JPS583170B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPS583170B2 JPS583170B2 JP4174177A JP4174177A JPS583170B2 JP S583170 B2 JPS583170 B2 JP S583170B2 JP 4174177 A JP4174177 A JP 4174177A JP 4174177 A JP4174177 A JP 4174177A JP S583170 B2 JPS583170 B2 JP S583170B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heated
- cavity
- frequency heating
- heating device
- intake
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
- Electric Ovens (AREA)
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電波エネルギーによって物体を加熱する高周波
加熱装置、さらに詳しくは同装置の被加熱物を加熱制御
するだめの手段に関するものである。
加熱装置、さらに詳しくは同装置の被加熱物を加熱制御
するだめの手段に関するものである。
物体を加熱するためにマイクロ波帯の電波エネルギーが
利用されていることは周知のことである係る高周波加熱
装置において慣用の構成は、マグネトロンのごとき電波
発生源から放射される電波を直接あるいは導波管を経て
、被加熱物が収納されているオーブンと称している空洞
内部へ供給するという構成のものである。
利用されていることは周知のことである係る高周波加熱
装置において慣用の構成は、マグネトロンのごとき電波
発生源から放射される電波を直接あるいは導波管を経て
、被加熱物が収納されているオーブンと称している空洞
内部へ供給するという構成のものである。
係る構成の同装置では、被加熱物は通常、タイマー等の
時限手段によって加熱時間が制御されている。
時限手段によって加熱時間が制御されている。
この場合に仲、被加熱物の種類、すなわち誘電損失係数
の違い、重量、初温、すなわち加熱前における被加熱物
の温度によって適宜に加熱時間を調節してやる必要があ
る。
の違い、重量、初温、すなわち加熱前における被加熱物
の温度によって適宜に加熱時間を調節してやる必要があ
る。
もし時間調節が不適格であると、被加熱物が加熱不足で
あったり、加熱しすぎであるといった結果を召く。
あったり、加熱しすぎであるといった結果を召く。
この問題の解決策として、従来は、被加熱物に温度検知
素子を挿入し、被加熱物の温度を直接的に検知して、マ
グネトロンの発振を制御して被加熱物の加熱制御を行な
うという方法が行なわれてきている。
素子を挿入し、被加熱物の温度を直接的に検知して、マ
グネトロンの発振を制御して被加熱物の加熱制御を行な
うという方法が行なわれてきている。
係る手段を有する同装置では、被加熱物は形がくずれ、
調理上での支障を来すというへい害が生ずる。
調理上での支障を来すというへい害が生ずる。
そこで本発明は被加熱物の種類、重量、初温によらず、
しかも被加熱物の形くずれが生じない、被加熱物の加熱
制御手段を提供せんとするものである。
しかも被加熱物の形くずれが生じない、被加熱物の加熱
制御手段を提供せんとするものである。
さらに詳しくは、空洞内を通った気流の物理変化を検知
し、その信号により電波発生源を制御して、被加熱物の
加熱制御を行なうとともに、空洞に回転受皿を有する同
装置においても係る手段を確実に構成せんとするところ
に、本発明のねらいがある。
し、その信号により電波発生源を制御して、被加熱物の
加熱制御を行なうとともに、空洞に回転受皿を有する同
装置においても係る手段を確実に構成せんとするところ
に、本発明のねらいがある。
以下、実施例につき添付図面とともに説明する。
第1図において、1は同装置の本体であって、2は本体
1に開閉自在に装着された扉である。
1に開閉自在に装着された扉である。
本体1には、第2図に示すごとく空洞3を要し、該空洞
3の被加熱物の出入れ口(図示せず)を封塞するように
扉2が配設されている。
3の被加熱物の出入れ口(図示せず)を封塞するように
扉2が配設されている。
第2図において、4は電波発生源のマグネトロンである
。
。
マグネトロン4の冷却用のブロワであり、該プロワ5は
エアガイド7で包囲されるとともに、該エアガイド7に
はブロワ吸気口6を備えている。
エアガイド7で包囲されるとともに、該エアガイド7に
はブロワ吸気口6を備えている。
8はマグネトロン4を冷却した風の排気エアガイドであ
り、9はマグネトロン4のアンテナ部を包囲するアンテ
ナカバー9である。
り、9はマグネトロン4のアンテナ部を包囲するアンテ
ナカバー9である。
該アンテナカバー9は高周波低損失の誘電体で構成する
。
。
10は回転受皿であり、該回転受皿10には被加熱物1
3が載置され、回転受皿駆動モータ11を駆動源とし、
カップリング片12により、該回転受皿駆動モータ11
の駆動力が伝達されて、該回転受皿10は回転軸o−o
’を中心に回転運動を行なうように構成されている。
3が載置され、回転受皿駆動モータ11を駆動源とし、
カップリング片12により、該回転受皿駆動モータ11
の駆動力が伝達されて、該回転受皿10は回転軸o−o
’を中心に回転運動を行なうように構成されている。
14は吸気ダクトであり15は空洞3に穿設された吸気
開口部である。
開口部である。
空洞3に入る風は、吸気ダクト14を経て、吸気開口部
15を通して空洞3内に導入される。
15を通して空洞3内に導入される。
該吸気開口部15は第3図に示すごとく複数個有し、空
洞3内へ導入される風はそれぞれの吸気開口部15に分
流される。
洞3内へ導入される風はそれぞれの吸気開口部15に分
流される。
該吸気開口部の位置、大きさ形状等は空洞3の構造、大
きさ、形状等により適宜選択することが必要であるが、
すぐなくとも回転受皿10の回転軸o−o’に直交する
空洞3の幅もしくは奥行き方向の基軸X−X′に対して
ふりわけて配置することが望しい。
きさ、形状等により適宜選択することが必要であるが、
すぐなくとも回転受皿10の回転軸o−o’に直交する
空洞3の幅もしくは奥行き方向の基軸X−X′に対して
ふりわけて配置することが望しい。
又、できることならば基軸x−x’に対して略対称にふ
りわけることが好しい。
りわけることが好しい。
16は空洞3に穿設された排気開口部であり17は排気
ダクトである。
ダクトである。
空洞3を出る風は排気開口部16を経て、排気ダクト1
7を通して排気される。
7を通して排気される。
排気ダクト17の一端はブロワ吸気口6の近傍に配設し
、ブロワ5の吸気力が排気ダクト17に作用するように
構成する。
、ブロワ5の吸気力が排気ダクト17に作用するように
構成する。
18は風す々わち気流の物理変化を検知する検知素子で
あって本実施例においては、気流の温度変化に感応する
サーミスタのごとき素子を用いている。
あって本実施例においては、気流の温度変化に感応する
サーミスタのごとき素子を用いている。
19は検知素子18の信号を増幅する増幅手段であり、
20は該増幅手段19から発生する出力により作動し、
マグネトロン4の発振を制御する制御手段である。
20は該増幅手段19から発生する出力により作動し、
マグネトロン4の発振を制御する制御手段である。
次に、上記実施例の動作及び各部の作用にづいて説明す
る。
る。
マグネトロン4で発生した電波は空洞3に放射され、被
加熱物13を加熱する。
加熱物13を加熱する。
被加熱物13は回転受皿10とゝもに回転して均一加熱
される。
される。
被加熱物13の加熱が進行するにつれて、被加熱物13
から放射される放射熱が増加する。
から放射される放射熱が増加する。
この熱は空洞3を通る風により、検知素子18に伝達さ
れる。
れる。
検知素子18は、被加熱物13の放射熱の変化に応動し
た信号を発生する。
た信号を発生する。
検知素子18から発生した信号は増幅千段19により増
幅されて、制御手段20に伝達される。
幅されて、制御手段20に伝達される。
そこで、被加熱物が所望の温度に達したときに制御手段
20が作動し、マグネトロン4の発振が制御され、被加
熱物の加熱制御が行なわれる。
20が作動し、マグネトロン4の発振が制御され、被加
熱物の加熱制御が行なわれる。
以上のごとく本実施例は動作する。
ところで、本実施例の第一の特徴は時限手段により被加
熱物の加熱制御を行なっていないことである。
熱物の加熱制御を行なっていないことである。
したがって加熱時間の調節を要しないので、被加熱物の
種類、重量、初温によらず、所望の温度に被加熱物を加
熱制御することができるようになる。
種類、重量、初温によらず、所望の温度に被加熱物を加
熱制御することができるようになる。
第二の特徴としては、検知素子18を直接に被加熱物に
挿入しないで、被加熱物の温度変化をとらえる、いわゆ
る間接検知方式であるので、被加熱物の形くずれを生ず
ることがないことである。
挿入しないで、被加熱物の温度変化をとらえる、いわゆ
る間接検知方式であるので、被加熱物の形くずれを生ず
ることがないことである。
第三の特徴としては、風路の特異性をあげることができ
る。
る。
すなわち、前述のごとく吸気開口部15を複数個,有し
ていることである。
ていることである。
これにより、回転受皿10に載置されて回動している状
態における被加熱物の加熱進行状況を種々の経路をたど
って空洞3内へ導入される風で必ずとらえることができ
、確実な制御が行なえるようになる。
態における被加熱物の加熱進行状況を種々の経路をたど
って空洞3内へ導入される風で必ずとらえることができ
、確実な制御が行なえるようになる。
この確実性をさらに向上させるには、前述の基軸X−X
′に対して吸気開口部15をふりわけるとか、さらに略
対称にふりわけるという工夫をすれば、空洞内の気流の
分布を一様にすることができ、改善が計られる。
′に対して吸気開口部15をふりわけるとか、さらに略
対称にふりわけるという工夫をすれば、空洞内の気流の
分布を一様にすることができ、改善が計られる。
以上、本発明によれば、被加熱物の種類、重量初温によ
らず、被加熱物を形くずれさせることもなく被加熱物を
加熱制御することができ、しかもその手段を確実に構成
できる高周波加熱装置を提供することができる。
らず、被加熱物を形くずれさせることもなく被加熱物を
加熱制御することができ、しかもその手段を確実に構成
できる高周波加熱装置を提供することができる。
なお、実施例においては、空洞を通る気流の温度変化を
とらえてマグネトロンの発振を制御する構成のものを提
示したが、必ずしも係る構成に限定されることはなく、
例えば被加熱物から発生する水蒸気による気流の湿度変
化等の他の物理変化を用いて、マグネトロンの発振を制
御して被加熱物の加熱制御を行なう構成のものにおいて
も本発明の思想を適用することができることはいうまで
もない。
とらえてマグネトロンの発振を制御する構成のものを提
示したが、必ずしも係る構成に限定されることはなく、
例えば被加熱物から発生する水蒸気による気流の湿度変
化等の他の物理変化を用いて、マグネトロンの発振を制
御して被加熱物の加熱制御を行なう構成のものにおいて
も本発明の思想を適用することができることはいうまで
もない。
第1図は本発明に係る高周波加熱装置の斜視図であり、
第2図はその要部縦断面略図であり、第3図はその要部
横断面図である。 3・・・空洞、10・・・回転受皿、15・・・吸気開
口部、16・・・排気開口部、18・・・検知素子。
第2図はその要部縦断面略図であり、第3図はその要部
横断面図である。 3・・・空洞、10・・・回転受皿、15・・・吸気開
口部、16・・・排気開口部、18・・・検知素子。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 被加熱物を収納する空洞3を有し、該空洞3には被
加熱物を載置して回動する回転受皿10を有し、さらに
該空洞3には気流を通じる吸気開口部15及び排気開口
部16を有し、該排気開口部16の近傍には気流の物理
変化を検知する検知素子18を備えるとともに、吸気開
口部15を複数個備えていることを特徴とする高周波加
熱装置。 2 特許請求の範囲第1項において、該吸気開口部15
は回転受皿10の回転軸に直交する空洞30幅もしくは
奥行き方向の基軸X−でに対してふりわけて配置したこ
とを特徴とする高周波加熱装置。 3 特許請求の範囲第2項において、吸気開口部15は
空洞3の基軸X−yに対して略対称にふりわけだことを
特徴とする高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4174177A JPS583170B2 (ja) | 1977-04-12 | 1977-04-12 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4174177A JPS583170B2 (ja) | 1977-04-12 | 1977-04-12 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS53126540A JPS53126540A (en) | 1978-11-04 |
| JPS583170B2 true JPS583170B2 (ja) | 1983-01-20 |
Family
ID=12616839
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4174177A Expired JPS583170B2 (ja) | 1977-04-12 | 1977-04-12 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS583170B2 (ja) |
-
1977
- 1977-04-12 JP JP4174177A patent/JPS583170B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS53126540A (en) | 1978-11-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10132505B2 (en) | Cooking appliance and method of controlling the same | |
| US4115678A (en) | Microwave oven | |
| TWI535337B (zh) | High frequency heating device | |
| JPS583170B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS5841412B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS5926210B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS583173B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS5821180B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS583171B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS5817375B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS583174B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS5828500B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS5821182B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS598723B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS5852125B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS587138B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS5819004B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS5847612B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS5826500B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS5830507B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS5821181B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS5931653B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS5817376B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS5920931B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS5930965B2 (ja) | 高周波加熱装置 |