JPS583400A - 圧電振動子の製造方法 - Google Patents
圧電振動子の製造方法Info
- Publication number
- JPS583400A JPS583400A JP56100927A JP10092781A JPS583400A JP S583400 A JPS583400 A JP S583400A JP 56100927 A JP56100927 A JP 56100927A JP 10092781 A JP10092781 A JP 10092781A JP S583400 A JPS583400 A JP S583400A
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- JP
- Japan
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- piezoelectric element
- diaphragm
- plating
- element substrate
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04R—LOUDSPEAKERS, MICROPHONES, GRAMOPHONE PICK-UPS OR LIKE ACOUSTIC ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS; ELECTRIC HEARING AIDS; PUBLIC ADDRESS SYSTEMS
- H04R17/00—Piezoelectric transducers; Electrostrictive transducers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Piezo-Electric Transducers For Audible Bands (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は圧電振動子の製造方法C二係り、特I:圧電
素子の電極と振動板を一体的I:形成する方法6;関す
る。
素子の電極と振動板を一体的I:形成する方法6;関す
る。
従来ノ圧電ブザー等C二用いられる圧電振動子の製造組
立工程の代表的な例を第1図を用いて説明すると次のと
おりである。まず1w11図G)に示すように、セラミ
ック圧電集子基板II:は予めスクリーン印刷方法等に
より電極層11 。
立工程の代表的な例を第1図を用いて説明すると次のと
おりである。まず1w11図G)に示すように、セラミ
ック圧電集子基板II:は予めスクリーン印刷方法等に
より電極層11 。
21を塗布し、これを800″′C前後の温度で電極焼
付後、高電界中にて分極処理を維す、そして、真空吸着
治具J Cて保持された薄板金属からなる振動板41:
ディスペン葉方式等により接着剤5をのせ、その上部の
位置になるようclQ記セラミック田電素子基板1を真
空吸着治具6I:で保持配設し、真空吸着治具6そのも
ので矢印方向I:押え付けて圧電素子基板1と振動板4
とを接着する。この場合、セラミック圧電素子基板1と
振動板4とを接着する。この場合、セラミック圧電素子
基板1と振動板4とを相対的に回転を加えながら圧下す
ることにより、良好な接着状態を得ることも提案されて
いる(実開昭52−33277号)。七の後第1図0「
:示すように半田付法によりセラミック圧電素子基板1
の電極層2.及び振動板4の表面(あるいは裏ji)か
ら外部接続線’ls’l をとり出して完成する。
付後、高電界中にて分極処理を維す、そして、真空吸着
治具J Cて保持された薄板金属からなる振動板41:
ディスペン葉方式等により接着剤5をのせ、その上部の
位置になるようclQ記セラミック田電素子基板1を真
空吸着治具6I:で保持配設し、真空吸着治具6そのも
ので矢印方向I:押え付けて圧電素子基板1と振動板4
とを接着する。この場合、セラミック圧電素子基板1と
振動板4とを接着する。この場合、セラミック圧電素子
基板1と振動板4とを相対的に回転を加えながら圧下す
ることにより、良好な接着状態を得ることも提案されて
いる(実開昭52−33277号)。七の後第1図0「
:示すように半田付法によりセラミック圧電素子基板1
の電極層2.及び振動板4の表面(あるいは裏ji)か
ら外部接続線’ls’l をとり出して完成する。
ところがこのような従来の製造組立工程では。
セラミック圧電素子基板の電極面及び振動板の接着剤が
塗付される反対面側C二機械的な力による圧接や回転1
:より圧痕や傷を与え、極端な場合はセラミック圧電素
子基板がかけたりして歩留りの低下をまねいていた。ま
たドクタブレード法等により製作される0、05〜0.
15−と薄いセラミック圧電素子基板は製造プロセス中
にそりが生じているため、セラミック圧電素子基板間に
空気層を生じさせたりしてお互いの密着性を悪くシ、ま
た吸着力のアンバランスにより上記したようI:電a聞
及び振動板面I:傷を与え、圧電ブザーとしての奮11
%性をさげ、さらに使用するときI:外部接続線が必要
となるなど不具合な点があった。
塗付される反対面側C二機械的な力による圧接や回転1
:より圧痕や傷を与え、極端な場合はセラミック圧電素
子基板がかけたりして歩留りの低下をまねいていた。ま
たドクタブレード法等により製作される0、05〜0.
15−と薄いセラミック圧電素子基板は製造プロセス中
にそりが生じているため、セラミック圧電素子基板間に
空気層を生じさせたりしてお互いの密着性を悪くシ、ま
た吸着力のアンバランスにより上記したようI:電a聞
及び振動板面I:傷を与え、圧電ブザーとしての奮11
%性をさげ、さらに使用するときI:外部接続線が必要
となるなど不具合な点があった。
この発明は上記の点I:かんがみなされたもので、簡単
な製作組立て工程で、しかも歩留り向上、信頼性向上、
及び青畳特性の向上を可能とした圧電振動子の製造方法
を提供するものである。
な製作組立て工程で、しかも歩留り向上、信頼性向上、
及び青畳特性の向上を可能とした圧電振動子の製造方法
を提供するものである。
すなわち1本発明は圧電素子基板の一方の面に七の外径
よりわずかに小さい径の貫通孔な有する絶縁板を接着し
、メッキを施してslおよび!#!2の電極層を形成す
る。この場合第1の電極層は、絶縁板と一体化して振動
板を兼ね、また絶縁板の貫通孔を通して圧電素子基板の
一方の面に接触することになる。本発明I:よれば。
よりわずかに小さい径の貫通孔な有する絶縁板を接着し
、メッキを施してslおよび!#!2の電極層を形成す
る。この場合第1の電極層は、絶縁板と一体化して振動
板を兼ね、また絶縁板の貫通孔を通して圧電素子基板の
一方の面に接触することになる。本発明I:よれば。
素子の電極と絶縁板が内在する薄板金属の振動板とを同
時?二構成するから製造工程が簡単であり、しかも従来
のように接着剤を用いて加圧して振動板と圧電素子基板
を接着する方法に比べて歩留り向上、(ii1m性向上
が図られ、また青畳特性の向上が図られる。
時?二構成するから製造工程が簡単であり、しかも従来
のように接着剤を用いて加圧して振動板と圧電素子基板
を接着する方法に比べて歩留り向上、(ii1m性向上
が図られ、また青畳特性の向上が図られる。
以下この発明の実施例を第2図を参照して説明する。ま
ず、電極を形成してない所定形状のセラミック圧電素子
基板1)を用意し、また最終製品となるときの圧電ブザ
振動板外径より大イミドフィルム)を用意する。絶縁板
12にはセラミック圧電素子基板11’f)外径より小
さめの貫通孔IIを設けておき、その周辺に転写技術す
なわちスタンピング方法1二よりセラミック圧電素子基
板11の外径よりわずかI:小さく接着剤を均−1二塗
布する。通常この接着剤を塗布する範囲は、接着剤の乾
燥硬化時に粘度係数が低下し広がる軸向があるため、セ
ラミック圧電素子1板11の外径の10パーセント減が
よい。
ず、電極を形成してない所定形状のセラミック圧電素子
基板1)を用意し、また最終製品となるときの圧電ブザ
振動板外径より大イミドフィルム)を用意する。絶縁板
12にはセラミック圧電素子基板11’f)外径より小
さめの貫通孔IIを設けておき、その周辺に転写技術す
なわちスタンピング方法1二よりセラミック圧電素子基
板11の外径よりわずかI:小さく接着剤を均−1二塗
布する。通常この接着剤を塗布する範囲は、接着剤の乾
燥硬化時に粘度係数が低下し広がる軸向があるため、セ
ラミック圧電素子1板11の外径の10パーセント減が
よい。
セして、セラミック圧電素子基板11を真空吸着方法等
により吸着保持し、上記した薄板絶縁l1112の中央
部の貫通孔13の周辺に髄付された接着剤部に1図示し
ないがキャリアス穴を基準1ニして位置決めを行ない、
セラミック圧電素子基板11と薄板絶縁板12との仮接
着を行ない、接着剤を乾燥硬化し、(a)C示すように
、セラミック圧電素子基板11と薄板絶縁板12を接着
する。次に接着固定されたセラミック圧電素子基板11
と薄板絶縁板12を無電解メッキ工程ζ二て、メッキ槽
I:所定時間浸せきし、(ハ)に示すよう■二、セラミ
ック圧電素子基板11の第1、In2の電極層14.I
Sを形成する。このとき薄板絶縁板12も全面に同一厚
さにメッキが施される。I82の電極層1jは5〜20
4mと趣くてよいので、その厚みまでm−同時にメッキ
を行ったのち、第2の電極層15部分をマスキングする
かまたはメッキf&面より浮かすなどして、IJlの電
極層14が所定長さになるまでメッキを行なえば、(C
)−二示すように、第l1、$2の電極層14.18と
絶縁板71により圧電プデの音智特性I:応じた振動板
が形成されることになる1次I:薄板絶縁板12をEl
:亀ブザの前会特性に応じ−”だ形6;成形する打抜き
工程を経て、(句に示すようC:最終製品形状の圧電ブ
デI:する、その後、得られた圧電ブザの半製品に圧電
性をもたせるため高電界中5二て分極処理を行なう、こ
のようにして圧電性を有した所定の圧電プデが製作納豆
されることになる。
により吸着保持し、上記した薄板絶縁l1112の中央
部の貫通孔13の周辺に髄付された接着剤部に1図示し
ないがキャリアス穴を基準1ニして位置決めを行ない、
セラミック圧電素子基板11と薄板絶縁板12との仮接
着を行ない、接着剤を乾燥硬化し、(a)C示すように
、セラミック圧電素子基板11と薄板絶縁板12を接着
する。次に接着固定されたセラミック圧電素子基板11
と薄板絶縁板12を無電解メッキ工程ζ二て、メッキ槽
I:所定時間浸せきし、(ハ)に示すよう■二、セラミ
ック圧電素子基板11の第1、In2の電極層14.I
Sを形成する。このとき薄板絶縁板12も全面に同一厚
さにメッキが施される。I82の電極層1jは5〜20
4mと趣くてよいので、その厚みまでm−同時にメッキ
を行ったのち、第2の電極層15部分をマスキングする
かまたはメッキf&面より浮かすなどして、IJlの電
極層14が所定長さになるまでメッキを行なえば、(C
)−二示すように、第l1、$2の電極層14.18と
絶縁板71により圧電プデの音智特性I:応じた振動板
が形成されることになる1次I:薄板絶縁板12をEl
:亀ブザの前会特性に応じ−”だ形6;成形する打抜き
工程を経て、(句に示すようC:最終製品形状の圧電ブ
デI:する、その後、得られた圧電ブザの半製品に圧電
性をもたせるため高電界中5二て分極処理を行なう、こ
のようにして圧電性を有した所定の圧電プデが製作納豆
されることになる。
この実施例によれば、従来生じていた機械的な力による
圧痕や傷を与えるプロセスは皆無となり、従ってまたセ
ラミック圧電素子基板が割れることもなく1歩留りが向
tするととも(二音響特性も向上するとと(二なる。さ
らにセラミック圧電素子基板と振動板間I:空気層を生
じさせることもないので密着性は飛躍的1:向上する。
圧痕や傷を与えるプロセスは皆無となり、従ってまたセ
ラミック圧電素子基板が割れることもなく1歩留りが向
tするととも(二音響特性も向上するとと(二なる。さ
らにセラミック圧電素子基板と振動板間I:空気層を生
じさせることもないので密着性は飛躍的1:向上する。
また振動板部の両主面は電極端子として利用が可能とな
り、上下方向からはさむようにして外部導出用接続線を
かねた支持構造(ニすれば外部導出用接続線は不要とな
る。この結果、半田付は作業も不要となるから0!i軸
性も向上する。ざら6二はこのような製造方法によれば
流れ生産方式の採用が容易となりIi麺性がはかられ低
コストの圧電ブザが得られるという実用的効果が得られ
る。
り、上下方向からはさむようにして外部導出用接続線を
かねた支持構造(ニすれば外部導出用接続線は不要とな
る。この結果、半田付は作業も不要となるから0!i軸
性も向上する。ざら6二はこのような製造方法によれば
流れ生産方式の採用が容易となりIi麺性がはかられ低
コストの圧電ブザが得られるという実用的効果が得られ
る。
なお、圧電振動子には種々の形状、材料のものがあるが
、この発明はそのいづれも適用して同様の効果が得られ
る。また圧電素子基板の分極処理はメッキ工程前に1例
えば所定形状に切断加工する前に予め行っておいてもよ
い。
、この発明はそのいづれも適用して同様の効果が得られ
る。また圧電素子基板の分極処理はメッキ工程前に1例
えば所定形状に切断加工する前に予め行っておいてもよ
い。
181図は従来の圧m*動子の接着組立方法を示す説明
図、IJ2図(a)〜61)はこの発明の一実施例を示
す説明図である。 11・・・セラミック圧電素子基板、12・・・絶縁板
、13・・・隻通孔、14・・・mlの電極層、xi・
・・第2の電極層。 出願人代理人 弁理土鈴 江 武 彦
図、IJ2図(a)〜61)はこの発明の一実施例を示
す説明図である。 11・・・セラミック圧電素子基板、12・・・絶縁板
、13・・・隻通孔、14・・・mlの電極層、xi・
・・第2の電極層。 出願人代理人 弁理土鈴 江 武 彦
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (υ 圧電素子基板の一方の1iliI:その外径より
わずか区;小さい径の貫通孔を有する絶縁板を接着し、
メッキを施して前記絶縁板と一体化してその貫通孔を介
して前記圧電素子基板の一方の−I:接触する振動板を
兼ねた第1の電極層を形成すると共I:、IiJ記圧電
素子基板の他方の−にs2の電極層を形成することを特
徴とする圧電縁動子の製造方法。 (2)IIIおよび162の電極層は、無電解メッキ一
二より同時喀;所定の厚gl二形成した後、Illの電
極層側表面に選択的1;メッキを行ない振動板を兼ねる
slの電極層を犀くするようI:した特許請求の範@U
IJ1項記載の圧電振動子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56100927A JPS583400A (ja) | 1981-06-29 | 1981-06-29 | 圧電振動子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56100927A JPS583400A (ja) | 1981-06-29 | 1981-06-29 | 圧電振動子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS583400A true JPS583400A (ja) | 1983-01-10 |
Family
ID=14286979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56100927A Pending JPS583400A (ja) | 1981-06-29 | 1981-06-29 | 圧電振動子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS583400A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63260195A (ja) * | 1987-04-17 | 1988-10-27 | 飯沼 博通 | プリント基板等の製造方法 |
| JP2022030087A (ja) * | 2020-08-06 | 2022-02-18 | Tdk株式会社 | 振動デバイス |
-
1981
- 1981-06-29 JP JP56100927A patent/JPS583400A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63260195A (ja) * | 1987-04-17 | 1988-10-27 | 飯沼 博通 | プリント基板等の製造方法 |
| JP2022030087A (ja) * | 2020-08-06 | 2022-02-18 | Tdk株式会社 | 振動デバイス |
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