JPS584457B2 - 論理回路の論理変更方法 - Google Patents

論理回路の論理変更方法

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JPS584457B2
JPS584457B2 JP50042181A JP4218175A JPS584457B2 JP S584457 B2 JPS584457 B2 JP S584457B2 JP 50042181 A JP50042181 A JP 50042181A JP 4218175 A JP4218175 A JP 4218175A JP S584457 B2 JPS584457 B2 JP S584457B2
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JP
Japan
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logic
field effect
circuit
mis
effect transistor
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JP50042181A
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JPS51117587A (en
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竜輔 星川
光正 芦田
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、金属−絶縁物−半導体(MIS)構造を有す
る電界効果トランジスタにより構成された論理回路の論
理を任意に変更することができるような論理変更方法に
関するものである。
MIS型電界効果トランジスタは構造が簡単で高密度に
半導体基板上に設けることができ、また低消費電力とい
う利点を持っているため、MIS型電界効果トランジス
タによる大規模な半導体集積回路(MIS−LSI)を
生み出すようになった。
このように論理回路が大規模となり、回路が複雑となる
と、その論理設計も非常に面倒な工程となるが従来は、
回路が異なった論理回路を製作するごとに論理設計を行
ない、いちいち新しいマスクを作って集積回路を製作し
ているため、MIS−LSIのコストが高くなっていた
本発明は上述の如き不都合を改善した新規な発明であり
、その目的は、MIS型電界効果トランジスタにより構
成された論理回路の論理を任意に変更することができる
ような半導体装置の製造方法を得ることにある。
その目的を達成せしめるため、本発明の論理回路の論理
変更方法は、論理回路を構成するMIS型電界効果トラ
ンジスタのうち、任意のMIS型電界効果トランジスタ
のチャンネル部分に高濃度不純物領域を形成し、該MI
S型電界効果トランジスタをカットオフまたはターンオ
ンさせることにより論理を変更することを特徴とするも
ので、以下実施例について詳細に説明する。
複雑な回路からなるMIS−LSIもNAND,NOR
のような基本回路から構成されている場合が多い。
また、MIS型電界効果トランジスタのチャンネル部分
に不純物をイオン打込みにより打ち込んでしきい値電圧
を動かすことができることも良く知られている。
本発明はこのようなことをふまえてMIS−LSIを構
成するNANDやNOR回路を定形的なパターンで形成
しておき、これら回路を構成する任意のMIS型電界効
果トランジスタのチャンネル部分に不純物を打ち込んで
高濃度不純物領域を形成し、そのMIS型電界効果トラ
ンジスタのゲート入力信号にかかわらずそれをカットオ
フまたはターンオフに固定して所望の論理回路を得るも
のである。
実施例 1 (NAND回路の論理変更) 第1図の如くN−チャンネルのMOS型電界効果トラン
ジスタA1,B1,C1を直列に接続すると正論理にお
いて、出力Q1は、 Q1=A1・B1・C1 である。
ここでMOS型電界効果トランジスタB1のチャンネル
部分に燐Pイオンを打ち込んで深いデプレツションモー
ドとしてこれをターンオンさせると、ゲートBG1の入
力信号いかんにかかわらず導通状態とすることができる
ので、その出力はQ1=A1・C1 と変更することができる。
もちろんMOS型電界効果 ル部分に不純物を打ち込めば同様にターンオンさせるこ
とができる。
またこのNAND回路が不要なときは、適当なMOS型
電界効果トランジスタのチャンネル部分にボロンBイオ
ンを打ち込んでしきい値電圧を上げ、ゲートの入力信号
いかんにかかわらずカットオフとすればよい。
この結果この回路の出力は論理“1”に固定される。
実施例 2 (NOR回路の論理変更) 第2図の如くN−チャンネルのMOS型電界効果トラン
ジスタA2,B2,C2を並列に接続すると、正論理に
おいて、出力Q2は Q2=A2+B2+C2 である。
ここでMOS型電界効果トランジスタB2のチャンネル
部分にボロンBイオンを打ち込んでしきい値電圧を上げ
、ゲートGB2の入力信号いかんにかかわらずカットオ
フとすれば、その出力Q2は、 Q2=A2+02 と変更することができる。
またすべてのトランジスタのチャンネル部分にボロンB
イオンを打ち込めば、この回路全体を出力論理“1”と
することができるし、またどれか1個のトランジスタの
チャンネル部分に燐Pイオンを打ち込んでターンオンさ
せれば出力論理“0”とする事が出来る。
実施例 3 (NAND回路に補助回路を付加した回路の論理変更) 第3図の如く、NチャンネルのMOS型電界効果トラン
ジスタA3,B3,C3を直列に接続し、さらにゲート
をソースに接続したMOS型電界効果トランジスタTR
1のソースSとドレインDをMOS型電界効果トランジ
スタA3,B3の両端に接続するとともに、同じくゲー
トをソースに接続したMOS型電界効果トランジスタT
R2のソースSとドレインDをMOS型電界効果トラン
ジスタB3とC3の両端に接続し、各トランジスタのし
きい値をそれぞれ制御することによって、種々論理回路
を形成することができる。
第4図はこの様子を示した図であり、図中“OFF”は
トランジスタを常時カットオフ状態にすることを意味し
、“ON”は常時導通状態にすることを意味し、“一”
は正常に動作させることを意味する。
なお、本発明は上記実施例に限らず、種々な論理回路に
実施してバラエティに富んだ論理回路の変更を行なうこ
とができるほか、PチャンネルのMOS型電界効果トラ
ンジスタにより構成された論理回路についても論理変更
ができることはもちろんである。
以上説明したように、本発明によれば、基本形のマスク
を最初に製作しておけば、以後論理回路の異なるMIS
−LSIを製作する際にはこの基本形のマスクを利用し
、それに不純物イオン打ち込みのための簡単なマスクを
作ればよいので、マスク設計が簡単になり、結局MIS
−LSIの製造コストを引き下げることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例を示す回路図、第2図は
第2の実施例を示す回路図、第3図は第3の実施例を示
す回路図、第4図は第3の実施例の論理変更を説明した
図である。 図において、A1〜A3,B1〜B3,C1〜C3,T
R1,TR2はいずれもMOS型電界効果トランジスタ
を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 論理回路を構成するMIS型電界効果トランジスタ
    のうち任意のMIS型電界効果トランジスタのチャンネ
    ル部分に高濃度不純物領域を形成し該MIS電界効果ト
    ランジスタをカットオフまたはターンオンさせることに
    より論理を変更することを特徴とする論理回路の論理変
    更方法。
JP50042181A 1975-04-09 1975-04-09 論理回路の論理変更方法 Expired JPS584457B2 (ja)

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JPS51117587A JPS51117587A (en) 1976-10-15
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US3775191A (en) * 1971-06-28 1973-11-27 Bell Canada Northern Electric Modification of channel regions in insulated gate field effect transistors
US3867204A (en) * 1973-03-19 1975-02-18 Motorola Inc Manufacture of semiconductor devices

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JPS51117587A (en) 1976-10-15

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