JPS5828748A - 転写装置の位置合わせ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 る。

従来から転写装置としては．アライメント位置すなわち
アライメント光学系の基においてマスクとウェハとの相
対的なアライメントを行なった後，両者を互いにクラン
プして相対位置がずれないようにして露光位置すなわち
露光用光学系の基へ移動させるものと．アライメント位
置と露光位置とを一致させアライメント終了後アライメ
ント光学系を退避させて露光を行なうものとがある。

しかしながら、前者にあってはウェハとマスクを露光位
置へ移動する際両者間に位置のずれが生じてもこれを容
易に補正できず，また後者にあってはアライメント光学
系を退避させる必要があることから．アライメント光学
系の機械的強度及び精度が不安定となる欠点がある。

これらの欠点はいわゆるステップアンドリピート方式の
露光システムにおいて顕著となる。ここにステップアン
ドリピート方式とはウエハサイズｊ二比べて露光領域が
小さく設定され．ウェハ又はマスクを移動して小領域毎
に露光を行なうことによりウェハ全面に対スる露光を行
なうものであるが．このステップアンドリピート方式に
おいて，前者にあってウェハ又はマスクがアライメント
位置と露光位置との間を複数回往復する必要があり．ま
た後者にあっても各領域の露光毎にアライメント光学系
を退避させろ必要があるの，で、単位時間あたりの処理
数，いわゆるスループットがあげられないという問題が
生じろ。

また、近年より細い線幅のパターンをウェハ上に形成す
るため，可視光等による露光の他に，波長の極めて短い
Ｘ線による転写技術が何党されている。例えば、マスク
とウェハをわずかに離して配置したプロキシミテイ方式
によりパターンを転写する際．ウェハに塗布されたレジ
ストの感度も含めてＸ線を照射する時間，いわゆる転写
時間が可視光等の露光時間よりも極めて長くなることが
問題にな線の線源とアライメント光学系は，当然離れた
位置に配置される。従って，先に述べたように．アライ
メント位置でマスクとウェハの相対位置を調整して，露
光位置すなわちＸ線の照射位置までウェハとマスクをそ
の相対位置でクランプしたまま移動して，転写すること
になる。この状態でウェハとマスクは長時間（例えば１
〜１０分間）Ｘ線の照射を受けるが，その間にウェハと
マスクの相対的な位置がウェハ載置ステージクランプ等
の機械的な変動によってずれてしまうことがある。転写
中に一端ずれてしまうと，ウェハ上にはもはや正確に位
置決めされたパターンが転写できない。この結果，より
細い線幅のパターンを転写するためにＸ線を用いたこと
が十分に生かされないという欠点も生じていた。

本発明はか＼ろ事情を背景にして．ステップアンドリピ
ート方式の転写装置であって。

各小領域の露光のたびにアライメント装置を退避させる
必要がなく．シかもウェハ及びマスクをアライメント位
置と転写位置との間で何度も往復させる必要がなく，ア
ライメント時及び露光時のスループットが向上された転
写装置用の位置合わせ装置を提供することを目的とする
。

この目的を達成するために．本発明においては．転写に
先立ってマスクとウェハとを相対移動させ．各ステップ
位置において両者の整合位置を検知し相対位置に関する
情報を発生する整合検知装置と，これにより発せられる
情報を記憶する記憶手段と．転写の際上記情報に基づき
マスクとウェハとを相対的にステップ移動させるように
移動装置を制御する手段とを含むようにした。

以下，本発明の実施例を示す図面をもとに説明する。

第１図においてベース１上にはコラム２が軸受３を介し
てＸ軸方向（同図中左右方向）に移動可能に載置され、
コラム２はベース１上に固定されたモータ４によって送
りネジ４ａを介して駆動されるようになっている。コラ
ム２上にはベアリング、ローラ等の転動体６を介してｙ
軸ステージ７がｙ軸方向（同図の紙面に垂直な方向）に
移動可能に載置され。

コラム２に固定されたｙ軸モータ８によって駆動される
ようになっている。さらにｙ軸ステージＺ上にはＸ軸ス
テージ１１が転動体１２を介してＸ軸方向に移動可能に
載置され。

ｙ軸ステージ７上に固定されたＸ軸モータ１３によって
駆動されるようになっている。Ｘ軸ステージ１１上には
ウェハ１５を装着するためのウェハステージ１４が固定
され、このウェハステージ１４はウェハ１５自体のテー
パを補正′するとともにウェハ１５とマスク（後述）２
５との間の間隙をだすためのレベリング機構、並びにＸ
軸ステージ１１に対するウェハ１５０回転方向の誤差を
補正するためのウェハオリエンテーション機構を有して
いる上記コラム２は上方に延長部分２ａを有しており、
当該部分にはマスク２５を装着するためのマスクホルダ
２１およびマスク２５の装着時の回転誤差を補正するマ
スクオリエンテーション機構２２が設けられ、マスクホ
ルダ２１はマスクオリエンテーション機構２２によって
コラムの延長部分２ａに対して、ｘ。

ｙ軸ステージ１１，７の各移動方向を含むＸｙ軸平面内
で回転可能とされている。

上記Ｘ軸ステージ１１及びコラム延長部分２ａの端部に
はそれぞれＸ軸方向の位置検出用の平面反射ミラー２６
及び２７が取り付けられている。なお１図示はしないが
当該各端部にはそれぞれｙ軸方向の位置検出用の平面反
射ミラーも取り付けられている。

また上記コラム２の端部には測長用レーザ光源３１及び
レーザ干渉計３２が固定されている。レーザ光源３１と
Ｘ軸ステージ１１との間、並びに干渉計３２とコラム２
との間にはそれぞれハーフミラ−６３及び反射ミラー３
４が配置され、当該両ミラーろ３，３４の上方でミラー
２７に対向する位置には更に別の反射ミラー３６が配置
されている。レーザ光源３１及び干渉計３２はミラー２
６とミラー２７との相対距離を求める測長回路３５に接
続されている。レーザ光源３１からのレーザビームの一
部はハーフミラ−３３を透過して反射ミラー２６で反射
され、ミラー３３及び３４で下方及び左方に反射されて
レーザ干渉計３２に至る。一方ハーフミラー３３で反射
されたレーザビームの残部はミラー３６で右方に、ミラ
ー２７で左方に反射され、再びミラー３６で下方に、ミ
ラー３４で左方に反射されて干吟計３２に至る。そして
測長回路′５５において双方の入射光を比較することに
よってＸ軸ステージ１１とコラムすなわちウェハ１５と
マスク２５との相対距離を求め。

求められた距離値は制御装置５０に入力される。ウェハ
１５とマスク２５の相対距離は。

Ｘ軸方向についてもｙ軸方向についても同様に行なわれ
る。従って測長回路の出力信号は。

ミラー２６とミラー２７のＸ軸方向の相対的な距離（例
えばミラー２６を基準としたミラー２７までの距離）に
応じた値であり、このことはウェハ１５とマスク２５の
Ｘ軸方向の相対距離を意味する。また、ｙ軸方向につい
ても同様の測長回路で相対距離が求められるから、結局
ウェハ１５とマスク２５の相対的な２次元位置（例えば
マスク２５に対するウェハ１５の座標値）が測定される
。

一方、マスクホルダ２１の上方でベース１と一体になっ
ているベース４１には、マスク２５とウェハ１５の各々
に設けられた位置合わせ用のマークを観察するためのア
ライメント光学系４０が固定されており、その観察光は
側方に設けられたマーク検出部４２に入力して各マーク
の位置を表わす電気信号に変換される。そして１位置ず
れ処理部４３は、その電気信号の入力に基づいてウェハ
１５とマスク２５の各マークのずれの方向及びずれ量を
検知して１両マークのずれに応じた信号を発生する。従
ってこの信号はマスク２５とウェハ１５のずれ景を表わ
す。

ここで上記マーク検出部４２及び位置ずれ処理部４３に
よって扱われるウェハ１５及びマスク２５上のマークの
一例について第２図を基に説明する。第２図に示すよう
に、マスク２５上には、所定の間隔だけ離れたマークＭ
、Ｍ’を設け、ウェハ１５上にはマークＭ。

Ｍ′に挾み込まれるような矩形状のマークＷを設ける（
尚１図中台マークの斜線部は例えば光を反射する反射部
とする。）そして前述のように、アライメント光学系４
０によってこのマークＭ、Ｍ’とマークＷを同時に観察
し。

マーク検出部４２として例えばレーザスポットを第２図
中矢印Ｓのように走査して、各マークからの反射光を光
電検出する。このときマーク検出部４２は例えば各マー
クのとこ、ろでハイレベルの信号を、その間隔部ａ、ｂ
のところではローレベルの信号を発生スる。この信号の
人力に基づいて９位置ずれ処理部４３は間隔部ａ、ｂの
の大きさを検出して。

マークＭＭ’とマークＷのずれの方向とその量に応じた
信号を発生する。またマーク検出部４２として、ＩＴＶ
の如き画像入力装置を用いて、その画像走査信号によっ
てマークのずれを求めてもよい。

尚、ウェハ１５及びマスク２５上の各マークは１例えば
第４図のように設けられている。

ウェハ１５上の複数の転写領域には各ステージ１１．７
の移動方向Ｘ＋Ｖに対して位置合わせできるように、１
つの転写領域Ｐについて２つのマークＷｘ　、　Ｗｙ　
　が設けられろ。もちろん回路パターンを描画した領域
Ｑを有するマスク２５上にも対応した２つのマークｋ１
Ｍ’ｘ　。

ＭＭ’Ｙ　　が設けられる。本装置の場合、マスク２５
に対してウェハ１５がｘｙ平面内を移動し、各転写領域
においてマークＭＭ’ｘ　とマークＷｘ及びマークＭＭ
’　Ｙとマークｗｙを各々一致すなわち重ね合わせた状
態で転写を行なう。

このようにマークＭＭ″とマークＷとを合わせることに
よって、マスク２５のパターンは領域Ｐ中に例えば第１
回目の転写により形成されたパターンと整合する。

再び第１図に戻り、ベース４１にはアライメント光学系
４０に対してコラム２の移動方向に沿って離れた位置に
転写のための可視光線やＸ線の如きエネルギー線を発生
する光源４６が設けられている。光源４６は駆動部４７
によってウェハ１５への光線、Ｘ線等の照射が制御され
る。駆動部４７には例えば光線等が通るアパーチャを遮
光するシャッター制御回路等が含まれる。上記位置ずれ
処理部４３、測長回路３５は制御装置５０に接続され、
この制御装置５０はモータ４，８及び１３、駆動部４７
に接続されている。この制御装置５０は、所定の制御及
びデータの転送や蓄積を行なう計算機５１の指令に基づ
いて。

０３） 各部の駆動及び状態検出等の制御を行なうものである。

第３図は制御装置５ｏについて詳しく説明するためのブ
ロック図である。制御装置５゜については、Ｘ軸、ｙ軸
ステージ１１，７を駆動するための構成のみについてブ
ロック図として示しである。位置ずれ処理部４３で発生
したウェハ１５とマスク２５とのＸ軸方向のずれ量に応
じた信号Ｄｔ　、測長回路３５によって測定されるマス
ク２５とウェハ１５のＸ軸方向での相対距離に応じた信
号Ｄ２．マスク２５とウェハ１５のｙ軸方向でのずれ量
に応じた信号Ｄ５．及びｙ軸方向での相対距離に応じた
信号Ｄ４　　は演算処理回路１ｏｏに入力する。

この演算処理回路１ｏｏは計算機５１と位置合わせに関
する情報をやり取りしたり、信号り、　、　Ｄ３　　の
入力に基づいてマスク２５とウェハ１５のＸ軸、ｙ軸方
向のずれ量が所定値以下になるようにサーボ制御するた
めの信号（１４） をモータ８，１３の各々の駆動回路１０１゜１０２に出
力したり、信号Ｄ２．Ｄ３の人力に基づいてマスク２５
とウェハ１５のＸ軸、ｙ軸方向の相対距離の値をＸメモ
リ１０３．Ｙメモリ１０４に各々格納したり又は読み出
したりする動作を制御する。尚、Ｘメモリ１０３とＹメ
モリ１０４は計算機５１の内部のメモリとしてもよいこ
とは言うまでもない。

次に本実施例の作動について第１及び第３図により説明
する。

まず、駆動モータ４によってコラム２を移動させ、マス
ク２５をアライメント光学系４０の下方に位置決めする
。次に、アライメント光学系４０を用いてマスク２５と
ＸｉＹ軸スデステージ１１のｘｙ力方向対する回転ずれ
を補正する。この補正は例えばマスク２５上の２ケ所に
設けた専用のマークを観察してオリエンテーション機構
２２によって行なう。これによってマスクパターンがウ
ェハ１５に対して斜めに焼き付けられることが防（１５
） 止される。

次にウェハステージ１４上にウェハ１５をセットし、ウ
ェハ１５とマスク２５との間隙（ギャップ）の調整を行
なう。このギャップの設定は１図示はされていないが、
近接センサ等を用いて行なう。

続いて、第２図で示したようにマスク２５上の少なくと
も２ケ所に設けられたマークＭＭ’　　とウェハ１５上
の対応する２ケ所に設けられたマークＷとがその２ケ所
でほぼ一致するようにＸ軸ステージ１１及びｙ軸ステー
ジ７をそれぞれモータ１３，８によって移動させる。そ
して、ウェハ１５のマスク２５に対する回転ずれをアラ
イメント光学系４０゜マーク検出部４２及び位置ずれ信
号処理部４３によって検出し、ウェハステージ１４上の
オリエンテーション機構によってウェハ１５を回転させ
てこのずれを補正する。

次にＸ軸、ｙ軸ステージ１１．７を移動して、ウェハ１
５上の複数の転写領域毎にマス（１６） り２５の位置合わせを行なう。このために計算機５１は
、１回目に焼き付けたウェハ１５の各領域におけるマス
ク２５との相対位置を測長回路３５からの信号Ｄ２と信
号Ｄ４を演算回路１００を介して各領域に対応した２次
元的な位置として予め記憶している。尚、予め計算機５
１に記憶された複数の２次元的な位置を以後指定位置と
する。まず、ウェハ１５上の１つの領域に対して、計算
機５１は対応する指定位置の情報を演算処理回路１００
へ出力する。このとき演算処理回路１００は。

測長回路３５の信号Ｄ２及び信号Ｄ４に基づいて、マス
ク２５とウェハ１５の相対的な位置が指定位置と等しく
なるように駆動回路１０１゜１０２を制御する。これに
よりマスク２５のパターンはウェハ１５の１つの転写領
域中に形成されたパターンとほぼ整合する訳であるが、
ウェハ１５を載置したときに微小なずれがあると、この
指定位置において完全な整合がなされているとは限らな
い。

（１７） その指定位置において、マスク２５のマークＭＭ’とウ
ェハ１５のマークＷとをアライメント光学系４０により
同時観察して、マーク検出部４２と位置ずれ処理部４３
によってウェハ１５のマスク２５に対する位置ずれ量を
検出し、このずれ量に対応した信号Ｄ＋、Ｄ３によって
制御装置５ｏの駆動回路ＩＱ１．ＩＱ３を制御し、ステ
ージ１１．７を移動させてＸ軸方向及びｙ軸方向の位置
ずれ量が零となるようにサーボをかけろ。そしてウェハ
１５とマスク２５との位置ずれ量が予め設定されていた
特容値例えば第２図で示した間隔ａ、　　ｌ）がほぼ等
しくなった時点で、測長回路３５で読み取ったステージ
１１．７のその時のステージ位置の情報すなわち信号Ｄ
２．Ｄ４は演算処理回路１００を介して、信号Ｄ２はＸ
メモリ１０３１１ニーＸｔとして、信号Ｄ４はＹメモリ
１０４にＹｌ　　として記憶される。すると計算機５１
は次の指定位置に関する情報を演算処理回路１００に出
力して、上述の動作がくり返され（１８） る。

上記の操作は、計算機５１内に予め記憶されていたステ
ージ１１．７の指定位置情報のすべてに対して繰り返さ
れ、各指定位置に対してマークＭＭ’　、マークＷによ
って正確に求められたＸ軸ステージ１１とｙ軸ステージ
７との相対的な位置はＸメモリ１０３及びＹメモリ１０
４内に、順次（Ｘ２　、　Ｙ２　）　、　（Ｘｓ　、　
Ｙ３）−ｍ−として記憶される。尚、各メモリ１０３゜
１０４中に記憶された位置情報は、ウェハ１５上の各領
域に対応した整合位置と呼ぶことにする。

以上のようにして、マスク２５に対するＸ軸ステージ１
１及びｙ軸ステージ７のすべての整合位置が各メモリ１
０３．１（Ｉｌｌに記憶されたならば、モータ４により
コラム２が移動されて、マスク２５は光源４６の下方に
位置決めされる。

次に計算機５１は転写開始の指令を演算処理部１００に
出力する。この指令に基づいて。

（１９） 各メモリ１０３．１０Ａ中に記憶された整合位置の情報
のうち、いずれか１つ２例えば（χ＋、Ｙ＋）が演算処
理部１００に取り込まれる。そして、演算処理部１００
は信号Ｄ２゜Ｄ４　　と整合位置の情報（Ｘｌ、Ｙ＋）
を比較して１例えばその差が零になるようにＸ軸、ｙ軸
ステージ１１．７を移動させろ駆動回路ＩＱ１，１０２
を制御する。すなわち、情報（Ｘｌ、　　Ｙｔ　）を基
準値として、ウェハ１５とマスク２５の相対的な位置が
常にこの基準値と一致するように制御される。従って、
各ステージ１１．７やその送り機構に何らかの原因で機
械的な変動が生じても、ウェハ１５とマスク２５の相対
的な位置は常に整合位置に維持される。

こうして、ウェハ１５上の１つの領域にマスク２５のパ
ターンが整合すると、計算機５１は制御装置５０を介し
て光源４６の駆動部４７へ、転写用照明光又はエネルギ
ー線の照射開始の指令を発する。そして所定時間：（２
０） マスク２５上へ照射することによってウェハ１５上の１
つの領域にパターンが転写される。

尚、転写中は、常に駆動回路１０１，１０２が働いて、
整合位置を保ち続げろ。その後。

光源４６の照射は中止され、Ｘメモリ１０３゜Ｙメモリ
１０４から次の整合位置の情報（ｘ２゜Ｙ２）が演算処
理回路１００に取り込まれろ。

そして前述のように各ステージ１１，７を移動して、ウ
ェハ１５上の次の領域に同様にマスク２５のパターンを
転写する。このようにして、各メモリ１０３，１０４中
に記憶された各整合位置の情報に基づいて、ウェハ１５
上の各領域中のパターンにマスク２５のパターンが整合
されて順次転写される。

以上述べた本発明の実施例による位置合わせ装置におい
て、各整合位置を求めて記憶する際、指定位置の近傍で
各ステージ１１．７を移動して１例えばＸ方向に対して
第４図に示すマークＭ　Ｍ’　ｘとマークＷｘ　　とが
一致したことを光電的に検出してパルス信号を発生する
（２１） ようにマーク検出部４２を構成する。そして。

演算処理回路１００がこのパルス信号を受けたとき、測
長回路３５の信号Ｄ２　　をＸメモリ１０３に記憶する
ようにしてもよい。もちろんＸ方向に対しても同様であ
る。

第５図は１本発明による位置合わせ装置を用いた他の転
写装置の構成を示す説明図である。第１図の構成と異な
る点は、マスク２５の位置をベース１に対して不動とし
、アライメント光学系４０．光源４６をベース４１に対
して移動可能としたことである。このために、アライメ
ント光学系４０と光源４６を空間的に干渉しないように
マウント６１に固定する。マウント６１は、ベース４１
に固定された軸受６３，６４によって懸架される送りネ
ジ６２により第５図中左右方向に移動する。

この移動は、第１図に示したモータ４と同様の働きをす
るモータ６５によって制御される３一方マスク２５を保
持するマスクホルダ２１及びマスクオリエンテーション
機構２２は。

（２２） ベース１と一体になったアーム６０に取り付けられる。

そしてＸ軸、ｙ軸ステージ１１゜７はベース１に対して
２次元移動する。尚。

その他の構成について、第１図と同じであるから説明を
省略する。

また、マーク検出部４２．光源４６の駆動部４７．モー
タ８，１３等の制御についても。

第１及び第３図に示した制御系がそのまま使われる。こ
の場合の位置合わせ動作は前述の説明と同じであるが、
異なる点は、ウェハ１５への転写時は、制御装置５０が
第１図で示したモータ４のかわりに、モータ６５を駆動
するように制御することである。

本例のように転写装置を構成することにより１機械的な
安定性を要求されるＸ軸、ｙ軸ステージ１１．７をコラ
ム２に載せる必要がなくなるので１機械的な強度及び安
定性等が十分に高いステージを使うことができる。その
結果位置合わせ精度が向上するという利点も生じろ。

（２３） 以上述べた実施例によれば、ウェハ１５への露光時のた
びにアライメント光学系を退避させる必要がなく、アラ
イメント光学系の機械的安定性を上げることかでき、ま
たアライメント位置から転写位置へ移動する際のマスク
２５とウェハ１５との位置ずれは、露光時においてレー
ザ干渉計の分解能以下にすることかできる。アライメン
ト光学系４０と光源４６とが分離されているので両者が
干渉することはなく、各々に十分な機械的余裕をもたせ
て高精度の光学系を形成することができ。

さらにアライメント時及び露光時のスループットをあげ
ることができる。

また、転写装置のその他の構成として、第５図のように
ベース１上にＸ軸、ｙ軸ステージ１１．７を載せ、アラ
イメント光学系４０のみを同図゛中水平方向に移動可能
にすると共に、光源４６はマスク２５の上方に上下動可
能に配置する。モしてアライメント光学系４０を用いる
ときには、光源４６を上方へ退（２４） 避させ、転写の際にはアライメント光学系４０を水平方
向に退避させて光源４６を下方の所定位置まで移動させ
るようにすることも、できる。さらに、その他の露光装
置１例えばステップアンドリピート式の投影型、露光装
置にも利用できるのは言うまでもない。

以上述べたように１本発明によれば転写の前に、ウェハ
上の複数の転写領域に対して予めマスクを位置合わせし
てその整合位置の情報を記憶し、転写時には、その記憶
された情報に基づいてマスクとウェハの相対位置は整合
位置に維持するように制御されるから、転写中に生じる
ステージの微動による位置合わせ誤差、いわゆるアライ
メント誤差は極めて低いものとなる。このため、ＩＣ等
の半導体装置の製造において、より細い線幅のパターン
を歩留りよく管理できる。

また、ウェハとマスクを相対的にステップ移動させて転
写する場合、各停止位置すなわち整合位置を７ライメン
ト光学系で観察して（２５） チェックする必要もなくなる。このため、半導体装置の
製造工程におけろスループットの向上が達成できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す説明図。 第２図はウェハマーク及びマスクマークを示す断面図、
第３図は制御装置（５０）のブロック図、第４図はウェ
ハマーク及びマスクマークを示す斜視図、第５図は本発
明の別の実施例を示す第１図に対応する説明図である。 〔主要部分の符号の説明〕 ７．１１−−−一移動装置 ３１、３２．３５．４０．４２．４３　−−一整合検知
手段１０３．１（１−−一記憶手段 １ＱＱ、　ＩＱｌ、　１０２−−一制御手段ｄＯ，４２
，４３−ｍ−位置ずれ検知手段Ｄ＋　、　Ｄ５−−−一
検知出力 ＭＭ’、Ｗ−−−−マーク （２６）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　マスクとウェハとを相対的（−移動する移動装置
   を備え、マスクとウェハを相対的に所定量ステップ移動
   させ、各ステップ位置（＝おいてマスクのパターンをウ
   ェハ上のパターンに重ねて転写することをくり返す装置
   において。 転写に先立ってマスクとウェハとを相対移動させ、各ス
   テップ位置においてマスクとウェハの両パターンの整合
   を検知して。 マスクとウェハとの相対位置に関する情報を発生する整
   合検知装置と；該情報を順次記憶する記憶手段と；転写
   の際に、該記憶手段の情報に基づいてマスクとウェハと
   を相対的にステップ移動させる如く前記移動装置を制御
   する制御手段とを備えることを特徴とする位置合わせ装
   置。 ２、　前記マスクとウェハは夫々位置合わせのためのマ
   ークを有し、前記整合検知装置は該マスクのマークとウ
   ェハのマークとの２次元的な位置ずれを検知する位置ず
   れ検知手段を含み、転写に先立って前記制御手段はその
   検知出力に応じて両マークを所定の位置関係にする如く
   前記移動装置を特徴する特許請求の範囲第１項に記載の
   位置合わせ装置。 ６、　前記移動装置はウェハを載置すると共にマスクに
   対して２次元的に移動する移動ステージを有し、前記整
   合検知装置は該移動ステージのマスクに対する相対位置
   に関する情報を発生する２次元測長手段を含み。 転写の際に、前記制御手段は該２次元測長手段の情報と
   前記記憶手段に記憶された各ステップ位置に対応した情
   報とを所定の関係に維持する如く前記移動ステージをス
   テップ移動させる特許請求の範囲第２項に記載の位置合
   わせ装置。