JPS5835171A - インド−ルの改良された製造方法 - Google Patents
インド−ルの改良された製造方法Info
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- JPS5835171A JPS5835171A JP56132096A JP13209681A JPS5835171A JP S5835171 A JPS5835171 A JP S5835171A JP 56132096 A JP56132096 A JP 56132096A JP 13209681 A JP13209681 A JP 13209681A JP S5835171 A JPS5835171 A JP S5835171A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
- C07D209/04—Indoles; Hydrogenated indoles
- C07D209/08—Indoles; Hydrogenated indoles with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
らインドールを製造する方法に関する。
更に詳しくは、アニリンとエチレングリコールとから触
媒の存在下、インドールを製造するに際し、原料の１つ
であるエチレングリコールの触媒層への供給方法に関す
る。
媒の存在下、インドールを製造するに際し、原料の１つ
であるエチレングリコールの触媒層への供給方法に関す
る。
インドールは化学工業原料として知られ、特に近年、香
料やアミノ酸合成原料として重要な物質となってきてい
る。
料やアミノ酸合成原料として重要な物質となってきてい
る。
従来、インドールを合成しようという試みはいくつかあ
ったがいずれも副生物が多いものや、原料的にみて高価
なものが多く、またインドールに至るまでの工程が長く
、操作が煩雑なものが多かった。しかし、最近に至り、
安価な原料を用い、且つ一段の工程でインドールを合成
する方法として、アニリンとエチレングリコールとを原
料とする方法が見い出された。アニリンとエチレングリ
コールどからインドールを合成する反応の触媒としては
、踵々の固体酸触媒や金属触媒が提案されている。本発
明者らの知見では提案されている種々の触媒を用いて、
アニリンとエチレングリコールどからインドールを合成
する際、インド→を収率良（得るには、エチレングリコ
ールに対して大過剰のアニリンを触媒層に供給すること
が必要である。したがってこの方法でインドールを製造
する場合は、得られる反応混合物に含まれる多量のアニ
リンを分離、回収する必要がある。そのために、過大な
分離回収装置と多量のエネルギーが必要であるという問
題点があった。
ったがいずれも副生物が多いものや、原料的にみて高価
なものが多く、またインドールに至るまでの工程が長く
、操作が煩雑なものが多かった。しかし、最近に至り、
安価な原料を用い、且つ一段の工程でインドールを合成
する方法として、アニリンとエチレングリコールとを原
料とする方法が見い出された。アニリンとエチレングリ
コールどからインドールを合成する反応の触媒としては
、踵々の固体酸触媒や金属触媒が提案されている。本発
明者らの知見では提案されている種々の触媒を用いて、
アニリンとエチレングリコールどからインドールを合成
する際、インド→を収率良（得るには、エチレングリコ
ールに対して大過剰のアニリンを触媒層に供給すること
が必要である。したがってこの方法でインドールを製造
する場合は、得られる反応混合物に含まれる多量のアニ
リンを分離、回収する必要がある。そのために、過大な
分離回収装置と多量のエネルギーが必要であるという問
題点があった。
本溌明者らは、反応装置に供給するエチレングリコール
に対するアニリンのモル比とインドールの収率との関係
を詳細に検討した結果、後記の参考例に示すようにアニ
リンのモル比を太き（するにしたがって、エチレングリ
コール基準のインドール収率が増加することを見い出し
た。
に対するアニリンのモル比とインドールの収率との関係
を詳細に検討した結果、後記の参考例に示すようにアニ
リンのモル比を太き（するにしたがって、エチレングリ
コール基準のインドール収率が増加することを見い出し
た。
また、液状およびガス状反応生成物の分析から、アニリ
ンとエチレングリコールは（１）式によりインドールを
生成するが、（１５式の反応に併発して（２）式による
エチレングリコールの分解反応が起っていることを見い
出した。
ンとエチレングリコールは（１）式によりインドールを
生成するが、（１５式の反応に併発して（２）式による
エチレングリコールの分解反応が起っていることを見い
出した。
Ｈ００Ｈ２０Ｈ２０Ｈ−−→２００＋！ｌＨ２（２）こ
の（２）１式による反応はアニリンのモル比が小さい程
、より多く起る。その結果、インドールの収率が低下す
ることが判明した。
の（２）１式による反応はアニリンのモル比が小さい程
、より多く起る。その結果、インドールの収率が低下す
ることが判明した。
アニリンのモル比が小さいと（２）式の反応が起り易く
、（１）式の反応が抑えられる原因としては、っぎのよ
うなことが考えられる。まず第１に、（１）式のアニリ
ンとエチレングリコールの関与する反応と、（２）式の
エチレングリコールのみが関与する反応とは、反応系の
それぞれの分圧に左右され、ア＝ ＩＪンのモル比が小
さいと反応系でのアニリンの分圧が減少し、逆にエチレ
ンの分圧が上昇するので、（１）式の反応にくらべ（２
）式の反応が起り易くなると考えられることである。第
２に、第１の原因にも増して重要なこととして、反応条
件下で（１）式の反応は４ｏ〜ｓ□ｘｃα１の発熱反応
であり、（２）式の反応は４ｏ〜５ｏＫ′ｃｃＬ−１の
吸熱反応であるため、アニリンのモル比が小さいと、エ
チレングリコール濃度の高い触媒層入口部分で（１）式
の反応による発熱が起り、局部的に温度の高い領域（い
わゆるヒートスポット）が形成される。その結果、その
ようなヒートスポットにおいて、吸熱反応である（２）
式の反応が促進されると考えられる。したがって、エチ
レングリコール濃度が高い程、すなわちアニリンモル比
が小さい程、このようなヒートスポットが出来易くなり
、（２）式の分解反応が多く起りインドール収率が低下
すると考えられることである。
、（１）式の反応が抑えられる原因としては、っぎのよ
うなことが考えられる。まず第１に、（１）式のアニリ
ンとエチレングリコールの関与する反応と、（２）式の
エチレングリコールのみが関与する反応とは、反応系の
それぞれの分圧に左右され、ア＝ ＩＪンのモル比が小
さいと反応系でのアニリンの分圧が減少し、逆にエチレ
ンの分圧が上昇するので、（１）式の反応にくらべ（２
）式の反応が起り易くなると考えられることである。第
２に、第１の原因にも増して重要なこととして、反応条
件下で（１）式の反応は４ｏ〜ｓ□ｘｃα１の発熱反応
であり、（２）式の反応は４ｏ〜５ｏＫ′ｃｃＬ−１の
吸熱反応であるため、アニリンのモル比が小さいと、エ
チレングリコール濃度の高い触媒層入口部分で（１）式
の反応による発熱が起り、局部的に温度の高い領域（い
わゆるヒートスポット）が形成される。その結果、その
ようなヒートスポットにおいて、吸熱反応である（２）
式の反応が促進されると考えられる。したがって、エチ
レングリコール濃度が高い程、すなわちアニリンモル比
が小さい程、このようなヒートスポットが出来易くなり
、（２）式の分解反応が多く起りインドール収率が低下
すると考えられることである。
本発明者らは、このような考察に基づき、インドール収
率な落さず且つ反応器出口のインドール濃度を上げる方
法について鋭意検討した結果、触媒層を多段に分割し、
それらを直列に連結し、原料であるエチレングリコール
を各段に分割して供給すると、インドール収率を落さず
、且つ直列に連結した触媒層出口のインドール濃度を高
（できることを見い出し本発明の方法に至った。
率な落さず且つ反応器出口のインドール濃度を上げる方
法について鋭意検討した結果、触媒層を多段に分割し、
それらを直列に連結し、原料であるエチレングリコール
を各段に分割して供給すると、インドール収率を落さず
、且つ直列に連結した触媒層出口のインドール濃度を高
（できることを見い出し本発明の方法に至った。
すなわち、本発明（ｉ、アニリンとエチレングリコール
を気相で、触媒の存在下反応させてインドールを製造す
るに際し−〔、エチレングリコールを触媒層を通過する
反応ガスの方向に沿って分割して供給するインドールの
製造方法である。
を気相で、触媒の存在下反応させてインドールを製造す
るに際し−〔、エチレングリコールを触媒層を通過する
反応ガスの方向に沿って分割して供給するインドールの
製造方法である。
本発明の方法によると、反応器に供給する原料のアニリ
ンのエチレングリコールに対するモル比が小さくても、
触媒層内のエチレングリコール濃度の分布が平準化され
るので、局所的なヒートスポットの形成が抑制される結
果、（２）式の反応によるエチレングリコールの分解が
抑制され、インドール収率が低下しないという効果が得
られる。
ンのエチレングリコールに対するモル比が小さくても、
触媒層内のエチレングリコール濃度の分布が平準化され
るので、局所的なヒートスポットの形成が抑制される結
果、（２）式の反応によるエチレングリコールの分解が
抑制され、インドール収率が低下しないという効果が得
られる。
また、反応器に供給されるアニリンのモル比を小さく出
来るので、反応器出口のインドール濃度を高めることが
でき、反応液から分離回収すべきアニリシ量を減らすこ
とが出来る。
来るので、反応器出口のインドール濃度を高めることが
でき、反応液から分離回収すべきアニリシ量を減らすこ
とが出来る。
本発明方法の対象となるインドールの製造方法は、固体
酸触媒または金属触媒の存在下、アニリンとインドール
とを反応させる方法である。この方法に′おいて用いら
れる固体酸触媒としては、（１）３Ａ八Ｂ、 ８．、、
Ｂｊ、、８ｘ ｐ４ （Ｃ，’ｒ＝、 Ｚ １、Ｂ４
． Ｍ、 Ｙ、ｃ２Ａ％ Ｚ７１． Ｃｄおよびランタ
ナイド元素から選ばれた少（とも１種の元素の酸化物ま
たは水酸化物（以下、棹媒物質（１）と称する）を含有
する触媒、例えば、ＣＪｄＱ、Ｚ？ＬＯ−＆６ｚＯ−Ｐ
４０２．Ａｌ２０３Ｂ２０３．５＝ｏ３０ｄｄ。
酸触媒または金属触媒の存在下、アニリンとインドール
とを反応させる方法である。この方法に′おいて用いら
れる固体酸触媒としては、（１）３Ａ八Ｂ、 ８．、、
Ｂｊ、、８ｘ ｐ４ （Ｃ，’ｒ＝、 Ｚ １、Ｂ４
． Ｍ、 Ｙ、ｃ２Ａ％ Ｚ７１． Ｃｄおよびランタ
ナイド元素から選ばれた少（とも１種の元素の酸化物ま
たは水酸化物（以下、棹媒物質（１）と称する）を含有
する触媒、例えば、ＣＪｄＱ、Ｚ？ＬＯ−＆６ｚＯ−Ｐ
４０２．Ａｌ２０３Ｂ２０３．５＝ｏ３０ｄｄ。
Ｓ ｂ ０２ Ａ １２０３、ＳＬＱ２−ＪＭｆＯ，Ｔ
ｊ、Ｏｚ Ｓ？ＬＯ２、Ｔ Ａ ０２ （１０２、Ｏｄ
叶Ｂ １ｒ２０３．８．ｉ、０２−Ｙ２Ｏ２，８ＬＯｒ
Ｂ＃２０３Ｂ４０．５ｉＯ２−Ｃ＊ｎｚＯ３，８ｉＪＯ
ａ ＬｃＬ２０３．８Ａ０２代４２０３．５ｉ０２
Ｚφ−リＯ１Ｓお０２→リドへＯ等をあげることができ
る。また、（２）Ｐｄ、、Ｐ、ｔ、Ｏｒ、Ｆ、、、ＮＬ
、ｏケ、２７１． Ｍｙ、ＯｄおよびＷから選ばれた少
くとも１種の元素の硫化物またはセレン化物（以下、触
媒物質（２）と称する）を含有する触媒、例えばＰｄ８
． Ｐ、ｆ代Ｏｒ Ｓ、 Ｆ ｃ％ Ｎｉ、 ５１０ｔ
ｙ８１ＺｎＳ。
ｊ、Ｏｚ Ｓ？ＬＯ２、Ｔ Ａ ０２ （１０２、Ｏｄ
叶Ｂ １ｒ２０３．８．ｉ、０２−Ｙ２Ｏ２，８ＬＯｒ
Ｂ＃２０３Ｂ４０．５ｉＯ２−Ｃ＊ｎｚＯ３，８ｉＪＯ
ａ ＬｃＬ２０３．８Ａ０２代４２０３．５ｉ０２
Ｚφ−リＯ１Ｓお０２→リドへＯ等をあげることができ
る。また、（２）Ｐｄ、、Ｐ、ｔ、Ｏｒ、Ｆ、、、ＮＬ
、ｏケ、２７１． Ｍｙ、ＯｄおよびＷから選ばれた少
くとも１種の元素の硫化物またはセレン化物（以下、触
媒物質（２）と称する）を含有する触媒、例えばＰｄ８
． Ｐ、ｆ代Ｏｒ Ｓ、 Ｆ ｃ％ Ｎｉ、 ５１０ｔ
ｙ８１ＺｎＳ。
Ｍ、Ｓ２、Ｏｄｄ、ＷＳａ、ＺユＳ、、ＯｄＳ、等をあ
げることができる、また（３） Ｆ４ Ｔ、Ｌ、ａ、、
、 Ｍｙ、、 Ｂｉ、Ｓｒ、Ｙ、ＡムＺ、 Ｃｄ、Ｎ＝
、 Ｍ、、Ｉ７１． Ｂ４０ｅｒ、Ｇ４およびランタナ
イド元素から選ばれた少くとも１種の元素の無機塩、す
なわちハロゲン化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、りん酸
塩、ビロリン酸塩、りんモリブデン酸塩、けいタングス
テン酸塩（以下触媒物質（３）と称する）を含有する触
媒、例えば、硫酸第２鉄、硫酸タリウム、硫酸カルシウ
ム、硫酸マンガン、硫酸ビスマス、硫酸ストロンチウム
、硫酸イツトリウム、臭化カドミウム、硫酸アルミニウ
ム、硫酸亜鉛、硫酸ニッケル、塩化カドミウム、硫酸マ
グネシウム、硫酸インジウム、硫酸ベリリウム、硝酸カ
ドミ、ラム、硫酸コバルト、硫酸アルミニウム亜鉛、塩
化マグネシウム、硫酸カドミウム、りん酸カドミウム、
等をあげることができる。
げることができる、また（３） Ｆ４ Ｔ、Ｌ、ａ、、
、 Ｍｙ、、 Ｂｉ、Ｓｒ、Ｙ、ＡムＺ、 Ｃｄ、Ｎ＝
、 Ｍ、、Ｉ７１． Ｂ４０ｅｒ、Ｇ４およびランタナ
イド元素から選ばれた少くとも１種の元素の無機塩、す
なわちハロゲン化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、りん酸
塩、ビロリン酸塩、りんモリブデン酸塩、けいタングス
テン酸塩（以下触媒物質（３）と称する）を含有する触
媒、例えば、硫酸第２鉄、硫酸タリウム、硫酸カルシウ
ム、硫酸マンガン、硫酸ビスマス、硫酸ストロンチウム
、硫酸イツトリウム、臭化カドミウム、硫酸アルミニウ
ム、硫酸亜鉛、硫酸ニッケル、塩化カドミウム、硫酸マ
グネシウム、硫酸インジウム、硫酸ベリリウム、硝酸カ
ドミ、ラム、硫酸コバルト、硫酸アルミニウム亜鉛、塩
化マグネシウム、硫酸カドミウム、りん酸カドミウム、
等をあげることができる。
さらに、金属触媒としては、Ｏ，Ａ％ Ｐノ、１１＜７
′、Ｎ＝、０、、Ｆ−ｃ、Ｉｙ、０３．Ｒ，、およびＲ
ｉかも選ばれた少くとも１種の元素（以下触媒物質（４
）と称する）を含有する触媒をあげることができる。
′、Ｎ＝、０、、Ｆ−ｃ、Ｉｙ、０３．Ｒ，、およびＲ
ｉかも選ばれた少くとも１種の元素（以下触媒物質（４
）と称する）を含有する触媒をあげることができる。
これらの触媒の中で、各群で最も好ましく使用されるも
のは、触媒物質（１）の群では、ｓ Ｌｏ２− ｚ？１
．。
のは、触媒物質（１）の群では、ｓ Ｌｏ２− ｚ？１
．。
）−ｇｏ、触媒物質（２）の群では硫化カドミウム、触
媒物質（３）の群では硫化カドミウムであり、また、金
属触媒の中では、比表面積の大きな担体に担持したＡ、
である。
媒物質（３）の群では硫化カドミウムであり、また、金
属触媒の中では、比表面積の大きな担体に担持したＡ、
である。
これらの固体酸触媒または金属触媒は、公知任意の方法
により製造することができる。すなわち固体酸触媒のう
ち触媒物質（１）は、触媒構成元素の水可溶性塩を加水
分解して水酸化物とし、得られたゲルを乾燥、焼成する
方法、または、易分解性塩を空気中で熱分解する方法等
により製造することｔＪ５できる。
により製造することができる。すなわち固体酸触媒のう
ち触媒物質（１）は、触媒構成元素の水可溶性塩を加水
分解して水酸化物とし、得られたゲルを乾燥、焼成する
方法、または、易分解性塩を空気中で熱分解する方法等
により製造することｔＪ５できる。
固体酸触媒のうち触媒物質（２）は、触媒構成元素の水
可溶性塩に硫化ナトリウムまたはセレン化カリウムを加
える方法、または、触媒構成元素またはその塩を硫化水
素ガスまたはセレン化水素ガスと接触させる方法等によ
り製造することができる。
可溶性塩に硫化ナトリウムまたはセレン化カリウムを加
える方法、または、触媒構成元素またはその塩を硫化水
素ガスまたはセレン化水素ガスと接触させる方法等によ
り製造することができる。
さらに、金属触媒である触媒物質（４）は、触媒構成元
素の塩、水酸化物、または酸化物を水素、ホルマリン、
ギ酸、亜りん酸、ヒドラジン等の還元剤で還元する方法
等により製造できる。
素の塩、水酸化物、または酸化物を水素、ホルマリン、
ギ酸、亜りん酸、ヒドラジン等の還元剤で還元する方法
等により製造できる。
これらの固体酸触媒または金属触媒は、前記の触媒物質
（１）、（２）、（３）、（４）をそれぞれ単独、ある
いは２種以上混合したもの、またはそれらを担体に担持
したものであっても良い。担体としては、一般に使用さ
れているものがいずれも使用できるが通常、ケイソウ土
、軽石、チタニア、シリカ−アルミナ、アルミナ、マグ
ネシア、シリカゲル、活性炭、活性白土、石綿等が用い
られる。これらの担体に前記触媒物質を常法により担持
させて担持触媒を調製する。前記触媒物質の担体に対す
る担持量にはとくに制限はなく通常、担体に応じて適当
量、たとえば１〜５０チの前記触媒物質を担持させてよ
い。
（１）、（２）、（３）、（４）をそれぞれ単独、ある
いは２種以上混合したもの、またはそれらを担体に担持
したものであっても良い。担体としては、一般に使用さ
れているものがいずれも使用できるが通常、ケイソウ土
、軽石、チタニア、シリカ−アルミナ、アルミナ、マグ
ネシア、シリカゲル、活性炭、活性白土、石綿等が用い
られる。これらの担体に前記触媒物質を常法により担持
させて担持触媒を調製する。前記触媒物質の担体に対す
る担持量にはとくに制限はなく通常、担体に応じて適当
量、たとえば１〜５０チの前記触媒物質を担持させてよ
い。
本発明のインドールの製造方法において、アニリンとエ
チレングリコールとの反応は、前記の触媒の存在下、気
相で実施し、反応器の形式は固定床、流動床または移動
床の〜・、ずれでも良いが、通常、固定床である。
チレングリコールとの反応は、前記の触媒の存在下、気
相で実施し、反応器の形式は固定床、流動床または移動
床の〜・、ずれでも良いが、通常、固定床である。
アニリンとエチレングリコールは、蒸気を加熱下、触媒
と接触させてインドールに転化するが、この際アニリン
とエチレングリコールの蒸気の稀釈剤として、種々の不
活性ガス状物質を共存させることができる。このような
不活性ガス状物質として、例えば、窒素ガス、炭酸ガス
、水蒸気、水素などに挙げることができる。特に水素の
使用は触媒の活性を維持するために好ましい。また、水
蒸気の使用は、エチレングリコールの触媒上での分解を
抑制するので、触媒の活性を維持し、インドールの収率
な上げるために好ましい。
と接触させてインドールに転化するが、この際アニリン
とエチレングリコールの蒸気の稀釈剤として、種々の不
活性ガス状物質を共存させることができる。このような
不活性ガス状物質として、例えば、窒素ガス、炭酸ガス
、水蒸気、水素などに挙げることができる。特に水素の
使用は触媒の活性を維持するために好ましい。また、水
蒸気の使用は、エチレングリコールの触媒上での分解を
抑制するので、触媒の活性を維持し、インドールの収率
な上げるために好ましい。
反応装置に装入するアニリンとエチレングリコールは、
エチレングリコール１モルに対ジチアニリンｔＯ〜１０
０モルの範囲、好ましくは２．０〜５０モルの範囲であ
る。
エチレングリコール１モルに対ジチアニリンｔＯ〜１０
０モルの範囲、好ましくは２．０〜５０モルの範囲であ
る。
７＝ＩＣ／とエチレングリコールは触媒に対する液空間
速度が０．０１〜５１／１！−触媒／ｈｒとなるように
、あらかじめ蒸気状とするか、または液状で直接反応器
に装入する。
速度が０．０１〜５１／１！−触媒／ｈｒとなるように
、あらかじめ蒸気状とするか、または液状で直接反応器
に装入する。
−反応温度は２００〜６００°Ｃの範囲、好ましくは２
５０〜５００°０の範囲である。
５０〜５００°０の範囲である。
反応圧は加圧、常圧または減圧のいずれでも良〜）。
本発明の方法では、以上のようなインドールの製造方法
において、エチレングリコールな触媒層の入口および反
応ガスの流れの方向にいくつか設けた供給口から、エチ
レングリコールを分割して触媒層に供給する。
において、エチレングリコールな触媒層の入口および反
応ガスの流れの方向にいくつか設けた供給口から、エチ
レングリコールを分割して触媒層に供給する。
本発明の方法の要点は、触媒層内のエチレングリコール
濃度を平準化すること、具体的には触媒層内のエチレン
グリコールとアニリンのモル比ｍ（エチレングリコール
１モルに対するアニリンのモル数）の最小値Ｍを、５以
上、好ましくは７以上、より好ましくは１０以上にする
ことにある。
濃度を平準化すること、具体的には触媒層内のエチレン
グリコールとアニリンのモル比ｍ（エチレングリコール
１モルに対するアニリンのモル数）の最小値Ｍを、５以
上、好ましくは７以上、より好ましくは１０以上にする
ことにある。
また、反応液から分離回収すべきアニソ／の量を減らす
ことも本発明の目的なので、反応器に供給するエチレン
グリコールとアニリンのモル比Ａ（分割供給する全エチ
レングリコール１モルに対するアニリンのモル数）は、
５以下、好ましくは３エチレングリコールの分割供給は
、以上述べた条件を満すものであれば、分割供給の数お
よび分割割合について特に限定はない。
ことも本発明の目的なので、反応器に供給するエチレン
グリコールとアニリンのモル比Ａ（分割供給する全エチ
レングリコール１モルに対するアニリンのモル数）は、
５以下、好ましくは３エチレングリコールの分割供給は
、以上述べた条件を満すものであれば、分割供給の数お
よび分割割合について特に限定はない。
分割供給は、反応器の触媒層の原料入口側、および触媒
層の間に反応ガスの流れ方向に沿って１以上に設けられ
た個所（供給口という）から行なう。一般には、触媒層
を直列に２以上に分割し、第１層のガス入口側および各
触媒層の間にエチレングリコール供給口を設け、これら
の供給口から分割されたエチレングリコールを供給する
方法が多用される。
層の間に反応ガスの流れ方向に沿って１以上に設けられ
た個所（供給口という）から行なう。一般には、触媒層
を直列に２以上に分割し、第１層のガス入口側および各
触媒層の間にエチレングリコール供給口を設け、これら
の供給口から分割されたエチレングリコールを供給する
方法が多用される。
エチレングリコールの分割割合は、操作の簡便さから通
常、触媒層入口にアニリンと共に供給する部分も含めて
、全ての供給口に均等に分割される。全ての供給口に均
等に分割して供給する場合の必要な供給口の数ｎは、前
記した条件を満たすために（６）式により算出すること
ができる。
常、触媒層入口にアニリンと共に供給する部分も含めて
、全ての供給口に均等に分割される。全ての供給口に均
等に分割して供給する場合の必要な供給口の数ｎは、前
記した条件を満たすために（６）式により算出すること
ができる。
？Ｌ＞（Ｍ−１）／（Ａ−１） （５）例えば
、Ｍ＝７、Ａ＝３とすると、ｎ ＝ ３となりまたＭ＝
１０、Ａ＝３とすると、九二５となる。
、Ｍ＝７、Ａ＝３とすると、ｎ ＝ ３となりまたＭ＝
１０、Ａ＝３とすると、九二５となる。
したがって、供給口の数は、通常、アニリンと共に触媒
層入口に供給するものも含めて３〜５個となるが、この
数に限定されるものではない、アニリンの一部をエチレ
ングリコールと共に分割供給してもよい。
層入口に供給するものも含めて３〜５個となるが、この
数に限定されるものではない、アニリンの一部をエチレ
ングリコールと共に分割供給してもよい。
以下、実施例により更に具体的に説明する。
実施例１
図−１に示した反応装置を用いて実験を行なった。図中
、■、■、■の内径２５簡のステンレススチール製反応
管に、３〜４闘粒径の触媒を夫々１６ｏｍｌづつ充填し
、直列に連結し反応に供した。
、■、■、■の内径２５簡のステンレススチール製反応
管に、３〜４闘粒径の触媒を夫々１６ｏｍｌづつ充填し
、直列に連結し反応に供した。
触媒は硫化カドミウムを圧縮成形したものである。
導管■より水素ガスを２７１／ｍ１＝ｎで反応管に供給
し触媒層の温度を常温から５５０°Ｃまで、徐々に上げ
６５０°Ｃに保った。アニリンと５５ｗｔ％エチレング
リコール水溶液を夫々７５ｇ／Ｊｔｒ、１６ｇ／Ｊｒで
気化器を経由し、導入管■より反応管■に供給した。６
０分後に、５３ ｗｔ％エチレングリコール水溶液を１
６９７ＪＬｒで気化器を経由して導入管■より供給した
。１時間後に、３３ｗｔ％エチレングリコール水溶液を
１６，９／Ｊｒで気化器を経由して導入管■より供給し
た。ガス状反応混合物は導管■を通り、凝縮器Ｏで冷却
され気液分離槽＠で気液分離され、非凝縮性ガスは導管
Ｏより大気に放出され、凝縮液を導管Ｏより間歇的に抜
拙して分析に供した。反応開始後、触媒活性の安定した
２４〜２７時間の間に得られた凝縮液を分析したところ
、インドール濃度は１６．８重量％であり、エチレング
リコール基準の収率は６８チであった。
し触媒層の温度を常温から５５０°Ｃまで、徐々に上げ
６５０°Ｃに保った。アニリンと５５ｗｔ％エチレング
リコール水溶液を夫々７５ｇ／Ｊｔｒ、１６ｇ／Ｊｒで
気化器を経由し、導入管■より反応管■に供給した。６
０分後に、５３ ｗｔ％エチレングリコール水溶液を１
６９７ＪＬｒで気化器を経由して導入管■より供給した
。１時間後に、３３ｗｔ％エチレングリコール水溶液を
１６，９／Ｊｒで気化器を経由して導入管■より供給し
た。ガス状反応混合物は導管■を通り、凝縮器Ｏで冷却
され気液分離槽＠で気液分離され、非凝縮性ガスは導管
Ｏより大気に放出され、凝縮液を導管Ｏより間歇的に抜
拙して分析に供した。反応開始後、触媒活性の安定した
２４〜２７時間の間に得られた凝縮液を分析したところ
、インドール濃度は１６．８重量％であり、エチレング
リコール基準の収率は６８チであった。
実施例２．３．４
触媒を共沈法で調製した５ＬＯｚ Ｓ％＋Ｃ）（重量
組成比１：１、ＢＥＴ表面積２６０ｔｐｆ／９）担体に
Ａｔを７ｗｔ％担持したもの、硫酸カドミウム、または
共沈法で調製した８、、Ｏｚ Ｚ？ＩＯ’ｐ （重量
組成比１：１：１）を硫化カドミウムにかえて触媒とし
たほかは、実施例１と同様に実験を行なった。表−１に
結果を示す。
組成比１：１、ＢＥＴ表面積２６０ｔｐｆ／９）担体に
Ａｔを７ｗｔ％担持したもの、硫酸カドミウム、または
共沈法で調製した８、、Ｏｚ Ｚ？ＩＯ’ｐ （重量
組成比１：１：１）を硫化カドミウムにかえて触媒とし
たほかは、実施例１と同様に実験を行なった。表−１に
結果を示す。
表−１
比較例１．２．５．４
導入管■、■を用いず３！＋ｗｔ％エチレングリコール
水溶液を４８１７７ＪＬｒで、アニリン（７５ｇｌｔｒ
＞と共に導入管■より供給したほかは実施例１．２．５
．４と同様にして実験を行なった。表−２に結果を示す
。
水溶液を４８１７７ＪＬｒで、アニリン（７５ｇｌｔｒ
＞と共に導入管■より供給したほかは実施例１．２．５
．４と同様にして実験を行なった。表−２に結果を示す
。
表−２
内径１０１！ｌｌＬのパイレックスガラス製流通式反応
管に、硫化カドミウム触媒５１ｒＬｌを充填し反応に供
した０反応管に水素ガスを２０１ｒＬｌ ／−ｎで流し
ながら、反応管の外壁温度を室温から３５０°Ｃに徐々
に昇温し３５０°０に保った。触媒層内の温度分布を測
定し、いずれの部分も３５０°Ｃであることを確認した
後、３５ ｗｔ％エチレングリコール水溶液をｏ、 ４
８ ｇ／ＪＬｒで、またアニリンを表−３に示す速度で
夫々気化器を通して触媒層に供給した。
管に、硫化カドミウム触媒５１ｒＬｌを充填し反応に供
した０反応管に水素ガスを２０１ｒＬｌ ／−ｎで流し
ながら、反応管の外壁温度を室温から３５０°Ｃに徐々
に昇温し３５０°０に保った。触媒層内の温度分布を測
定し、いずれの部分も３５０°Ｃであることを確認した
後、３５ ｗｔ％エチレングリコール水溶液をｏ、 ４
８ ｇ／ＪＬｒで、またアニリンを表−３に示す速度で
夫々気化器を通して触媒層に供給した。
反応開始１時間後から２時間に亘って反応液を採取し、
インドール収率を求めるため分析を行った。
インドール収率を求めるため分析を行った。
また触媒層内の温度分布を測定しヒートスポットの形成
を調べた。エチレングリコールとアニリンのモル比とエ
チレングリコール基準のインドール収率およびヒートス
ポット温度の関係を表−３に示した。
を調べた。エチレングリコールとアニリンのモル比とエ
チレングリコール基準のインドール収率およびヒートス
ポット温度の関係を表−３に示した。
表−６
図−１は実施例１で使用した反応装置の概略図を示す。
なお、図−１中の各記号の意味は盗の通りである。
■アニリン導入管 ■導管
■水素導管 Ｏ凝縮器
■■■エチレングリコール導入管ＯＯ導管■の■反応管
Ｏ気液分離槽特許出願人 三井東圧化
学株式会社 図−１
Ｏ気液分離槽特許出願人 三井東圧化
学株式会社 図−１
Claims (1)
- １）アニリンとエチレングリコールを気相で、触媒の存
在下反応させてインドールを製造するに際し、エチレン
グリコールを、触媒層を通過する反応ガスの流れの方向
に沿って、分割して供給することを特徴とするインドー
ルの製造方法。
Priority Applications (10)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56132096A JPS5835171A (ja) | 1981-08-25 | 1981-08-25 | インド−ルの改良された製造方法 |
| CA000410126A CA1172643A (en) | 1981-08-25 | 1982-08-25 | Preparation process of indole |
| NL8220298A NL8220298A (nl) | 1981-08-25 | 1982-08-25 | Verbeterde bereidingswerkwijze van indool. |
| KR8203832A KR860001577B1 (ko) | 1981-08-25 | 1982-08-25 | 인돌의 개량된 제조방법 |
| PCT/JP1982/000337 WO1983000691A1 (fr) | 1981-08-25 | 1982-08-25 | Procede ameliore de preparation d'indole |
| CH2395/83A CH652393A5 (de) | 1981-08-25 | 1982-08-25 | Kontinuierliches verfahren zur herstellung von indol. |
| DE3248986T DE3248986C2 (de) | 1981-08-25 | 1982-08-25 | Verfahren zur Herstellung von Indol aus Anilin und Äthylenglycol |
| US06/502,016 US4474969A (en) | 1981-08-25 | 1982-08-25 | Preparation process of indole |
| GB08310651A GB2116558B (en) | 1981-08-25 | 1982-08-25 | Improved process for preparing indole |
| EP82902543A EP0086239B1 (en) | 1981-08-25 | 1982-08-25 | Improved process for preparing indole |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56132096A JPS5835171A (ja) | 1981-08-25 | 1981-08-25 | インド−ルの改良された製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5835171A true JPS5835171A (ja) | 1983-03-01 |
| JPH0243737B2 JPH0243737B2 (ja) | 1990-10-01 |
Family
ID=15073377
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56132096A Granted JPS5835171A (ja) | 1981-08-25 | 1981-08-25 | インド−ルの改良された製造方法 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4474969A (ja) |
| EP (1) | EP0086239B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5835171A (ja) |
| KR (1) | KR860001577B1 (ja) |
| CA (1) | CA1172643A (ja) |
| CH (1) | CH652393A5 (ja) |
| DE (1) | DE3248986C2 (ja) |
| GB (1) | GB2116558B (ja) |
| NL (1) | NL8220298A (ja) |
| WO (1) | WO1983000691A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4937353A (en) * | 1982-06-24 | 1990-06-26 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Preparation process for indoles |
| JPH04118390U (ja) * | 1991-03-31 | 1992-10-22 | ソニー株式会社 | カセツトホルダ |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0162015B1 (de) * | 1984-05-16 | 1991-12-04 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung von Indolinen |
| US4833255A (en) * | 1984-05-16 | 1989-05-23 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the preparation of indoline |
| JPS61151171A (ja) * | 1984-12-26 | 1986-07-09 | Mitsui Toatsu Chem Inc | インド−ルの製造方法 |
| CN100418625C (zh) * | 2006-01-26 | 2008-09-17 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种合成吲哚的催化剂及其制备方法 |
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| JPS5653652A (en) * | 1979-10-08 | 1981-05-13 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Preparation of indole or indole derivative |
| JPS5673060A (en) * | 1979-11-20 | 1981-06-17 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Preparation of indoel or indole derivative |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2438721A (en) * | 1941-12-04 | 1948-03-30 | Raytheon Mfg Co | Method of sealing electrical discharge tubes |
| US2618660A (en) * | 1949-05-25 | 1952-11-18 | Du Pont | Controlled oxidation of alcohols to aldehydes using sulfur compounds |
| US3656911A (en) * | 1970-06-08 | 1972-04-18 | Phillips Petroleum Co | Control system for hydrogenation reactions |
| JPS5938948B2 (ja) * | 1979-09-04 | 1984-09-20 | 宇部興産株式会社 | インド−ル類の製法 |
| JPS5646865A (en) * | 1979-09-27 | 1981-04-28 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Preparation of indole or indole derivative |
| JPS5655366A (en) * | 1979-10-15 | 1981-05-15 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Preparation of indoles |
| JPS5663958A (en) * | 1979-10-29 | 1981-05-30 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Preparation of indole or its derivative |
| JPS56110672A (en) * | 1980-02-05 | 1981-09-01 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Preparation of indole or indole derivative |
| JPS56150062A (en) * | 1980-04-22 | 1981-11-20 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Production of indole or indole derivative |
| JPS5923306B2 (ja) * | 1980-06-03 | 1984-06-01 | 三井東圧化学株式会社 | インド−ルまたはインド−ル誘導体の製造方法 |
| JPS56501049A (ja) * | 1981-03-25 | 1981-07-30 |
-
1981
- 1981-08-25 JP JP56132096A patent/JPS5835171A/ja active Granted
-
1982
- 1982-08-25 CH CH2395/83A patent/CH652393A5/de not_active IP Right Cessation
- 1982-08-25 US US06/502,016 patent/US4474969A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-08-25 EP EP82902543A patent/EP0086239B1/en not_active Expired
- 1982-08-25 GB GB08310651A patent/GB2116558B/en not_active Expired
- 1982-08-25 WO PCT/JP1982/000337 patent/WO1983000691A1/ja not_active Ceased
- 1982-08-25 DE DE3248986T patent/DE3248986C2/de not_active Expired
- 1982-08-25 NL NL8220298A patent/NL8220298A/nl active Search and Examination
- 1982-08-25 KR KR8203832A patent/KR860001577B1/ko not_active Expired
- 1982-08-25 CA CA000410126A patent/CA1172643A/en not_active Expired
Patent Citations (2)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2116558A (en) | 1983-09-28 |
| KR860001577B1 (ko) | 1986-10-10 |
| EP0086239A1 (en) | 1983-08-24 |
| WO1983000691A1 (fr) | 1983-03-03 |
| JPH0243737B2 (ja) | 1990-10-01 |
| US4474969A (en) | 1984-10-02 |
| GB2116558B (en) | 1985-08-07 |
| GB8310651D0 (en) | 1983-05-25 |
| CH652393A5 (de) | 1985-11-15 |
| EP0086239A4 (en) | 1984-04-13 |
| NL8220298A (nl) | 1983-07-01 |
| DE3248986C2 (de) | 1986-02-13 |
| DE3248986T1 (de) | 1983-10-20 |
| EP0086239B1 (en) | 1987-01-28 |
| KR840001136A (ko) | 1984-03-28 |
| CA1172643A (en) | 1984-08-14 |
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