウム、リン酸第三アンモニウムをあげるこ
とができる。
とができる。
現像液組成物中における弱酸のアンモニウム塩の濃度は
0.1〜5重量係であり、好ましくは0.5〜2重量係
である。
0.1〜5重量係であり、好ましくは0.5〜2重量係
である。
本発明による弱酸のアンモニウム塩水溶液から、なる現
像液組成物の現像速度を高めるために、界面活性剤およ
び水と混和できる有機溶媒を加えることもできる。
像液組成物の現像速度を高めるために、界面活性剤およ
び水と混和できる有機溶媒を加えることもできる。
界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤およびアニ
オン系界面活性剤が有効である。
オン系界面活性剤が有効である。
このような界面活性剤として、具体的には、。たとえば
、高級アルコール(08〜C22)硫酸エステル塩類、
脂肪族アルコールリン酸エステル塩類、二塩基性脂肪酸
エステルのスルホン酸塩類、肪肪酸アミドスルホン酸塩
類、アルキルアリールスルホン酸塩類、ポリオキシアル
キレンアルキルエーテル類、ポリオキシアルキレンアル
キルエステル類、ポリオキシアルキレンアルキルアリー
ルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアミン類、
ポリオキシエチレンアルキルアミド類、ポリオキシエチ
レンソルビタンアルキルエステル類、プルロニツクス型
およびテトロニツクス型界面活性剤がある。
、高級アルコール(08〜C22)硫酸エステル塩類、
脂肪族アルコールリン酸エステル塩類、二塩基性脂肪酸
エステルのスルホン酸塩類、肪肪酸アミドスルホン酸塩
類、アルキルアリールスルホン酸塩類、ポリオキシアル
キレンアルキルエーテル類、ポリオキシアルキレンアル
キルエステル類、ポリオキシアルキレンアルキルアリー
ルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアミン類、
ポリオキシエチレンアルキルアミド類、ポリオキシエチ
レンソルビタンアルキルエステル類、プルロニツクス型
およびテトロニツクス型界面活性剤がある。
これらの界面活性剤の量は、現像液組成物中の0.1〜
10重量係で、好ましくは0.5〜3重量係である。
10重量係で、好ましくは0.5〜3重量係である。
また、水と混和できる有機溶媒としては、ベンジルアル
コール、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド、イソプロ
パツール、エチレンクリコール七ツメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコ
ールモノブチルエーテル、タイアセントアルコールなど
がある。
コール、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド、イソプロ
パツール、エチレンクリコール七ツメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコ
ールモノブチルエーテル、タイアセントアルコールなど
がある。
これらの有機溶媒の量は、現像液組成物中の0.5〜1
0重量係で、好ましくは1〜4重量係である。
0重量係で、好ましくは1〜4重量係である。
上記の界面活性剤と有機溶媒中、とくに好ましいものと
しては、イソプロビルナフクレンスルホン酸ナトリウム
とベンジルアルコールの組合わせである。
しては、イソプロビルナフクレンスルホン酸ナトリウム
とベンジルアルコールの組合わせである。
本発明による弱酸のアンモニウム塩水溶液からなる現像
液は、液口体のpHが中和点に近く(たとえば、ホウ酸
アンモニウム1重量係水溶液のpHは8.3である。
液は、液口体のpHが中和点に近く(たとえば、ホウ酸
アンモニウム1重量係水溶液のpHは8.3である。
)、廃液を捨てる場合はとんど中和する必要がなく、非
常に低公害性である。
常に低公害性である。
そのうえ、本発明の現像液で処理した平版印刷版は、他
のアルカリ剤、たとえば、ケイ酸ナトIJウムの水溶液
からなる現像液で処理したものに比較して耐刷性は犬で
、また、現像時間が過剰になっても、さらに、現像温度
が高くなっても、耐刷性における劣化は極めて小さい。
のアルカリ剤、たとえば、ケイ酸ナトIJウムの水溶液
からなる現像液で処理したものに比較して耐刷性は犬で
、また、現像時間が過剰になっても、さらに、現像温度
が高くなっても、耐刷性における劣化は極めて小さい。
本発明の現像液組成物は、さらにフォトレジスト材料、
フォトマスクなどの現像にも使用することができる。
フォトマスクなどの現像にも使用することができる。
つぎに、実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明する
。
。
なお、下記実施例におけるパーセンテージは、とくにこ
とわらない限り、重量係である。
とわらない限り、重量係である。
実施例 1
窒素気流下にジオキサン300gを100°Cに加熱し
、2−ヒドロキシエチルメククリレート150g、メチ
ルメタクリレート79.57!、アクリロニトリル60
g、メタクリル酸10.5gおよび過酸化ベンゾイル1
.2gの混合液を2時間かかつて滴下した。
、2−ヒドロキシエチルメククリレート150g、メチ
ルメタクリレート79.57!、アクリロニトリル60
g、メタクリル酸10.5gおよび過酸化ベンゾイル1
.2gの混合液を2時間かかつて滴下した。
滴下終了15分後にジオキサン300gと過酸化ベンゾ
イル0.3gを加えて、そのまま4時間反応させた。
イル0.3gを加えて、そのまま4時間反応させた。
反応終了後、メタノールで希釈して水中に投じて共重合
体を沈殿させ、70℃で真空乾燥させた。
体を沈殿させ、70℃で真空乾燥させた。
この2−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体の酸
価は20であり、2−メトキシエタノール33係溶液の
25℃における粘度は4,980センチポイズであった
。
価は20であり、2−メトキシエタノール33係溶液の
25℃における粘度は4,980センチポイズであった
。
厚さ0.15mmの38アルミニウム板を、80°Cに
保たれたリン酸第三ナトリウムの10係水溶液に3分間
浸漬して脱脂、水洗し、ついで70%硝酸水溶液を用い
てデスマットし、水洗後70℃のケイ酸ナトリウム1.
25%水溶液に1分間浸漬処理し、平滑な砂目のないア
ルミニウム板を作製した。
保たれたリン酸第三ナトリウムの10係水溶液に3分間
浸漬して脱脂、水洗し、ついで70%硝酸水溶液を用い
てデスマットし、水洗後70℃のケイ酸ナトリウム1.
25%水溶液に1分間浸漬処理し、平滑な砂目のないア
ルミニウム板を作製した。
このアルミニウム板に、下記の組成を有する感光性組成
物溶液をボイラーを用いて塗布した。
物溶液をボイラーを用いて塗布した。
乾燥は100℃で2分間行なった。
2−ヒドロキシエチルメタクリ
シー1〜共重合体の2−メトキシ
エタノール33係溶液 25.5g 。
P−ジアゾジフェニルアミンと
パラホルムアルデヒドの縮合物
の2−メトキシ−4−ヒドロキ
シ−5−ベンゾイルベンゼンス
ルホン酸塩 L25,9オイルブ
ルー8603(オリエ ント化学工業株式会社製) 0.:12−メ
トキシエタノール 90gメタノール
90gエチレンジクロライド
90g 。
ルー8603(オリエ ント化学工業株式会社製) 0.:12−メ
トキシエタノール 90gメタノール
90gエチレンジクロライド
90g 。
乾燥塗布重量は0.82%J/ m”であった。
この感光性平版印刷版を30アンペアのカーボンアーク
灯で70cIrLの距離から20秒間露光しくグレース
ケールで3段ベタであった。
灯で70cIrLの距離から20秒間露光しくグレース
ケールで3段ベタであった。
これは、適正露光時間の半分の露光量であった。
)。ついで、下記。の組成を有する現像液にて25℃で
1分間浸漬し、その後、30秒間脱脂綿で軽くこすりな
がら水洗を行なった。
1分間浸漬し、その後、30秒間脱脂綿で軽くこすりな
がら水洗を行なった。
ベンジルアルコール 205+イソプロ
ビルナフクレンスルホ ン酸ナトリウム 10gアルカリ
剤 ×g水
1000gこのようにしてえられた
印刷版をハリス・オーシリア125印刷機にかけて上質
紙に印刷したところ、第1表の結果かえられた。
ビルナフクレンスルホ ン酸ナトリウム 10gアルカリ
剤 ×g水
1000gこのようにしてえられた
印刷版をハリス・オーシリア125印刷機にかけて上質
紙に印刷したところ、第1表の結果かえられた。
比較例 1〜3
アルカリ剤の種類および量を第1表に示すものに変えた
以外は、未施例1と同様の方法を行なったところ、第1
表の結果かえられた。
以外は、未施例1と同様の方法を行なったところ、第1
表の結果かえられた。
第1表の結果から明らかなように、ホウ酸アンモニウム
を使用したものは、他のアルカリ剤を用いたものと比較
して2倍から6倍の耐刷性を有している。
を使用したものは、他のアルカリ剤を用いたものと比較
して2倍から6倍の耐刷性を有している。
また、現像液のpHは8.3で、はとんど中性に近いた
め、低公害性であった。
め、低公害性であった。
実施例 2
実施例1で用いた感光性平版印刷版を、30アンペアの
カーボンアーク灯で70cTLの距離から40秒間露光
しくグレースケール5段ベタであった。
カーボンアーク灯で70cTLの距離から40秒間露光
しくグレースケール5段ベタであった。
これは適正露光時間であった。)、ついで、下記の組成
を有する現像液にて25°Cで30秒間オートプロセッ
サー80O8自動現像機(富士写真フィルム株式会社製
)で現像した。
を有する現像液にて25°Cで30秒間オートプロセッ
サー80O8自動現像機(富士写真フィルム株式会社製
)で現像した。
ベンジルアルコール 300gイソプロ
ピルナフタレンスルホ ン酸ナトリウム 150gホウ酸ア
ンモニウム 100g水
10,000gこのようにしてえられた
平版印刷版を、ノ1リス・オーシリア125印刷機にか
けて上質紙に印刷したところ、30,000枚以上印刷
することができた。
ピルナフタレンスルホ ン酸ナトリウム 150gホウ酸ア
ンモニウム 100g水
10,000gこのようにしてえられた
平版印刷版を、ノ1リス・オーシリア125印刷機にか
けて上質紙に印刷したところ、30,000枚以上印刷
することができた。
また、この現像液の処理能力を調べたところ、30 r
n:/ 1以上処理することができ、現像速度は新液と
ほとんど差がなく、印刷時における非画像部の汚れも発
生しなかった。
n:/ 1以上処理することができ、現像速度は新液と
ほとんど差がなく、印刷時における非画像部の汚れも発
生しなかった。
この30 rrl/ 1!を処理した現像液は、感光性
組成物から溶出した染料とバインダーである2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート共重合体で、どろどろし、着
色した液となったが、この現像液に硫酸アルミニウムを
少量加えてpH7以下にしたところ、染料とバインダー
が沈殿し、透明な液となった。
組成物から溶出した染料とバインダーである2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート共重合体で、どろどろし、着
色した液となったが、この現像液に硫酸アルミニウムを
少量加えてpH7以下にしたところ、染料とバインダー
が沈殿し、透明な液となった。
この透明な液は、もはや現像する能力はなかったがBO
Dの測定からほとんど有機物が取り除かれていた。
Dの測定からほとんど有機物が取り除かれていた。
このように、ホウ酸アンモニウムを含有する現像液の廃
液の処理も簡単であった。
液の処理も簡単であった。
Claims (1)
- 1 酸価10〜300を有し且つ側鎖にヒドロキ基およ
びシアン基を有するアクリル酸系またはメタクリル酸系
の高分子重合体およびジアゾ化合物を含む感光性組成物
を塗布した感光性シートの未露光部分を除去するための
現像液として、ホウ酸アンモニウム、五ホウ酸アンモニ
ウム、炭酸アンモニウム、ケイ酸アンモニウム、リン酸
第三アンモニウムおよびリン酸第三アンモニウムよりな
る群から選ばれた少なくとも1種の弱酸のアンモニウム
塩水溶液を含むことを特徴とする現像液組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50004860A JPS5822736B2 (ja) | 1975-01-10 | 1975-01-10 | ゲンゾウエキソセイブツ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50004860A JPS5822736B2 (ja) | 1975-01-10 | 1975-01-10 | ゲンゾウエキソセイブツ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5180228A JPS5180228A (ja) | 1976-07-13 |
| JPS5822736B2 true JPS5822736B2 (ja) | 1983-05-11 |
Family
ID=11595419
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50004860A Expired JPS5822736B2 (ja) | 1975-01-10 | 1975-01-10 | ゲンゾウエキソセイブツ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5822736B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS552213A (en) * | 1978-06-19 | 1980-01-09 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Developing method |
| JPS55134847A (en) * | 1979-04-06 | 1980-10-21 | Nec Corp | Manufacture of resist image |
| JPS57192951A (en) * | 1981-05-25 | 1982-11-27 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Composition of developing solution |
| JPS5854341A (ja) * | 1981-09-28 | 1983-03-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 現像方法および現像液 |
| JPS60130741A (ja) * | 1983-12-19 | 1985-07-12 | Nippon Seihaku Kk | 感光性平版印刷版用現像剤 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS48101201A (ja) * | 1972-04-12 | 1973-12-20 | ||
| JPS5549729B2 (ja) * | 1973-02-07 | 1980-12-13 | ||
| JPS5612856B2 (ja) * | 1973-04-16 | 1981-03-25 |
-
1975
- 1975-01-10 JP JP50004860A patent/JPS5822736B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5180228A (ja) | 1976-07-13 |
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