JPS5843387B2 - カ−ボネ−トの製造方法 - Google Patents

カ−ボネ−トの製造方法

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JPS5843387B2
JPS5843387B2 JP2709176A JP2709176A JPS5843387B2 JP S5843387 B2 JPS5843387 B2 JP S5843387B2 JP 2709176 A JP2709176 A JP 2709176A JP 2709176 A JP2709176 A JP 2709176A JP S5843387 B2 JPS5843387 B2 JP S5843387B2
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JP
Japan
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tertiary amine
reaction
chloroformate
pyridine
tertiary
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JP2709176A
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JPS52111540A (en
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光 吾妻
鉄蔵 三木
進 神保
正敏 大西
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Hodogaya Chemical Co Ltd
Original Assignee
Hodogaya Chemical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はカーボネートの製造方法に関し、更に基でそれ
ぞれ−NO2,Cl又はHを表わし、n=O〜3であり
、又R′はRか又は第2級及び第3級アルキル基又は不
飽和アルキル基を表わす〕で示されるカーボネートの製
造方法に関する。
前記一般式で示されるカーボネートは医薬、農薬、又は
高分子化合物の製造における中間体として有用であり、
例えばp−ニトロフェニル第3級ブチルカーボネートは
アミノ保護基の第3級ブチルカーボニル基試薬として医
薬又はペプチド合成分野で使用されている。
この種の化合物の製造方法については、例えば第3級ブ
タノールとp−ニトロフェニルクロルフォーメートとを
ピリジン又はキノリンのような第3級塩基の存在下に反
応させる方法(特公昭35−7668号公報)前記化合
物をピリジン中0〜5℃で反応させる方法(J、A、C
,S796182(1957)、lクロルフォーメート
をピリジン中等モルの第3級ブタノールと反応させる方
法〔日本化学雑誌85599(1964)、)等が提案
されているが、これらの方法では酸受容体として多量の
ピリジンを使用しているので臭気が強く商業的生産にお
いては作業環境上問題があり、又ピリジンを反応により
生成したピリジン塩酸塩の水溶液からアルカリで遊離し
て回収するが、水に易溶のため抽出工程の必要性又は廃
水中への溶出のため処理上の問題があり、又それらの収
率は第3級ブチルp−ニトロフェニルカーボネートの場
合についていえば約70%程度に過ぎない。
本発明は前記現状に鑑みてなされたもので、その目的は
作業環境を改善し、回収工程の合理化及び収率の向上を
もたらす前記一般式で示されるカーボネートの製造方法
を提供することである。
本発明によれば、前記の目的は酸受容体としての芳香族
第3級アミン及び触媒量の複素環第3級アミン塩基を併
用することにより達成することが認められた。
で、Xは同−又は異なる基でそれぞれ−NO2゜CX、
又はHを表わし、n = O〜3である〕で示されるク
ロルフォーメートと 一般式 R’−OH 〔式中R′は前記R1第2級および第3級アルキル基又
は不飽和アルキル基を表わす〕 で示されるアルコール又はフェノールとを酸受容体とし
ての芳香族第3級アミンおよび触媒量の一般式 〔式中R“はH,−CH3又は−C2H5を表わす〕で
示される第3級アミン塩基の存在下で反応させることを
特徴とする一般式 〔式中R及びR′は前記と同一の基を表わす〕で示され
るカーボネートの製造方法に関する。
本発明について概説すると、本発明における化学反応は であり、従来法で酸受容剤としてクロルフォーメートに
対して当モル以上のピリジンが使用されたが、本発明で
は前記目的を達成するためにピリジンの代りに水に不溶
性の芳香族第3級アミン例えばN、N−ジメチルアニリ
ン又はN、N−ジエチルアニリン等を使用することに着
目した。
しかし芳香族第3級アミンを単独で使用し、0〜40℃
の比較的低温で反応を行った場合は30時間の長時間反
応にも拘らず反応は全く進行しなかった。
ところが、芳香族第3級アミンの外に触媒量の表わす〕
で示される第3級アミン塩基を添加することにより室温
で速やかに反応が進行して略定量的に所望のカーボネー
トを生成することが認められた。
本発明における反応過程について考察すると、初めに触
媒量の第3級アミン塩基が酸受容体として作用し、次に
これが芳香族第3級アミンに塩酸を供給することにより
常に遊離の第3級アミン塩基が触媒的に酸受容体として
作用するために反応が進行するものと考えられ、結果的
lこは単独では全く反応の進行を見なかった芳香族第3
級アミンが酸受容体として使用できることは驚くべき事
実である。
アミン塩基は触媒量すなわち0.01%以上望ましくは
0.1〜2%(クロルフォーメートに対する理論書に基
づく)程度で使用されるので臭気の発生、廃水処理等の
問題が改善されることは明らかである。
前記反応が適用される本発明における出発物質について
具体例を示すと、クロルフォーメートとしてはフェニル
クロルフォーメート クロルフェニルクロルフォーメー
ト、p−ニトロフェニルクロルフォーメート、クロルニ
トロフェニルクロルフォーメート、ベンジルクロルフォ
ーメート、クロルベンジルクロルフォーメート、ニトロ
ベンシルクロルフォーメート、クロルニトロベンシルク
ロルフォーメートが挙げられる。
クロルフォーメートと反応させるアルコール、フェノー
ルの具体例としては第2級プロピルアルコール、第2級
ブチルアルコール、第3級ブチルアルコール、アリルア
ルコール又はフェノール、クロルフェノール、ニトロフ
ェノール、クロルニトロフェノール又はベンジルアルコ
ール、クロルベンジルアルコール、ニトロベンジルアル
コールクロルニトロベンジルアルコールが挙ケラれる。
酸受容体としての芳香族第3級アミンの例としでは水に
不溶又は難溶性であるN、N−ジアルキルアニリンたと
えばN、N−ジメチルアニリン又はN、N−ジエチルア
ニリンが挙げられ、その使用量はクロルフォーメートに
対して当モル以上通常は1.0〜1.5倍モルである。
第3級アミン塩基としてピリジン、ピコリン又はエチル
ピリジンである。
前記反応は酸受容体としての芳香族第3級アミン、触媒
量の第3級アミン塩基以外に溶剤を使用することができ
るが、精製条件との関連からトルエンを使用する。
反応温度は室温で充分である(収率90%以上)が、そ
れ以上の高い温度でも良い。
次に本発明を実施例について説明するが、本発明はこれ
によりなんら限定されるものではない。
実施例 1 p−ニトロフェニルクロルフォーメート10.Og(純
変93.5%:0.0464モル)をトルエン50m1
!c溶解し、攪拌しながら、N、N−ジエチルアニリン
9.0g(0,06モル)、第3級ブタノール4.4g
、ピリジンo、05mA’(0,00063モル、クロ
ルフォーメートに対して1.35モル%)およびトルエ
ン5TLlの混合液を30分で滴下した後、20〜30
℃で2時間攪拌を続は反応を終了する。
この反応物に水307dを加え、N、N−ジエチルアニ
リン塩酸塩を溶解し、水層を分離した後、更にトルエン
層を水洗しトルエン留去後粗製p−ニトロフェニル第3
級ブチルカーボネート11.27! (m、p、 69
〜75℃文献値78.5〜79.5°0を得、これをエ
タノール−水より再結晶し、目的物10.0 g(m、
p、 78〜79°C)収率90.2%を得た。
比較例 ピリジン0.05m1を使用しなかった以外は実施例1
と同様にし、25℃で30時間攪拌したが、目的のp−
ニトロフェニル第3級ブチルカーボネートは生威しなか
った。
実施例 2 p−ニトロフェニルクロルフォーメート11(純度93
.5%)トルエン5011Llに溶解し、攪拌しながら
N、N−ジメチルアニリン7.3g(0,06モル)、
ピリジン0.05rfLl、第3級ブタノール4.4g
、トルエン5mlの混合液を10分を要し滴下した後に
室温(25℃)下25時間攪拌し反応を終了した。
トルエン層を実施例1と同様に処理し、精製p−ニトロ
フェニル第3級ブチルカーボネート10.4gを得た。
m、p、 78〜79.5℃、収率93% 実施例 3 ピリジン0.05mAの代りにγ−ピリコン0.05−
を使用し、室温で3時間攪拌した以外は実施例2と同様
に行った。
p−ニトロフェニル第3級ブチルカーボネートの粗結晶
10.7gを得た。
実施例 4〜13 実施例1の操作に従い各種フェニルクロルフォーメート
1gをトルエン3Mに溶解し、クロルフ※※オーメート
と1.0〜1,5倍モルのN、N−ジエチルアニリンを
酸受容体とし各種のアルコール又はフェノール類と反応
させカーボネートを製造した。
N、N−ジエチルアニリン単独使用の場合と、クロルフ
ォーメートに対して1モル%のピリジンを併用した場合
の反応時間を比較し、次ぎの表に示す結果を得た。
なお反応温度は20℃とした。なお反応終了時間はIR
分析により、未反応クロルフォーメートのピークが完全
に消失し、カーボネートのピークに転換した時期を終了
時間とした。
前記説明から明らかなように本発明は酸受容体として臭
気の少ない芳香族第3級アミンを使用することにより作
業環境を改善し、又水に不溶性であるために塩酸塩の水
溶液から容易に回収できると共に収率を著しく向上する
という効果を奏する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 で、Xは同−又は異なる基でそれぞれ−NO2゜CZ、
    又はHを表わし、n = O〜3である〕で示されるク
    ロルフォーメートと 一般式 R’−OH 〔式中R′は前記R1第2級および第3級アルキル基又
    は不飽和アルキル基を表わす〕 で示されるアルコール又はフェノールとを酸受容体とし
    ての芳香族第3級アミンおよび触媒量の一般式 〔式中R“はH,−CH3又は−C2H5を表わす〕で
    示される第3級アミン塩基の存在下で反応させることを
    特徴とする 一般式 〔式中R及びR′は前記と同一の基を表わす〕で示され
    るカーボネートの製造方鬼 2 芳香族第3級アミンがN、N−ジメチルアニリンで
    ある特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 芳香族第3級アミンがN、N−ジエチルアニリンで
    ある特許請求の範囲第1項記載の方法。 4 第3級アミン塩基がピリジン又はγ−ピコリンであ
    る特許請求の範囲第1項ないし第3項記載の方法。
JP2709176A 1976-03-15 1976-03-15 カ−ボネ−トの製造方法 Expired JPS5843387B2 (ja)

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