JPS5827355A - 自動ボンディング用テープ - Google Patents
自動ボンディング用テープInfo
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- JPS5827355A JPS5827355A JP57124983A JP12498382A JPS5827355A JP S5827355 A JPS5827355 A JP S5827355A JP 57124983 A JP57124983 A JP 57124983A JP 12498382 A JP12498382 A JP 12498382A JP S5827355 A JPS5827355 A JP S5827355A
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- JP
- Japan
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- tape
- bonding
- gold
- bump
- automatic
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/071—Connecting or disconnecting
- H10W72/077—Connecting of TAB connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
- H10W70/01—Manufacture or treatment
- H10W70/05—Manufacture or treatment of insulating or insulated package substrates, or of interposers, or of redistribution layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
- H10W70/40—Leadframes
- H10W70/453—Leadframes comprising flexible metallic tapes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/701—Tape-automated bond [TAB] connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/4007—Surface contacts, e.g. bumps
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する分野〕
本発明は、集積回路のテープ自動ボンディングに関する
。特にその自動ボンディング用テープおよびその製造方
法に関する。
。特にその自動ボンディング用テープおよびその製造方
法に関する。
テープ自動ボンディング法は、集積回路のパッドを接続
する方法として知られている。通常35鶴幅のフィルム
ベースの一巻のテープは、集積回路のための一連の相互
接続用の配列を備えている。
する方法として知られている。通常35鶴幅のフィルム
ベースの一巻のテープは、集積回路のための一連の相互
接続用の配列を備えている。
この配列は「フレーム」と称される。それぞれのフレー
ムには、多数のエツチングされた銅の「ビーム」が設け
られる。このビームは「リード」または「フィンガ」と
も称され、各ビームは集積回路の各パッドにボンディン
グされるために配設される。このビームとパッドの各結
合は、「バンプ」と呼ばれる端子を介して行われる。こ
のバンプは、ビーム上のパッドに対応する位置、もしく
はこのパッド上のいずれかに形成される。
ムには、多数のエツチングされた銅の「ビーム」が設け
られる。このビームは「リード」または「フィンガ」と
も称され、各ビームは集積回路の各パッドにボンディン
グされるために配設される。このビームとパッドの各結
合は、「バンプ」と呼ばれる端子を介して行われる。こ
のバンプは、ビーム上のパッドに対応する位置、もしく
はこのパッド上のいずれかに形成される。
この結合は、はんだリフローまたは熱圧着により行われ
る。集積回路のパッド上に初期に形成されるバンプは、
集積回路が未だ大きなウェーハの一部である間に通常形
成される。このバンプ形成は[ウェーハ・バンビイング
」として知られている。
る。集積回路のパッド上に初期に形成されるバンプは、
集積回路が未だ大きなウェーハの一部である間に通常形
成される。このバンプ形成は[ウェーハ・バンビイング
」として知られている。
テープにボンディングがなされると、各集積回路および
この集積回路にそれぞれ対向するフレームが、パッケー
ジのためにテープから切離され、−例として、デュアル
インライン形の集積回路パッケージに接続される。特別
には成型されたプラスチックパッケージの「リードフレ
ーム」に接続される。また別の方法としてテープボンデ
ィングされた集積回路は、ハイブリッド基板またはプリ
ント回路基板に直接接続することもできる。
この集積回路にそれぞれ対向するフレームが、パッケー
ジのためにテープから切離され、−例として、デュアル
インライン形の集積回路パッケージに接続される。特別
には成型されたプラスチックパッケージの「リードフレ
ーム」に接続される。また別の方法としてテープボンデ
ィングされた集積回路は、ハイブリッド基板またはプリ
ント回路基板に直接接続することもできる。
このテープを使用することにより、ボンディング工程の
自動化が容易に実現でき、またビームが電気的に絶縁さ
れていれば、ボンディングされたチップをテープ上に載
置されている間に自動的に試験することができる。この
自動的に試験を行うために、テープはリールからリール
へ巻取る巻取り機に掛けられる。このとき巻取り機は自
動試験機に連動する。
自動化が容易に実現でき、またビームが電気的に絶縁さ
れていれば、ボンディングされたチップをテープ上に載
置されている間に自動的に試験することができる。この
自動的に試験を行うために、テープはリールからリール
へ巻取る巻取り機に掛けられる。このとき巻取り機は自
動試験機に連動する。
いくつかのテープは特殊な集積回路のテープ自動ボンデ
ィングに利用することができる。これらのテープには、
上記集積回路に適合する相互接続用のフレームが形成さ
れる。−例としてフレーム内のエツチングされた銅ビー
ムには、金メッキされた銅バンプが形成されている。こ
の種のテープは「バンプ付テープ」として知られている
。またいくつかの集積回路は、テープボンディング用に
金メッキのバンプが形成されたパッドを備えている。こ
の種の集積回路は「バンプ付チップ」として知られてい
る。
ィングに利用することができる。これらのテープには、
上記集積回路に適合する相互接続用のフレームが形成さ
れる。−例としてフレーム内のエツチングされた銅ビー
ムには、金メッキされた銅バンプが形成されている。こ
の種のテープは「バンプ付テープ」として知られている
。またいくつかの集積回路は、テープボンディング用に
金メッキのバンプが形成されたパッドを備えている。こ
の種の集積回路は「バンプ付チップ」として知られてい
る。
しかし従来のバンプ付テープは、バンプにおいて確実に
密着した結合が行われ難い欠点があった。
密着した結合が行われ難い欠点があった。
これは、例えば銅ビーム上に形成された銅バンプが比較
的硬く、かつバンプの表面が平らでないため、金メツキ
後でもその表面が平らでなく、しかも柔軟性に欠けるこ
とから、集積回路のパッドを形成するアルミニウムや他
の金属に対する粘着力が弱いためと考えられる。
的硬く、かつバンプの表面が平らでないため、金メツキ
後でもその表面が平らでなく、しかも柔軟性に欠けるこ
とから、集積回路のパッドを形成するアルミニウムや他
の金属に対する粘着力が弱いためと考えられる。
本発明は、上記欠点を解消するもので、集積回路のパッ
ドとフレームのビームとを強い粘M力で結合することが
できる自動ボンディング用テープおよびその製造方法を
提供することを目的とする。
ドとフレームのビームとを強い粘M力で結合することが
できる自動ボンディング用テープおよびその製造方法を
提供することを目的とする。
本発明の第一の特徴は、集積回路のテープ自動ボンディ
ングに用いられるテープにある。このテープはその長さ
方向に一連の相互接続用のフレームが形成され、各フレ
ームにはボンディング用の複数のビームが設けられる。
ングに用いられるテープにある。このテープはその長さ
方向に一連の相互接続用のフレームが形成され、各フレ
ームにはボンディング用の複数のビームが設けられる。
バンプは集積回路のパッドとフレームのビーム間を結合
するために、ビーム上にそれぞれ設けられる。各バンプ
はビッカース硬さ係数で55以下の導電材により構成さ
れる。バンプは各バンドに対して全ボンディング面にわ
たって実質的に平らにボンディングすることができる柔
軟性を有する。
するために、ビーム上にそれぞれ設けられる。各バンプ
はビッカース硬さ係数で55以下の導電材により構成さ
れる。バンプは各バンドに対して全ボンディング面にわ
たって実質的に平らにボンディングすることができる柔
軟性を有する。
各バンプは導電材によりすべて形成することもできる。
この導電材は金または金の合金がよい。
この場合には、各バンプは芯を比較的硬い金または金の
合金にして、外層を比較的軟らかい金または金の合金で
構成することがよい。
合金にして、外層を比較的軟らかい金または金の合金で
構成することがよい。
この導電材は各バンプを形成する複数の異種の金属の中
から選ばれた一種類の金属でもよい。
から選ばれた一種類の金属でもよい。
本発明の第二の特徴は、上記テープを製造する方法にあ
る。この方法には、集積回路のパッドに対向するテープ
上の所定位置に、バンブ形成のための一種または複数の
材料を被覆する工程を含んでいる。
る。この方法には、集積回路のパッドに対向するテープ
上の所定位置に、バンブ形成のための一種または複数の
材料を被覆する工程を含んでいる。
上記材料は電気メッキにより被覆してもよし、あるいは
実質的に球状の材料をテープの上記位置にそれぞれ置い
てボンディングすることもできる。
実質的に球状の材料をテープの上記位置にそれぞれ置い
てボンディングすることもできる。
以下実施例図面を用いて詳細に説明する。
第1図において、テープ自動ボンディング用のテープは
、柔軟な電気絶縁性のキャリヤ1を基材として構成され
る。この例ではキャリヤ1は、ポリイミドの細長い35
鶴幅のフィルムベースである。
、柔軟な電気絶縁性のキャリヤ1を基材として構成され
る。この例ではキャリヤ1は、ポリイミドの細長い35
鶴幅のフィルムベースである。
このキャリヤlには、その両縁に沿ってスプロケット用
の孔2が各−列に穿設される。第1図に示す3個の相互
接続用フレームには、それぞれ金メッキされた複数の銅
ビーム3が設けられる。このビーム3は所望の配列パタ
ーンが金によりメッキされ、さらに孔2の二列間の領域
4に予め被覆された銅層がエツチングされて形成される
。約8日平方に開口されたウィンドウ5は、集積回路を
支持するために、キャリヤl内の各フレームの下に形成
される。このウィンドウ5の大きさはボンディングされ
る集積回路の大きさによって決められる。これらのウィ
ンドウ5は第1図に破線で示される。
の孔2が各−列に穿設される。第1図に示す3個の相互
接続用フレームには、それぞれ金メッキされた複数の銅
ビーム3が設けられる。このビーム3は所望の配列パタ
ーンが金によりメッキされ、さらに孔2の二列間の領域
4に予め被覆された銅層がエツチングされて形成される
。約8日平方に開口されたウィンドウ5は、集積回路を
支持するために、キャリヤl内の各フレームの下に形成
される。このウィンドウ5の大きさはボンディングされ
る集積回路の大きさによって決められる。これらのウィ
ンドウ5は第1図に破線で示される。
第2図には、5本のビーム3の内部端が示される。各ビ
ーム3の最も内側には、バンプ6が設けられる。このバ
ンプ6は、集積回路のパッドにボンディングするために
上面が形造られたボンディング面(a 5haped
upper bonding 5urface)を有す
る金の小塊からなっている。
ーム3の最も内側には、バンプ6が設けられる。このバ
ンプ6は、集積回路のパッドにボンディングするために
上面が形造られたボンディング面(a 5haped
upper bonding 5urface)を有す
る金の小塊からなっている。
第3図において、ビーム3の内部端に設けられた金のバ
ンプ6は、集積回路8のパッド7にボンディングされる
。この例ではビーム3 (テープは図示せず)は、その
バンプ6を下向きにして集積回路8上に位置決めされる
。バンプ6のパッド7へのボンディングは熱圧着により
行われる。
ンプ6は、集積回路8のパッド7にボンディングされる
。この例ではビーム3 (テープは図示せず)は、その
バンプ6を下向きにして集積回路8上に位置決めされる
。バンプ6のパッド7へのボンディングは熱圧着により
行われる。
ビーム3上にバンプ6を形成する一つの方法として、バ
ンプ6とビーム3とが異なる材料からできている場合に
は、まずビーム3とは別にバンプ6を形成し、次の操作
でこれらを一体にする方法がある。この方法は非常に小
さい金の球体をつくり、これを金メッキされた銅テープ
上の所望の位置ヘポンディングすることにより達成し得
る。この方法は「アディティブ」法として知られている
。
ンプ6とビーム3とが異なる材料からできている場合に
は、まずビーム3とは別にバンプ6を形成し、次の操作
でこれらを一体にする方法がある。この方法は非常に小
さい金の球体をつくり、これを金メッキされた銅テープ
上の所望の位置ヘポンディングすることにより達成し得
る。この方法は「アディティブ」法として知られている
。
もう一つ別のセミアディティブ法は電気メッキを伴い、
次の工程で行われる。
次の工程で行われる。
まず最初に、テープ自動ボンディング用のテープが用意
される。このテープは前述の通常の35鶴フイルムベー
ス1により構成される。このフィルムベース1は銅層が
接着剤により接着された領域4を有する。テープはまず
物理的に腐食されて用意される。液体レジストがウィン
ドウ5に塗られ、十分ベーキングされる。次いで銅層4
の表面は酸の浴で調節される。
される。このテープは前述の通常の35鶴フイルムベー
ス1により構成される。このフィルムベース1は銅層が
接着剤により接着された領域4を有する。テープはまず
物理的に腐食されて用意される。液体レジストがウィン
ドウ5に塗られ、十分ベーキングされる。次いで銅層4
の表面は酸の浴で調節される。
準備工程の後、テープは、25μmのネガティブドライ
フィルムのホトレジスト層で覆われる。次に所望のフレ
ームのマスクが露光のために使用され、感光した画像が
現像される0次いでフレームの感光した銅ビーム3は化
学的に洗浄され、焼かれた後、凝縮したオルトリン酸液
内で反転メッキされる。次にこのテープは脱イオン化し
た水で洗浄され、10%のオルトリン酸の浴で調節され
る。
フィルムのホトレジスト層で覆われる。次に所望のフレ
ームのマスクが露光のために使用され、感光した画像が
現像される0次いでフレームの感光した銅ビーム3は化
学的に洗浄され、焼かれた後、凝縮したオルトリン酸液
内で反転メッキされる。次にこのテープは脱イオン化し
た水で洗浄され、10%のオルトリン酸の浴で調節され
る。
これによりビーム3の金による電気メッキの前処理が完
了する。ここでビーム3の金メッキ(「フラッシング」
)がなされると、金のバンプ6が形成される。
了する。ここでビーム3の金メッキ(「フラッシング」
)がなされると、金のバンプ6が形成される。
最初に、残っているネガティブドライフィルムのホトレ
ジストが剥がされる。感光した銅は酸の浴で調節された
後、50μ−のネガティブドライフィルムのホトレジス
ト層が塗られ、フレーム上の所望のバンブ位置に対して
マスクが露光のために使用される。その結果感光したバ
ンブ画像は現像され、感光した金のパッドが化学的に洗
浄されて焼かれる。次にバンプの画像は10%のオルト
リン酸の浴で調節され、脱イオン化した水ですすがれる
。さらにこの画像はバンプ6が約35μ−の厚さになる
まで金メッキされ、その側壁はバンプ6の形状を決める
ための塗布されたレジスト内で形成される。ネガティブ
ホトレジストが剥がされると、ウィンドウ5が再び液体
レジストで覆われて十分ベーキングされる。最後に、メ
ッキされていない銅層4が塩化第二鉄でエツチングされ
て除去され、ビーム3の裏側に残っていたレジストは、
すべてアルカリ剥離液で除去される。
ジストが剥がされる。感光した銅は酸の浴で調節された
後、50μ−のネガティブドライフィルムのホトレジス
ト層が塗られ、フレーム上の所望のバンブ位置に対して
マスクが露光のために使用される。その結果感光したバ
ンブ画像は現像され、感光した金のパッドが化学的に洗
浄されて焼かれる。次にバンプの画像は10%のオルト
リン酸の浴で調節され、脱イオン化した水ですすがれる
。さらにこの画像はバンプ6が約35μ−の厚さになる
まで金メッキされ、その側壁はバンプ6の形状を決める
ための塗布されたレジスト内で形成される。ネガティブ
ホトレジストが剥がされると、ウィンドウ5が再び液体
レジストで覆われて十分ベーキングされる。最後に、メ
ッキされていない銅層4が塩化第二鉄でエツチングされ
て除去され、ビーム3の裏側に残っていたレジストは、
すべてアルカリ剥離液で除去される。
特に金のバンプ6は熱圧着のボンディングプロセスに機
械的かつ電気的に使用されるに適している。これは、用
いられる軟らかい金は、55以下の(望ましくは約35
の)ビッカース硬さ係数を有する柔軟な材料であり、し
かも従来のバンプに用いられた比較的硬い材料より、よ
り展性のある材料だからである。従来のバンプでは、例
えば通常用いられる銅の典型的なビッカース硬さ係数は
90である。
械的かつ電気的に使用されるに適している。これは、用
いられる軟らかい金は、55以下の(望ましくは約35
の)ビッカース硬さ係数を有する柔軟な材料であり、し
かも従来のバンプに用いられた比較的硬い材料より、よ
り展性のある材料だからである。従来のバンプでは、例
えば通常用いられる銅の典型的なビッカース硬さ係数は
90である。
以上により金のバンプ6は、従来のバンプの粘着力より
強い粘着力を集積回路パッドに与えることができるため
、ボンディングはバンプの全ボンディング面にわたって
実質的に平坦に行われる。
強い粘着力を集積回路パッドに与えることができるため
、ボンディングはバンプの全ボンディング面にわたって
実質的に平坦に行われる。
なおボンディング面を剪断することによって良好な結合
がなされるため、各バンプは円い形状を有することが好
ましい。
がなされるため、各バンプは円い形状を有することが好
ましい。
また各バンプ6は、最初は比較的硬い金で芯を形成し、
次にその外層を比較的軟らかい金で被覆して、柔軟なバ
ンプをつくることもできる。実際には、金はビッカース
硬さ係数で30から100までの範囲を有する。
次にその外層を比較的軟らかい金で被覆して、柔軟なバ
ンプをつくることもできる。実際には、金はビッカース
硬さ係数で30から100までの範囲を有する。
また金の代りに他の同様の柔軟な材料をバンブ毎、ある
いはバンプの一部に用いることもできる。
いはバンプの一部に用いることもできる。
さらにバンプは、その柔軟性および電気化学的特性を最
適化するために、数種の異なった金属を連続的に電気メ
ッキすることにより形成することもできる。例えば、錫
や鉛からなるバンプを形成することもできる。
適化するために、数種の異なった金属を連続的に電気メ
ッキすることにより形成することもできる。例えば、錫
や鉛からなるバンプを形成することもできる。
以上述べたように、本発明によれば、集積回路のパッド
に対向するフレームのビーム上に、55以下のピンカー
ス硬さ係数の材料によりバンプを形成することにより、
バンプの表面が平坦で、かつ柔軟性になるため、ボンデ
ィング時に集積回路のパッドを形成するアルミニウムや
他の金属に対して全ボンディング面にわたって実質的に
平らにボンディングが行われ、バンプの粘着力が強大と
なる優れた効果がある。
に対向するフレームのビーム上に、55以下のピンカー
ス硬さ係数の材料によりバンプを形成することにより、
バンプの表面が平坦で、かつ柔軟性になるため、ボンデ
ィング時に集積回路のパッドを形成するアルミニウムや
他の金属に対して全ボンディング面にわたって実質的に
平らにボンディングが行われ、バンプの粘着力が強大と
なる優れた効果がある。
第1図は本発明一実施例のテープ自動ボンディングに用
いられてるテープの部分平面図。 第2図は第1図に示したテープの相互接続用フレームの
内部拡大平面図。 第3図は第1図に示したテープの相互接続用フレームの
ビーム内部端と集積回路のパッドとの間の結合を示す断
面図。 1−キャリヤ(フィルムベース)、2一孔、3−ビーム
、4−銅層、5−ウィンドウ、6−ノくンプ、7−パッ
ド、8・−集積回路。 特許出願人 第1図 英国サフォーク・イブスウィッ チ・ニードハム・マーケットフ オクスグローブ・アベニュー73 番地
いられてるテープの部分平面図。 第2図は第1図に示したテープの相互接続用フレームの
内部拡大平面図。 第3図は第1図に示したテープの相互接続用フレームの
ビーム内部端と集積回路のパッドとの間の結合を示す断
面図。 1−キャリヤ(フィルムベース)、2一孔、3−ビーム
、4−銅層、5−ウィンドウ、6−ノくンプ、7−パッ
ド、8・−集積回路。 特許出願人 第1図 英国サフォーク・イブスウィッ チ・ニードハム・マーケットフ オクスグローブ・アベニュー73 番地
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (11集積回路のテープ自動ボンディングに用いられる
自動ボンディング用テープにおいて、長さ方向に一連に
配列されたフレームと、このフレームに設けられ上記集
積回路のパッドにボンディングされる複数のビームと、
このビーム上に形成され上記集積回路のパッドと上記フ
レームのビームとの間を結合しビッカース硬さ係数が5
5以下である導電材により構成され上記各パッドに対し
て全ボンディング面にわたり実質的に平らにボンディン
グすることができる柔軟性を有するバンプと を備えたことを特徴とする 自動ボンディング用テープ。 (2)各バンプはすべて導電材により形成された特許請
求の範囲第(11項に記載の自動ボンディング用テープ
。 (3)導電材は金または金の合金である特許請求の範囲
第(11項または第(2)項に記載の自動ボンディング
用テープ。 (4)各バンプは芯が比較的硬い金または金の合金であ
って、外層が比較的軟らかい金または金の合金である特
許請求の範囲第(3)項に記載の自動ボンディング用テ
ープ。 (5)導電材は各バンプを形成する複数の異なる金属の
中から選ばれた一種類の金属である特許請求の範囲第(
1)項または第(3)項に記載の自動ボンディング用テ
ープ。 (6)集積回路のテープ自動ボンディングに用いられる
自動ボンディング用テープの製造方法において、 上記集積回路のパッドに対向するテープ上の所定位置に
、バンプ形成のための一種または複数の被覆材料を被覆
する工程を含む 自動ボンディング用テープの製造方法。 (7) 被覆材料は電気メッキされて形成される特許
請求の範囲第(6)項に記載の自動ボンディング用テー
プの製造方法。 (8) 被覆材料として金または金の合金が用いられ
た特許請求の範囲第(6)項または第(7)項に記載の
自動ボンディング用テープの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8122218 | 1981-07-17 | ||
| GB8122218 | 1981-07-17 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2148461A Division JPH03123046A (ja) | 1981-07-17 | 1990-06-05 | 自動ボンディング用テープの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5827355A true JPS5827355A (ja) | 1983-02-18 |
| JPH033940B2 JPH033940B2 (ja) | 1991-01-21 |
Family
ID=10523346
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57124983A Granted JPS5827355A (ja) | 1981-07-17 | 1982-07-16 | 自動ボンディング用テープ |
| JP2148461A Granted JPH03123046A (ja) | 1981-07-17 | 1990-06-05 | 自動ボンディング用テープの製造方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2148461A Granted JPH03123046A (ja) | 1981-07-17 | 1990-06-05 | 自動ボンディング用テープの製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0070691B1 (ja) |
| JP (2) | JPS5827355A (ja) |
| AT (1) | ATE33322T1 (ja) |
| CA (1) | CA1198833A (ja) |
| DE (1) | DE3278301D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62287093A (ja) * | 1986-06-05 | 1987-12-12 | Okuno Seiyaku Kogyo Kk | 電気亜鉛−ニツケル合金めつき浴 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0327996A3 (en) * | 1988-02-09 | 1990-12-27 | National Semiconductor Corporation | Tape automated bonding of bumped tape on bumped die |
| DE4017863C1 (ja) * | 1990-06-02 | 1991-07-18 | Du Pont De Nemours (Deutschland) Gmbh, 4000 Duesseldorf, De | |
| JP4497032B2 (ja) * | 2005-06-16 | 2010-07-07 | Tdk株式会社 | 電子部品 |
Citations (1)
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Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH033940B2 (ja) | 1991-01-21 |
| JPH03123046A (ja) | 1991-05-24 |
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| ATE33322T1 (de) | 1988-04-15 |
| EP0070691B1 (en) | 1988-03-30 |
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