JPS5824010B2 - 矩形状電子線通過開口を有したアパ−チヤ板の整列方法 - Google Patents
矩形状電子線通過開口を有したアパ−チヤ板の整列方法Info
- Publication number
- JPS5824010B2 JPS5824010B2 JP55077975A JP7797580A JPS5824010B2 JP S5824010 B2 JPS5824010 B2 JP S5824010B2 JP 55077975 A JP55077975 A JP 55077975A JP 7797580 A JP7797580 A JP 7797580A JP S5824010 B2 JPS5824010 B2 JP S5824010B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- aperture
- aperture plate
- rectangular opening
- boundary
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/3002—Details
- H01J37/3007—Electron or ion-optical systems
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は夫々に矩形状電子線通過開口を有した第１と第
２のアパーチャ板と該アパーチャ板の間に設けられた電
子線偏向手段とによって整形された電子線を被露光材料
上に投射するようにした電子線露光装置に使用する該ア
パーチャ板の整列方法に関する。
２のアパーチャ板と該アパーチャ板の間に設けられた電
子線偏向手段とによって整形された電子線を被露光材料
上に投射するようにした電子線露光装置に使用する該ア
パーチャ板の整列方法に関する。
第１図は本発明が実施される電子線露光装置の一例を示
すもので、１は電子銃である。
すもので、１は電子銃である。
該電子銃１から発生した電子線は収束レンズ２によって
矩形状開口３を有した第１のアパーチャ板４上に投射さ
れる。
矩形状開口３を有した第１のアパーチャ板４上に投射さ
れる。
該開口３を通過した電子線は静電型偏向器５によって適
宜偏向され、電子レンズ４Ｌによって矩形状開口６を有
した第２のアパーチャ板７上に投射される。
宜偏向され、電子レンズ４Ｌによって矩形状開口６を有
した第２のアパーチャ板７上に投射される。
この結果該第２の開口６を通過する電子線の断面形状は
該偏向器５による電子線の偏向量に応じて可変となり、
該開口６を通過した電子線は投影レンズ８によって被露
光材料９上に照射される。
該偏向器５による電子線の偏向量に応じて可変となり、
該開口６を通過した電子線は投影レンズ８によって被露
光材料９上に照射される。
該材料９上の電子線照射位置は偏向器１０によって変え
られ、従って該材料９上には所望形状の図形が露光され
る。
られ、従って該材料９上には所望形状の図形が露光され
る。
さて上述した構成の装置において材料９上に例えば第２
図ａに示す如き細長い長方形の図形りを露光する場合、
第１及び第２のアパーチャ板４及び７と偏向器５とによ
って第２図すに示す矩形状の電子線Ｓ１を形成して材料
９上に投射し、該電子線Ｓ１を図中矢印方向に走査して
電子線Ｓ２．Ｓ３゜・・・・・・Ｓｎを材料上に投射し
、図形りを露光するようにしている。
図ａに示す如き細長い長方形の図形りを露光する場合、
第１及び第２のアパーチャ板４及び７と偏向器５とによ
って第２図すに示す矩形状の電子線Ｓ１を形成して材料
９上に投射し、該電子線Ｓ１を図中矢印方向に走査して
電子線Ｓ２．Ｓ３゜・・・・・・Ｓｎを材料上に投射し
、図形りを露光するようにしている。
この場合矩形状電子線５１（Ｓ２・・・・・・Ｓｎ）の
一辺が電子線の走査方向に平行であれば、各電子線によ
る平行露光図形間の継ぎ合わせが精確に行い得精度良く
図形りが露光される。
一辺が電子線の走査方向に平行であれば、各電子線によ
る平行露光図形間の継ぎ合わせが精確に行い得精度良く
図形りが露光される。
しかしながら第２図Ｃに示す電子線Ｒ１の如くその矩形
状断面の辺と電子線の走査方向との平行度が悪い場合に
は電子線を走査してＲ２，Ｒ３・・・・・・Ｒｎを材料
上に投射しても各電子線による単位露光図形間の継ぎ合
わせを精確に行うことはできず、精度良く図形りを露光
できない。
状断面の辺と電子線の走査方向との平行度が悪い場合に
は電子線を走査してＲ２，Ｒ３・・・・・・Ｒｎを材料
上に投射しても各電子線による単位露光図形間の継ぎ合
わせを精確に行うことはできず、精度良く図形りを露光
できない。
上述した点に鑑み、材料の露光を開始する前に電子線の
走査方向（Ｘ方向及びＹ方向）に対して第１及び第２の
矩形状電子線通過開口３及び６の各辺が平行となるよう
に第１及び第２のアパーチャ板を整列させねばならない
。
走査方向（Ｘ方向及びＹ方向）に対して第１及び第２の
矩形状電子線通過開口３及び６の各辺が平行となるよう
に第１及び第２のアパーチャ板を整列させねばならない
。
従来この整列は被露光材料のステージの一部に第３図に
示すファラデーケージ１１と該ケージ１１の上部に導電
性ワイヤー１２とを配置し、該ワイヤー１２の直線状端
部Ｗに直交する方向に矩形断面の電子線ＥＢを走査する
ことによって行っている。
示すファラデーケージ１１と該ケージ１１の上部に導電
性ワイヤー１２とを配置し、該ワイヤー１２の直線状端
部Ｗに直交する方向に矩形断面の電子線ＥＢを走査する
ことによって行っている。
該電子線の走査によってケージ１１から得られる信号は
、電子線ＥＢがワイヤ１２によって遮蔽されるに従って
その強度が減少し、第４図ａに示す信号が得られる。
、電子線ＥＢがワイヤ１２によって遮蔽されるに従って
その強度が減少し、第４図ａに示す信号が得られる。
第３図中実線の信号は電子線の辺がワイヤーの直線状端
部Ｗと略平行な第３図中実線で示す電子線ＥＢによるも
ので、破線の信号は電子線の辺と端部Ｗとの平行度が不
良な第３図中破線で示す電子線ＥＢ’によるものであり
、該電子線ＥＢ’による信号強度は緩やかに減少する。
部Ｗと略平行な第３図中実線で示す電子線ＥＢによるも
ので、破線の信号は電子線の辺と端部Ｗとの平行度が不
良な第３図中破線で示す電子線ＥＢ’によるものであり
、該電子線ＥＢ’による信号強度は緩やかに減少する。
第４図ａの信号を微分すれば、第４図すの信号が得られ
更に微分することによって第４図Ｃの信号が得られる。
更に微分することによって第４図Ｃの信号が得られる。
該第４図Ｃの信号のピークの高さは電子線の辺とワイヤ
端部Ｗとの平行度が良くなるにつれて高くなる。
端部Ｗとの平行度が良くなるにつれて高くなる。
このことから該ピークの高さが最大となるように第１図
に示した装置のアパーチャ板４及び７を回転させれば電
子線の各辺が、走査方向（ＸあるいはＹ方向）に平行と
なるように調整できる訳である。
に示した装置のアパーチャ板４及び７を回転させれば電
子線の各辺が、走査方向（ＸあるいはＹ方向）に平行と
なるように調整できる訳である。
ここで第５図は第１の開口３と第２の開口６と材料上に
投射される電子線ＥＢとの関係を示しており、偏向器５
による開口３と開口６との重ね合せの程度によって電子
線ＥＢの形状、大きさが変えられる。
投射される電子線ＥＢとの関係を示しており、偏向器５
による開口３と開口６との重ね合せの程度によって電子
線ＥＢの形状、大きさが変えられる。
さて、アパーチャ板４を回転させた場合、該アパーチャ
板４の回転中心が開口３の中心Ｇ（光軸）と一致してお
れば、第４図Ｃのピーク信号の高さは該開口３の辺とワ
イヤ一端部Ｗとの平行度のみに略依存して変化する。
板４の回転中心が開口３の中心Ｇ（光軸）と一致してお
れば、第４図Ｃのピーク信号の高さは該開口３の辺とワ
イヤ一端部Ｗとの平行度のみに略依存して変化する。
しかしながら通常アパーチャ板４の回転中心は開口３の
中心とは異っており、例えばアパーチャ板４の回転中心
がＣの場合数アパーチャ板４を回転させると開口３は第
５図中破線で示す如くなり、開口３と開口４とによって
整形される電子線の形状及び大きさは、大きく変化して
しまう。
中心とは異っており、例えばアパーチャ板４の回転中心
がＣの場合数アパーチャ板４を回転させると開口３は第
５図中破線で示す如くなり、開口３と開口４とによって
整形される電子線の形状及び大きさは、大きく変化して
しまう。
この結果第４図Ｃのピークの高さは上述した平行度のみ
には依存しないことになり、開口３の各辺すなわち材料
に投射される電子線の各辺を該電子線の走査方向と平行
に整列させることは困難となる。
には依存しないことになり、開口３の各辺すなわち材料
に投射される電子線の各辺を該電子線の走査方向と平行
に整列させることは困難となる。
本発明は上述した点に鑑みてなされたもので、各アパー
チャ板の回転中心が開口の中心と一致していない場合で
も、正確に該アパーチャ板を整列させることができる方
法を提供するものである。
チャ板の回転中心が開口の中心と一致していない場合で
も、正確に該アパーチャ板を整列させることができる方
法を提供するものである。
本発明の一実施例においては、第２のアパーチャ板７に
設けられた電子線通過開口６の各辺の長さが第１のアパ
ーチャ板４に設けられた開口３の辺の長さより２倍の大
きさにされる。
設けられた電子線通過開口６の各辺の長さが第１のアパ
ーチャ板４に設けられた開口３の辺の長さより２倍の大
きさにされる。
まず第１のアパーチャ板４を整列させる場合には第６図
に示す如く第１の開口３を通過した電子線の全てが、第
２の開口６を通過するように偏向器５に信号が供給され
、該開口６を通過した電子線は第３図に示すワイヤー１
２の直線状端部Ｗに直交する方向に偏向器１０によって
走査される。
に示す如く第１の開口３を通過した電子線の全てが、第
２の開口６を通過するように偏向器５に信号が供給され
、該開口６を通過した電子線は第３図に示すワイヤー１
２の直線状端部Ｗに直交する方向に偏向器１０によって
走査される。
ここでアパーチャ板４（開口３）を回転させた場合、ア
パーチャ板４の回転中心と開口３の中心（光軸）とが一
致していなくても、第１の開口３を通過した電子線は全
て第２の開口を通過するため、電子線の形状、大きさに
は変化がなく、従って第４図Ｃに示す信号のピークの高
さは第１の開口の辺と端部Ｗとの平行度のみに依存する
ため、該ピークの高さが最も高くなるようにアパーチャ
板４を回転させれば、該第１の開口３の各辺が電子線の
走査方向に平行に整列されることになる。
パーチャ板４の回転中心と開口３の中心（光軸）とが一
致していなくても、第１の開口３を通過した電子線は全
て第２の開口を通過するため、電子線の形状、大きさに
は変化がなく、従って第４図Ｃに示す信号のピークの高
さは第１の開口の辺と端部Ｗとの平行度のみに依存する
ため、該ピークの高さが最も高くなるようにアパーチャ
板４を回転させれば、該第１の開口３の各辺が電子線の
走査方向に平行に整列されることになる。
上述した第１のアパーチャ板の整列が終了した後、偏向
器５に信号を供給し第７図に示す如く第１の開口３を通
過した電子線の一部を第２のアパーチャ板によって遮蔽
し、ワイヤー１２の直線状端部Ｗと平行にすべき第２の
開口６の一辺によって該開口を通過した電子線の矩形断
面の一辺のみを整形する。
器５に信号を供給し第７図に示す如く第１の開口３を通
過した電子線の一部を第２のアパーチャ板によって遮蔽
し、ワイヤー１２の直線状端部Ｗと平行にすべき第２の
開口６の一辺によって該開口を通過した電子線の矩形断
面の一辺のみを整形する。
（他の３つの辺は第１の開口によって整形されている。
）このような状態で第２のアパーチャ板７を回転させる
と、該第２のアパーチャ板７の回転中心と第２の開口の
中心（光軸）とが一致していなくても、第２の開口６を
通過する電子線の断面形状の大きさはほとんど変化せず
、このような電子線の走査によって得られる第４図Ｃの
信号のピークの高さは該第２の開口の一辺とワイヤー１
２の端部Ｗとの平行度に依存し、該ピークの高さが、最
も高くなるように第２のアパーチャ板を回転させれば、
該第２の開口６の各辺が電子線の走査方向に平行に整列
されることになる。
と、該第２のアパーチャ板７の回転中心と第２の開口の
中心（光軸）とが一致していなくても、第２の開口６を
通過する電子線の断面形状の大きさはほとんど変化せず
、このような電子線の走査によって得られる第４図Ｃの
信号のピークの高さは該第２の開口の一辺とワイヤー１
２の端部Ｗとの平行度に依存し、該ピークの高さが、最
も高くなるように第２のアパーチャ板を回転させれば、
該第２の開口６の各辺が電子線の走査方向に平行に整列
されることになる。
このような第１と第２のアパーチャ板の整列が終了した
後、被露光材料への露光を開始すれば単位露光図形間の
継ぎ合わせを精密に行うことができ、露光精度を大巾に
向上させることができる。
後、被露光材料への露光を開始すれば単位露光図形間の
継ぎ合わせを精密に行うことができ、露光精度を大巾に
向上させることができる。
以上本発明を詳述したが、本発明は上述した実施例に限
定されることなく幾多の変形が可能である。
定されることなく幾多の変形が可能である。
例えば、第２のアパーチャ板の整列を先に行いその後第
１のアパーチャ板の整列を行うようにしても良い。
１のアパーチャ板の整列を行うようにしても良い。
又ワイヤーの下部にファラデーケージを設けて電子線を
検出するようにしたが例えばワイヤ一部分からの２次電
子を検出するようにしても良く、更には２次電子放出能
の異った２種の物質によって直線状の境界を形成し、該
物質からの２次電子を検出するようにしても良い。
検出するようにしたが例えばワイヤ一部分からの２次電
子を検出するようにしても良く、更には２次電子放出能
の異った２種の物質によって直線状の境界を形成し、該
物質からの２次電子を検出するようにしても良い。
更に第１の開口に比べ第２の開口を大きく構成したが、
例えば第１の開口と第２の開口の大きさを等しく構成し
ても良く、その場合第１のアパーチャ板ト第２のアパー
チャ板との間に設けられた電子レンズによって第１の開
口による電子線像を縮少して第２のアパーチャ板上に投
影すれば良い。
例えば第１の開口と第２の開口の大きさを等しく構成し
ても良く、その場合第１のアパーチャ板ト第２のアパー
チャ板との間に設けられた電子レンズによって第１の開
口による電子線像を縮少して第２のアパーチャ板上に投
影すれば良い。
更に又上述した実施例では第４図Ｃに示したピーク信号
の高さが最も高くなるようにアパーチャ板を回転させ、
該アパーチャ板の整列を行ったが、例えば第４図Ｃの信
号から更に矩形断面の電子線の巾に対応した信号を得、
該巾に対応した信号が最小となるように、アパーチャ板
を回転させても、同様な効果が得られる。
の高さが最も高くなるようにアパーチャ板を回転させ、
該アパーチャ板の整列を行ったが、例えば第４図Ｃの信
号から更に矩形断面の電子線の巾に対応した信号を得、
該巾に対応した信号が最小となるように、アパーチャ板
を回転させても、同様な効果が得られる。
第１図は本発明を実施する電子線露光装置の一例を示す
図、第２図は第１図の装置を使用した露光方法を説明す
るための図、第３図は被露光材料のステージ上に配置さ
れるファラデーケージと導電性ワイヤとを示す図、第４
図は第３図に示したファラデーケージの出力信号及び該
信号の微分信号を示す図、第５図は第１と第２の電子線
通過開口と整形された電子線との関係を示す図、第６図
及び第７図は本発明における第１と第２の電子線通過開
口の関係を示す図である。 １・・・・・・電子銃、２．Ｌ、８・・・・・・電子レ
ンズ、３゜６・・・・・・電子線通過開口、４，７・・
・・・・アパーチャ板、５．１０・・・・・・静電型偏
向器、９・・・・・・被露光材料。
図、第２図は第１図の装置を使用した露光方法を説明す
るための図、第３図は被露光材料のステージ上に配置さ
れるファラデーケージと導電性ワイヤとを示す図、第４
図は第３図に示したファラデーケージの出力信号及び該
信号の微分信号を示す図、第５図は第１と第２の電子線
通過開口と整形された電子線との関係を示す図、第６図
及び第７図は本発明における第１と第２の電子線通過開
口の関係を示す図である。 １・・・・・・電子銃、２．Ｌ、８・・・・・・電子レ
ンズ、３゜６・・・・・・電子線通過開口、４，７・・
・・・・アパーチャ板、５．１０・・・・・・静電型偏
向器、９・・・・・・被露光材料。
Claims (1)
- １ 第１のアパーチャ板の第１の矩形状開口を通過した
電子線の全てを第２のアパーチャ板の第２の矩形状開口
を通過させ、該第２の矩形状開口を通過した電子線を直
線状の境界部を有した部材上で、該境界に略直交する方
向に走査し、該境界部によって影響された電子線を検出
し、該検出した信号に基づいて該第１のアパーチャ板を
回転させて該第１の矩形状開口の一辺と該直線状境界と
を略平行に整列させ、該第１のアパーチャ板の整列の後
あるいは前に該第１の矩形状開口を通過した電子線の一
部を該第２のアパーチャ板によって遮蔽して、前記部材
の直線状境界と平行に整列すべき該第２の矩形状開口の
辺によって該開口を通過した電子線の矩形状断面の一辺
を整形し、該第２の矩形状開口を通過した電子線を該直
線状の境界部を有した部材上で該境界に略直交する方向
に走査し、該境界部によって影響された電子線を検出し
、該検出した信号に基づいて該第２のアパーチャ板を回
転させて該第２の矩形状開口の一辺と該直線状境界とを
略平行に整列させるようにした矩形状電子線通過開口を
有したアパーチャ板の整列力も
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55077975A JPS5824010B2 (ja) | 1980-06-10 | 1980-06-10 | 矩形状電子線通過開口を有したアパ−チヤ板の整列方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55077975A JPS5824010B2 (ja) | 1980-06-10 | 1980-06-10 | 矩形状電子線通過開口を有したアパ−チヤ板の整列方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS574123A JPS574123A (en) | 1982-01-09 |
| JPS5824010B2 true JPS5824010B2 (ja) | 1983-05-18 |
Family
ID=13648890
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55077975A Expired JPS5824010B2 (ja) | 1980-06-10 | 1980-06-10 | 矩形状電子線通過開口を有したアパ−チヤ板の整列方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5824010B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2592258B2 (ja) * | 1987-07-17 | 1997-03-19 | 富士通株式会社 | 電子ビーム露光装置 |
-
1980
- 1980-06-10 JP JP55077975A patent/JPS5824010B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS574123A (en) | 1982-01-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4967088A (en) | Method and apparatus for image alignment in ion lithography | |
| US6265719B1 (en) | Inspection method and apparatus using electron beam | |
| US4145597A (en) | Electron beam lithographic system | |
| US5892224A (en) | Apparatus and methods for inspecting wafers and masks using multiple charged-particle beams | |
| TWI401721B (zh) | 電子束裝置 | |
| US4112305A (en) | Method of projecting a beam of charged particles | |
| JPH097538A (ja) | 荷電ビーム描画装置 | |
| US5099130A (en) | Apparatus and methods relating to scanning ion beams | |
| CA1103813A (en) | Apparatus for electron beam lithography | |
| JPS5823155A (ja) | 荷電粒子ビ−ムの整列制御装置 | |
| JPH0732111B2 (ja) | 荷電ビ−ム投影露光装置 | |
| US4577111A (en) | Apparatus for electron beam lithography | |
| US5153441A (en) | Electron-beam exposure apparatus | |
| US4263514A (en) | Electron beam system | |
| US4167676A (en) | Variable-spot scanning in an electron beam exposure system | |
| JPH08274020A (ja) | 荷電粒子による投影リソグラフィー装置 | |
| JP2003512699A (ja) | 大きく転位することができる軸を備える電子光学レンズの配列 | |
| US4021674A (en) | Charged-particle beam optical apparatus for irradiating a specimen in a two-dimensional pattern | |
| JPS5824010B2 (ja) | 矩形状電子線通過開口を有したアパ−チヤ板の整列方法 | |
| CA1166766A (en) | Method and apparatus for forming a variable size electron beam | |
| US4158140A (en) | Electron beam exposure apparatus | |
| JP3697494B2 (ja) | ビームエッジぼけ量測定方法及びリフォーカス量決定方法、これらの方法に用いられるステンシルマスク並びに荷電粒子ビーム露光方法及び装置 | |
| JPH0652650B2 (ja) | 荷電ビ−ムの軸合わせ方法 | |
| JPS6251218A (ja) | 電子線描画装置 | |
| JPH0590145A (ja) | マルチ荷電子ビーム露光装置のアライメント装置 |