JPS5831229B2 - 液滴噴射装置 - Google Patents
液滴噴射装置Info
- Publication number
- JPS5831229B2 JPS5831229B2 JP11449578A JP11449578A JPS5831229B2 JP S5831229 B2 JPS5831229 B2 JP S5831229B2 JP 11449578 A JP11449578 A JP 11449578A JP 11449578 A JP11449578 A JP 11449578A JP S5831229 B2 JPS5831229 B2 JP S5831229B2
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- JP
- Japan
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- piezoelectric element
- diaphragm
- thickness
- liquid
- droplet
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- Nozzles (AREA)
- Apparatuses For Generation Of Mechanical Vibrations (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Special Spraying Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、液滴噴射装置に係り、例えば、パルスジェッ
ト形インクジェットノズルにおいて、その圧電素子の板
厚を薄くシ、液滴噴射効率を大幅に向上するようにした
液滴噴射装置に関するものである。
ト形インクジェットノズルにおいて、その圧電素子の板
厚を薄くシ、液滴噴射効率を大幅に向上するようにした
液滴噴射装置に関するものである。
まず、この種装置の、これを要するに本発明による改良
の対象となる従来技術に係るものの一例を、第1図Gこ
より説明をする。
の対象となる従来技術に係るものの一例を、第1図Gこ
より説明をする。
図において、1は、液滴を噴射させるためのノズル部、
2,4は、液体を前記ノズル部1に導く導管部、3は、
導管部2,4の途中に形成されたダイヤフラム部であり
、5は、流体ダイオード、6は、共通液体溜め、7は、
液体の導入管、8は、液体供給タンクであり、10は、
駆動回路部、11は、本体、12は、ベース、13は、
圧電素子である。
2,4は、液体を前記ノズル部1に導く導管部、3は、
導管部2,4の途中に形成されたダイヤフラム部であり
、5は、流体ダイオード、6は、共通液体溜め、7は、
液体の導入管、8は、液体供給タンクであり、10は、
駆動回路部、11は、本体、12は、ベース、13は、
圧電素子である。
なお、上記の共通液体溜め6は、液滴噴射効率を高めた
り、液体の供給を円滑にするためのものであるが、上述
した本発明における噴射効率の向上に、要旨構成として
あずかるものではない。
り、液体の供給を円滑にするためのものであるが、上述
した本発明における噴射効率の向上に、要旨構成として
あずかるものではない。
しかして、上記のノズル部1から共通液体溜め6までは
、第1図の八に示す断面図のように、本体11の片面に
溝部として形成し、その本体11にベース12を接着し
て各要素を形成しているものであり、また、ダイヤフラ
ム部3の裏側(上記断面図上面)に、圧電素子13を接
着し、1駆動回路部10と接続されているものである。
、第1図の八に示す断面図のように、本体11の片面に
溝部として形成し、その本体11にベース12を接着し
て各要素を形成しているものであり、また、ダイヤフラ
ム部3の裏側(上記断面図上面)に、圧電素子13を接
着し、1駆動回路部10と接続されているものである。
上記のような構成において、ノズル部1かう供給タンク
8の間に液体を充満させて、ノズル部1の表面張力と供
給タンク8の液体圧をバランスさせた状態で圧電素子1
3に電気的なパルスを印加すると、圧電素子13が急激
Oこ歪み、ダイヤフラム部3、これを要するに、後述す
る如きダイヤフラム室の体積が変化して液体圧が生ずる
。
8の間に液体を充満させて、ノズル部1の表面張力と供
給タンク8の液体圧をバランスさせた状態で圧電素子1
3に電気的なパルスを印加すると、圧電素子13が急激
Oこ歪み、ダイヤフラム部3、これを要するに、後述す
る如きダイヤフラム室の体積が変化して液体圧が生ずる
。
この液体圧の圧力波がノズル部1に達すると、ノズル部
1の表面張力が破れて、そのノズルから液体が粒状にな
って飛び出すものである。
1の表面張力が破れて、そのノズルから液体が粒状にな
って飛び出すものである。
以上のような液滴噴射装置において、従来は、その圧電
素子の歪み力を大きくすれば、ダイヤフラム室の変形も
大きくなるであろう、という安易な推測から、他方、圧
電素子接着時の取扱い易さや、接着剤のまわり込みや接
着層の厚さの影響を改善すること、更には表裏の電極間
の放電リークを防止することなどの目的とから、圧電素
子の厚さは、後述する如きダイヤフラムの厚さくJo、
4關)の2〜3倍程度のものであった。
素子の歪み力を大きくすれば、ダイヤフラム室の変形も
大きくなるであろう、という安易な推測から、他方、圧
電素子接着時の取扱い易さや、接着剤のまわり込みや接
着層の厚さの影響を改善すること、更には表裏の電極間
の放電リークを防止することなどの目的とから、圧電素
子の厚さは、後述する如きダイヤフラムの厚さくJo、
4關)の2〜3倍程度のものであった。
しかして、このような従来例の場合、多少、液体で電極
まわりが濡れたときでも電極間り、−りが生じ難く、ま
た接着剤の影響を受は難く、各ノズル間の液滴噴射特性
のバラつきが小さいなどの利点があったものである。
まわりが濡れたときでも電極間り、−りが生じ難く、ま
た接着剤の影響を受は難く、各ノズル間の液滴噴射特性
のバラつきが小さいなどの利点があったものである。
しかし、その一方では、圧電素子が厚くなるためOこ、
電極間に印加しなければならない電気パルスの電圧が高
く、効率が良くない、という欠点があった。
電極間に印加しなければならない電気パルスの電圧が高
く、効率が良くない、という欠点があった。
また、高電圧発生回路とすること(こ加えて、圧電素子
は厚いために、その価格も高かったものである。
は厚いために、その価格も高かったものである。
本発明は、上記のような従来技術に係るものの欠点を解
消するとともに、電気信号Oこ応答して液体粒子を発生
させる液滴噴射装置で、その液滴噴射効率の高い液滴噴
射装置の提供を、その目的とするものである。
消するとともに、電気信号Oこ応答して液体粒子を発生
させる液滴噴射装置で、その液滴噴射効率の高い液滴噴
射装置の提供を、その目的とするものである。
本発明の特徴は、液滴を制御された大きさと方向とを保
って噴射するためのノズル部、該ノズル部まで液体を導
く導管部、液体を収納する供給タンクから上記ノズル部
の途中に結合され、印加された電気信号に応答して体積
変化を生じ液滴を前記ノズル部から噴射させる液体圧力
、駆動部とからなる液滴噴射装置において、上記液体圧
力駆動部は、電気信号により歪みを生ずる圧電素子が、
もっばら液体の隔壁を形成するダイヤフラム部に接着さ
れて構成されており、該圧電素子の厚さが当該ダイヤフ
ラムの厚さの1.8倍以下の厚さとした液滴噴射装置に
ある。
って噴射するためのノズル部、該ノズル部まで液体を導
く導管部、液体を収納する供給タンクから上記ノズル部
の途中に結合され、印加された電気信号に応答して体積
変化を生じ液滴を前記ノズル部から噴射させる液体圧力
、駆動部とからなる液滴噴射装置において、上記液体圧
力駆動部は、電気信号により歪みを生ずる圧電素子が、
もっばら液体の隔壁を形成するダイヤフラム部に接着さ
れて構成されており、該圧電素子の厚さが当該ダイヤフ
ラムの厚さの1.8倍以下の厚さとした液滴噴射装置に
ある。
さらに詳しくは、本発明は、圧電素子Oこ同じ歪みを与
えた場合、ダイヤフラム室の体積変形量が最大となる圧
電素子の厚さは、ダイヤフラム厚さと等しい場合である
ことと、さらに、圧電素子の厚さが薄い程、同じ歪みを
与える電圧が低いことなどを勘案して、ダイヤフラム厚
さの1.8倍以下の薄い圧電素子を接着せしめるように
した液滴噴射装置である。
えた場合、ダイヤフラム室の体積変形量が最大となる圧
電素子の厚さは、ダイヤフラム厚さと等しい場合である
ことと、さらに、圧電素子の厚さが薄い程、同じ歪みを
与える電圧が低いことなどを勘案して、ダイヤフラム厚
さの1.8倍以下の薄い圧電素子を接着せしめるように
した液滴噴射装置である。
そして、このようにしたことにより、低い圧電パルスで
、大きなダイヤフラム室の体積変化が得られ、液滴の噴
射効率が大きく向上し、その駆動回路も生産性の良いも
のが所期できるようにしたものである。
、大きなダイヤフラム室の体積変化が得られ、液滴の噴
射効率が大きく向上し、その駆動回路も生産性の良いも
のが所期できるようにしたものである。
次に、本発明の実施例を第2図ないし第6図Oこもとづ
いて説明をする。
いて説明をする。
マス、第2図は、既述のダイヤフラム部3、これを要す
るにダイヤフラム室の断面図をモデル的Oこ示したもの
であり、3Aは、薄肉構成のダイヤフラム、3Bは、ダ
イヤフラム室であり、11Aは、本体、12Aは、ベー
ス、13Aは、圧電素子をそれぞれ断面で示すものであ
る。
るにダイヤフラム室の断面図をモデル的Oこ示したもの
であり、3Aは、薄肉構成のダイヤフラム、3Bは、ダ
イヤフラム室であり、11Aは、本体、12Aは、ベー
ス、13Aは、圧電素子をそれぞれ断面で示すものであ
る。
なお、ダイヤフラム部3と圧電素子13Aとで、液体圧
力1駆動部を形成するものである。
力1駆動部を形成するものである。
しかして、このダイヤフラム室3Bは、例えばSi(シ
リコン)の板を化学的エツチングOこより図示の如き薄
肉部のダイヤフラム3Aを形成したもので、パイレック
スガラスのベース12Aに、該ダイヤフラム室3Bを有
する本体11Aを、アノ−ディックボンディングと称さ
れる静電接着法などにより接着し、さらに、本体11A
のダイヤフラム室3Bの上に圧電素子13Aが接着され
ているものである。
リコン)の板を化学的エツチングOこより図示の如き薄
肉部のダイヤフラム3Aを形成したもので、パイレック
スガラスのベース12Aに、該ダイヤフラム室3Bを有
する本体11Aを、アノ−ディックボンディングと称さ
れる静電接着法などにより接着し、さらに、本体11A
のダイヤフラム室3Bの上に圧電素子13Aが接着され
ているものである。
このような第2図の構成において、圧電素子131こ圧
電が印加され、図示の矢印方向に圧電素子13Aが圧縮
歪みを生ずると、バイメタル効果により、ダイヤフラム
部3が点線で示されるように変形を生じ、ダイヤフラム
室3Bの体積が小さくなる。
電が印加され、図示の矢印方向に圧電素子13Aが圧縮
歪みを生ずると、バイメタル効果により、ダイヤフラム
部3が点線で示されるように変形を生じ、ダイヤフラム
室3Bの体積が小さくなる。
そこで、ダイヤフラム室3Bの圧力が急激に高くなって
、その圧力波によりノズル部1の先端から液体が表面張
力を破って飛び出し、液滴が噴射される。
、その圧力波によりノズル部1の先端から液体が表面張
力を破って飛び出し、液滴が噴射される。
いま、図示の如く、ダイヤフラム3Aの厚さをhD1圧
電素子13Aの厚さをhpsダイヤフラム3Aの中心た
わみをδとする。
電素子13Aの厚さをhpsダイヤフラム3Aの中心た
わみをδとする。
しかして、第3図は、圧電素子13A(こ一定の歪みを
与えたときのダイヤフラム3Aの中心たわみδと、圧電
素子13Aの厚さhPとの関係を求めたものである。
与えたときのダイヤフラム3Aの中心たわみδと、圧電
素子13Aの厚さhPとの関係を求めたものである。
この第3図により、h、/hD二1、すなわち圧電素子
13Aの板厚hPがダイヤフラム3Aの板厚hDに等し
くなったとき、ダイヤフラム3Aの中心たわみδが最も
大きくなることを示している。
13Aの板厚hPがダイヤフラム3Aの板厚hDに等し
くなったとき、ダイヤフラム3Aの中心たわみδが最も
大きくなることを示している。
そして、同図にみるようOこ、圧電素子13Aの板厚h
Pが厚くなるほど、ダイヤフラム3Aの中心たわみδは
小さくなり、板厚hPが2倍になると、中心たわみδは
、その最大値δヤの約80%となる。
Pが厚くなるほど、ダイヤフラム3Aの中心たわみδは
小さくなり、板厚hPが2倍になると、中心たわみδは
、その最大値δヤの約80%となる。
したがって、圧電素子13Aの板厚hpは、ダイヤフラ
ム3Aの板厚hDと同程度の厚さく0.5<hp/hD
<2)?こするのが、構造力学的には有利であることが
判った。
ム3Aの板厚hDと同程度の厚さく0.5<hp/hD
<2)?こするのが、構造力学的には有利であることが
判った。
次ζこ、圧電素子13Aに印加する電圧は、当該圧電素
子に同じ歪みを与える場合には、その圧電素子の板厚h
POこ比例する。
子に同じ歪みを与える場合には、その圧電素子の板厚h
POこ比例する。
したがって、上記の第3図の結果を、圧電素子に同じ電
圧を与えた場合について示すと、第4図Gこ示すように
なる。
圧を与えた場合について示すと、第4図Gこ示すように
なる。
なお、この第4図で、その縦軸は、ダイヤフラム室3B
の体積変化をhP/hD−1のときを1として示しであ
る。
の体積変化をhP/hD−1のときを1として示しであ
る。
この第4図から、上述した構造力学的Oこ望ましいhP
/hD=1のときに比較して、hP/hD1.8のとき
で体積変化AVが約半分となり、それ以上に圧電素子が
厚いと、非常に効率が悪く、実用(こは適さないことが
判った。
/hD=1のときに比較して、hP/hD1.8のとき
で体積変化AVが約半分となり、それ以上に圧電素子が
厚いと、非常に効率が悪く、実用(こは適さないことが
判った。
したがって、これらの点を総合して、圧電素子の厚さを
ダイヤフラムの厚さの1.8倍以下に薄くすれば、電気
パルスを有効にダイヤフラム室の体積変化に変換でき、
効率の良い液滴噴射特性を有する液滴噴射装置が得られ
る。
ダイヤフラムの厚さの1.8倍以下に薄くすれば、電気
パルスを有効にダイヤフラム室の体積変化に変換でき、
効率の良い液滴噴射特性を有する液滴噴射装置が得られ
る。
このことは、電気パルスの電圧が低くても、良好な液滴
噴射特性が得られることを意味し、1駆動回路も安価と
なり、さらに高い信頼性が期待できるものである。
噴射特性が得られることを意味し、1駆動回路も安価と
なり、さらに高い信頼性が期待できるものである。
以上のようQこ、圧電素子を薄くすればするほど、効率
の良い液滴噴射が得られることが判ったが、その半面に
おいて、圧電素子が薄くなるにつれて、圧電素子の歪み
が大きくなり、その接着層に作用する応力も大きくなる
ので限界がある。
の良い液滴噴射が得られることが判ったが、その半面に
おいて、圧電素子が薄くなるにつれて、圧電素子の歪み
が大きくなり、その接着層に作用する応力も大きくなる
ので限界がある。
加えて、従来例のところで述べたように、圧電素子が薄
くなると、接着剤のまわり込みや接着層の影響を受は易
くなる。
くなると、接着剤のまわり込みや接着層の影響を受は易
くなる。
また、圧電素子が薄くなればなるほど、ダイヤフラムの
厚さのバラつきが直接、液滴噴射特性を左右することに
なる。
厚さのバラつきが直接、液滴噴射特性を左右することに
なる。
そこで、上述したところにより、本発明において、圧電
素子13Aを薄くした場合、ダイヤフラム3Aの板厚を
均一に、かつバラつきのないものとし、均一な接着技術
が要求されるものである。
素子13Aを薄くした場合、ダイヤフラム3Aの板厚を
均一に、かつバラつきのないものとし、均一な接着技術
が要求されるものである。
この点の構、或につき、第5図は、その一実施例を示し
たものである。
たものである。
なお、同図で14は、Au層、15は、Au −S i
共晶層である。
共晶層である。
前後したが、既述のように、ダイヤフラム3AにSiを
用いたのは、精度の良いダイヤフラム加工が容易に行な
いうるためであり、具体的には、超音波加工や化学的エ
ツチングで実現できるものである。
用いたのは、精度の良いダイヤフラム加工が容易に行な
いうるためであり、具体的には、超音波加工や化学的エ
ツチングで実現できるものである。
例えば、KOH溶液に、アルコール類などの抑制剤を加
えたアルカリ性エツチング液で60〜80℃程度の適当
な温度でSiをエツチングすると、毎分0.5μm程度
のエツチング速度が得られ、1μm前後の加工精度でダ
イヤフラム部3を加工することが可能である。
えたアルカリ性エツチング液で60〜80℃程度の適当
な温度でSiをエツチングすると、毎分0.5μm程度
のエツチング速度が得られ、1μm前後の加工精度でダ
イヤフラム部3を加工することが可能である。
一方、圧電素子13Aの表面Oこは、Au層14が、蒸
着やスパッタなどによりメタライズされており、ダイヤ
フラム3A上面をSi面としておけば、340〜400
℃程度でAu−8i共共晶蓋Oこより、均一なAu−8
i共晶層15が得られる。
着やスパッタなどによりメタライズされており、ダイヤ
フラム3A上面をSi面としておけば、340〜400
℃程度でAu−8i共共晶蓋Oこより、均一なAu−8
i共晶層15が得られる。
もちろん、この場合、圧電素子13Aはキューリ点以上
となり、再分極が必要となる。
となり、再分極が必要となる。
しかし、このようにすれば、効率の良い、かつ生産性が
良く信頼性の高い液滴噴射装置が、バラつきがなく高歩
留りで実現できるものである。
良く信頼性の高い液滴噴射装置が、バラつきがなく高歩
留りで実現できるものである。
また、圧電素子が薄くなると、従来例で述べたようOこ
、電極間の放電リークが生じ易くなるが、第6図のa
”−cに示すように、表電極16 、1 B 。
、電極間の放電リークが生じ易くなるが、第6図のa
”−cに示すように、表電極16 、1 B 。
20、裏電極17,19.21のいずれか一方、もしく
は両方を、圧電素子端から内側に設けて、縁面距離を長
くすれば、この問題は解決されるものである。
は両方を、圧電素子端から内側に設けて、縁面距離を長
くすれば、この問題は解決されるものである。
以上に述べたところを総合して、本発明によるときは、
液滴噴射効率が良く、生産性も高い液滴噴射装置が得ら
れるものであって、実用的効果にすぐれた開発というこ
とができる。
液滴噴射効率が良く、生産性も高い液滴噴射装置が得ら
れるものであって、実用的効果にすぐれた開発というこ
とができる。
第1図のイは、供給タンクを付加した従来倒置の断面図
、同じく口は、その略正面図、同じくハは、−駆動回路
を付加したその略側断面図、第2図は、本発明の一実施
例に係るもののダイヤフラム部の第1図のB−B線に沿
う断面相当の略断面図、第3図は、同じく圧電素子、ダ
イヤフラムの板厚とダイヤフラム部におけるたわみとの
関係曲線図、第4図は、同じくそれぞれの板厚とダイヤ
フラム部における体積変化量との関係曲線図、第5図、
第6図のa ””−cは、同じく一実施例に係る要部構
成図である。 1・・・・・・ノズル部、2,4.7・・・・・・導管
部、3・・・・・・ダイヤフラム部、3A・・・・・・
ダイヤフラム、3B・・・・・・ダイヤフラム室、5・
・・・・・流体ダイオード、6・・・・・・共通液体溜
め、8・・・・・・供給タンク、10・・・・・・駆動
回路部、11A・・・・・・本体、12A・・・・・・
ベース、13A・・・・・・圧電素子、hP・・・・・
・圧電素子の板厚、hD・・・・・・ダイヤフラムの板
厚。
、同じく口は、その略正面図、同じくハは、−駆動回路
を付加したその略側断面図、第2図は、本発明の一実施
例に係るもののダイヤフラム部の第1図のB−B線に沿
う断面相当の略断面図、第3図は、同じく圧電素子、ダ
イヤフラムの板厚とダイヤフラム部におけるたわみとの
関係曲線図、第4図は、同じくそれぞれの板厚とダイヤ
フラム部における体積変化量との関係曲線図、第5図、
第6図のa ””−cは、同じく一実施例に係る要部構
成図である。 1・・・・・・ノズル部、2,4.7・・・・・・導管
部、3・・・・・・ダイヤフラム部、3A・・・・・・
ダイヤフラム、3B・・・・・・ダイヤフラム室、5・
・・・・・流体ダイオード、6・・・・・・共通液体溜
め、8・・・・・・供給タンク、10・・・・・・駆動
回路部、11A・・・・・・本体、12A・・・・・・
ベース、13A・・・・・・圧電素子、hP・・・・・
・圧電素子の板厚、hD・・・・・・ダイヤフラムの板
厚。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 液滴を制御された大きさと方向とを保って噴射する
ためのノズル部、該ノズル部まで液体を導く導管部、液
体を収納する供給タンクから上記ノズル部の途中に結合
され、印加された電気信号に応答して体積変化を生じ液
滴を前記ノズル部から噴射させる液体圧力駆動部とから
なる液滴噴射装置において、上記液体圧力駆動部は、電
気信号により歪みを生じる圧電素子が、もっばら液体の
隔壁を形成するダイヤフラム部に接着されて構成されて
おり、該圧電素子の厚さが当該ダイヤフラム部における
ダイヤフラムの厚さの1.8倍以下の厚さとしたことを
特徴とする液滴噴射装置。 2、特許請求の範囲第1項記載のものにおいて、ダイヤ
フラム部をSi板を化学的エツチングすることにより形
成したものである液滴噴射装置。 3 特許請求の範囲第2項記載のものにおいて、ダイヤ
フラムに、圧電素子の接着面へメタライズ処理を施し共
晶反応を利用して接着したものである液滴噴射装置。 4 特許請求の範囲第1項記載のものにおいて、圧電素
子の表裏の少なくとも一方の電極を、圧電素子端部から
離して設けたものである液滴噴射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11449578A JPS5831229B2 (ja) | 1978-09-20 | 1978-09-20 | 液滴噴射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11449578A JPS5831229B2 (ja) | 1978-09-20 | 1978-09-20 | 液滴噴射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5541832A JPS5541832A (en) | 1980-03-24 |
| JPS5831229B2 true JPS5831229B2 (ja) | 1983-07-05 |
Family
ID=14639181
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11449578A Expired JPS5831229B2 (ja) | 1978-09-20 | 1978-09-20 | 液滴噴射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5831229B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57138956A (en) * | 1981-02-24 | 1982-08-27 | Fujitsu Ltd | Printing head for ink jet printer |
| JPS621496A (ja) * | 1985-06-26 | 1987-01-07 | Agency Of Ind Science & Technol | 有機汚濁廃水の2段式微生物処理法 |
| JPS6418460A (en) * | 1987-07-13 | 1989-01-23 | Nec Corp | Piezoelectric type fluid jetting nozzle |
| US6601949B1 (en) | 1992-08-26 | 2003-08-05 | Seiko Epson Corporation | Actuator unit for ink jet recording head |
-
1978
- 1978-09-20 JP JP11449578A patent/JPS5831229B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5541832A (en) | 1980-03-24 |
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