JPS5843358B2 - 無機質基板の製造法 - Google Patents
無機質基板の製造法Info
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- JPS5843358B2 JPS5843358B2 JP8464776A JP8464776A JPS5843358B2 JP S5843358 B2 JPS5843358 B2 JP S5843358B2 JP 8464776 A JP8464776 A JP 8464776A JP 8464776 A JP8464776 A JP 8464776A JP S5843358 B2 JPS5843358 B2 JP S5843358B2
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Landscapes
- Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
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- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は無機質材料のウェットマット１に離型剤含有塗
料２を塗布したのち成形加工を施すことを特徴とする無
機質基板の製造法に係り、その目的とするところは品質
の良好な成形品を効率よく得ることができる無機質基板
の製造法を提供するにある。
料２を塗布したのち成形加工を施すことを特徴とする無
機質基板の製造法に係り、その目的とするところは品質
の良好な成形品を効率よく得ることができる無機質基板
の製造法を提供するにある。
従来の加工方法では無機質材料ｏ、）ウエットマットヲ
ロール又はプレスで成形加工し、養生、乾燥工程を経て
塗装を行なうのが一般的である。
ロール又はプレスで成形加工し、養生、乾燥工程を経て
塗装を行なうのが一般的である。
しかるにロール又はプレスを使ってのウェットマット（
含水状態）の成形加工はウェットマットのロール又はプ
レスへの付着性が太きいために離型性が悪く、そのため
に成形加工前に離型剤塗布工程が必要となり加工数が多
くなると共に成形に長時間を要する欠点があり、乾燥後
に塗装するから板の吸水作用が増大し塗料の塗布量が多
くなる等の欠点があった。
含水状態）の成形加工はウェットマットのロール又はプ
レスへの付着性が太きいために離型性が悪く、そのため
に成形加工前に離型剤塗布工程が必要となり加工数が多
くなると共に成形に長時間を要する欠点があり、乾燥後
に塗装するから板の吸水作用が増大し塗料の塗布量が多
くなる等の欠点があった。
ここでプレスの場合を例にとると上記従来の方法は第２
図ａの離型剤塗布工程、ｂのプレス成形工程、Ｃの養生
工程、ｄの乾燥工程、ｅの塗装工程を経て仕上げ処理が
施されるもので、図中１はウェットマット、３はプレス
、４は離型剤、５は下型、６は養生炉、７は乾燥炉、８
と９はコンベア、１０は塗布器である。
図ａの離型剤塗布工程、ｂのプレス成形工程、Ｃの養生
工程、ｄの乾燥工程、ｅの塗装工程を経て仕上げ処理が
施されるもので、図中１はウェットマット、３はプレス
、４は離型剤、５は下型、６は養生炉、７は乾燥炉、８
と９はコンベア、１０は塗布器である。
本発明はかかる従来の欠点を解消せんとするもので、以
下添付図に基づいて詳細に説明する。
下添付図に基づいて詳細に説明する。
第１図はプレス３を用いた例を示すもので、同図ａの塗
装工程、ｂのプレス工程、Ｃの養生工程、ｄの乾燥工程
を経て仕上げ処理が施される。
装工程、ｂのプレス工程、Ｃの養生工程、ｄの乾燥工程
を経て仕上げ処理が施される。
まず離型剤、例えばシリコン、植物油、鉱物油等の液状
離型剤を塗料に添加しミキサー等で攪拌するなどしてよ
く分散させて離型剤含有塗料２を調製して塗布器１０に
収容し、第１図すのプレス成形加工工程の前に同図ａの
ようにこの離型剤含有塗料２を塗布器１０にてウェット
マット１に塗布する。
離型剤を塗料に添加しミキサー等で攪拌するなどしてよ
く分散させて離型剤含有塗料２を調製して塗布器１０に
収容し、第１図すのプレス成形加工工程の前に同図ａの
ようにこの離型剤含有塗料２を塗布器１０にてウェット
マット１に塗布する。
ここでウェットマット１の材料としてはセメント、スレ
ート、石膏、珪酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ロッ
クウール、カルシウムアルミネートモノサルフェートハ
イドレート（ＭＳＨ）、カルシウムアルミネートトリサ
ルフェートハイドレート（ＴＳＨ）等を単独又は併用し
て用いられる。
ート、石膏、珪酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ロッ
クウール、カルシウムアルミネートモノサルフェートハ
イドレート（ＭＳＨ）、カルシウムアルミネートトリサ
ルフェートハイドレート（ＴＳＨ）等を単独又は併用し
て用いられる。
また塗料としては任意のものを用い得るが、一般には水
溶性エマルジョンタイプの酢酸ビニル系、エチレン−酢
酸ビニル系、アクリル樹脂系等が好適である。
溶性エマルジョンタイプの酢酸ビニル系、エチレン−酢
酸ビニル系、アクリル樹脂系等が好適である。
離型剤の使用量は例えば塗料に対して０．１〜１．０％
程度が好適であるが、これ以外の範囲でもよく、また種
類も上記例示したもの以外でもまた固型、ペースト状の
ものでもよい。
程度が好適であるが、これ以外の範囲でもよく、また種
類も上記例示したもの以外でもまた固型、ペースト状の
ものでもよい。
しかして離型剤含有塗料２を塗装したのち直ちに第１図
すのようにプレス３と下型５とにより加圧成形する。
すのようにプレス３と下型５とにより加圧成形する。
この場合、プレス３には加圧成形部、端面仕上げ部及び
切断部の王者を併設しておくと、成形加工時に仕上げ処
理まで併せて行なえる。
切断部の王者を併設しておくと、成形加工時に仕上げ処
理まで併せて行なえる。
次いでプレス３の離型後、第１図ｃ、ｄのように順次コ
ンベア８，９にて養生炉６、乾燥炉７に移して各各養生
、乾燥を行ない、その後必要に応じて仕上げ処理を施し
無機質基板を製品として得るものである。
ンベア８，９にて養生炉６、乾燥炉７に移して各各養生
、乾燥を行ない、その後必要に応じて仕上げ処理を施し
無機質基板を製品として得るものである。
本発明にあっては上述のように無機質材料のウェットマ
ットに離型剤含有塗料を塗布したのち成形加工を施すよ
うにしているから、従来の離型剤塗布工程が塗料塗布工
程と同一工程に組入れられるものであって、工程数が減
少すると共に処理時間の短縮がはかれる利点がある。
ットに離型剤含有塗料を塗布したのち成形加工を施すよ
うにしているから、従来の離型剤塗布工程が塗料塗布工
程と同一工程に組入れられるものであって、工程数が減
少すると共に処理時間の短縮がはかれる利点がある。
また塗装を含水状態のウェットマットに施すから、乾燥
後のもののように吸水作用がないことにより、塗料の塗
布量が約１／２に減少し、効率が良好となる利点があり
、しかも塗料中に離型剤が配合されているから成形後の
離型性も良好であり、得られた無機質基板の表面状態も
良好となる利点がある。
後のもののように吸水作用がないことにより、塗料の塗
布量が約１／２に減少し、効率が良好となる利点があり
、しかも塗料中に離型剤が配合されているから成形後の
離型性も良好であり、得られた無機質基板の表面状態も
良好となる利点がある。
以下本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。
水性エマルジョンタイプの酢酸ビニル樹脂塗料にやし油
２％を添加し攪拌して離型剤含有塗料エマルジョンを得
た。
２％を添加し攪拌して離型剤含有塗料エマルジョンを得
た。
これを第１図ａの工程で珪酸カルシウムのウェットマッ
トに塗布したところ、１０〜１５ｇ／尺角の塗布量で均
一な塗膜が得られた。
トに塗布したところ、１０〜１５ｇ／尺角の塗布量で均
一な塗膜が得られた。
またこれを第１図す乃至ｄに従って成形、養生、乾燥し
て仕上げたところ、成形時に金型（プレス）に付着する
こともなく成形性が良好であり、また得られた珪酸カル
シウム板の表面状態も良好であった。
て仕上げたところ、成形時に金型（プレス）に付着する
こともなく成形性が良好であり、また得られた珪酸カル
シウム板の表面状態も良好であった。
第２図ａ乃至ｅに従がいやし油を離型剤としてプレスの
成形面に塗布したのち珪酸カルシウムのウェットマット
を加圧成形し、養生、乾燥後水性エマルジョンタイプの
酢酸ビニル樹脂塗料を塗布したところ、２０〜３５ｇ／
尺角塗布しなければ良好な結果は得られなかった。
成形面に塗布したのち珪酸カルシウムのウェットマット
を加圧成形し、養生、乾燥後水性エマルジョンタイプの
酢酸ビニル樹脂塗料を塗布したところ、２０〜３５ｇ／
尺角塗布しなければ良好な結果は得られなかった。
第１図ａ乃至ｄは本発明の一実施例の概略工程説明図、
第２図ａ乃至ｅは従来例の概略工程説明図であって、１
はウェットマット、２は離型剤含有塗料を示す。
第２図ａ乃至ｅは従来例の概略工程説明図であって、１
はウェットマット、２は離型剤含有塗料を示す。
Claims (1)
- １ 無機質材料のウェットマットに離型剤含有塗料を塗
布したのち成形加工を施すことを特徴とする無機質基板
の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8464776A JPS5843358B2 (ja) | 1976-07-15 | 1976-07-15 | 無機質基板の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8464776A JPS5843358B2 (ja) | 1976-07-15 | 1976-07-15 | 無機質基板の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS539816A JPS539816A (en) | 1978-01-28 |
| JPS5843358B2 true JPS5843358B2 (ja) | 1983-09-26 |
Family
ID=13836481
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8464776A Expired JPS5843358B2 (ja) | 1976-07-15 | 1976-07-15 | 無機質基板の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5843358B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5957979A (ja) * | 1982-09-29 | 1984-04-03 | 梅沢 徳弘 | 水硬性セメント組成物の離型養生剤 |
| US8199388B2 (en) | 2002-11-22 | 2012-06-12 | Inphase Technologies, Inc. | Holographic recording system having a relay system |
| US8786923B2 (en) | 2002-11-22 | 2014-07-22 | Akonia Holographics, Llc | Methods and systems for recording to holographic storage media |
| CN112876187B (zh) * | 2021-01-29 | 2022-08-19 | 肇庆北新建材有限公司 | 一种增强抗潮石膏板及其制备方法 |
-
1976
- 1976-07-15 JP JP8464776A patent/JPS5843358B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS539816A (en) | 1978-01-28 |
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