JPS583132A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/02—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to macromolecular substances, e.g. rubber
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/68—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent
- G11B5/70—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent on a base layer
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- G11B5/7023—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent on a base layer characterised by the bonding agent containing polyesters, polyethers, silicones, polyvinyl resins, polyacrylresins or epoxy resins
-
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- G11B5/7026—Radiation curable polymers
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- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/735—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer
-
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- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73923—Organic polymer substrates
- G11B5/73927—Polyester substrates, e.g. polyethylene terephthalate
Landscapes
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録媒体において磁気記録媒体のカールを
防止し、電気特性と耐摩耗性の優れた磁気記録媒体に関
する。
防止し、電気特性と耐摩耗性の優れた磁気記録媒体に関
する。
現在一般に広く使用されている磁気記録媒体は非磁性支
持体上に強磁性酸化鉄微粉末2強磁性二酸化クロム微粉
末2強磁性合金粉末などの強磁性磁気粉末を、塩ビ酢ピ
系共重合体、塩ビ塩化ビニリデン系共重合体、セルロー
ス系樹脂、アセタール系樹脂、ウレタン樹脂、アクリロ
ニトリルブタジェン系樹脂等の有機結合剤中に1分散し
塗布乾燥させた塗布型のものが広く使用されてきた。ま
た、高密度記録への要求の高まりと共に真空蒸着。
持体上に強磁性酸化鉄微粉末2強磁性二酸化クロム微粉
末2強磁性合金粉末などの強磁性磁気粉末を、塩ビ酢ピ
系共重合体、塩ビ塩化ビニリデン系共重合体、セルロー
ス系樹脂、アセタール系樹脂、ウレタン樹脂、アクリロ
ニトリルブタジェン系樹脂等の有機結合剤中に1分散し
塗布乾燥させた塗布型のものが広く使用されてきた。ま
た、高密度記録への要求の高まりと共に真空蒸着。
スパッタリング、イオンプレーテインダ等のペーパーデ
ポジション法等により形成される強磁性金属薄膜を磁気
記録層とする金属薄膜型磁気記録媒体が注目されている
。いずれの場合も磁気記録媒体としては、磁性層側が凹
部になるカールを生じこのためビデオテープレコーダー
あるいはオーディオテープレコーダーのヘッドとの接触
が不良となり、電気特性の大巾な低下を引き起こしたり
。
ポジション法等により形成される強磁性金属薄膜を磁気
記録層とする金属薄膜型磁気記録媒体が注目されている
。いずれの場合も磁気記録媒体としては、磁性層側が凹
部になるカールを生じこのためビデオテープレコーダー
あるいはオーディオテープレコーダーのヘッドとの接触
が不良となり、電気特性の大巾な低下を引き起こしたり
。
ヘット9と接触しやすい縁部は摩耗しやすく、Pロツプ
アウトの原因になったり、出力低下を起こしたすする。
アウトの原因になったり、出力低下を起こしたすする。
塗布型磁気記録媒体のカールの原因は溶剤蒸発による磁
性層の体積収縮のためと推定される。また金属薄膜型磁
気記録媒体の場合には磁性層を形成される支持体面が結
果的に加熱されることによる支持体の熱収縮が原因と考
えられる。
性層の体積収縮のためと推定される。また金属薄膜型磁
気記録媒体の場合には磁性層を形成される支持体面が結
果的に加熱されることによる支持体の熱収縮が原因と考
えられる。
近年磁気記録媒体の長時間記録のために支持体を薄くす
ることが要求されているが、支持体を薄くするとますま
すカールが大きくなって実用上極めて大きな問題を有し
ている。
ることが要求されているが、支持体を薄くするとますま
すカールが大きくなって実用上極めて大きな問題を有し
ている。
支持体の裏面に無機顔料粉末と熱可塑性樹脂とから成る
塗膜(バック層)を設ける方法が特公昭54−3432
4号などに開示されているが熱可塑性樹脂だけを用いた
場合にはノミツク層が傷つき易く削れた粉がPロツプア
ウトを増大するという欠点を生じた。
塗膜(バック層)を設ける方法が特公昭54−3432
4号などに開示されているが熱可塑性樹脂だけを用いた
場合にはノミツク層が傷つき易く削れた粉がPロツプア
ウトを増大するという欠点を生じた。
耐傷性を向上させるために熱可塑性樹脂と三官能インシ
アネート化合物をバック層のバインダーとして用いるこ
とが特開昭51−144604号に開示されているが、
この方法では熱硬化のために時間がかかりすぎるという
欠点を有し経済的に不利である。また硬化処理時に巻ロ
ールで保管するためブロッキングを起こすという品質上
の欠陥があった。
アネート化合物をバック層のバインダーとして用いるこ
とが特開昭51−144604号に開示されているが、
この方法では熱硬化のために時間がかかりすぎるという
欠点を有し経済的に不利である。また硬化処理時に巻ロ
ールで保管するためブロッキングを起こすという品質上
の欠陥があった。
上述のノ之ツク層を設ける方法は無機顔料粉末の混入に
よってバック層の表面粗さを大きくすることによって走
行テンションを下げる目的のものであるが、カール防止
にも効果がある。しかし従来のバック層は硬化処理時間
が長いため、ブロッキングを起こすという品質上の欠点
があった。
よってバック層の表面粗さを大きくすることによって走
行テンションを下げる目的のものであるが、カール防止
にも効果がある。しかし従来のバック層は硬化処理時間
が長いため、ブロッキングを起こすという品質上の欠点
があった。
本発明者らは、鋭意研究した結果磁性層の反対の支持体
面に電子線による重合物を含むバック層を設けることに
より上記問題を解決した。
面に電子線による重合物を含むバック層を設けることに
より上記問題を解決した。
本発明の目的とするところは、第一に電気特性の優れた
磁気記録媒体を提供することであり、第二に耐摩耗性の
優れた磁気記録媒体を提供することであり、第三に硬化
処理時間が極めて短かい磁気記録媒体を提供することで
ある。
磁気記録媒体を提供することであり、第二に耐摩耗性の
優れた磁気記録媒体を提供することであり、第三に硬化
処理時間が極めて短かい磁気記録媒体を提供することで
ある。
本発明の上記目的は、支持体の一方の面に磁性層、他方
の面にバック層を有する磁気記録媒体において、該バッ
ク層が電子線による重合可能な化合物を含む層を電子線
照射するととKよって得られた層である磁気記録媒体に
よって達成される。
の面にバック層を有する磁気記録媒体において、該バッ
ク層が電子線による重合可能な化合物を含む層を電子線
照射するととKよって得られた層である磁気記録媒体に
よって達成される。
本発明は何のような磁性層を有する記録媒体にも適用で
きるが最も好ましい実施形態は電子線による重合が可能
な化合物と強磁性粉末とを含む層を電子照射することに
よって得られる磁性層を有する磁気記録媒体に前記バッ
ク層を設けることである。この場合製造方法としては、
■ 予め電子線照射したバック層を有する支持体を用い
て磁気記録層を塗設し電子線照射する方法、■ 夫々電
子線による重合可能な化合物を含むバック層と磁気記録
層を逐次あるいは同時に塗設し電子線照射によってバッ
ク層と磁気記録層を同時に重合硬化させる方法、■ 磁
気記録層を塗設して電子線照射したのちバック層を形成
する方法などがあるがバック層と磁気記録層を同時に電
子線照射して重合硬化させる方法がエネルギー効率が高
いので好ましい。
きるが最も好ましい実施形態は電子線による重合が可能
な化合物と強磁性粉末とを含む層を電子照射することに
よって得られる磁性層を有する磁気記録媒体に前記バッ
ク層を設けることである。この場合製造方法としては、
■ 予め電子線照射したバック層を有する支持体を用い
て磁気記録層を塗設し電子線照射する方法、■ 夫々電
子線による重合可能な化合物を含むバック層と磁気記録
層を逐次あるいは同時に塗設し電子線照射によってバッ
ク層と磁気記録層を同時に重合硬化させる方法、■ 磁
気記録層を塗設して電子線照射したのちバック層を形成
する方法などがあるがバック層と磁気記録層を同時に電
子線照射して重合硬化させる方法がエネルギー効率が高
いので好ましい。
本発明の、2ツク層は、熱硬化屋塗布型磁気記録媒体、
金属薄膜型磁気記録媒体の場合にも用いることができ電
気特性の飛躍的向上が実現できる。
金属薄膜型磁気記録媒体の場合にも用いることができ電
気特性の飛躍的向上が実現できる。
これらの場合には磁性層とノミツク層とのいずれを先に
設けてもよい。
設けてもよい。
電子線による重合が可能な化合物とは、電子線による重
合が可能な不飽和結合を有する化合物で例えばビニルな
いしビニリデン炭素・炭素二重結合を好ましくは複数個
有する化合物であり、アクリロイル基、アクリルアミP
基、アリル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル
基等を含む化合物及び不飽和ポリエステル等の化合物で
ある。
合が可能な不飽和結合を有する化合物で例えばビニルな
いしビニリデン炭素・炭素二重結合を好ましくは複数個
有する化合物であり、アクリロイル基、アクリルアミP
基、アリル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル
基等を含む化合物及び不飽和ポリエステル等の化合物で
ある。
特に好ましくは、上記の不飽和結合を有する化合物とし
てアクリロイル、メタクリロイル基を直鎖の両末端に有
する化合物であり、これらはA、Vrancken ”
Fatipsc Congress″11 19(19
72)に引用されている。例えば。
てアクリロイル、メタクリロイル基を直鎖の両末端に有
する化合物であり、これらはA、Vrancken ”
Fatipsc Congress″11 19(19
72)に引用されている。例えば。
であり、例示した化合物のポリエステル骨格がポリウレ
タン骨格、エポキシ樹脂の骨格、ポリエーテル骨格、ポ
リカポネート骨格であってもあるいはこれらの混合され
た骨格でもよい。また例示した化合物の末端がメタクリ
ロイル基でもよい。分子量は約500〜20000が好
ましい。
タン骨格、エポキシ樹脂の骨格、ポリエーテル骨格、ポ
リカポネート骨格であってもあるいはこれらの混合され
た骨格でもよい。また例示した化合物の末端がメタクリ
ロイル基でもよい。分子量は約500〜20000が好
ましい。
更に、これらの化合物には不飽和の炭素−炭素不飽和結
合を分子内に有するモノマーを添加することができる。
合を分子内に有するモノマーを添加することができる。
かかるモノマーとしては、例えば。
アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、アクリル酸メ
チル及びその同族体であるアクリル酸アルキルエステル
、メタクリル酸メチル及びその同族体であるメタクリル
酸アルキルエステル、スチレン及びその同族体であるα
−メチルスチレン、β−クロルスチレンなど、アクリロ
ニトリル、メタクリレートリル、アクリルアミド、メタ
クリルアミr、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどが
挙げられる。分子内に不飽和結合が2個以上あってもよ
い。この化合物の例としては「感光性樹脂データー集」
(株)綜合化学研究所昭和43年12月刊行235〜2
36頁に掲載されている化合物が挙げられる。特に、ポ
リオールの不飽和エステル類。
チル及びその同族体であるアクリル酸アルキルエステル
、メタクリル酸メチル及びその同族体であるメタクリル
酸アルキルエステル、スチレン及びその同族体であるα
−メチルスチレン、β−クロルスチレンなど、アクリロ
ニトリル、メタクリレートリル、アクリルアミド、メタ
クリルアミr、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどが
挙げられる。分子内に不飽和結合が2個以上あってもよ
い。この化合物の例としては「感光性樹脂データー集」
(株)綜合化学研究所昭和43年12月刊行235〜2
36頁に掲載されている化合物が挙げられる。特に、ポ
リオールの不飽和エステル類。
例えばエチレンジアクリレート、:)エチレングリコー
ルジアクリレート、グリセロールトリメタクリレート、
エチレンジメタクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラメタクリレートなど及びエポキシ環を有するグリンジ
ルメタクリレートなどが好ましい。分子内に不飽和結合
が1個の化合物と2個以上の化合物を混合して用いても
よい。
ルジアクリレート、グリセロールトリメタクリレート、
エチレンジメタクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラメタクリレートなど及びエポキシ環を有するグリンジ
ルメタクリレートなどが好ましい。分子内に不飽和結合
が1個の化合物と2個以上の化合物を混合して用いても
よい。
モノマーを添加する場合ポリマーとの比は、ポリマー/
モノマー2278以上が好ましい。この範囲を外れると
硬化に多大なエネルギーが必要とされる。
モノマー2278以上が好ましい。この範囲を外れると
硬化に多大なエネルギーが必要とされる。
また1本発明のバック層に、無機顔料微粉末を必要に応
じて添加することができる。無機顔料微粉末としてはカ
ーボンブラック、/ラファイト。
じて添加することができる。無機顔料微粉末としてはカ
ーボンブラック、/ラファイト。
酸化亜鉛、酸化チタン、硫酸ノ之すウム、タルク・カオ
リン、酸化クロム、硫化力rミウム、ゲーサイト、シリ
カニチロシル、無水アルミナ微粉末炭酸カルシウム、二
硫化モリブデン、フッ化炭素などが用いられる。これら
の粉末の粒子サイズとしては、3μ以下が好ましい。
リン、酸化クロム、硫化力rミウム、ゲーサイト、シリ
カニチロシル、無水アルミナ微粉末炭酸カルシウム、二
硫化モリブデン、フッ化炭素などが用いられる。これら
の粉末の粒子サイズとしては、3μ以下が好ましい。
本発明のバック層には塩ビ酢ビ系共重合体、セルロース
系樹脂、アセタール系樹脂、塩ビー塩化ビニリデン系樹
脂、ウレタン樹脂、アクリロニトリルブタジェン樹脂等
の熱可塑性樹脂を必要によって単独あるいは混合して加
えてもよい。
系樹脂、アセタール系樹脂、塩ビー塩化ビニリデン系樹
脂、ウレタン樹脂、アクリロニトリルブタジェン樹脂等
の熱可塑性樹脂を必要によって単独あるいは混合して加
えてもよい。
また、本発明のノック層には、潤滑剤1分散剤。
研摩剤、防錆剤、帯電防止剤などの添加剤が含まれてい
てもよい。特に潤滑剤は、飽和及び不飽和の高級脂肪酸
、脂肪酸エステル、高級脂肪酸アミド9、高級アルコー
ル、シリコンオイル、鉱油、食物油、動物油、フラン系
化合物などがある。
てもよい。特に潤滑剤は、飽和及び不飽和の高級脂肪酸
、脂肪酸エステル、高級脂肪酸アミド9、高級アルコー
ル、シリコンオイル、鉱油、食物油、動物油、フラン系
化合物などがある。
バック層の塗布液の調製にあたっては、上述の各成分は
全て同時にあるいは個々順次に混練機に投入される。塗
布組成物の混線分散には各種の混線機が使用される。例
えば二本ロールミル、三本ロールミル、ホールミル、ペ
ブルミル、トロンミル、サント9グライダ−、Szθg
variアトライター。
全て同時にあるいは個々順次に混練機に投入される。塗
布組成物の混線分散には各種の混線機が使用される。例
えば二本ロールミル、三本ロールミル、ホールミル、ペ
ブルミル、トロンミル、サント9グライダ−、Szθg
variアトライター。
高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃
ミル、ディスパー、ニーグー、高速ミキサーホモジナイ
ザー、超音波分散機などである。
ミル、ディスパー、ニーグー、高速ミキサーホモジナイ
ザー、超音波分散機などである。
混線分散に関する技術は、T 、 C、PATTON”
Pa1nt Flow and Pigment Di
spersion” (1964年、John Wil
ey & 5ons社発行)に述べられている。又、米
国特許第2,581,414号、同2,855,156
号にも述べられている。
Pa1nt Flow and Pigment Di
spersion” (1964年、John Wil
ey & 5ons社発行)に述べられている。又、米
国特許第2,581,414号、同2,855,156
号にも述べられている。
支持体上へバック層を塗布する方法としてはエアードク
ターコート、プレードコート、エアナイフコート、スク
イズコート、含浸コート、リバースロールニー)、
)ランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコ
ート、キャストコート。
ターコート、プレードコート、エアナイフコート、スク
イズコート、含浸コート、リバースロールニー)、
)ランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコ
ート、キャストコート。
スプレィコート、スピンコード等が利用でき、その他の
方法も可能であり、これらの具体的説明は「コーティン
グ工学」256頁〜277頁(昭和46年3月20日朝
倉書店発行)に詳細に記載されている。
方法も可能であり、これらの具体的説明は「コーティン
グ工学」256頁〜277頁(昭和46年3月20日朝
倉書店発行)に詳細に記載されている。
ノ之ツク層の厚みは乾燥厚みで0.1〜5μ痛の範囲と
なるように塗布する。
なるように塗布する。
前記の支持体の素材としては、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレン−2,6−ナフタレ−ト等のポリエ
ステル類:ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレ
フィン類:セルローストリアセテート、セルロースダイ
アセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロ
ースアセテートプロピオネート等のセルロース誘導体:
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂
;ポリカーボネート、ポリイミr、ポリアミドイミド等
プラスチックの他に用途に応じてアルミニウム、銅、ス
ズ、亜鉛またはこれらを含む非磁性合金などの非磁性金
属類:紙、バライタまたはポリエチレン、ポリプロピレ
ン、エチレン−ブテン共重合体などの炭素数2〜10の
α−ポリオレフィン類を塗布またはラミネートした紙な
どの紙類も使用できる。これらの非磁性支持体は使用目
的に応じて透明ある〜は不透明であっても良い。
ート、ポリエチレン−2,6−ナフタレ−ト等のポリエ
ステル類:ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレ
フィン類:セルローストリアセテート、セルロースダイ
アセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロ
ースアセテートプロピオネート等のセルロース誘導体:
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂
;ポリカーボネート、ポリイミr、ポリアミドイミド等
プラスチックの他に用途に応じてアルミニウム、銅、ス
ズ、亜鉛またはこれらを含む非磁性合金などの非磁性金
属類:紙、バライタまたはポリエチレン、ポリプロピレ
ン、エチレン−ブテン共重合体などの炭素数2〜10の
α−ポリオレフィン類を塗布またはラミネートした紙な
どの紙類も使用できる。これらの非磁性支持体は使用目
的に応じて透明ある〜は不透明であっても良い。
又、非磁性支持体の形態はフィルム、テープ。
シート、ディスク、カー)#、)eラム等いずれでも良
く、形態に応じて種々の材料が必要に応じて選択される
。
く、形態に応じて種々の材料が必要に応じて選択される
。
これらの非磁性支持体の厚みはフィルム、テープ、シー
ト状の場合は約1〜50μm程度好ましくは2〜25μ
簿である。
ト状の場合は約1〜50μm程度好ましくは2〜25μ
簿である。
電子線加速器としてはバンデメラーフ型のスキャニング
方式、ダブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム
方式が採用できるが、好ましいのは比較的安価で大出力
が得られるカーテンビーム方式である。電子線特性とし
ては、加速電圧が100〜1000kv、好ましくは1
50〜300kvであり、吸収線量として0.5〜20
メガラツP好ましくは2〜10メガラツFである。加速
電圧が100kV以下の場合は、エネルギーの透過量が
不足し1000kVを超えると重合に使われるエネルギ
ー効率が低下し経済的でない。吸収線量として。
方式、ダブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム
方式が採用できるが、好ましいのは比較的安価で大出力
が得られるカーテンビーム方式である。電子線特性とし
ては、加速電圧が100〜1000kv、好ましくは1
50〜300kvであり、吸収線量として0.5〜20
メガラツP好ましくは2〜10メガラツFである。加速
電圧が100kV以下の場合は、エネルギーの透過量が
不足し1000kVを超えると重合に使われるエネルギ
ー効率が低下し経済的でない。吸収線量として。
0.5メガランド以下では硬化反応が不充分で磁性層強
度が得られず、20メガラット9以上になると。
度が得られず、20メガラット9以上になると。
硬化に使用されるエネルギー効率が低下したり。
被照射体が発熱し、特にプラスティック支持体が変形す
るので好ましくない。
るので好ましくない。
以下に本発明を実施例および比較例により更に具体的に
説明する。ここに示す成分1割合、操作順序等は1本発
明の精神から逸脱しない範囲において変更しうるもので
あることは本業界に携わるものにとっては容易に理解さ
れることである。
説明する。ここに示す成分1割合、操作順序等は1本発
明の精神から逸脱しない範囲において変更しうるもので
あることは本業界に携わるものにとっては容易に理解さ
れることである。
従って、本発明は、下記の実施例に制限されるべきでは
ない。尚、以下の実施例および比較例において「部」は
すべて「重量部」を示す。
ない。尚、以下の実施例および比較例において「部」は
すべて「重量部」を示す。
実施例 1
磁性層塗布液A
”−Fe2”3 100部ニ
トロセルロース(R8μH’) 10
〃ポリエステルポリウレタン(Mn 30.000)
5 ttジエチレングリコールジアクリレート
2〃ブトキシエチルアクリレート
4〃ステアリン酸
1〃シリコンオイル(ポリジメチルシロキサン
) 1〃メチルエチルケトン
250〃こたらの混合物をボールミルに入れ
て2o時間混線分散した。
トロセルロース(R8μH’) 10
〃ポリエステルポリウレタン(Mn 30.000)
5 ttジエチレングリコールジアクリレート
2〃ブトキシエチルアクリレート
4〃ステアリン酸
1〃シリコンオイル(ポリジメチルシロキサン
) 1〃メチルエチルケトン
250〃こたらの混合物をボールミルに入れ
て2o時間混線分散した。
バック層塗布液B
カーボンブラック(平均粒子径0.1μ) 50
部炭酸カルシウム(平均粒子径0.08μ) 1
00〃ポリエステルポリウレタン(分子量約20,00
0) 30 //ニトロセルロース(粘度R8+
)I) 401/ジエチレングリコールジ
アクリレート 10チプトキシエチルアクリレ
ート 20チゾチルステアレート1q
6 メチルエチルケトン 500係
これらの混合物をボールミルに入れて10時間混練した
。
部炭酸カルシウム(平均粒子径0.08μ) 1
00〃ポリエステルポリウレタン(分子量約20,00
0) 30 //ニトロセルロース(粘度R8+
)I) 401/ジエチレングリコールジ
アクリレート 10チプトキシエチルアクリレ
ート 20チゾチルステアレート1q
6 メチルエチルケトン 500係
これらの混合物をボールミルに入れて10時間混練した
。
厚さ15μのポリエチレンテレフタレート上に液Aを乾
燥厚みで5μになるように塗布し磁場配向処理をして乾
燥した。乾燥後スーパーカレンダーロールによって磁性
面を平滑にした。この支持体の裏面に液Bを乾燥厚みで
1μになるように塗布乾燥した。次いで加速電圧165
kVビーム電流15mAで電子線を照射した。このサン
プルなム1とする。
燥厚みで5μになるように塗布し磁場配向処理をして乾
燥した。乾燥後スーパーカレンダーロールによって磁性
面を平滑にした。この支持体の裏面に液Bを乾燥厚みで
1μになるように塗布乾燥した。次いで加速電圧165
kVビーム電流15mAで電子線を照射した。このサン
プルなム1とする。
実施例 2
実施例1に於て液Aを液Cに代え、カレンダロールで平
滑化処理を施したのち60’Cで48時間熱処理した。
滑化処理を施したのち60’Cで48時間熱処理した。
次いで実施例1と同様に液Bをノミツクに塗布し電子線
照射した。このサンプルな煮2とする。
照射した。このサンプルな煮2とする。
液C
r FgzOs 1oo部ニ
トロセルロース 15部ポ
リエステルポリウレタン 5部ステ
アリン酸 1部ブチル
ステアレート 1部メチル
エチルケトン 250部実施例
6 実施例1に於て液Bを液りに代え実施例1と同様に実施
した。サンプルI63とする 液D カーボンブラック 30部シ
リカエアロジル(平均粒子径0.08μ) 100
部エステルアクリレートオリゴマー (東亜合成アロニクスM6100) 4
0部ヘキサンジオールジアクリレート 1
5部2−エチルへキシルアクリレート 1
5部アクリル酸 2
0部メチルステアレート
1部メチルエチルケトン 50
0部実施例 4 実施例1の液Aを塗布する代わりに、コノルト蒸着によ
る磁性層に代え、実施例1と同様に実施した。電子ビー
ムによる蒸発源を用い200OAになるようにコバルト
を入射角が70°となるように斜め蒸着した。このサン
プルを164とする。
トロセルロース 15部ポ
リエステルポリウレタン 5部ステ
アリン酸 1部ブチル
ステアレート 1部メチル
エチルケトン 250部実施例
6 実施例1に於て液Bを液りに代え実施例1と同様に実施
した。サンプルI63とする 液D カーボンブラック 30部シ
リカエアロジル(平均粒子径0.08μ) 100
部エステルアクリレートオリゴマー (東亜合成アロニクスM6100) 4
0部ヘキサンジオールジアクリレート 1
5部2−エチルへキシルアクリレート 1
5部アクリル酸 2
0部メチルステアレート
1部メチルエチルケトン 50
0部実施例 4 実施例1の液Aを塗布する代わりに、コノルト蒸着によ
る磁性層に代え、実施例1と同様に実施した。電子ビー
ムによる蒸発源を用い200OAになるようにコバルト
を入射角が70°となるように斜め蒸着した。このサン
プルを164とする。
比較例 1
実施例1に於てノζツク層を設けなかった。サンプルA
5とする。
5とする。
比較例 2
実施例1の液Bを液Eに代えた。得られたサンプルな轟
6とする。
6とする。
液E
カーボンブラック(平均粒子径0.1μ) 50
部炭酸カルシウム(平均粒子径0.08μ) 1
00部ポリエステルポリウレタン(分子量20000)
30部ニトロセルロース(粘度R81H)
9Q部ブチルステアレート
1部メチルエチルケトン 5
00部以上得られたサンプルについて次のような測定を
行ない表1を得た。
部炭酸カルシウム(平均粒子径0.08μ) 1
00部ポリエステルポリウレタン(分子量20000)
30部ニトロセルロース(粘度R81H)
9Q部ブチルステアレート
1部メチルエチルケトン 5
00部以上得られたサンプルについて次のような測定を
行ない表1を得た。
(1)カール度
Aインチ巾にスリットし長手方向に2顛の大きさのサン
プルを23t:’ 651RHの温湿度でガラス板上に
立てカールによって最上端が移動した距離αを測定した
。(単位能) (2)メチル傷の測定 捧インチ中にサンプルをスリットし。
プルを23t:’ 651RHの温湿度でガラス板上に
立てカールによって最上端が移動した距離αを測定した
。(単位能) (2)メチル傷の測定 捧インチ中にサンプルをスリットし。
VHSビデオテープレコーダー(日本ビクター株式会社
製、 HR3600) を用いてスチルモーr(静止
画像再生)で1Ar操作した。 磁性層面のキズを観察
した。
製、 HR3600) を用いてスチルモーr(静止
画像再生)で1Ar操作した。 磁性層面のキズを観察
した。
(3)電気特性
カラー信号味を測定した。サンプルJI61ヲ基準とし
た。
た。
表 1
好ましい実施態様としては以下のことが挙げられる。
(1)特許請求の範囲に於て支持体が5〜50μである
ポリエチレンテレフタレートである磁気記録媒体。
ポリエチレンテレフタレートである磁気記録媒体。
(2、特許請求の範囲に於て、加速電圧100〜100
0kV吸収線量が0.5〜20メガランドである電子線
を照射した磁気記録媒体。
0kV吸収線量が0.5〜20メガランドである電子線
を照射した磁気記録媒体。
(3)特許請求の範囲に於てバック層が0.1〜5μ馬
である磁気記録媒体。
である磁気記録媒体。
代理人 弁理士(8107)佐々木清隆(ほか3名)
手続補正書
昭和56年 9月ミ 日
昭和56年特許願第 100420 伺2、発明の名
称 磁気記録媒体 3、補正をする者 事件との関係:特許出願人 名称(520)富士写真フィルム株式会社7、補正の対
象 「発明の詳細な説明」の欄 8、補正の内容 「発明の詳細な説明」の欄を下記の如く補正する。
称 磁気記録媒体 3、補正をする者 事件との関係:特許出願人 名称(520)富士写真フィルム株式会社7、補正の対
象 「発明の詳細な説明」の欄 8、補正の内容 「発明の詳細な説明」の欄を下記の如く補正する。
1)明細書第7頁5行目、「〜好ましい。」の後に1こ
れらの化合物の市販されているものとしては東亜合成製
アロニクスM6100.M7100などがある。」を加
入する。
れらの化合物の市販されているものとしては東亜合成製
アロニクスM6100.M7100などがある。」を加
入する。
2)同 第8頁2行1、 「エチレンジアクリレート、
」の後に「ブトキシエチルアクリレート、1,4−ブタ
ンジオールジアクリレー)、1.6−ヘキサンジオール
ジアクリレート、ステアリルアクリレート、2−エチル
へキシルアクリレート、1を加入する。
」の後に「ブトキシエチルアクリレート、1,4−ブタ
ンジオールジアクリレー)、1.6−ヘキサンジオール
ジアクリレート、ステアリルアクリレート、2−エチル
へキシルアクリレート、1を加入する。
3)同 第8頁2行1、[・・・・・・・・ジアクリレ
ート、」の後に「ジエチレングリユールジアクリレート
、テトラエチレングリユールジアクリレート、」を加入
する。
ート、」の後に「ジエチレングリユールジアクリレート
、テトラエチレングリユールジアクリレート、」を加入
する。
4)同 第8頁2行〜4行目、 「グリセロールトリメ
タクリレート、」の後に「トリメチロールプロノぞント
リアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト」を加入する。
タクリレート、」の後に「トリメチロールプロノぞント
リアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト」を加入する。
以上
手続補正書
昭和57年6月II日
昭和56年特許願第 100420 号2、発明の名
称 磁気記録媒体 3、補正をする者 事件との関係:特許出願人 名称 (520) 富士写真フィルム株式会社氏 名
弁理士(8107) 佐々木 清 隆 (はが3
名)7、補正の対象 〔発明の詳細な説明〕の欄 8、補正の内容 と悄止する。
称 磁気記録媒体 3、補正をする者 事件との関係:特許出願人 名称 (520) 富士写真フィルム株式会社氏 名
弁理士(8107) 佐々木 清 隆 (はが3
名)7、補正の対象 〔発明の詳細な説明〕の欄 8、補正の内容 と悄止する。
Claims (2)
- (1)支持体の一方の面に磁性層他方の面にバック層を
有する磁気記録媒体において、該バック層が電子線によ
る重合可能な化合物を含む層を電子線照射することによ
り得られた層であることを特徴とする磁気記録媒体。 - (2)支持体の一方の面に磁性層、他方の面にノック層
を有する磁気記録媒体において、該磁性層が電子線によ
る重合可能な化合物と強磁性粉末とを含む層を電子照射
することにより得られた層であり、該バック層が電子線
による重合可能な化合物を含む層を電子線照射すること
によって得られた層であることを特徴とする磁気記録媒
体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56100420A JPS583132A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | 磁気記録媒体 |
| GB08218522A GB2103110B (en) | 1981-06-30 | 1982-06-25 | Method of making a magnetic recording medium |
| NL8202629A NL8202629A (nl) | 1981-06-30 | 1982-06-29 | Magnetisch registratiemedium. |
| DE19823224318 DE3224318A1 (de) | 1981-06-30 | 1982-06-29 | Magnetisches aufzeichnungsmaterial |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56100420A JPS583132A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS583132A true JPS583132A (ja) | 1983-01-08 |
Family
ID=14273479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56100420A Pending JPS583132A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | 磁気記録媒体 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS583132A (ja) |
| DE (1) | DE3224318A1 (ja) |
| GB (1) | GB2103110B (ja) |
| NL (1) | NL8202629A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59172158A (ja) * | 1983-03-18 | 1984-09-28 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS6083217A (ja) * | 1983-10-12 | 1985-05-11 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5965929A (ja) * | 1982-10-06 | 1984-04-14 | Tdk Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| DE3418907A1 (de) * | 1983-05-19 | 1984-11-22 | Tdk Corp., Tokio/Tokyo | Magnetisches aufzeichnungsmaterial |
| JPS6045937A (ja) * | 1983-08-22 | 1985-03-12 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS6050619A (ja) * | 1983-08-29 | 1985-03-20 | Tdk Corp | 磁気デイスク及びその製造方法 |
| JPS6059528A (ja) * | 1983-09-12 | 1985-04-05 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| US4567083A (en) * | 1983-10-17 | 1986-01-28 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
| DE3405960A1 (de) * | 1984-02-18 | 1985-08-22 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von magnetischen aufzeichnungstraegern mit rueckschicht sowie danach hergestellte magnetische aufzeichnungstraeger |
-
1981
- 1981-06-30 JP JP56100420A patent/JPS583132A/ja active Pending
-
1982
- 1982-06-25 GB GB08218522A patent/GB2103110B/en not_active Expired
- 1982-06-29 NL NL8202629A patent/NL8202629A/nl not_active Application Discontinuation
- 1982-06-29 DE DE19823224318 patent/DE3224318A1/de not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59172158A (ja) * | 1983-03-18 | 1984-09-28 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS6083217A (ja) * | 1983-10-12 | 1985-05-11 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL8202629A (nl) | 1983-01-17 |
| DE3224318A1 (de) | 1983-01-20 |
| GB2103110A (en) | 1983-02-16 |
| GB2103110B (en) | 1985-01-09 |
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