JPS5857520B2 - 電子部品用ステンレス鋼帯の金メッキ方法 - Google Patents
電子部品用ステンレス鋼帯の金メッキ方法Info
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- JPS5857520B2 JPS5857520B2 JP14607782A JP14607782A JPS5857520B2 JP S5857520 B2 JPS5857520 B2 JP S5857520B2 JP 14607782 A JP14607782 A JP 14607782A JP 14607782 A JP14607782 A JP 14607782A JP S5857520 B2 JPS5857520 B2 JP S5857520B2
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- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 58
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 title claims description 56
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 title claims description 56
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 54
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 title claims description 54
- 239000010931 gold Substances 0.000 title claims description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 28
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Natural products OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 7
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 claims description 6
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 6
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 claims description 6
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 8
- 238000001994 activation Methods 0.000 description 7
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 5
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 4
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- UUWCBFKLGFQDME-UHFFFAOYSA-N platinum titanium Chemical compound [Ti].[Pt] UUWCBFKLGFQDME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- OQUFOZNPBIIJTN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropane-1,2,3-tricarboxylic acid;sodium Chemical compound [Na].OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O OQUFOZNPBIIJTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);disulfamate Chemical compound [Ni+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 229910000851 Alloy steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- SFOSJWNBROHOFJ-UHFFFAOYSA-N cobalt gold Chemical compound [Co].[Au] SFOSJWNBROHOFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- -1 fatty acid ester Chemical class 0.000 description 1
- MSNOMDLPLDYDME-UHFFFAOYSA-N gold nickel Chemical compound [Ni].[Au] MSNOMDLPLDYDME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- MOFOBJHOKRNACT-UHFFFAOYSA-N nickel silver Chemical compound [Ni].[Ag] MOFOBJHOKRNACT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010956 nickel silver Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- XTFKWYDMKGAZKK-UHFFFAOYSA-N potassium;gold(1+);dicyanide Chemical compound [K+].[Au+].N#[C-].N#[C-] XTFKWYDMKGAZKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規な電子部品用ステンレス鋼帯の金メツキ
方法に関するもので、従来の銅合金筐たはニッケル合金
の電子部品用帯材(フープ)に比し、廉価でしかも剛性
、ばね性、耐熱性に優れ、筐た耐蝕性に関しても不銹鋼
と称せられるように腐蝕しにくく、會た電気特性及び半
田性に優れた新規な電子部品用ステンレス鋼帯の金メツ
キ方法に関するものである。
方法に関するもので、従来の銅合金筐たはニッケル合金
の電子部品用帯材(フープ)に比し、廉価でしかも剛性
、ばね性、耐熱性に優れ、筐た耐蝕性に関しても不銹鋼
と称せられるように腐蝕しにくく、會た電気特性及び半
田性に優れた新規な電子部品用ステンレス鋼帯の金メツ
キ方法に関するものである。
従来の電子部品用帯材(フープ)としては主として燐青
銅、洋白、ベリリューム鋼及びニッケル合金が用いられ
ていたが、剛性に欠け、耐蝕性が悪く、またばね性に劣
る等の欠点があった。
銅、洋白、ベリリューム鋼及びニッケル合金が用いられ
ていたが、剛性に欠け、耐蝕性が悪く、またばね性に劣
る等の欠点があった。
このために銅及びニッケル合金による電子部品は、軽量
、小型化を追及する現在の電子機器の部品として最少限
の厚み迄到達しているが、これ以上の小型軽量化は機械
的に要求される性能上困難な状態にある。
、小型化を追及する現在の電子機器の部品として最少限
の厚み迄到達しているが、これ以上の小型軽量化は機械
的に要求される性能上困難な状態にある。
普た、銅合金にも金メッキをすることが知られているが
、銅合金上に金メッキをする場合は金が素地の銅合金に
拡散するので、拡散分を見越して金メッキ層を厚くする
か、lたはこれを防ぐために予めニッケルの下地メッキ
をする等の対策が施される。
、銅合金上に金メッキをする場合は金が素地の銅合金に
拡散するので、拡散分を見越して金メッキ層を厚くする
か、lたはこれを防ぐために予めニッケルの下地メッキ
をする等の対策が施される。
しかし、ニッケルを下地メッキする対策では、工程が増
えてコスト高となるばかりでなく、特に性能上音響機器
及び高周波器の部品の場合、ニッケルの磁性のために好
渣しくない。
えてコスト高となるばかりでなく、特に性能上音響機器
及び高周波器の部品の場合、ニッケルの磁性のために好
渣しくない。
本発明者は、安価にして且つ剛性、ばね性及び耐熱性が
高り、會た電子部品として要求される電気特性、半田性
に優れたステンレス鋼帯を提供すべく長期間に亘り研究
の結果、直接金メッキしたステンレス鋼帯が従来の銅合
金及びニッケル合金と比べ極めて優れた電子部品を製作
できる鋼帯であることを見出し、この知見に基づいて本
発明を完成した。
高り、會た電子部品として要求される電気特性、半田性
に優れたステンレス鋼帯を提供すべく長期間に亘り研究
の結果、直接金メッキしたステンレス鋼帯が従来の銅合
金及びニッケル合金と比べ極めて優れた電子部品を製作
できる鋼帯であることを見出し、この知見に基づいて本
発明を完成した。
すなわち本発明は、薄いステンレス鋼帯に直接金メッキ
するための電子部品用ステンレス鋼帯の金メツキ方法に
関するものである。
するための電子部品用ステンレス鋼帯の金メツキ方法に
関するものである。
本発明で金メッキする薄いステンレス鋼帯は、その厚さ
は0.06〜0.2mmで、巾は5〜80rIrInの
ものが好1しく、金メッキの厚さは0.3〜2.0μ、
好tL<は0.5〜1.0μである。
は0.06〜0.2mmで、巾は5〜80rIrInの
ものが好1しく、金メッキの厚さは0.3〜2.0μ、
好tL<は0.5〜1.0μである。
一般にステンレス鋼はその表面に不働態化皮膜が形成さ
れているためにメッキすることが難しい。
れているためにメッキすることが難しい。
従って、所期の金メッキを施すには、予め、この不働態
化皮膜は完全に除去するが、ステンレス鋼帯自体の素地
を侵蝕しないように注意してステンレス鋼帯の表面清浄
化を行なわなければならない。
化皮膜は完全に除去するが、ステンレス鋼帯自体の素地
を侵蝕しないように注意してステンレス鋼帯の表面清浄
化を行なわなければならない。
本発明は、ステンレス鋼帯の素地を侵蝕することなく、
不働態化皮膜を完全に除去し、密着性の優れた金メッキ
を施すことを目的として、以下の如き処理を行なうこと
を特徴とするものである。
不働態化皮膜を完全に除去し、密着性の優れた金メッキ
を施すことを目的として、以下の如き処理を行なうこと
を特徴とするものである。
すなわち、塩酸(35多溶液)15〜25容量転硫酸(
85饅溶液)5〜15容量転 クエン酸粉末5〜15重
量も酢酸(90%溶1)0.5〜1.5容量転硝酸(6
8饅溶液4〜6容量φ、非イオンまたは両性界面活性剤
0.1〜0.3重量%、アミン系腐蝕抑性剤0.05〜
0.15重量%を配合した酸性活性化浴を用いてステン
レス鋼帯を浸漬処理する化学研摩工程と、燐酸(85多
溶液)5〜15容量多、硫酸(85多溶液)5〜15容
量先ク工ン酸粉末5〜15重量先酢酸(90%溶液)0
.5〜1.5容量宏非イオンまたは両性界面活性剤0.
1〜0.3重量%、アミン系腐蝕抑制剤0.05〜0.
15重量%を配合した陰極電解浴を用いて、上記ステン
レス鋼帯を活性化する電解活性化工程と、酸性金メッキ
浴により上記ステンレス鋼帯に直接金メッキを施す工程
とよりなることを特徴とする電子部品用ステンレス銅帯
の金メツキ方法である。
85饅溶液)5〜15容量転 クエン酸粉末5〜15重
量も酢酸(90%溶1)0.5〜1.5容量転硝酸(6
8饅溶液4〜6容量φ、非イオンまたは両性界面活性剤
0.1〜0.3重量%、アミン系腐蝕抑性剤0.05〜
0.15重量%を配合した酸性活性化浴を用いてステン
レス鋼帯を浸漬処理する化学研摩工程と、燐酸(85多
溶液)5〜15容量多、硫酸(85多溶液)5〜15容
量先ク工ン酸粉末5〜15重量先酢酸(90%溶液)0
.5〜1.5容量宏非イオンまたは両性界面活性剤0.
1〜0.3重量%、アミン系腐蝕抑制剤0.05〜0.
15重量%を配合した陰極電解浴を用いて、上記ステン
レス鋼帯を活性化する電解活性化工程と、酸性金メッキ
浴により上記ステンレス鋼帯に直接金メッキを施す工程
とよりなることを特徴とする電子部品用ステンレス銅帯
の金メツキ方法である。
本発明における酸性活性化浴および陰極電解浴の配合組
成は、本発明者が数多くの実験と試行錯誤の結果発見し
たものであり、各成分の組合せによる相乗効果により目
的の効果を発揮するものである。
成は、本発明者が数多くの実験と試行錯誤の結果発見し
たものであり、各成分の組合せによる相乗効果により目
的の効果を発揮するものである。
従って、上記の諸条件は本発明に必要不可欠の構成要件
であり、各成分の併用とその添加量の範囲以外では、ス
テンレス鋼帯表面の素地を侵蝕することなく不働態化皮
膜を完全に除去して、密着性に優れた直接金メッキを得
ることは困難である。
であり、各成分の併用とその添加量の範囲以外では、ス
テンレス鋼帯表面の素地を侵蝕することなく不働態化皮
膜を完全に除去して、密着性に優れた直接金メッキを得
ることは困難である。
なお、以下本発明でいう金メッキは純金メッキに限るこ
となく、金−ニッケル合金メッキ、金−コバルト合金メ
ッキなどの合金メッキをも含み、メッキ工業の分野で一
般に呼称する金メッキを意味している。
となく、金−ニッケル合金メッキ、金−コバルト合金メ
ッキなどの合金メッキをも含み、メッキ工業の分野で一
般に呼称する金メッキを意味している。
ここで使用する酸性金メッキ浴としては、純金メッキ浴
以外にメッキ層の硬度を高める目的をもって、微量のニ
ッケルまたはコア<ルトを添加した合金メッキ浴も使用
することができる。
以外にメッキ層の硬度を高める目的をもって、微量のニ
ッケルまたはコア<ルトを添加した合金メッキ浴も使用
することができる。
以下、実施例″f:あげて本発明を具体的に説明するが
、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例 1
■ マスキング工程
厚さ0.12%、巾21%のステンレス鋼帯の片側のみ
を金メッキするために、脱脂工程に入る前に耐酸、耐ア
ルカリ性に富んだ樹脂テープをステンレス鋼帯の送り出
しに合せて片側にローラーで圧着し、メッキの際に片側
のみ金メッキを可能とするテープによるマスキング工程
を行なった。
を金メッキするために、脱脂工程に入る前に耐酸、耐ア
ルカリ性に富んだ樹脂テープをステンレス鋼帯の送り出
しに合せて片側にローラーで圧着し、メッキの際に片側
のみ金メッキを可能とするテープによるマスキング工程
を行なった。
■ 脱脂工程
市販されているアルカリ脱脂肢をステンレス槽中で70
〜80℃に加温し、上記ステンレス鋼帯を逐次この槽中
全通過させて一次脱脂を行ない、次に40〜60℃のア
ルカリ浴中でステンレス鋼板を陽極とし該ステンレス鋼
帯を陰極として6ボルトの電圧を印加して直流電解脱脂
を行なった。
〜80℃に加温し、上記ステンレス鋼帯を逐次この槽中
全通過させて一次脱脂を行ない、次に40〜60℃のア
ルカリ浴中でステンレス鋼板を陽極とし該ステンレス鋼
帯を陰極として6ボルトの電圧を印加して直流電解脱脂
を行なった。
■化学研摩工程
続いて該ステンレス鋼帯を、塩酸(35%溶液)20容
量俤、硫酸(85%溶液)10容量優、クエン酸(粉末
)io重量係、酢酸(90多溶液)1容量俤及び硝酸(
68%溶gJL)5容量悌よりなる混酸に、ポリエチレ
ングリコールアルキルエテール、ポリエチレングリコー
ノ圃旨肪酸エステルなどの非イオン渣たはアミノ酸類の
両性界面活性剤0.2重量%及びアミン系腐蝕抑制剤(
例えばライオンアーマ社製アーモヒブ28)0.1重量
%を加えた浴に600ワツトの超音波を照射しながら通
過させ、該ステンレス鋼帯表面の酸化物及び不純物を除
去した。
量俤、硫酸(85%溶液)10容量優、クエン酸(粉末
)io重量係、酢酸(90多溶液)1容量俤及び硝酸(
68%溶gJL)5容量悌よりなる混酸に、ポリエチレ
ングリコールアルキルエテール、ポリエチレングリコー
ノ圃旨肪酸エステルなどの非イオン渣たはアミノ酸類の
両性界面活性剤0.2重量%及びアミン系腐蝕抑制剤(
例えばライオンアーマ社製アーモヒブ28)0.1重量
%を加えた浴に600ワツトの超音波を照射しながら通
過させ、該ステンレス鋼帯表面の酸化物及び不純物を除
去した。
■ 電解活性化工程
燐酸(85係溶液)10容量先硫酸(85饅溶液)10
容量係、クエン酸(粉末)5重量%、酢酸(90%溶液
)1容量優に、上記と同様の非イオンまたは両性界面活
性剤0.2重量%及び腐蝕抑制剤0.1重量%を加えた
浴金60℃に加温し、ステンレス鋼帯に(−)電流を、
チタン白金メッキ板に(−1−)電流を通じ4ボルトに
セットして浴中を通過させてステンレス鋼帯の表面の活
性化を行なった。
容量係、クエン酸(粉末)5重量%、酢酸(90%溶液
)1容量優に、上記と同様の非イオンまたは両性界面活
性剤0.2重量%及び腐蝕抑制剤0.1重量%を加えた
浴金60℃に加温し、ステンレス鋼帯に(−)電流を、
チタン白金メッキ板に(−1−)電流を通じ4ボルトに
セットして浴中を通過させてステンレス鋼帯の表面の活
性化を行なった。
■ 金メツキ工程
クエン酸120r/7. クエン酸ソーダ120t7t
、スルファミン酸ニッケル30 t/l。
、スルファミン酸ニッケル30 t/l。
シアン化金力IJ8//lのメッキ浴中で電流密度5A
/D??Z2〜lA/Drr?の範囲でメッキ液温27
℃で、ステンレス鋼帯に(−)電流を、チタン白金メツ
キ板に(ト)電流を通じ5分間金メッキを行なった。
/D??Z2〜lA/Drr?の範囲でメッキ液温27
℃で、ステンレス鋼帯に(−)電流を、チタン白金メツ
キ板に(ト)電流を通じ5分間金メッキを行なった。
その結果、ステンレス鋼帯の片側に1μの厚さの金メッ
キ層が形成さへ本発明のステンレス鋼帯が得られた。
キ層が形成さへ本発明のステンレス鋼帯が得られた。
実施例 2
■ マスキング工程
厚さ0.1%、巾36%のステンレス鋼帯の片側に巾3
%と4%の金の縞状部分メッキを施すために、ステンレ
ス鋼帯の金メッキを施さない面側には予め耐薬品性に優
れた塗料を塗布し、乾燥後巻き状としてメッキ装置にセ
ットした。
%と4%の金の縞状部分メッキを施すために、ステンレ
ス鋼帯の金メッキを施さない面側には予め耐薬品性に優
れた塗料を塗布し、乾燥後巻き状としてメッキ装置にセ
ットした。
次に脱脂工程に入る前に実施例1と同種の樹脂テープを
ローラーで圧着すると同時に4枚のカッターを所定の寸
法位置にセットし、巾3′Aと4%の金メッキができる
ようにテープを切り込んでこの分のテープを捨て、ステ
ンレスの素地金露出させた。
ローラーで圧着すると同時に4枚のカッターを所定の寸
法位置にセットし、巾3′Aと4%の金メッキができる
ようにテープを切り込んでこの分のテープを捨て、ステ
ンレスの素地金露出させた。
■ 脱脂工程
実施例1と同様にして行なった。
■ 化学研摩工程
実施例1と同様にして行なった。
■ 電解活性化工程
実施例1と同様にして行なった。
■ 金メツキ工程
クエン酸1201/l、クエン酸ソーダ120?/ t
、スルファミン酸ニッケル301?/l。
、スルファミン酸ニッケル301?/l。
シアン化金カリ82/lのメッキ浴中で電流密度5A/
D??Z2〜I A/Drr?の範囲でメッキ液温27
℃で、ステンレス鋼帯に(−)電流をチタン白金メツキ
板に(−)−)電流を通じ3分間金メッキを行なつ丸 その結果、ステンレス銅帯の片側に巾3%と4%の縞状
の0.5μの厚さの金メッキが施された本発明のステン
レス鋼帯が得られた。
D??Z2〜I A/Drr?の範囲でメッキ液温27
℃で、ステンレス鋼帯に(−)電流をチタン白金メツキ
板に(−)−)電流を通じ3分間金メッキを行なつ丸 その結果、ステンレス銅帯の片側に巾3%と4%の縞状
の0.5μの厚さの金メッキが施された本発明のステン
レス鋼帯が得られた。
実施例 3
■ マスキング工程
実施例2と同じ厚さ、巾のステンレス鋼帯の片側に金を
直径5調の円形に、かつこの円形が千鳥状に配置するよ
うに部分メッキするために、実施例1と同種の樹脂テー
プを用いて上記円形部以外の部分をマスキングした。
直径5調の円形に、かつこの円形が千鳥状に配置するよ
うに部分メッキするために、実施例1と同種の樹脂テー
プを用いて上記円形部以外の部分をマスキングした。
■ 脱脂工程
実施例1と同様にして行なった。
■ 化学研摩工程
実施例1と同様にして行なった。
■電解活性化工程
実施例1と同様に行なった。
■ 金メツキ工程
実施例1と同様にして行なった。
その結果、ステンレス鋼帯の片側に直径5mの円形が千
鳥状に配置した0、5μの厚さの部分金メッキが形成さ
ね本発明のステンレス鋼帯が得られた。
鳥状に配置した0、5μの厚さの部分金メッキが形成さ
ね本発明のステンレス鋼帯が得られた。
なお、本発明でこの実施例のような部分金メッキを施す
場合、部分メッキ部は直径で1〜7rrrIn程度の大
きさに施されることが多い0 実施例 4 ■ マスキング工程 実施例1と同様にして行なつ九 ■ 脱脂工程 実施例1と同様にして行なつ九 ■ 化学研摩工程 実施例1と同様にして行なった。
場合、部分メッキ部は直径で1〜7rrrIn程度の大
きさに施されることが多い0 実施例 4 ■ マスキング工程 実施例1と同様にして行なつ九 ■ 脱脂工程 実施例1と同様にして行なつ九 ■ 化学研摩工程 実施例1と同様にして行なった。
■ 電解活性化工程
実施例1と同様にして行なった。
■ 金メツキ工程
酸性純金メッキ浴(日本エンゲルハルト社製N−40酸
性電解純金メツキ液)を用いて、電流密度5A/[)−
〜lA/Drr?の範囲で液温を60℃にセットし、ス
テンレス鋼帯に(−)電流を、チタン白金メツキ板に(
+)電流を通じて3分間金メッキを行なった。
性電解純金メツキ液)を用いて、電流密度5A/[)−
〜lA/Drr?の範囲で液温を60℃にセットし、ス
テンレス鋼帯に(−)電流を、チタン白金メツキ板に(
+)電流を通じて3分間金メッキを行なった。
その結果、ステンレス鋼帯の片側に約0.5μmの厚さ
の純金メッキ層が形成され、本発明のステンレス鋼帯が
得られた。
の純金メッキ層が形成され、本発明のステンレス鋼帯が
得られた。
次に、本発明ステンレス鋼帯の優れた性質について具体
的に示す。
的に示す。
(I) 接点部摩耗性
燐青銅上に0.5μ金ゆツキしたものと、ステンレス鋼
帯(S 7304 )に同じ<0.5μ金メツキしたも
の 摩耗テスト機で、1.2に9の加圧の下に摩耗チス
)Th行なった結果、ステンレス鋼帯に金メッキしたも
のの方が約30%耐摩耗率が高い事が判明した。
帯(S 7304 )に同じ<0.5μ金メツキしたも
の 摩耗テスト機で、1.2に9の加圧の下に摩耗チス
)Th行なった結果、ステンレス鋼帯に金メッキしたも
のの方が約30%耐摩耗率が高い事が判明した。
これは素地金属の軟、硬による結果であり、硬いステン
レス鋼帯上の金メッキは摩耗が少なく、軟かい燐青銅上
の金メッキは早く摩耗することがわかった。
レス鋼帯上の金メッキは摩耗が少なく、軟かい燐青銅上
の金メッキは早く摩耗することがわかった。
(ロ)剥離性
(イ)1800曲げテスト、(ロ)テープ剥離テスト、
(ハ)400℃、io分間加熱後急冷テスif行なつ九
その結果、3方法ともステンレス鋼帯より金メッキ層の
剥離は認められなかった。
(ハ)400℃、io分間加熱後急冷テスif行なつ九
その結果、3方法ともステンレス鋼帯より金メッキ層の
剥離は認められなかった。
… 半田性
ソルダーテスト機でテストの結果、半田の濡れ性が極め
て良く、半田初期の半田表面張力による押し上げが殆ん
どみられなかった。
て良く、半田初期の半田表面張力による押し上げが殆ん
どみられなかった。
IV)電気電導性
燐青銅上の金メッキと比較して何んらの遜色もみられな
かった。
かった。
以上説明した本発明の方法で得た金メッキしたステンレ
ス鋼帯は、スイッチ、接点、端子、センサー、コネクタ
ー、バネ、LSI用ケーシング等に使用できる。
ス鋼帯は、スイッチ、接点、端子、センサー、コネクタ
ー、バネ、LSI用ケーシング等に使用できる。
また、本発明ステンレス鋼帯から上記のような部品を作
成するには、本発明の金メッキしたステンレス鋼帯を金
型により打抜いて部品を作成すればよい。
成するには、本発明の金メッキしたステンレス鋼帯を金
型により打抜いて部品を作成すればよい。
ところで、金メッキを施す前に部品を作ってし筐うと全
面金メッキをせざるを得ぬが、本発明の例えば実施例2
.3のように鋼帯に部分メッキしたようなものであれば
、必要部分のみに金メッキしたものとすることができる
ので、コストが低減できる。
面金メッキをせざるを得ぬが、本発明の例えば実施例2
.3のように鋼帯に部分メッキしたようなものであれば
、必要部分のみに金メッキしたものとすることができる
ので、コストが低減できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 塩酸(35%溶液)15〜25容量も硫酸(85%
溶液)5〜15容量係、クエン酸粉末5〜15重量φ、
酢酸(90%溶液)0.5〜1.5容量係、硝酸(68
%溶e、)4〜6容量多、非イオン捷たは両性界面活性
剤0.1〜0.3重量φ、アミン系腐蝕抑制剤0.05
〜0.15重量%を配合した酸性活性化浴を用いて、ス
テンレス鋼帯を浸漬処理する化学研摩工程と、 燐酸(85%溶e、)5〜15容量へ硫酸(85係溶液
)5〜15容量もクエン酸粉末5〜15重量%X酢酸(
90饅溶液)0.5〜1.5容量多、非イオン渣たは両
性界面活性剤0.1〜0.3重量宏アミン系腐蝕抑制剤
0.05〜0.15重量i配合した陰極電解浴を用いて
上記ステンレス鋼帯を活性化する電解活性化工程と、 酸性金メッキ浴により、上記ステンレス鋼帯に直接金メ
ッキを施す工程と よりなることを特徴とする電子部品用ステンレス鋼帯の
金メツキ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14607782A JPS5857520B2 (ja) | 1982-08-25 | 1982-08-25 | 電子部品用ステンレス鋼帯の金メッキ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14607782A JPS5857520B2 (ja) | 1982-08-25 | 1982-08-25 | 電子部品用ステンレス鋼帯の金メッキ方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2811580A Division JPS56126206A (en) | 1980-03-07 | 1980-03-07 | Steel band for electronic component |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5861293A JPS5861293A (ja) | 1983-04-12 |
| JPS5857520B2 true JPS5857520B2 (ja) | 1983-12-20 |
Family
ID=15399583
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14607782A Expired JPS5857520B2 (ja) | 1982-08-25 | 1982-08-25 | 電子部品用ステンレス鋼帯の金メッキ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5857520B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0631463B2 (ja) * | 1987-02-06 | 1994-04-27 | 株式会社関西プラント工業 | 金めっき板の製造方法 |
| JPH0631469B2 (ja) * | 1987-02-06 | 1994-04-27 | 株式会社関西プラント工業 | 金めっき容器類の製造方法 |
| US6555170B2 (en) | 1998-01-30 | 2003-04-29 | Duratech Industries, Inc. | Pre-plate treating system |
| AU2001234935A1 (en) * | 2000-02-08 | 2001-08-20 | Duratech Industries, Inc. | Pre-plate treating system |
| CN109666957A (zh) * | 2019-01-26 | 2019-04-23 | 无锡华友微电子有限公司 | 一种有机酸前处理剂的配置方法 |
-
1982
- 1982-08-25 JP JP14607782A patent/JPS5857520B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5861293A (ja) | 1983-04-12 |
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